Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Methods for enhancing the metal removal rate during the chemical-mechanical polishing process of a semiconductor

Methods for enhancing the metal removal rate during the chemical-mechanical polishing process of a semiconductor

Номер патента: EP1011131B1
Опубликовано: 25-07-2007
Автор(ы): Ronald Joseph Schutz
Принадлежит: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Methods for enhancing the metal removal rate during the chemical-mechanical polishing process of a semiconductor

Номер патента: US6136714A. Автор: Ronald Joseph Schutz. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2000-10-24.

Methods for enhancing the metal removal rate during the chemical-mechanical polishing process of a semiconductor

Номер патента: EP1011131A1. Автор: Ronald Joseph Schutz. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2000-06-21.

Methods for enhancing the metal removal rate during the chemical-mechanical polishing process of a semicondoctor

Номер патента: KR100693640B1. Автор: 로날드요셉 슈츠. Владелец: 지멘스 악티엔게젤샤프트. Дата публикации: 2007-03-14.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Method for Improving Copper Alloy Electroplating Filling Process

Номер патента: US20240060205A1. Автор: YU Bao. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US12002684B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US20210391186A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-16.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US20230082084A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Methods for chemical mechanical polishing and forming interconnect structure

Номер патента: US20240290629A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Tang-Kuei Chang,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG,Hung Yen,Wei-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Polishing composition, polishing method, and method for producing substrate

Номер патента: US11992914B2. Автор: I-Chun Chang. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-05-28.

Process for the chemical-mechanical polishing of tungsten

Номер патента: DE102012015825A1. Автор: Yi Guo,Guangyun Zhang,Jerry Lee,Raymond L. Lavoie Jr.. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2013-02-21.

Process for the chemical-mechanical polishing of copper

Номер патента: DE102012015824A1. Автор: Qianqiu Ye. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2013-02-21.

Slurry Composition For a Chemical Mechanical Polishing Process, Method of Polishing an Object Layer and Method of Manufacturing a Semiconductor Memory Device Using the Slurry Composition

Номер патента: US20080045020A1. Автор: Hyo-Sun Lee,Dong-jun Lee,Nam-Soo Kim,Bong-su Ahn,Jong-woo Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-02-21.

Method for manufacturing metal zero layer

Номер патента: US20240162330A1. Автор: Qi SHAO,Haibo Lei,Guangcai Fu,Binbin ZHA. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Polishing composition, method for fabricating thereof and method of chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: US09493677B2. Автор: Dae Soon Lim,Dong Hee Shin,Dong Hyeon LEE,Il Ho YANG,Yang Bok Lee,Seung Koo Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-11-15.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Method for forming three-dimensional interconnection, circuit arrangement comprising three-dimensional interconnection, and metal film-forming composition for three-dimensional interconnection

Номер патента: US09543201B2. Автор: Taichi Matsumoto,Kazuto Watanabe,Atsushi Kobayashi,Sugirou SHIMODA,Kenzou Ookita,Keisuke Kuriyama,Isao Aritome. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for planarizing semiconductor device

Номер патента: US09378968B2. Автор: Yung-Chieh Kuo,Horng-Bor Lu,Yi-Ching Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-06-28.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A3. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-04-28.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Methods for forming interconnections between top electrodes in memory cells by a two-step chemical-mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09443763B2. Автор: Samuele Sciarrillo. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Method for making tungsten metal plugs in a polymer low-K intermetal dielectric layer using an improved two-step chemical/mechanical polishing process

Номер патента: US6235633B1. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2001-05-22.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of polishing metal layer

Номер патента: US12024651B2. Автор: Teng-Chun Tsai,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU,Huang-Lin Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Chemical mechanical polishing compositions and methods of use thereof

Номер патента: EP4263748A1. Автор: Bin Hu,Qingmin Cheng,Yannan LIANG,Liqing WEN (Richard). Владелец: Fujifilm Electronic Materials USA Inc. Дата публикации: 2023-10-25.

Slurry Composition for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: KR20150095606A. Автор: 이석호,송정환,전성식. Владелец: 엘티씨에이엠 주식회사. Дата публикации: 2015-08-21.

Chemical mechanical polishing method for first interlayer dielectric layer

Номер патента: US09490175B2. Автор: Ji Cheng,Jian Zhao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Economical and environmentally friendly chemical mechanical polishing for III-V compound semiconductor device fabrication

Номер патента: US09601482B1. Автор: Alexander Reznicek,Devendra K. Sadana,Keith E. Fogel,Charan V. Surisetty. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Methods and systems for chemical mechanical polish and clean

Номер патента: US09449841B2. Автор: Li-Chieh Wu,Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Ying-Liang Chuang,Ming-Liang Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-09-20.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Cleaning agent for semiconductor substrates and method for processing semiconductor substrate surface

Номер патента: US09803161B2. Автор: Hiromi Kawada,Hironori Mizuta,Tsuneaki Maesawa. Владелец: Wako Pure Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Cleaning agent for semiconductor substrates and method for processing semiconductor substrate surface

Номер патента: US09862914B2. Автор: Hironori Mizuta,Tsutomu Watahiki,Kohei Hayashi,Takayuki Kajikawa. Владелец: Wako Pure Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Chemical mechanical polishing composition and process

Номер патента: US09676966B2. Автор: Akitoshi Yoshida,Haruki Nojo,Pascal Berar,Hirofumi Kashihara. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for forming low dielectric constant fluorine-doped layers

Номер патента: US7579271B2. Автор: Ting Cheong Ang. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2009-08-25.

Chemical mechanical polishing (cmp) slurry, semiconductor structure, and manufacturing method of semiconductor structure

Номер патента: US20230057872A1. Автор: Chang-Yi Tsai. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-23.

Slurry composition for a chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240271006A1. Автор: Ungyu Paik,Cheol Min Shin,Hyun Goo Kang,Hojin Jeong,Taeseup SONG. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2024-08-15.

Fabrication process of semiconductor device and polishing method

Номер патента: US20060219662A1. Автор: Tetsuya Shirasu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Methods of Performing Chemical-Mechanical Polishing Process in Semiconductor Devices

Номер патента: US20200312708A1. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Methods of performing chemical-mechanical polishing process in semiconductor devices

Номер патента: US11742239B2. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Chemical mechanical polishing topography reset and control on interconnect metal lines

Номер патента: US20220270915A1. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

Methods of Performing Chemical-Mechanical Polishing Process in Semiconductor Devices

Номер патента: US20230386910A1. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Chemical mechanical polishing dishing resistant structure

Номер патента: US20220367387A1. Автор: Chia-En HUANG,Meng-Han LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-17.

Chemical mechanical polishing dishing resistant structure

Номер патента: US12100673B2. Автор: Chia-En HUANG,Meng-Han LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Stacked container capacitor using chemical mechanical polishing

Номер патента: US5627094A. Автор: Lap Chan,Yeow M. Teo. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1997-05-06.

Chemical mechanical polishing topography reset and control on interconnect metal lines

Номер патента: US11810816B2. Автор: Shih-Kang Fu,Ming-Han Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-07.

Method for forming an oxynitride spacer for a metal gate electrode using a pecvd process with a silicon-starving atmosphere

Номер патента: WO2003046971A1. Автор: Minh Van Ngo,Arvind Halliyal. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2003-06-05.

Method for forming an oxynitride spacer for a metal gate electrode using a pecvd process with a silicon-starving atmosphere

Номер патента: EP1449243A1. Автор: Minh Van Ngo,Arvind Halliyal. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-08-25.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

Reduction of dishing during chemical mechanical polish of gate structure

Номер патента: US20180301348A1. Автор: Ta-Wei Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-10-18.

Chemical mechanical polishing of metal gate cuts formed after source and drain contacts

Номер патента: US20240213026A1. Автор: Matthew J. Prince,Robert R. Mitchell,Girish Sharma,Reza Bayati,Alison V. DAVIS,Swapnadip Ghosh,Lawrence Zaino,Barry B. Butler,Rajaram A. Pai,Niels Sveum,Chun Chen Kuo. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20230078573A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chih-Chieh Chang,Chun-Hao Kung,Tung-Kai Chen,Kao-Feng Liao,Hui-Chi Huang,Chia-Jung Hsu,Ching-hsiang Tsai,Fang-I Chih,Hsin-ying Ho. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Cleaning composition and method for cleaning a semiconductor device substrate after chemical mechanical polishing

Номер патента: US09481855B2. Автор: Atsushi Otake,Akira Kuroda. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064846B2. Автор: Michael E. Mills,Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton,Annette M. Crevasse,Vere O. Archibald. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Method of enhancing the removal rate of polysilicon

Номер патента: US20230099954A1. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-03-30.

Method for manufacturing a semiconductor using slurry

Номер патента: US20230290641A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU,Huang-Lin Chao,Tsung-Ling TSAI,Chung-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Planarization methods for packaging substrates

Номер патента: US11931855B2. Автор: Prayudi LIANTO,Han-Wen Chen,Steven Verhaverbeke,Giback Park,Chintan BUCH,Tapash Chakraborty,Prerna Sonthalia Goradia,Pin Gian GAN,Alex Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Method for producing SiC substrate

Номер патента: US09396945B2. Автор: Yuzo Sasaki. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2016-07-19.

Polishing slurry for the chemical mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: DE10060343A1. Автор: Gerd Passing,Kristina Vogt,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-06-06.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (cmp) of iii-v material in the presence of a cmp composition comprising a compound containing an n-heterocycle

Номер патента: EP2662885A1. Автор: Diana Franz,Bastian Marten Dr. Noller. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2013-11-13.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (cmp) of iii-v material in the presence of a cmp composition comprising a specific non-ionic surfactant

Номер патента: EP2666833A1. Автор: Yuzhuo Li,Diana Franz,Bastian Marten Noller,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2013-11-27.

Slurry compositions and method for the chemical-mechanical polishing of copper and copper alloys

Номер патента: US6083840A. Автор: Deepak Mahulikar,Brian Mravic, deceased,Anthony Mark Pasqualoni. Владелец: Arch Specialty Chemicals Inc. Дата публикации: 2000-07-04.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: AU9338401A. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-06-06.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: SG108285A1. Автор: Tsai Ming-Shih,Vogt Kristina,Passing Gerd. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2005-01-28.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: CA2364053A1. Автор: Gerd Passing,Kristina Vogt,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-06-04.

Polishing slurry for the chemical mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: EP1211719A1. Автор: Gerd Dr. Passing,Kristina Dr. Vogt,Ming-Shih Dr. Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-06-05.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: US20020106900A1. Автор: Gerd Passing,Kristina Vogt,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-08-08.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: IL146825D0. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-07-25.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of metal and dielectric structures

Номер патента: NZ515863A. Автор: Gerd Passing,Kristina Vogt,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-05-30.

Acid polishing slurry for the chemical mechanical polishing of SiO2-isolation layers

Номер патента: EP1217651B1. Автор: Lothar Dr. Puppe,Kristina Dr. Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Dr. Chen. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2004-09-01.

Acidic polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of SiO2 isolation layers

Номер патента: US20040065864A1. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen. Владелец: Li-Mei Chen. Дата публикации: 2004-04-08.

Acidic polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of SiO2 isolation layers

Номер патента: TW575645B. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2004-02-11.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-xGex MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: EP2742103B1. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot,Ning Gao. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-09-21.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-XGeX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: WO2013018015A2. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot. Владелец: Basf (China) Company Limited. Дата публикации: 2013-02-07.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of silica films

Номер патента: CA2365593A1. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen,Hsin-Hsen Lu. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-06-20.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (cmp) of iii-v material in the presence of a cmp composition comprising a specific non-ionic surfactant

Номер патента: EP2852644A1. Автор: Yuzhuo Li,Diana Franz,Bastian Marten Noller,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2015-04-01.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-XGeX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION HAVING A pH VALUE OF 3.0 TO 5.5

Номер патента: WO2013018016A2. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot. Владелец: Basf (China) Company Limited. Дата публикации: 2013-02-07.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-XGeX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: WO2013018015A3. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot. Владелец: Basf (China) Company Limited. Дата публикации: 2013-03-28.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-xGex MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: EP2742103A2. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot,Ning Gao. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2014-06-18.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-xGex MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: EP2742103A4. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot,Ning Gao. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2015-03-25.

Acid polishing slurry for the chemical mechanical polishing of SiO2-isolation layers

Номер патента: EP1217651A1. Автор: Lothar Dr. Puppe,Kristina Dr. Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Dr. Chen. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-06-26.

Acidic polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of sio2 isolation layers

Номер патента: SG109480A1. Автор: Puppe Lothar,Vogt Kristina,Min Chun-Kuo,Chen Li-Mei. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2005-03-30.

A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-XGeX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION HAVING A pH VALUE OF 3.0 TO 5.5

Номер патента: EP2741892A2. Автор: Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot,Yuzhou Li. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2014-06-18.

Polishing slurry for the chemical-mechanical polishing of silica films

Номер патента: US20020170237A1. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen,Hsin-Hsen Lu. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-11-21.

Process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (cmp) of iii-v material in the presence of a cmp composition comprising a compound containing an n-heterocycle

Номер патента: US20150099361A1. Автор: Diana Franz,Bastian Marten Noller. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2015-04-09.

Process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing of borophosphosilicate glass (BPSG) material in the presence of a CMP composition comprising anionic phosphate or phosphonate

Номер патента: US9157012B2. Автор: Shyam Sundar Venkataraman,Eason Yu-Shen Su. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2015-10-13.

Process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing of elemental germanium and/or Si1-xGex material in the presence of a CMP composition comprising a specific organic compound

Номер патента: US9443739B2. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-09-13.

Process for the chemical mechanical polishing of a conductive aluminum or aluminum alloy layer

Номер патента: DE60003591T2. Автор: Eric Jacquinot,Pascal Letourneau,Maurice Rivoire. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2004-06-03.

