Etchant for etching ink or paint and method of manufacturing ink or paint pattern using it
Номер патента: KR101535386B1
Опубликовано: 08-07-2015
Автор(ы): 노재호
Принадлежит: 노재호
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-07-2015
Автор(ы): 노재호
Принадлежит: 노재호
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Etchant for etching a cobalt-containing member in a semiconductor structure and method of etching a cobalt-containing member in a semiconductor structure
Номер патента: US20220216066A1. Автор: Ming-Hsi Yeh,Kuo-Bin Huang,Shun Wu Lin,Li-Chen LEE,Ren-Kai Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-07-07.