Process for the chemical mechanical polishing of a conductive aluminum or aluminum alloy layer

Номер патента: DE60003591D1. Автор: Eric Jacquinot,Pascal Letourneau,Maurice Rivoire. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2003-08-07.

Slurry compositions for the chemical mechanical polishing of metals that promote the mechanical removal of metal oxides and have less tendency to micro-scratches

Номер патента: DE602005001748T2. Автор: Jae Seok Uiwang-si Gyeonggi-Do Lee,Kil Sung Gwacheon-Si Gyeonggi-Do Lee. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2008-04-10.

Compositions and methods for selective polishing of silicon nitride materials

Номер патента: EP2697330A2. Автор: William Ward. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-02-19.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal- and metal-dielectric structures with a high selectivity

Номер патента: EP1306415A3. Автор: Lothar Dr. Puppe,Gerd Dr. Passing,Kristina Dr. Vogt,Valentina Dr. Terzieva. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-12-03.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal / dielectric structures with high selectivity

Номер патента: DE10152993A1. Автор: Lothar Puppe,Gerd Passing,Kristina Vogt,Valentina Terzieva. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-05-08.

Composition for the chemical-mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures with high selectivity

Номер патента: US20030098446A1. Автор: Lothar Puppe,Gerd Passing,Kristina Vogt,Valentina Terzieva. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-05-29.

Composition for the chemical-mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures with high selectivity

Номер патента: SG114575A1. Автор: Lothar Puppe Dr,Gerd Passing Dr,Kristina Vogt Dr,Valentina Terzieva Dr. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2005-09-28.

Composition for the chemical-mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures with high selectivity

Номер патента: TWI242033B. Автор: Lothar Puppe,Gerd Passing,Kristina Vogt,Valentina Terzieva. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2005-10-21.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal / dielectric structures

Номер патента: DE10164262A1. Автор: Lothar Puppe,Gerd Passing,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-07-17.

SUSPENSION FOR THE CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF COPPER SUBSTRATES

Номер патента: DE69933015T2. Автор: Brusic Vlasta Geneva KAUFMAN,C. Rodney Los Gatos KISTLER,Shumin Naperville Wang. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-12-14.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures

Номер патента: IL153608D0. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-07-06.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures

Номер патента: US20030157804A1. Автор: Lothar Puppe,Gerd Passing,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-08-21.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures

Номер патента: SG105566A1. Автор: Lothar Puppe Dr,Gerd Passing Dr,Tsai Ming-Shin. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2004-08-27.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures

Номер патента: TW200400239A. Автор: Lothar Puppe,Gerd Passing,Ming-Shih Tsai. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2004-01-01.

Multi-stage process for the chemical mechanical polishing of silicon dioxide and silicon nitride

Номер патента: DE102005058272A1. Автор: Sarah J. Lane,Andrew Scott Phoenix Lawing,Brian L. Middletown Mueller,Charles Wilmington Yu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-07-13.

Process for the chemical-mechanical polishing of semiconducting or insulating layers

Номер патента: DE69829329T2. Автор: Eric Jacquinot,Maurice Rivoire,Catherine Euvrard. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2006-04-13.

Process for the chemical mechanical polishing of substrates containing ruthenium and copper

Номер патента: DE102015009513A1. Автор: Lee Melbourne Cook,Jiun-Fang Wang,Hongyu Wang,Ching-Hsun Chao. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-01-28.

Aqueous dispersion for the chemical mechanical polishing of insulating films

Номер патента: DE60122413T2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-03-08.

DISPERSION FOR THE CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF METAL SURFACES WITH METAL OXIDE PARTICLES AND A CATIONIC POLYMER

Номер патента: DE602005001622T2. Автор: Wolfgang Lortz,Frank Menzel. Владелец: EVONIK DEGUSSA GmbH. Дата публикации: 2008-08-14.

Aqueous dispersion for the chemical mechanical polishing of insulating films

Номер патента: DE60122413D1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-10-05.

Compositions for the chemical mechanical polishing of silicon dioxide and silicon nitride

Номер патента: DE102007008997A1. Автор: Sarah J. Lane,Charles Wilmington Yu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2007-09-13.

Dispersion for the chemical-mechanical polishing of metal surfaces containing metal oxide particles and a cationic polymer

Номер патента: KR100806995B1. Автор: 볼프강 로어쯔,프랑크 멘쩰. Владелец: 데구사 게엠베하. Дата публикации: 2008-02-25.

The chemical-mechanical polishing compositions and method of silicon nitride are removed for selectivity

Номер патента: CN105814668B. Автор: 贾仁合,D.戴恩加,S.谢卡,D.马特加. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-10-26.

Ceria-based polish processes, and ceria-based slurries

Номер патента: US20060057943A1. Автор: James Hannah,Rajasekhar Venigalla,Timothy MCCORMACK,Robert Merkling. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-03-16.

New process for the chemical mechanical polishing of insulation layers made of silicon or materials containing silicon

Номер патента: DE69709828D1. Автор: Eric Jacquinot,Maurice Rivoire. Владелец: Clariant Finance BVI Ltd. Дата публикации: 2002-02-28.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures

Номер патента: IL153608A0. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-07-06.

Composition for the chemical-mechanical polishing of metal and metal/dielectric structures with high selectivity

Номер патента: IL152454A0. Автор: . Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-05-29.

Cmp slurry compositions and methods of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20210130651A1. Автор: Sung Pyo LEE,Chang Gil Kwon,Jun Ha HWANG,Dongchan Kim,Eunsung Seo,Bo yun KIM. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Finfet structure and method for forming the same

Номер патента: US20190123175A1. Автор: Hsin-Yun Hsu,Hsiao-Kuan Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-04-25.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Self-stopping polishing composition and method for high topological selectivity

Номер патента: US12116502B2. Автор: Michael WILLHOFF,Sudeep Pallikkara Kuttiatoor,Juyeon Chang,Jinfeng Wang,Sajo Naik,Elliot KNAPTON. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-10-15.

Process for the chemical-mechanical polishing of silicon wafers comprises rotating a silicon surface to be cleaned on a polishing plate covered with a polishing cloth with continuous

Номер патента: DE10046933A1. Автор: Guido Wenski,Thomas Altmann,Gerhard Heier,Wolfgang Winkler. Владелец: Wacker Siltronic AG. Дата публикации: 2002-04-18.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing of elemental germanium and/or Si1-xGex material in the presence of a CMP composi-tion having a pH value of 3.0 to 5.5

Номер патента: EP2554612A1. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2013-02-06.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing of elemental germanium and/or si1-xgex material in the presence of a cmp composi-tion comprising a specific organic compound

Номер патента: EP2554613A1. Автор: Yuzhuo Li,Bastian Marten Noller,Bettina Drescher,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2013-02-06.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (cmp) of iii-v material in the presence of a cmp composition comprising a specific non-ionic surfactant

Номер патента: EP2852644A4. Автор: Yuzhuo Li,Diana Franz,Bastian Marten Noller,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-04-06.

A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (cmp) of iii-v material in the presence of a cmp composition comprising a specific non-ionic surfactant

Номер патента: WO2013175396A1. Автор: Yuzhuo Li,Diana Franz,Bastian Marten Noller,Christophe Gillot. Владелец: Basf Schweiz Ag. Дата публикации: 2013-11-28.

Method for the chemical-mechanical polishing of isolation layers based on sti technology at elevated temperatures

Номер патента: WO2002050204A1. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen. Владелец: Bayer Aktiengesellschaft. Дата публикации: 2002-06-27.

Cmp compositions and methods for polishing nickel phosphorous surfaces

Номер патента: MY189184A. Автор: Michael White,Steven Grumbine,Ke Zhang,Hon Wu Lau,Tsung-Ho Lee. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2022-01-31.

Cmp compositions and methods for polishing nickel phosphorous surfaces

Номер патента: WO2015084607A1. Автор: Michael White,Steven Grumbine,Ke Zhang,Hon Wu Lau,Tsung-Ho Lee. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2015-06-11.

PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR SI1-XGEX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: US20140170852A1. Автор: Li Yuzhuo,Drescher Bettina,Noller Bastian Marten,Gillot Christophe. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2014-06-19.

PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) OF III-V MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC NON-IONIC SURFACTANT

Номер патента: US20150175845A1. Автор: Li Yuzhuo,Franz Diana,Noller Bastian Marten,Gillot Christophe. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2015-06-25.

Process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing (CMP) of III-V material in the presence of a CMP composition comprising a specific non-ionic surfactant

Номер патента: US9416298B2. Автор: Yuzhuo Li,Diana Franz,Bastian Marten Noller,Christophe Gillot. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-08-16.

OXIDIZING FLUID FOR THE CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF CERAMIC MATERIALS

Номер патента: US20180340095A1. Автор: Sherlock Jason A.,WARD Douglas Edwin,KWAPONG Angela Wamina. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2018-11-29.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-06-25.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20080149884A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-06-26.

Method and Slurry for Tuning Low-K Versus Copper Removal Rates During Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20110165777A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2011-07-07.

Process for the chemical-mechanical polishing of isolation layers produced using the STI technology, at elevated temperatures

Номер патента: US20020127954A1. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Composition for the chemical mechanical polishing of metal layers

Номер патента: WO1999067056A1. Автор: Deepak Mahulikar,Anthony Mark Pasqualoni,Brian Mravic,Thomas P. Madelung. Владелец: Arch Specialty Chemicals, Inc.. Дата публикации: 1999-12-29.

Sludge for the chemical-mechanical polishing of aluminum

Номер патента: DE112006001550T5. Автор: Allen Daniel Portland Feller,Anne E. Portland Miller. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2008-04-17.

Process for the chemical mechanical polishing of layers of platinum group metals

Номер патента: DE10048477A1. Автор: Annette Saenger,Gerhard Beitel,Gerd Mainka,Florian Schnabel. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-04-25.

Process for the chemical-mechanical polishing of layers of platinum group metals

Номер патента: DE10048477B4. Автор: Gerhard Beitel,Gerd Mainka,Florian Schnabel,Annette SÄNGER. Владелец: Qimonda AG. Дата публикации: 2008-07-03.

Process for the chemical-mechanical polishing of isolation layers produced using the STI technology, at elevated temperatures

Номер патента: TW525246B. Автор: Lothar Puppe,Kristina Vogt,Chun-Kuo Min,Li-Mei Chen. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 2003-03-21.

Ceria slurry and process for the chemical-mechanical polishing of silicon dioxide

Номер патента: WO2001099170A2. Автор: Ravikumar Ramachandran,Haruki Nojo,Sumit Pandey,Jeremy Stephens. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-12-27.

Ceria slurry and process for the chemical-mechanical polishing of silicon dioxide

Номер патента: WO2001099170A3. Автор: Ravikumar Ramachandran,Haruki Nojo,Sumit Pandey,Jeremy Stephens. Владелец: Infineon Technologies Corp. Дата публикации: 2002-05-02.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: TW200831653A. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2008-08-01.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Temperature modification for chemical mechanical polishing

Номер патента: US09550270B2. Автор: Yeh-Chieh Wang,Chi-Hao Huang,Jung-Lung Hung,Rong-June Hsiao,Hong-Hsing Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Methods for planarizing a metal layer

Номер патента: US20050142829A1. Автор: Joo-hyun Lee. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Methods for planarizing a metal layer

Номер патента: US7192869B2. Автор: Joo-hyun Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-20.

Structure and Method for Interconnection with Self-Alignment

Номер патента: US20200105598A1. Автор: Shau-Lin Shue,Tai-I Yang,Chia-Tien Wu,Hai-Ching Chen,Hsin-Ping Chen,Yu-Chieh Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Structure and Method for Interconnection with Self-Alignment

Номер патента: US20210265208A1. Автор: Shau-Lin Shue,Tai-I Yang,Chia-Tien Wu,Hai-Ching Chen,Hsin-Ping Chen,Yu-Chieh Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-08-26.

Semiconductor Element Having a Conductive Via and Method for Making the Same and Package Having a Semiconductor Element with a Conductive Via

Номер патента: US20130109178A1. Автор: Meng-Jen Wang,Chi-Tsung Chiu,Yin-Te Ou. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2013-05-02.

Methods for manufacturing a soft error and defect resistant pre-metal dielectric layer

Номер патента: US20050287782A1. Автор: Mark Nelson,John Naughton. Владелец: AMI Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09660100B2. Автор: Yutaka Okazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method for Manufacturing a Magnetic Memory Device by Pre-Patterning a Bottom Electrode prior to Patterning a Magnetic Material

Номер патента: US20190207104A1. Автор: Mustafa Pinarbasi,Bartlomiej Adam KARDASZ,Jorge Vasquez,Girish Jagtiani. Владелец: Spin Memory Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Method of forming a metal line of a semiconductor memory device

Номер патента: US20080026570A1. Автор: Young Mo Kim,Sung Min Hwang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-01-31.

Structure and method for fabricating an interlayer insulating film

Номер патента: US5716890A. Автор: Liang-Gi Yao. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 1998-02-10.

Method for manufacturing a semiconductor device having interconnection layers

Номер патента: US5721157A. Автор: Takeshi Sunada. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 1998-02-24.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20220367182A1. Автор: Yu Cheng Lin,Wei-Chuang Lai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-11-17.

Method of removing surface defects or other recesses during the formation of a semiconductor device

Номер патента: US6025271A. Автор: Guy Blalock,Mark E. Jost,Bradley J. Howard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Metal interconnection structure of semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: US20240194598A1. Автор: Tao Yang,Jianfeng Gao,Junfeng Li,Jun Luo,Junjie Li,Na Zhou,Weibing LIU. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2024-06-13.

Chemical-mechanical polishing process of an interlayer dielectric and apparatus for compensating a step of a chemical-mechanical polishing process thereof

Номер патента: KR100850102B1. Автор: 김활표. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2008-08-04.

Improvements to the chemical-mechanical polishing of semiconductor wafers

Номер патента: EP0848417A1. Автор: Bernard Fournier. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1998-06-17.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20070187832A1. Автор: Shunsuke Isono. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-16.

Formulations for chemical mechanical polishing pads with high planarization efficiency and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064845B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Method for producing a semiconductor structure comprising a useful layer made of silicon carbide, with improved electrical properties

Номер патента: US20240312831A1. Автор: Walter Schwarzenbach,Gweltaz Gaudin,Emmanuel Rolland,Julie Widiez,Alexis Drouin,Séverin Rouchier. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for manufacturing laterally diffused metal oxide semiconductor device

Номер патента: US9190280B2. Автор: Zhengfeng WEN. Владелец: Founder Microelectronics International Co Ltd. Дата публикации: 2015-11-17.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150037969A1. Автор: Zhengfeng WEN. Владелец: Founder Microelectronics International Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-05.

Method for forming a trench element separation region in a semiconductor substrate

Номер патента: US7273795B2. Автор: Kazuo Ogawa. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2007-09-25.

Shallow trench isolation structures in semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09478457B2. Автор: Ming-Shing Chen,Yu-Ting Wang,Ming-Hui Chang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Semiconductor device and method for producing semiconductor device

Номер патента: US09508803B2. Автор: Yuki Nakano,Ryota Nakamura. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2016-11-29.

Method of simultaneously siliciding a polysilicon gate and source/drain of a semiconductor device, and related device

Номер патента: US20100176462A1. Автор: Shaofeng Yu,Freidoon Mehrad,Steven A. Vitale,Joe G. Tran. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2010-07-15.

Method for forming a shallow trench isolation using HDP silicon oxynitride

Номер патента: US6258676B1. Автор: Kong Hean Lee,Peter Chew. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2001-07-10.

Method for forming isolation layer of semiconductor device

Номер патента: US20020137307A1. Автор: CHANG Kim,Wan Kim. Владелец: Kim Wan Shick. Дата публикации: 2002-09-26.

Manufacturing a semiconductor structure

Номер патента: GB2626454A. Автор: Johanna Helena Jochem Maria. Владелец: Smart Photonics Holding BV. Дата публикации: 2024-07-24.

Method for forming a gate for semiconductor devices

Номер патента: US6448166B2. Автор: Heung Jae Cho,Dae Gyu Park,Kwan Yong Lim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-09-10.

Semiconductor device and manufacturing method for the same

Номер патента: US7736990B2. Автор: Hiroshi Yamauchi. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2010-06-15.

Semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: US20230326788A1. Автор: Yee-Chia Yeo,Huicheng Chang,Tsai-Yu Huang,Po-Kai Hsiao,Fan-Cheng LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Composition and method for polishing memory hard disks exhibiting reduced edge roll-off

Номер патента: MY177709A. Автор: WHITE Michael,Li Tong,Lau Hon-Wu. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2020-09-23.

Ceramic composite for light conversion and method for manufacture thereof

Номер патента: US09543480B2. Автор: Toshiro Doi,Takafumi Kawano,Dai Inamori,Syuhei Kurokawa. Владелец: UBE Industries Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for production of sealed electronic module

Номер патента: RU2697458C1. Автор: Игорь Владимирович Федоров,Максим Юрьевич Куликов. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственный центр "Алмаз-Фазотрон". Дата публикации: 2019-08-14.

Aqueous Dispersion, Chemical Mechanical Polishing Aqueous Dispersion Composition, Wafer Surface Polishing Process and Manufacturing Process of a Semiconductor Apparatus

Номер патента: KR100472882B1. Автор: 히로유끼 야노,가꾸 미나미하바,유끼떼루 마쯔이,가쯔야 오꾸무라,마사유끼 모또나리,마사유끼 하또리,노부오 하야사까,아끼라 이오. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2005-03-07.

Aqueous chemical mechanical polishing dispersion composition, wafer surface polishing process and manufacturing process of a semiconductor device

Номер патента: EP1020501A3. Автор: Akira c/o JSR Corporation Iio,Masayuki c/o JSR Corporation Hattori,Hiroyuki Kabushiki Kaisha Toshiba Yano,Gaku Kabushiki Kaisha Toshiba Minamihaba,Masayuki c/o JSR Corporation Motonari,Nobuo Kabushiki Kaisha Toshiba Hayasaka,Katsuya Kabushiki Kaisha Toshiba Okumura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-01-07.

Aqueous chemical mechanical polishing dispersion composition, wafer surface polishing process and manufacturing process of a semiconductor device

Номер патента: EP1020501A2. Автор: Akira c/o JSR Corporation Iio,Masayuki c/o JSR Corporation Hattori,Hiroyuki Kabushiki Kaisha Toshiba Yano,Gaku Kabushiki Kaisha Toshiba Minamihaba,Masayuki c/o JSR Corporation Motonari,Nobuo Kabushiki Kaisha Toshiba Hayasaka,Katsuya Kabushiki Kaisha Toshiba Okumura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2000-07-19.

METHOD FOR THE CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF METAL SURFACES

Номер патента: DE60332092D1. Автор: Eric Jacquinot,Didier Bouvet,Patrice Beaud. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2010-05-27.

Use of a grinding solution for the chemical mechanical polishing of a precious metal surface

Номер патента: DE19927286B4. Автор: Gerhard Dr. 80335 Beitel,Annette Dr. 81667 Sänger,Eugen Dr. 86161 Unger. Владелец: Qimonda AG iL. Дата публикации: 2011-07-28.

Composition and method for conducting a material removing operation

Номер патента: US20230116858A1. Автор: Lin Fu,Douglas E. Ward,Jason A. Sherlock,Long Huy Bui. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Composition and method for conducting a material removing operation

Номер патента: US11851586B2. Автор: Lin Fu,Douglas E. Ward,Jason A. Sherlock,Long Huy Bui. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Suspension for the chemical mechanical polishing of copper substrates

Номер патента: DE69734138T2. Автор: Shumin Naperville Wang,Vlasta Brusic Geneva Kaufman,Rodney C. St. Charles Kistler. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-01-19.

Aqueous dispersion for the chemical mechanical polishing of copper substrates

Номер патента: DE60127206T2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari,Hiroyuki yokohama-shi Yano,Gaku Yokohama-shi Minamihaba. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-12-20.

Suspension for the chemical mechanical polishing of copper substrates

Номер патента: DE69734138D1. Автор: Shumin Wang,Vlasta Brusic Kaufman,Rodney C Kistler. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2005-10-13.

Aqueous dispersion for the chemical mechanical polishing of copper substrates

Номер патента: DE60127206D1. Автор: Gaku Minamihaba,Hiroyuki Yano,Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Masayuki Motonari. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-04-26.

Process for the chemical-mechanical polishing of metal substrates

Номер патента: TW200400553A. Автор: Eric Jacquinot,Didier Bouvet,Patrice Beaud. Владелец: Clariant Int Ltd. Дата публикации: 2004-01-01.

Aqueous dispersion containing cerium oxide-coated silicon powder, process for the production thereof and process for the chemical-mechanical polishing using the agueais dispersion

Номер патента: KR100542967B1. Автор: 바츠-존크리스토프,로르츠볼프강,만골트헬무트,메이어위르겐,슈마허카이. Владелец: 데구사 아게. Дата публикации: 2006-01-20.

Method for an improved chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2010019339A2. Автор: Yulin Wang,Alpay Yilmaz,Roy Nangoy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-02-18.

Chemical mechanical polishing system and method for planarizing substrates in fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20040092112A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Teng-Chun Tsai,Shao-Chung Hu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-05-13.

Optical monitoring in a two-step chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030003845A1. Автор: Stan Tsai,Rajeev Bajaj,David Chan,Manoocher Birang,Fred Redeker,Boguslaw Swedek,Bret Adams,Andreas Wiswesser,Savitha Nanjangud. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-02.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6106662A. Автор: John A. Adams,Christopher E. Barns,Thomas Frederick Allen Bibby, Jr.,Robert A. Eaton,Charles Hannes. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2000054935A9. Автор: John A Adams,Robert A Eaton,Thomas Frederick Allen J Bibby. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-06-20.

Temperature Control in Chemical Mechanical Polish

Номер патента: US20240149388A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Systems and methods for mechanical and/or chemical-mechanical polishing of microfeature workpieces

Номер патента: EP1633526A2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-03-15.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20230278159A1. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Apparatus for printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09457520B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US20230381918A1. Автор: Chia-Lin Hsueh,Chun-Hsi Huang,Huang-Chu KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Layered-filament lattice for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7517277B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-04-14.

Endpoint control of multiple substrates of varying thickness on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012030475A4. Автор: Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Huyen Tran,Stephen Jew,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,David H. Mai,Ingemar Carlsson,Shih-Haur Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-16.

Endpoint control of multiple substrates of varying thickness on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012030475A2. Автор: Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Huyen Tran,Stephen Jew,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,David H. Mai,Ingemar Carlsson,Shih-Haur Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-03-08.

Temperature control in chemical mechanical polish

Номер патента: US11904430B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chih Hung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Printed chemical mechanical polishing pad having particles therein

Номер патента: US11794308B2. Автор: Kasiraman Krishnan,Nag B. Patibandla,Periya Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US12011801B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Methods and apparatus for the chemical mechanical planarization of electronic devices

Номер патента: GB2329601A. Автор: Clinton O Fruitman. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1999-03-31.

Apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230405756A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Kang Huang,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Chemical mechanical polishing slurry buildup monitoring

Номер патента: US11890722B2. Автор: Thomas Ho Fai LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

Chemical mechanical polishing stop layer for fully amorphous phase change memory pore cell

Номер патента: US8492194B2. Автор: Chung H. Lam,Matthew J. Breitwisch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-07-23.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Method for producing semiconductor element and chemical solution to be used in method for producing semiconductor element

Номер патента: US12104260B2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yukihisa Wada. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Composition for forming silica-based insulating layer, method for preparing composition for forming silica-based insulating layer, silica-based insulating layer, and method for manufacturing silica-based insulating layer

Номер патента: US09738787B2. Автор: Sang-kyun Kim,Hyun-Ji SONG,Seung-Hee Hong,Mi-young Kim,Eun-Su PARK,Taek-Soo Kwak,Yoong-Hee NA,Han-Song LEE,Bong-Hwan Kim,Hui-Chan Yun,Kwen-Woo HAN,Sang-Hak Lim,Go-Un Kim,Jin-Hee Bae. Владелец: Cheil Industries Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method for treating the surface of a silicon-carbide substrate including a removal step in which a modified layer produced by polishing is removed by heating under Si vapor pressure

Номер патента: US09978597B2. Автор: Noboru Ohtani,Tadaaki Kaneko,Kenta Hagiwara. Владелец: KWANSEI GAKUIN EDUCATIONAL FOUNDATION. Дата публикации: 2018-05-22.

Manufacturing method for manufacturing substrate of nitride crystal of group 13 element in periodic table

Номер патента: US20240293912A1. Автор: Yuri Ono,Mari YOSHIMORI HIGUCHI. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

A corrosion retarding polishing slurry for the chemical mechanical polishing of copper surfaces

Номер патента: WO2004037937A1. Автор: Yaw S. Obeng. Владелец: Psiloquest, Inc.. Дата публикации: 2004-05-06.

Corrosion retarding polishing slurry for the chemical mechanical polishing of copper surfaces

Номер патента: US20040132308A1. Автор: Yaw Obeng. Владелец: psiloQuest Inc. Дата публикации: 2004-07-08.

Method for obtaining large homogeneous crystals of silicon carbide using distillation and condensation processes

Номер патента: RU2495163C2. Автор: Марк ЛОБОДА,Сеунг-хо ПАРК,Виктор ТОРРЕС. Владелец: Доу Корнинг Корпорейшн. Дата публикации: 2013-10-10.

Aqueous alkaline cleaning compositions and methods for use thereof

Номер патента: RU2578718C2. Автор: Андреас КЛИПП,Раймунд МЕЛЛИС. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-27.

Composition for surface treatment, method for producing the same, surface treatment method, and method for producing semiconductor substrate

Номер патента: US12012575B2. Автор: Yohei Takahashi,Keita Suzuki. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Methods for forming co-planar wafer-scale chip packages

Номер патента: EP1817793A1. Автор: Louis Hsu,Wolfgang Sauter,Howard Hao Chen,Lloyd Burrell. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Method for increasing efficiency of doping and changing conductivity type of amorphous hydrogenated silicon slightly doped with acceptor impurities

Номер патента: RU2660220C2. Автор: Денис Михайлович Жигунов,Павел Константинович Кашкаров,Андрей Георгиевич Казанский,Павел Анатольевич Форш. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ). Дата публикации: 2018-07-05.

Apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240363447A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Chen-Hao WU,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Jeng-Chi Lin,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Evaluating pattern for measuring an erosion of a semiconductor wafer polished by a chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020036505A1. Автор: Tadashi Narita. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-03-28.

Apparatus and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200180103A1. Автор: Sangheon Ye,Seyoon OH,Seonghyeon CHEON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-11.

Evaluating pattern for measuring an erosion of a semiconductor wafer polished by a chemical mechanical polishing

Номер патента: US6774660B2. Автор: Tadashi Narita. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-10.

Protective insulating layer and chemical mechanical polishing for polycrystalline thin film solar cells

Номер патента: US09741890B2. Автор: Mahadevaiyer Krishnan,Talia S. Gershon,Supratik Guha,Jeehwan Kim,Byungha Shin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Method for polishing diamond crystal, and diamond crystal

Номер патента: US20200406420A1. Автор: Koji Koyama,SeongWoo Kim,Daiki Fujii,Koki OYAMA. Владелец: Adamant Namiki Precision Jewel Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-31.

Dispersion containing pyrogenically manufactured abrasive particles with superparamagnetic domains, a process for preparing the same and a process for the chemical mechanical polishing using the same

Номер патента: KR100568453B1. Автор: 고트프리트하이코,프리될마르쿠스,트라게저베르톨트,짐머만귀도,헤베러슈테판,뮐렌벡하이케. Владелец: 데구사 아게. Дата публикации: 2006-04-07.

Reprocessing process and recycling apparatus for recycling slurry wastewater from a semiconductor processing process, in particular from a chemical mechanical polishing process

Номер патента: DE102009044204A1. Автор: Franz Brummer. Владелец: FAB SERVICE GmbH. Дата публикации: 2011-04-28.

Apparatus and method for edge bevel removal of copper from silicon wafers

Номер патента: US20140190529A1. Автор: Steven T. Mayer,Kousik Ganesan,Tariq Majid,Shanthinath Ghongadi,Aaron LaBrie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-07-10.

Method for forming n and p wells in a semiconductor substrate using a single masking step

Номер патента: US6207538B1. Автор: Chin-Hsiung Ho,Chu-Wei Hu,Chung-Te Lin,Kuo-Hua Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2001-03-27.

Apparatus and method for edge bevel removal of copper from silicon wafers

Номер патента: US09685353B2. Автор: Steven T. Mayer,Shantinath Ghongadi,Kousik Ganesan,Tariq Majid,Aaron LaBrie. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2017-06-20.

Methods for real-time error detection in CMP processing

Номер патента: US09403254B2. Автор: Chi-Ming Yang,Chin-Hsiang Lin,Bo-I Lee,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-02.

Method for adaptive feedback controlled polishing

Номер патента: US09573243B2. Автор: Terry Moore,Brant Nease. Владелец: Headway Technologies Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Method and system for cleansing wafer in CMP process of semiconductor manufacturing fabrication

Номер патента: US09610615B2. Автор: Chia-Lin Hsueh,Chia-Ying TIEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-04.

Polishing pad with offset concentric grooving pattern and method for polishing a substrate therewith

Номер патента: US09687956B2. Автор: Ching-Ming Tsai,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,Feng-Chih Hsu,Craig Kokjohn. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Polishing head for wafer, and method for polishing

Номер патента: EP1268133A1. Автор: Walter Glashauser,David Haggart,Katrin Ebner,Lutz Teichgraeber. Владелец: Semiconductor 300 GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-02.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09608123B2. Автор: Shinya Sasagawa,Hideomi Suzawa,Yuji EGI. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for preventing Cu cross contamination

Номер патента: US20020072222A1. Автор: Ching-Yu Chang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-06-13.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing a ferro-electric capacitor using the chemical mechanical polishing method and method of manufacturing a ferro-electric memory device using the chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR100729267B1. Автор: 홍창기,최석헌,손윤호,정용주,임동현,고화영,허장은. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-06-15.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

System and Method for Extreme Performance Die Attach

Номер патента: US20210202433A1. Автор: Nathan P. Lower,Ross K. Wilcoxon,Pete SAHAYDA,Haley M. Steffen,David L. Westergren,Brian K. Otis. Владелец: ROCKWELL COLLINS INC. Дата публикации: 2021-07-01.

System for cleaning wafer in cmp process of semiconductor manufacturing fabrication

Номер патента: US20210060624A1. Автор: Chia-Lin Hsueh,Chia-Ying TIEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Method for forming slot on substrate and structure thereof

Номер патента: US20080263852A1. Автор: Kuang-Chun Chou,Shih-Ching Chang,Wu-Chang Wang. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2008-10-30.

Sensing device and method of leveling a semiconductor wafer

Номер патента: US5944580A. Автор: Yong-Kwon Kim,Jun-Yong Kim. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-31.

Method for the injection of CMP slurry

Номер патента: GB2470246A. Автор: Ara Philipossian,Leonard Borucki,Yasa Sampurno,Sian Theng. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2010-11-17.

Methods for making reinforced wafer polshing pads and apparatuses implementing the same

Номер патента: EP1345733A1. Автор: Fen Dai,Cangshan Xu,Eugene Y. Zhao. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-09-24.

Method for manufacturing array of detectors of thz radiation using of carbon nanotubes

Номер патента: RU2667345C2. Автор: Надежда Андреевна Титова,Григорий Наумович Гольцман,Борис Моисеевич Воронов,Наталья Сергеевна Каурова,Георгий Евгеньевич Федоров,Игорь Андреевич Гайдученко,Татьяна Сергеевна Степанова,Арсен Шахсенович Газалиев. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования Московский педагогический государственный университет. Дата публикации: 2018-09-18.

Designing and fabrication of a semiconductor device

Номер патента: US20050160381A1. Автор: Toshiyuki Karasawa,Naoki Idani,Ryota Nanjo. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-07-21.

Method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device obtained by such a method

Номер патента: WO2007148277A3. Автор: Fred Hurx,Johannes Josephus Theo Donkers. Владелец: Johannes Josephus Theo Donkers. Дата публикации: 2008-02-28.

Method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device obtained by such a method

Номер патента: EP2038919A2. Автор: Johannes Josephus Theodorus Marinus Donkers,Fred Hurx. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2009-03-25.

Method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device obtained by such a method

Номер патента: WO2007148277A2. Автор: Johannes Josephus Theodorus Marinus Donkers,Fred Hurx. Владелец: NXP B.V.. Дата публикации: 2007-12-27.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: WO2021030295A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Brian J. Brown,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

Thin-film transistor and method for forming the same

Номер патента: US09899534B2. Автор: Jinming LI. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for etch-based planarization of a substrate

Номер патента: US09991133B2. Автор: Lior HULI,Cheryl Pereira,Nihar Mohanty. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Cmp pad and method for manufacturing the same

Номер патента: US20090117837A1. Автор: Jae-Young Choi. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-05-07.

Method for polishing a semiconductor material using cmp(chemical mechanical polishing), slurry used for cmp, and method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: KR100282240B1. Автор: 히로유끼 오하시,두요시 가또. Владелец: 니시무로 타이죠. Дата публикации: 2001-11-02.

Manufacturing has the method for the chemical mechanical polishing layer for improving uniformity

Номер патента: CN108789186A. Автор: K-A·K·雷迪,B·钱,M·W·格鲁特,G·C·雅各布,D·士德那,A·旺克,D·M·奥尔登. Владелец: ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATER. Дата публикации: 2018-11-13.

A method and system for controlling the chemical mechanical polishing by using a sensor signal of a pad conditioner

Номер патента: WO2005032763A1. Автор: Gerd Marxsen,Jens Kramer,Uwe Gunter Stoeckgen. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2005-04-14.

Methods for wafer bonding

Номер патента: US20240190701A1. Автор: Chien-Wei Chang,Yi-Hsun CHIU,Ren-Dou Lee,Yi-Chih Chang,Yuan-Hsin CHI,Ya-Jen Sheuh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR SI1-XGEX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION HAVING A PH VALUE OF 3.0 TO 5.5

Номер патента: US20140199841A1. Автор: Li Yuzhuo,Drescher Bettina,Noller Bastian Marten,Gillot Christophe. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2014-07-17.

Method for Providing Different Patterns on a Single Substrate

Номер патента: US20220413380A1. Автор: Deniz Sabuncuoglu Tezcan,Cian Cummins,Sandeep Seema Saseendran,Abhilash Paneri. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2022-12-29.

A method for manufacturing chemical mechanical polishing pad polishing layers having reduced gas inclusion defects

Номер патента: TW201043399A. Автор: Michael E Watkins,John Esbenshade,Andrew M Geiger,Paul Libbers,Samuel J November,Paul J Sacchetti,Jonathan Tracy,David Verbaro. Владелец: Rohm & Haas Elect Mat. Дата публикации: 2010-12-16.

It is formed with the chemical mechanical polishing device carrier head of substrate containing component

Номер патента: CN108885984A. Автор: 姜準模. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-11-23.

With the chemical-mechanical polisher for scraping fixed device

Номер патента: CN109562505A. Автор: 杨俊铖,蒋阳波,王光毅,高林. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-02.

The chemical mechanical polishing pads of low-surface-energy

Номер патента: CN100562402C. Автор: 阿巴尼什沃·普拉萨德. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2009-11-25.

Method of and apparatus for controlling the chemical mechanical polishing of multiple layers on a substrate

Номер патента: US6827629B2. Автор: Jae-Won Hwang,Dea-Yun Kim,Eun-Ju Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-12-07.

Method for fabricating a semiconductor device

Номер патента: US20120034780A1. Автор: Chieh-Te Chen,Wei-Hang Huang,Shin-Chi Chen,Hung-Ling Shih. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2012-02-09.

Method for affixing the insulator and the metallic shell of a spark plug

Номер патента: US8206194B2. Автор: Kazuhiko Mori,Makoto Yamaguchi. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-26.

Nano-structured carbon coated silicon material and manufacturing method for use in lithium ion based secondary batteries

Номер патента: US20240208828A1. Автор: Axel Georg SCHÖNECKER,Pierre-Yves PICHON,Marco Alberto SPREAFICO,Pierre Aymeric Fernand BERNERON,Adrianus Maria GROENLAND,Bernard Jan KRAAIJVELD. Владелец: E Magy BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for manufacturing charge dissipative surface layer

Номер патента: RU2655942C2. Автор: Клаус Циммерман,Кристел НЁМАЙР,Зелина ИСКАНДЕРОВА,Якоб КЛЯЙМАН. Владелец: Интегрити Тестинг Лэборэтори Инк.. Дата публикации: 2018-05-30.

Method for fabricating a throughput-scalable analytical system for molecule detection and sensing

Номер патента: US20210296380A1. Автор: MEI Yan. Владелец: Genesense Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-23.

Nano-structured silicon material and manufacturing method for use in lithium ion based secondary batteries

Номер патента: EP4323311A1. Автор: Axel Georg SCHÖNECKER,Pierre-Yves PICHON,Marco Alberto SPREAFICO,Pierre Aymeric Fernand BERNERON,Adrianus Maria GROENLAND,Bernard Jan KRAAIJVELD. Владелец: E Magy BV. Дата публикации: 2024-02-21.

Method for Manufacturing a Device on a Substrate

Номер патента: US20140083973A1. Автор: Walter Preis,Christof Jalics,Joerg Adler,Uwe Hoeckele,Reinhard Goellner,Patricia Nickut,Sandra Obernhuber,Tanja Schest. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2014-03-27.

Method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09806187B2. Автор: Martin Poelzl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for forming active structures for microelectronic devices and microelectronic device containing active structures

Номер патента: RU2749070C1. Автор: Евгений Викторович Данилкин,Валентина Александровна Гайдедей,Владимир Марк Крупник. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Крокус Наноэлектроника" (Ооо "Крокус Наноэлектроника"). Дата публикации: 2021-06-03.

A device and method for forming a contact to a top electrode in ferroelectric capacitor devices

Номер патента: WO2005031856A1. Автор: Haoren Zhuang,Ulrich Egger,Stefan Gernhardt. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-04-07.

System and method for in-line metal profile measurement

Номер патента: US7101254B2. Автор: Manoocher Birang,Nils Johansson,Boguslaw A Swedek,Andreas Norbert Wiswesser. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-09-05.

Method for manufacturing image sensor

Номер патента: US20100164037A1. Автор: Chung-Kyung Jung. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2010-07-01.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09431545B2. Автор: Toshihiko Saito,Shinya Sasagawa,Motomu Kurata,Akihiro Ishizuka,Junichi Koezuka,Atsuo Isobe,Kazuya Hanaoka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Method of forming the silicon germanium base of a bipolar transistor

Номер патента: US6753234B1. Автор: Abdalla Aly Naem. Владелец: National Semiconductor Corp. Дата публикации: 2004-06-22.

Method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20060141734A1. Автор: Jae Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-29.

Method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US7338855B2. Автор: Jae Suk Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-04.

Method for fabricating an integrated semiconductor product

Номер патента: US20020064960A1. Автор: Joachim Hoepfner. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-05-30.

Method for manufacturing a photovoltaic cell and a photovoltaic cell obtained with such a method

Номер патента: EP2208233A1. Автор: Martin Dinant Bijker. Владелец: Otb Solar Bv. Дата публикации: 2010-07-21.

Method for manufacturing a photovoltaic cell and a photovoltaic cell obtained with such a method

Номер патента: WO2009048332A1. Автор: Martin Dinant Bijker. Владелец: OTB Group B.V.. Дата публикации: 2009-04-16.

Method for producing a metallization having two multiple alternating metallization layers for at least one contact pad and semiconductor wafer having said metallization for at least one contact pad

Номер патента: US20120080794A1. Автор: Victor Sidorov,Joachim Wuerfl,Rimma Zhytnytska. Владелец: Forschungsverbund Berlin FVB eV. Дата публикации: 2012-04-05.

High temperature rectifying contact and method for making same

Номер патента: WO1993002475A1. Автор: Robert John Nemanich,Kalyankumar Das,Trevor Phillip Humphreys. Владелец: Kobe Steel, U.S.A., Inc.. Дата публикации: 1993-02-04.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20190386126A1. Автор: Naiqian Zhang,Xingxing Wu,Xinchuan ZHANG. Владелец: Dynax Semiconductor Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Process For Enhancing Image Quality Of Backside Illuminated Image Sensor

Номер патента: US20140357010A1. Автор: Yung-Cheng Chang,Hsun-Ying Huang,I-Chang Lin,Chia-Chi Hsiao,Shou-Shu Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-12-04.

Method for forming cylindrical lens arrays for solid state imager

Номер патента: US5711890A. Автор: Christopher Parks,Madhav Mehra,Gilbert Alan Hawkins. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1998-01-27.

Detection pad structure for analysis in a semiconductor device

Номер патента: US12072374B2. Автор: Jihoon Chang,Yeonjin Lee,Jimin CHOI,Minjung Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-27.

Method for producing optoelectronic semiconductor chips and optoelectronic semiconductor chip

Номер патента: WO2024193934A1. Автор: Michael Huber,Helena DOBLINGER,Jörn Kampmeier,Jochen BRENDT,Alexander Prebeck,Peter Deutscher. Владелец: Ams-Osram International Gmbh. Дата публикации: 2024-09-26.

Method for fabricating high-sensitivity photodetectors

Номер патента: US12074243B1. Автор: Rafael Ben-Michael. Владелец: Amplification Technologies Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Method for manufacturing a finfet device

Номер патента: US20200035677A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Shen-Nan Lee,Kuo-Yin Lin,Pin-Chuan SU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Method for surface treatment

Номер патента: US9023741B2. Автор: Xianghua Wang,Ze Liu,Xianfeng Xiong,Longzhen QIU. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2015-05-05.

Method for manufacturing solar cells having nano-micro composite structure on silicon substrate and solar cells manufactured thereby

Номер патента: US09972732B2. Автор: Ho Sung Kim,Jong Hwan Lee,Chae Hwan Jeong,Chang Heon Kim. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2018-05-15.

Method for manufacturing light emitting device

Номер патента: US09543465B2. Автор: Ryo Suzuki,Yoshikazu Takeuchi,Hirokazu Sasa. Владелец: Nichia Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

A semiconductor memory device having a silicon on insulator substrate

Номер патента: GB2337851A. Автор: Yun-gi Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-12-01.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Method for producing porous metal foil

Номер патента: US09889479B2. Автор: Seiji Kagawa,Yoichiro Kagawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for producing a waveguide, circuit device and radar system

Номер патента: US20230268630A1. Автор: Markus Josef LANG. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2023-08-24.

Method for producing quantum cascade laser and quantum cascade laser

Номер патента: US20170170634A1. Автор: Yukihiro Tsuji. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-06-15.

Method of manufacturing of a field emission element

Номер патента: RU2678192C1. Автор: Александр Николаевич Сауров,Александр Александрович Павлов,Сергей Николаевич Козлов,Алексей Васильевич Живихин,Евгений Павлович Кицюк. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук. Дата публикации: 2019-01-24.

Method and system for enhancing image quality

Номер патента: US09436985B1. Автор: Joe Wang,Van-Duc Nguyen,Chiyan Kuan. Владелец: Hermes Microvision Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Method for calibrating a projection device and method for operating a projection device calibrated in this manner

Номер патента: US20190028684A1. Автор: Julian Heinzelmann,Alexander Ehlert. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2019-01-24.

Systems and methods for utilizing laser cutting and chemical etching in manufacturing wireless power antennas

Номер патента: US20220209576A1. Автор: Oleg Los. Владелец: Nucurrent Inc. Дата публикации: 2022-06-30.

Systems and Methods for Utilizing Laser Cutting and Chemical Etching in Manufacturing Wireless Power Antennas

Номер патента: US20230119513A1. Автор: Oleg Los. Владелец: Nucurrent Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

System and method for evaluating and enhancing the security level of a network system

Номер патента: US09699208B1. Автор: Jacques Remi Francoeur. Владелец: Spheric Security Solutions. Дата публикации: 2017-07-04.

Method for conducting an emergency call using a user equipment in a country, or a geographic region within a country, being part of the coverage area of a mobile communication network, user equipment, system or mobile communication network, program and computer program product

Номер патента: EP4436226A1. Автор: Martin BÜCHTER,Ahmad KABBOUD,Philipp SCHÖNING. Владелец: DEUTSCHE TELEKOM AG. Дата публикации: 2024-09-25.

Systems and methods for broadcasting an audio or visual alert that includes a description of features of an ambient object extracted from an image captured by a camera of a doorbell device

Номер патента: US20210335110A1. Автор: William R. Blum,Piotr Romanczyk,Nathaniel Kraft. Владелец: Ademco Inc. Дата публикации: 2021-10-28.

Systems and methods for broadcasting an audio or visual alert that includes a description of features of an ambient object extracted from an image captured by a camera of a doorbell device

Номер патента: EP4143804A1. Автор: William R. Blum,Piotr Romanczyk,Nathaniel Kraft. Владелец: Ademco Inc. Дата публикации: 2023-03-08.

Device and method for enabling the reception, by a mobile terminal located in a moving conveyance, of signals transferred in at least a first and a second cells of a wireless cellular telecommunication network

Номер патента: US20080194261A1. Автор: Nicolas Voyer,Hervé Bonneville. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2008-08-14.

Device and method for enabling the reception, by a mobile terminal located in a moving conveyance, of signals transferred in at least a first and a second cells of a wireless cellular telecommunication network

Номер патента: US8041356B2. Автор: Nicolas Voyer,Hervé Bonneville. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2011-10-18.

System and method for evaluating and enhancing the security level of a network system

Номер патента: US11843625B2. Автор: Jacques Remi Francoeur. Владелец: Security Inclusion Now Usa LLC. Дата публикации: 2023-12-12.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Detecting particle agglomeration in chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: US20060266736A1. Автор: Mansour Moinpour,Alexander Tregub. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2006-11-30.

Metal plate for manufacturing deposition mask, method for manufacturing metal plate, deposition mask and method for manufacturing deposition mask

Номер патента: US11732361B2. Автор: Hiroki Oka,Chikao Ikenaga,Shogo Endo,Sachiyo MATSUURA,Chiaki Hatsuta,Asako Narita. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2023-08-22.

Method for manufacturing microelectronics module housings

Номер патента: RU2767928C1. Автор: Александр Сергеевич Еремеев,Антон Вячеславович Крюков,Андрей Валентинович Волков. Владелец: Акционерное общество "Центральный научно-исследовательский радиотехнический институт имени академика А.И. Берга". Дата публикации: 2022-03-22.

Method for manufacturing single-crystal sensing elements for high-voltage optical measuring voltage transformers

Номер патента: RU2748973C1. Автор: Сергей Александрович Сахаров,Владимир Владимирович Аленков,Светлана Сергеевна Базалевская,Дина Генриховна Евтушенко,Алексей Николаевич Забелин,Анатолий Анатольевич Мололкин. Владелец: Акционерное Общество "ФОМОС-МАТЕРИАЛЫ". Дата публикации: 2021-06-02.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Chemical mechanical polishing conditioner with high quality abrasive particles

Номер патента: US09415481B2. Автор: Jui-Lin Chou. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-08-16.

High removal rate chemical mechanical polishing pads from amine initiated polyol containing curatives

Номер патента: US20190168356A1. Автор: Bainian Qian,Kancharla-Arun K. Reddy,Marty W. Degroot,George C. Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-06-06.

Methods and systems for enhancing mercury, selenium and heavy metal removal from flue gas

Номер патента: WO2009067645A1. Автор: Thomas E. Higgins. Владелец: CH2M HILL, INC.. Дата публикации: 2009-05-28.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Porous chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230330805A1. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and method for filtration to enhance the detection of peaks

Номер патента: WO2007127011A3. Автор: Atsushi Takano,Chulso Moon. Владелец: Cangen Biotechnologies Inc. Дата публикации: 2008-12-04.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and CMP pads made therewith

Номер патента: US11806830B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Method for operating chemical mechanical polishing ("CMP") tool for the manufacture of semiconductor devices

Номер патента: US20040171266A1. Автор: Chien Hua Chen,Yuan Hsin Peng,Xiao Hua Li. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2004-09-02.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Low magnetic chemical mechanical polishing conditioner

Номер патента: US09475171B2. Автор: Tian-Yeu WU. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2016-10-25.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Method for metal coating of dielectric material of component of electronic microwave technology

Номер патента: RU2654963C1. Автор: Нина Борисовна Гудкова,Ольга Ивановна Хахина,Ирина Валентиновна Белова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина"). Дата публикации: 2018-05-23.

Method and System for Evaluating an Operating Condition of a Motor Vehicle

Номер патента: US20210253083A1. Автор: Juri Pawlakowitsch,Martin Grumbach. Владелец: ZF FRIEDRICHSHAFEN AG. Дата публикации: 2021-08-19.

Printed wiring board and method for manufacturing the same

Номер патента: US20160044780A1. Автор: Yasushi Inagaki,Kota Noda. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2016-02-11.

Rapid and high-accuracy reconstruction method for power lines based on multi-source data fusion

Номер патента: GB2626433A. Автор: Jin Peng,WANG Shuang,LEI Jin,Qin Xinyan,Jia Wenxing,Zhang Shenting,Cheng Chenming,Tao Jiali. Владелец: Shihezi University. Дата публикации: 2024-07-24.

Printed wiring board and method for manufacturing the same

Номер патента: US09538651B2. Автор: Yasushi Inagaki,Kota Noda. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Method for determining relay scheme, and device

Номер патента: US20230209625A1. Автор: Jianhua Liu,Haorui YANG,Yali Guo. Владелец: GUANGDONG OPPO MOBILE TELECOMMUNICATIONS CORP LTD. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for determining movement vectors in direct prediction mode

Номер патента: RU2282948C1. Автор: Байеонг-Мун ДЖЕОН. Владелец: Эл Джи Электроникс Инк.. Дата публикации: 2006-08-27.

Stereo display (embodiments), video camera for stereoscopic shooting and method for stereoscopic images computer formation for such stereo display

Номер патента: RU2698919C2. Автор: Святослав Иванович АРСЕНИЧ. Владелец: Святослав Иванович АРСЕНИЧ. Дата публикации: 2019-09-02.

Method for routing printed conductors of circuits with redundancy on opposite sides of printed circuit board

Номер патента: RU2754077C1. Автор: Артём Викторович Медведев,Тальгат Рашитович Газизов,Ольга Михайловна Кузнецова-Таджибаева,Хасан Аднан Алхадж. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники». Дата публикации: 2021-08-26.

Systems and methods for channels switching

Номер патента: RU2419245C2. Автор: Ань Мэй ЧЭНЬ,Фан ШИ,Виджаялакшми Р. РАВИИНДРАН,Амнон СИЛБЕРГЕР,Гордон Кент УОЛКЕР,Фан ЛЮ,Кристофер Джон БЕННЕТТ,Серафим С. Мл. ЛУКАС,Брайан Уилльям ОРР,Скотт Т. СУЭЙЗИ,Тхади НАГАРАДЖ,Дэвид БРЭКМАН,Сумит СЕТХИ,Рамкумар САМПАТХКУМАР. Владелец: Квэлкомм Инкорпорейтед. Дата публикации: 2011-05-20.

Device and method for performing fast grid-based refining segmentation for v-pcc encoding

Номер патента: US20240098263A1. Автор: Yong Hwan Kim,Hyun Ho Kim,Jong-Geun Park,Yura Kim. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-03-21.

Method for determining a deviation on a displacement path of an optical zoom lens and method for correction and image recording device

Номер патента: US20220350107A1. Автор: Thomas Milde,Peter Schacht,Daniel Harangozo,Daniel Stegmann. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2022-11-03.

Method for determining a deviation on a displacement path of an optical zoom lens and method for correction and image recording device

Номер патента: US11774706B2. Автор: Thomas Milde,Peter Schacht,Daniel Harangozo,Daniel Stegmann. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2023-10-03.

Apparatus and method for performing random access

Номер патента: US11985696B2. Автор: Su Han CHOI. Владелец: Uucom Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Apparatus and method for performing random access

Номер патента: US20240260078A1. Автор: Su Han CHOI. Владелец: Uucom Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Devices and methods for acknowledging switching of operation modes for a client device

Номер патента: EP4354774A1. Автор: Karri Markus Ranta-aho,Kari Juhani Hooli,Amir Mehdi AHMADIAN TEHRANI,Marco MASO,Nhat-Quang NHAN,Alessio MARCONE,Oskari TERVO. Владелец: NOKIA TECHNOLOGIES OY. Дата публикации: 2024-04-17.

Apparatus and method for performing random access

Номер патента: EP4164325A1. Автор: Su Han CHOI. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Dankook University. Дата публикации: 2023-04-12.

Method for handling a call, software product, and device

Номер патента: US20180359357A1. Автор: James Murison,Michael EGGIMAN-KETTER. Владелец: Unify GmbH and Co KG. Дата публикации: 2018-12-13.

Method for sending configuration information, and method for receiving configuration information

Номер патента: US20240291556A1. Автор: Yajun Zhu. Владелец: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method, computer program and equipment for controlling crane and method for updating crane

Номер патента: US12054361B2. Автор: Ekku RYTKÖNEN. Владелец: Konescranes Global Oy. Дата публикации: 2024-08-06.

Method for transmitting sidelink signal by terminal in wireless communication system supporting sidelink and apparatus therefor

Номер патента: US12069611B2. Автор: Hanbyul Seo,Seungmin Lee,Hyukjin Chae. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2024-08-20.

Method for performing CoMP operation in wireless communication system and apparatus for the same

Номер патента: US09894668B2. Автор: Jian Xu,Kyungmin Park,Daewook BYUN. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for handling a call, software product, and device

Номер патента: US09723135B2. Автор: James Murison,Michael EGGIMAN-KETTER. Владелец: Unify GmbH and Co KG. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for bushing installation around shaft part by way of press fit

Номер патента: RU2475925C2. Автор: Александр ПУЛНИКОВ. Владелец: АТЛАС КОПКО ЭРПАУЭР, НАМЛОЗЕ ВЕННОТСХАП. Дата публикации: 2013-02-20.

Method for modulation of amplitude and phase of high-frequency signals and device for its implementation

Номер патента: RU2694429C2. Автор: Александр Афанасьевич Головков,Владимир Александрович Головков,Александр Николаевич Дружинин,Наталия Александровна Дружинина. Владелец: Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Военный учебно-научный центр Военно-воздушных сил "Военно-воздушная академия имени профессора Н.Е. Жуковского и Ю.А. Гагарина" (г. Воронеж) Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2019-07-15.

Device and method for calculating block cipher

Номер патента: RU2696334C1. Автор: Рональд РИТМАН,Мартен Петер БОДЛАНДЕР,Себастиан Якобус Антониус ДЕ ХОГ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2019-08-01.

A method for authentication between a content delivery network service provider and a content owner

Номер патента: EP2708004A1. Автор: Pablo RODRÍGUEZ RODRÍGUEZ,Parminder Chhabra,Armando Antonio Garcia Mendoza,Mattias BARTHEL. Владелец: Telefonica SA. Дата публикации: 2014-03-19.

System and Method for Frame Rate Up-Conversion of Video Data

Номер патента: US20220060656A1. Автор: Bing Yu,Xianglin Wang,Yi-Wen Chen,Shuiming Ye,Guoxin Jin,Shufei Fan. Владелец: Beijing Dajia Internet Information Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-24.

Chemical mechanical polishing head assembly having floating wafer carrier and retaining ring

Номер патента: US20040171331A1. Автор: William Dyson,Tanlin Dickey,Scott Chin,Gerald Maloney,John Geraghty. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-02.

Reinforced polishing pad for linear chemical mechanical polishing and method for forming

Номер патента: US20030013398A1. Автор: Tsu Shih,Wen-Chih Chiou,Ying-Ho Chen,Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Ditch type floating ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020086536A1. Автор: Wei-Chieh Hsu. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for performing chemical mechanical polish (CMP) of a wafer

Номер патента: US5609719A. Автор: Eugene O. Hempel. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Chemical Mechanical Polishing Process Method and Device

Номер патента: US20240217055A1. Автор: YU Bao. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-04.

Method and apparatus for controlling wafer uniformity in a chemical mechanical polishing tool using carrier head signatures

Номер патента: EP1307909A2. Автор: William J. Campbell. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Apparatus and method for endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: WO2004002680A1. Автор: Karl E. Mautz. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2004-01-08.

Method and apparatus for endpoint detection during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003041909A1. Автор: Prabodh J. Parikh. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-05-22.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US11738423B2. Автор: Cheng-Chin Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-29.

Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate

Номер патента: US5628862A. Автор: Chris C. Yu,Tat-Kwan Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1997-05-13.

A method and apparatus for stabilizing the process temperature during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1165288A1. Автор: Wilbur C. Krusell,Anil K. Pant,Erik H. Engdahl,Robert G. Boehm. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-01-02.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: CA2305106C. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2008-07-08.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: US6656018B1. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2003-12-02.

Chemical-mechanical polishing system and method of operating the same

Номер патента: EP3946808A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2022-02-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US09962805B2. Автор: Liang-Guang Chen,Chun-Chieh Lin,Fu-Ming HUANG,Ting-Kui CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Express method for fixing natural and artificial cracks in bottom-hole zone of productive formation during the initial opening by horizontal, inclined or vertical drilling

Номер патента: RU2755600C1. Автор: Андрей Гелиевич Вахромеев,Владимир Мирославович Иванишин,Ренат Хасанович Акчурин,Сергей Александрович Сверкунов,Роберт Рашитович Асадуллин,Даниил Геннадьевич Низамов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "РН-Бурение" (ООО "РН-Бурение"). Дата публикации: 2021-09-17.

Orbital motion chemical-mechanical polishing apparatus and method of fabrication

Номер патента: US5554064A. Автор: Michael R. Oliver,Joseph R. Breivogel,Christopher E. Barns,Samuel F. Louke,Leopoldo D. Yau. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 1996-09-10.

Device and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11772227B2. Автор: Chi-Ming Yang,He Hui Peng,James Jeng-Jyi Hwang,Jiann Lih Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical mechanical polishing system with platen temperature control

Номер патента: US11911869B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US20220324080A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2022-10-13.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US20210291313A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2021-09-23.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US20240286242A1. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2024-08-29.

Chemical-mechanical polishing system with a potentiostat and pulsed-force applied to a workpiece

Номер патента: US12011800B2. Автор: Vladimir Gulkov,Nikolay Yeremin. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2024-06-18.

Three-dimensional network for chemical mechanical polishing

Номер патента: US7604529B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-10-20.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US20230330810A1. Автор: Cheng-Chin Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Consumable part monitoring in chemical mechanical polisher

Номер патента: US11931860B2. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Novel chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230286106A1. Автор: Chun-Hsi Huang,Huang-Chu KO. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-14.

Closed-loop control of wafer polishing in a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050020185A1. Автор: Manoocher Birang,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-01-27.

Chemical mechanical polishing apparatus with improved carrier and method of use

Номер патента: US5624299A. Автор: Norman Shendon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1997-04-29.

Chemical mechanical polishing system and method of using

Номер патента: US11724360B2. Автор: Wen Yen Kung. Владелец: TSMC Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-15.

Removable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124176A1. Автор: Leonard J. Borucki. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2009-05-14.

Load cup for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050176349A1. Автор: Hui Chen,Alpay Yilmaz,Simon Yavelberg,Hung Chen,Toshikazu Tomita,Noel Manto,David Lischka. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-11.

Hydrophilic and zeta potential tunable chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11826876B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Ankit Vora,Sudhakar Madhusoodhanan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Conditioner disk, chemical mechanical polishing device, and method

Номер патента: US20210129288A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Hsien Hua Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Conditioner disk, chemical mechanical polishing device, and method

Номер патента: US11787012B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Hsien Hua Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Conditioner disk, chemical mechanical polishing device, and method

Номер патента: US20240025014A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Hsien Hua Shen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Post-chemical mechanical polishing brush cleaning box

Номер патента: WO2023287507A1. Автор: Gary Ka Ho Lam. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-01-19.

Post-chemical mechanical polishing brush cleaning box

Номер патента: US12023779B2. Автор: Gary Ka Ho Lam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Method for predicting the time to reach the permissible level of ammonia concentration released during the multi-day process of emission from building materials into the air of a newly built building

Номер патента: RU2760762C1. Автор: Александр Виталиевич Мельцер,Нелли Олеговна Барнова,Ирек Шавкатовна Якубова,Юрий Владимирович Дадали,Маргарита Алевтиновна Андреева. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Западный государственный медицинский университет им. И.И. Мечникова" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-11-30.

Method for evaluating the functional state of the outflow pathways of the intraocular fluid during the combined operation of phacoemulsification and trabeculotomy ab interno

Номер патента: RU2665184C1. Автор: Дмитрий Иванович Иванов. Владелец: Акционерное общество "Екатеринбургский центр МНТК "Микрохирургия глаза". Дата публикации: 2018-08-28.

High removal rate chemical mechanical polish for ophthalmic polishing

Номер патента: WO2023211707A1. Автор: David Shepard,Ashwin Sankaran,Peter BUSHONG. Владелец: Pacific Industrial Development Corporation. Дата публикации: 2023-11-02.

High removal rate chemical mechanical polish for ophthalmic polishing

Номер патента: WO2023211707A9. Автор: David Shepard,Ashwin Sankaran,Peter BUSHONG. Владелец: Pacific Industrial Development Corporation. Дата публикации: 2023-12-28.

Charge for producing a polyfraction proppant, method for production and application thereof in hydraulic fracturing

Номер патента: RU2760662C1. Автор: Александр Николаевич Новиков,Борис Абрамович Симановский,Владимир Анатольевич Можжерин,Виктор Павлович Мигаль,Галина Николаевна Салагина,Вячеслав Яковлевич Сакулин,Олег Михайлович Розанов. Владелец: Акционерное общество "Боровичский комбинат огнеупоров". Дата публикации: 2021-11-29.

Composition and method for polishing memory hard disks exhibiting reduced edge roll off

Номер патента: MY191308A. Автор: Chinnathambi Selvaraj Palanisamy. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2022-06-15.

Cmp composition and methods for polishing rigid disks

Номер патента: MY186924A. Автор: Zhang Ke,WHITE Michael,Li Tong,PALANISAMY CHINNATHAMBI Selvaraj. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2021-08-26.

Dyes compositions and methods for use thereof

Номер патента: RU2721836C2. Автор: Ребекка Дж. РОББИНС,Томас М. КОЛЛИНЗ,Грегори СИГУРДСОН,Мария Моника ДЖУСТИ. Владелец: Дзе Огайо Стейт Инновейшн Фаундейшн. Дата публикации: 2020-05-22.

PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF BOROPHOSPHOSILICATE GLASS (BPSG) MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING ANIONIC PHOSPHATE OR PHOSPHONATE

Номер патента: US20140326701A1. Автор: Venkataraman Shyam Sundar,Su Eason Yu-Shen. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2014-11-06.

Sound absorbing material and method for manufacture thereof

Номер патента: RU2667584C2. Автор: Кеун Йоунг КИМ,Вон Дзин СЕО. Владелец: Хендэ Мотор Компани. Дата публикации: 2018-09-21.

Maintenance methods for polishing systems and articles related thereto

Номер патента: US11986925B2. Автор: Allen L. D'Ambra,Shantanu Rajiv GADGIL,Sumit Subhash PATANKAR,Nathan Arron DAVIS,Michael J. Coughlin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Maintenance methods for polishing systems and articles related thereto

Номер патента: US20230060141A1. Автор: Allen L. D'Ambra,Shantanu Rajiv GADGIL,Sumit Subhash PATANKAR,Nathan Arron DAVIS,Michael J. Coughlin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-03-02.

Method for determining content of synthetic dyes in confectionery products

Номер патента: RU2661063C1. Автор: Наталия Айратовна Гавриленко,Татьяна Николаевна Волгина,Михаил Алексеевич Гавриленко. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский политехнический университет". Дата публикации: 2018-07-11.

A new composition and method for increasing production yield of agriculturally useful species

Номер патента: WO2000025831A1. Автор: Danny Luxembourg,Boris Schwartzbord,Nitzan Ziv. Владелец: Federman & Sons (Holdings) Ltd.. Дата публикации: 2000-05-11.

Method for producing a composition containing at least one compound of a metal with an amino acid, and composition produced by this method

Номер патента: RU2764579C1. Автор: Кевин Х. У. ЛАМБЕРТС,Исмет БИДЖЕ,Хайко ГРАЙМАН. Владелец: Биохем Цузацштоффе Хандельс- Унд Продукционсгезельшафт Мбх. Дата публикации: 2022-01-18.

Method for improving the withstanding capability of the cladding material in the fast neutron irradiation environment

Номер патента: US20230335304A1. Автор: Di Yun,Wenbo Liu,Zhaohao Wang,Chunyang WEN,Jianqiang Shan,Tiantian Shi,Linna Feng. Владелец: Xian Jiaotong University. Дата публикации: 2023-10-19.

Method for determining a metal present in a sample

Номер патента: WO1995019446A1. Автор: Matti Karp,Marko Virta. Владелец: Marko Virta. Дата публикации: 1995-07-20.

Electrolyte and method for obtaining a nickel-based protective coating

Номер патента: RU2764533C1. Автор: Игорь Всеволодович Улин,Алексей Владимирович Красиков,Михаил Александрович Марков,Алина Дмитриевна Быкова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный научно-исследовательский институт конструкционных материалов "Прометей" имени И.В. Горынина Национального исследовательского центра "Курчатовский институт" (НИЦ "Курчатовский институт" - ЦНИИ КМ "Прометей"). Дата публикации: 2022-01-18.

High-effective method for bacterial polysaccharide production, preparation of conjugate based thereon and immunogenic composition

Номер патента: RU2627156C2. Автор: Пайсал Самбхаджи ШАНКАР,Чилукури Шринивас РЕДДИ,Педдиреди Шринивас РЕДДИ. Владелец: Серум Инститьют Оф Индия Прайват Лтд.. Дата публикации: 2017-08-03.

Metal structure for decorative bezel and method for manufacturing same

Номер патента: US09903989B2. Автор: Ki-Hwan Kim,Sujin Kim,Song Ho Jang,Jin Hyong Lim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for production of inulin-containing solution from girasol, inulin production method and method for production of fructooligosaccharides based on such solution

Номер патента: RU2489445C2. Автор: Владимир Дмитриевич Артемьев,Юлия Павловна Васильева. Владелец: Юлия Павловна Васильева. Дата публикации: 2013-08-10.

Method for the production of brake pads and associated brake pad

Номер патента: US09970494B2. Автор: Pietro Bertoldo. Владелец: ITT Italia SRL. Дата публикации: 2018-05-15.

Methods and compositions for enhancing efficacy of therapeutic immune cells

Номер патента: WO2022098864A1. Автор: Crystal L. Mackall,Katherine Ann FREITAS,Elena SOTILLO-PINEIRO. Владелец: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-05-12.

Electroconductive film, method for manufacturing same, temperature sensor film, and method for manufacturing same

Номер патента: US12135247B2. Автор: Kazuhiro Nakajima,Satoshi Yasui,Kodai MIYAMOTO. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2024-11-05.

Method for removing chlorine in zinc hydrometallurgy

Номер патента: US20240376565A1. Автор: Min Cheol Kim,Heon Sik CHOI. Владелец: Korea Zinc Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Hydroprocessing catalysts and methods for making thereof

Номер патента: CA2817986C. Автор: Axel Brait,Alexander E. Kuperman,Oleg Mironov,Julie Chabot,Bo Kou,Rahul Shankar Bhaduri,Bruce Edward Reynolds,Shuwu Yang,Christopher Paul Dunckley,Kenneth Kwik,Ling Jiao,Joseph V. Nguyen,Erin P. Maris. Владелец: Chevron USA Inc. Дата публикации: 2022-09-06.

Vector, method for treating choroiditis, method for selective expression of polynucleotide

Номер патента: RU2723101C2. Автор: Кристиан АМЕЛЬ,Василь КАЛАТЗИ,Мари ПЕКИНОТ,Николас СЕРИЗО. Владелец: Инсерм (Инститьют Насьонал Де Ла Санте Ет Де Ла Решерш Медикаль). Дата публикации: 2020-06-08.

METHOD FOR JOINT DETERMINATION OF THE MASS CONTENT OF Ru, Rh, Pd, Mo, Zr IN NITRIDE IRRADIATED NUCLEAR FUEL

Номер патента: RU2766226C2. Автор: Евгений Александрович Ерин,Марс Ильгизерович Хамдеев. Владелец: Акционерное общество "Прорыв". Дата публикации: 2022-02-10.

Blank for manufacturing test system for express diagnostics of helicobacter pylori infection by urease activity of biopsy material and method for manufacturing test system

Номер патента: RU2630651C1. Автор: Евгений Матвеевич Аксенов,Вадим Сергеевич Дмитриенко,Андрей Игоревич Киреев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ассоциация Медицины и Аналитики" (ООО "АМА"). Дата публикации: 2017-09-11.

Method for obtaining catalyst and method for obtaining exo-tetrahydrocyclopentadiene in its presence

Номер патента: RU2752508C1. Автор: Виктор Иванович Быков,Максим Владимирович Бермешев,Даниил Петрович Зарезин,Марина Андреевна Рудакова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Трудового Красного Знамени Институт нефтехимического синтеза им. А.В. Топчиева Российской академии наук (ИНХС РАН). Дата публикации: 2021-07-28.

Method for producing titanium-containing zeolite

Номер патента: RU2757001C2. Автор: Ульрих МЮЛЛЕР,Андрей-Николае ПАРВУЛЕСКУ,Йан-Оливер ВАЙДЕРТ,Регина ФОГЕЛЬЗАНГ,Николе Забине БРУНС. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2021-10-08.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US11873399B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US20210054192A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-02-25.

Metal complexes and methods for the same

Номер патента: CA3203091A1. Автор: Hongwei SHEN,Stanislav Jaracz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-07-07.

Metal complexes and methods for the same

Номер патента: EP4199890A1. Автор: Hongwei SHEN,Stanislav Jaracz. Владелец: Colgate Palmolive Co. Дата публикации: 2023-06-28.

Metal Complexes and Methods for the Same

Номер патента: US20240083919A1. Автор: Hongwei SHEN,Stanislav Jaracz. Владелец: Colgate Palmolive Co. Дата публикации: 2024-03-14.

Materials and methods for enhanced stem-cell like memory t cell engineering

Номер патента: AU2022255504A9. Автор: Sanjaya Singh,Rajkumar Ganesan,Tamas Oravecz,Madhusudhanan Sukumar. Владелец: Janssen Biotech Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Materials and methods for enhanced stem-cell like memory t cell engineering

Номер патента: CA3216358A1. Автор: Sanjaya Singh,Rajkumar Ganesan,Tamas Oravecz,Madhusudhanan Sukumar. Владелец: Janssen Biotech Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Materials and methods for enhanced stem-cell like memory t cell engineering

Номер патента: EP4320146A1. Автор: Sanjaya Singh,Rajkumar Ganesan,Tamas Oravecz,Madhusudhanan Sukumar. Владелец: Janssen Biotech Inc. Дата публикации: 2024-02-14.

Method for synthesis of mercaptoorganyl(alkoxysilanes)

Номер патента: RU2388763C2. Автор: Дорит ВОЛЬФ,Карстен КОРТ,Филипп АЛЬБЕРТ,Раймунд ПИТЕР,Альфред АЛИГ,Штеффен ЗЕЕБАЛЬД,Карстен КОРТ (DE),Филипп АЛЬБЕРТ (DE),Альфред АЛИГ (DE),Дорит ВОЛЬФ (DE),Штеффен ЗЕЕБАЛЬД (DE),Раймунд ПИТЕР (DE). Владелец: Дегусса Аг. Дата публикации: 2010-05-10.

Method for producing a highly purified tetradecapeptide

Номер патента: RU2759377C1. Автор: Елена Васильевна Ткаченко. Владелец: Открытое акционерное общество "Авексима". Дата публикации: 2021-11-12.

Method for producing titanium alloy billets for products experiencing variable mechanical loads

Номер патента: RU2664346C1. Автор: Сергей Владимирович Алтынбаев,Алексей Рассказов,Олег Александрович Митяшкин,Джонатон Уолтер Томас Уэлст. Владелец: Хермит Эдванст Технолоджиз ГмбХ. Дата публикации: 2018-08-16.

Systems and methods for improved stability of electrochemical sensors

Номер патента: RU2647473C2. Автор: Рональд С. ШАТЕЛЬЕ,Аластэр М. ХОДЖЕС. Владелец: Цилаг Гмбх Интернэшнл. Дата публикации: 2018-03-15.

Method for obtaining crystalline form 8 sophosbuvir (versions)

Номер патента: RU2745293C1. Автор: Ратмир Ринатович Дашкин,Максим Львович Бурдейный,Михаил Валентинович Шишанов,Павел Алексеевич Флегонтов. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Технология Лекарств". Дата публикации: 2021-03-23.

Improved sucralose-containing composition and method for its preparing

Номер патента: RU2279437C2. Автор: Стивен Дж. КАТАНИ,КАББАНИ Фисал ЭЛЬ,Кристиан ХАЙСС,Джуан НАВИА,Амал БРОМИ. Владелец: Тейт Энд Лайл Паблик Лимитед Компани. Дата публикации: 2006-07-10.

Method for filtration of protein-containing liquid

Номер патента: RU2735437C1. Автор: Такума ИВАСАКИ,Йосиро ЙОКОЯМА. Владелец: Асахи Касеи Медикал Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-11-02.

Method for measuring human megaline

Номер патента: RU2463608C2. Автор: Синиа ОГАСАВАРА,Сухен МИУРА,Акихико САИТО,Тецуро ТАКЕДА,Синиа ОГАСАВАРА (JP),Сухен МИУРА (JP),Акихико САИТО (JP),Тецуро ТАКЕДА (JP). Владелец: Денка Сейкен Ко., Лтд.. Дата публикации: 2012-10-10.

Moulded product for application in production of carbon clusters and method for production thereof

Номер патента: RU2771121C1. Автор: Масаюки ИТО,Наоки Мацумото,Юити ХАЯСИ,Хирохиса ХИКИТА. Владелец: Ниппон Электроуд Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-04-26.

Heat-insulating product based on mineral wool and method for obtaining product

Номер патента: RU2764087C2. Автор: Кенитиро ТЕРАГАМИ. Владелец: СЭН-ГОБЭН ИЗОВЕР. Дата публикации: 2022-01-13.

Method for quantifying the statistical analysis of alternative splicing in rna-sec data

Номер патента: RU2752663C1. Автор: Павел Владимирович Мазин,Филипп Ефимович Хайтович. Владелец: ОБЩЕСТВО С ОГРАНИЧЕННОЙ ОТВЕТСТВЕННОСТЬЮ "СберМедИИ". Дата публикации: 2021-07-29.

Method for growing mixed crystals of cobalt-nickel-potassium sulfate for optical filters of ultraviolet range

Номер патента: RU2758652C1. Автор: Наталья Александровна Васильева,Алексей Эдуардович Волошин,Владимир Михайлович Масалов,Андрей Анатольевич Жохов,Геннадий Анатольевич Емельченко,Надежда Сергеевна Сухинина,Вера Львовна Маноменова,Елена Борисовна Руднева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2021-11-01.

Method for preserving pancreatic islet, container for preserving pancreatic islet, and kit for transplanting pancreatic islet

Номер патента: US09462801B2. Автор: Yoshihiro Yoshikawa,Masafumi Goto,Kei Matsuo. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for obtaining a multifunctional composite coating

Номер патента: RU2759274C1. Автор: Валерий Викторович Васин,Евгений Николаевич Емельянов,Алексей Станиславович Ершов,Евгения Александровна Ершова. Владелец: Евгения Александровна Ершова. Дата публикации: 2021-11-11.

Method for purification of regenerated nitric acid from radiorhutenium

Номер патента: RU2725612C1. Автор: Владимир Николаевич Алексеенко,Антон Сергеевич Дьяченко,Артем Игоревич Коробейников,Андрей Викторович Обедин,Павел Викторович Аксютин,Елена Олеговна Григорьева. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Горно-химический комбинат" (ФГУП "ГХК"). Дата публикации: 2020-07-03.

Method for producing alkyl salicylic acid

Номер патента: RU2627768C1. Автор: Владимир Александрович Тыщенко,Сергей Владимирович Котов,Кирилл Александрович Овчинников,Юрий Николаевич Хорошев,Алексей Вячеславович Тарасов,Тибор Дьордь Лейметер,Маргарита Алексеевна Жумлякова,Евгений Иванович Семаев,Людмила Павловна Кутузова. Владелец: Публичное акционерное общество "Нефтяная компания "Роснефть". Дата публикации: 2017-08-11.

Method for coating a moving metal strip and a coated metal strip produced by said method

Номер патента: RU2690156C2. Автор: Жак Хюберт Олга Йозеф ВЕЙЕНБЕРГ,Ерун Мартейн ЛИНК. Владелец: Тата Стил Эймейден Б.В.. Дата публикации: 2019-05-31.

Method for synthesis of (z)-3-(2-butoxy-3'-(3-heptyl-1-methylureido) biphenyl-4-yl)-2-methoxyacrylic acid

Номер патента: RU2478614C2. Автор: Жан-Ги БУАТО. Владелец: Галдерма Ресерч Энд Девелопмент. Дата публикации: 2013-04-10.

Method for producing part from composite material

Номер патента: RU2768291C2. Автор: Эрик БУЙОН,Ги ЖАКОБ,Николя ЭБЕРЛИН-ФЮ,Эдди ГУЛЛЬЯНН. Владелец: Арьянгруп Сас. Дата публикации: 2022-03-23.

Method for attaching flexible metal substrate to water-cooled surface of substrate holder during vacuum spraying of materials

Номер патента: RU2748440C1. Автор: Иван Александрович Корж,Вероника Владимировна Вареник. Владелец: Акционерное общество "Омский научно-исследовательский институт приборостроения" (АО "ОНИИП"). Дата публикации: 2021-05-25.

Method for Producing a Probe Suitable for Scanning Probe Microscopy

Номер патента: US20200278379A1. Автор: Thomas Hantschel,Thijs Boehme. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2020-09-03.

Method for production of recombinant pseudoadenovirus particles concentrate, expressing hemagglutinin gene of influenza a/california/07/2009(h1n1)

Номер патента: RU2614127C2. Автор: Ирина Леонидовна Тутыхина,Рустам Равшанович Атауллаханов,Светлана Викторовна Алексеева,Татьяна Викторовна Каштиго. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "НТфарма". Дата публикации: 2017-03-22.

Method for producing metal carbide, method for producing hydrocarbon, and metal carbide composition

Номер патента: EP4394085A1. Автор: Takashi Watanabe,Tomohiro Isogai,Akiyoshi Yamauchi,Yuta Suzuki,Yosuke Kishikawa,Takuya Goto,Atsuya Yamada,Haruka FUKUDA. Владелец: Doshisha Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Method for producing metal carbide and hydrocarbon, and metal carbide composition

Номер патента: EP4394086A1. Автор: Takashi Watanabe,Tomohiro Isogai,Akiyoshi Yamauchi,Yuta Suzuki,Yosuke Kishikawa,Takuya Goto,Atsuya Yamada,Haruka FUKUDA. Владелец: Doshisha Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Two-color differential display as a method for detecting regulated genes

Номер патента: US20020090636A1. Автор: Detlef Kozian,Birgit Reuner. Владелец: Aventis Pharma Deutschland GmbH. Дата публикации: 2002-07-11.

Two-colour differential display, used as a method for detecting regulated genes

Номер патента: AU5741399A. Автор: Detlef Kozian,Birgit Reuner. Владелец: Aventis Pharma Deutschland GmbH. Дата публикации: 2000-03-27.

Method for producing cell sheet

Номер патента: US20240182857A1. Автор: Tomoyuki Nakaishi,Fumiko Hara,Fumie IKEBUCHI. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Method for cesium removal from radioactive waste liquids and method for producing hexacyanoferrates

Номер патента: AU3346097A. Автор: Jukka Lehto,Risto Harjula. Владелец: Ivo Power Engineering Oy. Дата публикации: 1998-01-14.

Methods for predicting treatment outcome to checkpoint inhibitors in cancer

Номер патента: US20240167098A1. Автор: Ennio Antonio Chiocca,Marco Mineo. Владелец: Brigham and Womens Hospital Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Method for classification of cancer

Номер патента: EP4384959A2. Автор: David Jones,Stefan Pfister,Martin Sill,Andreas Von Deimling,David Capper,Volker Hovestadt,Felix Sahm,Daniel Schrimpf. Владелец: Deutsches Krebsforschungszentrum DKFZ. Дата публикации: 2024-06-19.

Method for detecting an okadaic acid based on a near-infrared photoelectric composite material

Номер патента: US20220187243A1. Автор: Mingming Yin,Jie Wei,Xiaomei CHEN,Chenyan ZHENG,Bingyuan SU. Владелец: XIAMEN CENTER FOR DISEASE CONTROL AND PREVENTION. Дата публикации: 2022-06-16.

Method for rapid genome modification in recalcitrant plants

Номер патента: US20240191248A1. Автор: Ling MENG. Владелец: KWS SAAT SE and Co KGaA. Дата публикации: 2024-06-13.

Methods for the preparation of culture media based on saccharified plant extracts and related products

Номер патента: EP4379034A1. Автор: Tilo Huhn,Regine EIBL,Dieter Eibl. Владелец: Zhaw Zuercher Hochschule Fuer Angewandte Wissenschaften. Дата публикации: 2024-06-05.

Methods for the preparation of culture media based on microgreens and related products

Номер патента: WO2024115573A1. Автор: Tilo Huhn,Regine EIBL,Dieter Eibl. Владелец: Zhaw - Zurcher Hochschule fur Angewandte Wissenschaften. Дата публикации: 2024-06-06.

Method for producing an omega-halo-2-alkynal

Номер патента: US20160107969A1. Автор: Takehiko Fukumoto,Takeshi Kinsho,Miyoshi Yamashita. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Method for producing a conjugated z-alken-yn-yl acetate

Номер патента: US20160107978A1. Автор: Takehiko Fukumoto,Takeshi Kinsho,Miyoshi Yamashita. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Composition and method for planarized bit-patterned magnetic media

Номер патента: US20150037614A1. Автор: Xiaoping Bian,Kurt A. Rubin,Richard L. White. Владелец: HGST NETHERLANDS BV. Дата публикации: 2015-02-05.

Apparatus and method for mounting a wafer in a polishing machine

Номер патента: US20020068512A1. Автор: Hsien-Shu Tsai,Yi-Sen Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-06-06.

Apparatus and method for sequentially polishing and loading/unloading semiconductor wafers

Номер патента: US20080038992A1. Автор: In Jeong. Владелец: Oriol Inc. Дата публикации: 2008-02-14.

Apparatus and method for sequentially polishing and loading/unloading semiconductor wafers

Номер патента: WO2002085571A1. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2002-10-31.

Method for measuring thermo-emf during turning

Номер патента: RU2746316C1. Автор: Владимир Владимирович Скакун,Руслан Марленович Джемалядинов,Серан Наримович Акимов. Владелец: Серан Наримович Акимов. Дата публикации: 2021-04-12.

A chemical mechanical polishing apparatus, a carrier head for the chemical mechanical polishing apparatus, retaining ring for the carrier head, and method for the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR100726507B1. Автор: 로버트디. 툴레스,시드니 후에이. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2007-06-11.

Polishing pad for polishing a workpiece, chemical mechanical polishing apparatus, and method for polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: JP5789634B2. Автор: 遊 石井,賢也 伊藤,伊藤　賢也,正三 高橋,美加 鈴木. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-10-07.

Method for producing high-manganese steel castings

Номер патента: RU2661986C1. Автор: Алексей Сергеевич Смирнов,Игорь Олегович Леушин,Владимир Петрович Тихонов,Сергей Николаевич Марфенин. Владелец: Акционерное Общество "Нижегородский Научно-Исследовательский Институт Машиностроительных Материалов "Прометей"". Дата публикации: 2018-07-23.

Method and system for forming protrusions, and method for manufacturing metal component having protrusions

Номер патента: US20230201902A1. Автор: Masakatsu Seki. Владелец: SEKI PRESS Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS FOR POLISHING A WORKPIECE, AND METHOD OF POLISHING A WORKPIECE USING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20140004772A1. Автор: ITO Kenya,ISHII Yu,TAKAHASHI Shozo,SUZUKI Mika. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2014-01-02.

Apparatus and method for controlling substrate polish edge uniformity

Номер патента: US20240253183A1. Автор: Wei Lu,Takashi Fujikawa,Jianshe Tang,Thomas H. Osterheld,Huanbo Zhang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Chen-Wei Chang,Haosheng Wu,Taketo Sekine,Priscilla Michelle Diep LAROSA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Apparatus and method for controlling substrate polish edge uniformity

Номер патента: WO2024158525A1. Автор: Wei Lu,Takashi Fujikawa,Jianshe Tang,Thomas H. Osterheld,Huanbo Zhang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Chen-Wei Chang,Haosheng Wu,Taketo Sekine,Priscilla Michelle DIEP. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Method for diagnostics of changes in the water saturation of peat layers in stratigraphy of peat deposit

Номер патента: RU2681270C1. Автор: Андрей Валентинович Шмаков,Александр Александрович Кузнецов,Олег Сергеевич Покровский,Галина Андреевна Шмакова,Даниил Андреевич Шмаков. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" (ТГУ, НИ ТГУ). Дата публикации: 2019-03-05.

Method and apparatus for determining end point in a polishing process

Номер патента: US6071177A. Автор: C. L. Lin,Tin Chun Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-06-06.

Ceramic polishing pad dresser and method for fabricating the same

Номер патента: US20070049185A1. Автор: Wei Huang,Yu-Tai Chen,Chou-Chih Tseng,Hsiu-Yi Lin. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2007-03-01.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240253178A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

System and method for NC plasma cutting of metal fabric

Номер патента: US09952581B2. Автор: Matthew Fagan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-24.

Method for determining corrosion rate of transition metals in oxygen-containing media

Номер патента: RU2745243C1. Автор: Виктор Павлович Исаков,Дмитрий Сергеевич Киселев,Юрий Альфредович Кузма-Кичта,Кирилл Константинович Полунин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт Научно-производственное объединение "ЛУЧ" (ФГУП "НИИ НПО "ЛУЧ"). Дата публикации: 2021-03-22.

Method for manufacturing tire and pneumatic tire manufactured thereby

Номер патента: US09649890B2. Автор: Hiroki MIURA,Masayuki Sakamoto,Osamu Togawa,Nobuaki Minami,Hisanobu Uenosono. Владелец: Sumitomo Rubber Industries Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: WO2003072305A1. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2003-09-04.

Methods, systems, and computer readable media for enhanced virtual crossmatching using physical-crossmatch-outcome-data-derived model

Номер патента: WO2021097244A1. Автор: Eric T. Weimer,Katherine A. NEWHALL. Владелец: The University of North Carolina at Chapel Hill. Дата публикации: 2021-05-20.

Methods, systems, and computer readable media for enhanced virtual crossmatching using physical-crossmatch-outcome-data-derived model

Номер патента: EP4059028A1. Автор: Eric T. Weimer,Katherine A. NEWHALL. Владелец: UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL. Дата публикации: 2022-09-21.

Methods, systems, and computer readable media for enhanced virtual crossmatching using physical-crossmatch-outcome-data-derived model

Номер патента: CA3158445A1. Автор: Eric T. Weimer,Katherine A. NEWHALL. Владелец: Newhall Katherine A. Дата публикации: 2021-05-20.

Method for providing a medicament combination and data carrier with software

Номер патента: US20230215535A1. Автор: Marc-Eric Halatsch. Владелец: Universitaet Ulm. Дата публикации: 2023-07-06.

Method for producing a scintillator for an x-ray detector

Номер патента: WO2013140310A2. Автор: Onno Jan WIMMERS. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.. Дата публикации: 2013-09-26.

Data Storage Device and Method for Enhanced Recovery Through a Hardware Reset of One of Its Discrete Components

Номер патента: US20240296097A1. Автор: Karin Inbar,Alexander Bazarsky,Avichay Hodes. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: KR100941481B1. Автор: 울스타인드럭,래비거잰,막스젠줘드. Владелец: 어드밴스드 마이크로 디바이시즈, 인코포레이티드. Дата публикации: 2010-02-10.

Polishing pad for use in the chemical-mechanical polishing process

Номер патента: KR100576412B1. Автор: 이양원. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-05-10.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: US20230415296A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Apparatus and method for manufacturing roller

Номер патента: US20130299069A1. Автор: Chia-Ling Hsu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2013-11-14.

Method for producing monolithic catalyst for exhaust gas purification and monolithic catalyst

Номер патента: US20090149323A1. Автор: Yoshihide Segawa,Tomoaki Sunada. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-06-11.

System and method for trailer height adjustment

Номер патента: US20210122416A1. Автор: Yu Ling,Chen Zhang,Erick Michael Lavoie,Luke Niewiadomski. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2021-04-29.

Method for optimizing utilization of programmable logic elements in control units for vehicles

Номер патента: US09977417B2. Автор: Olaf Grajetzky. Владелец: dSPACE digital signal processing and control engineering GmbH. Дата публикации: 2018-05-22.

Method for operating a delivery device for a reducing agent and delivery device for a reducing agent

Номер патента: US09771849B2. Автор: Peter Bauer,Jan Hodgson. Владелец: EMITEC GESELLSCHAFT FUER EMISSIONSTECHNOLOGIE MBH. Дата публикации: 2017-09-26.

Device for the chemical-mechanical polishing of an object, in particular a semiconductor wafer

Номер патента: US6050885A. Автор: Thomas Keller,Eberhard Potempka,Georg Morsch. Владелец: Peter Wolters Werkzeugmaschinen GmbH. Дата публикации: 2000-04-18.

Method for regulating a fuel injection system of an internal combustion engine

Номер патента: US9353698B2. Автор: HUI Li,Janos Kerekgyarto. Владелец: Continental Automotive GmbH. Дата публикации: 2016-05-31.

Method for regulating a fuel injection system of an internal combustion engine

Номер патента: US20130103287A1. Автор: HUI Li,Janos Kerekgyarto. Владелец: Continental Automotive GmbH. Дата публикации: 2013-04-25.

Method for measuring and adjusting pressure distribution of chemical-mechanical polishing process

Номер патента: TW536453B. Автор: Wei-Tsu Tseng,Chi-Fa Lin,Min-Shinn Feng. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2003-06-11.

Device and a method for calibrating the irradiation system of the installation for manufacturing a three-dimensional product

Номер патента: RU2747975C1. Автор: Кристиан ТИЛЬ. Владелец: СЛМ Солюшенз Груп АГ. Дата публикации: 2021-05-18.

Method for control of helical rotor pump operation and design of such pump stator

Номер патента: RU2353811C2. Автор: Хельмут Вебер,Иоганн КРАЙДЛЬ,Хишам КАМАЛЬ,Михаэль ТЕКНЕЯН,Михаэль РОББИ. Владелец: Неч-Монопумпен Гмбх. Дата публикации: 2009-04-27.

Device and method for packaging product

Номер патента: RU2680034C2. Автор: Стефано КАПИТАНИ,Айвано РИЗЗИ. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2019-02-14.

Apparatus and method for composting with the use of vermiculite culture

Номер патента: RU2244698C1. Автор: Ю.М. Лужков. Владелец: Лужков Юрий Михайлович. Дата публикации: 2005-01-20.

Method for producing nanocapsules of dry extract of nettle

Номер патента: RU2675799C1. Автор: Александр Александрович Кролевец. Владелец: Александр Александрович Кролевец. Дата публикации: 2018-12-25.

Methods for using small dog's morphometric measurements to improve fodder for a small dog

Номер патента: RU2720321C2. Автор: Жан-Кристоф БУТГУР,Эза ГОР. Владелец: Сосьете де Продюи Нестле С.А.. Дата публикации: 2020-04-28.

Semiconductor substrate holder with movable plate for the chemical mechanical polishing process

Номер патента: DE60101458T2. Автор: Peter Lahnor,Mark Hollatz. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-10-28.

Apparatus and method for the chemical mechanical polishing of the surface of circular flat workpieces, in particular semi-conductor wafers

Номер патента: US20030199225A1. Автор: Ulrich Ising,Thomas Keller,Marc Reichmann. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-23.

Method for controlling engine knocking

Номер патента: US09897061B2. Автор: Ha Dong Bong. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2018-02-20.

Method for assessing wetting ability of solutions of surfactants in relation to minerals and rocks

Номер патента: RU2599921C1. Автор: Борис Николаевич Поставнин,Валерий Викторович Кудряшов,Евгений Степанович Иванов,Елена Алексеевна Соловьева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем комплексного освоения недр Российской академии наук (ИПКОН РАН). Дата публикации: 2016-10-20.

Method for development of high-viscosity oil deposit

Номер патента: RU2646151C1. Автор: Ильдар Зафирович Денисламов,Александр Иосифович Пономарев,Игорь Вячеславович Владимиров,Фанзиль Фирдавесович Миндияров. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный нефтяной технический университет". Дата публикации: 2018-03-01.

Method for obtaining fruit-berry jelly food product

Номер патента: RU2748802C1. Автор: Александр Анатольевич Душин,Сергей Вячеславович ПАК,Наталья Георгиевна Розаева,Ольга Ивановна ЯДРОВА. Владелец: Сергей Вячеславович ПАК. Дата публикации: 2021-05-31.

Method for production of structured milk-containing product

Номер патента: RU2662662C2. Автор: Ольга Ивановна Долматова,Марина Олеговна Муратова,Юлия Олеговна Бурлакина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Воронежский государственный университет инженерных технологий" (ФГБОУ ВО "ВГУИТ"). Дата публикации: 2018-07-26.

Refrigerator and a method for controlling said refrigerator

Номер патента: RU2744558C1. Автор: Сеунгук АХН,Сунам ЧАЕ,Киунгсеок КИМ. Владелец: ЭлДжи ЭЛЕКТРОНИКС ИНК.. Дата публикации: 2021-03-11.

Method for creating volumetric images from building mixtures by 3d printing

Номер патента: RU2746721C1. Автор: Петр Владимирович Соболь. Владелец: Петр Владимирович Соболь. Дата публикации: 2021-04-19.

Method for hypersonic aircraft (hac) model roll angle generation of a control signal for controlling the aerodynamic identity according to the reynolds numbers of the flight trajectories of the model and the full-scale aircraft in conducting advanced flight tests of aerodynamic characteristics

Номер патента: RU2650331C1. Автор: Лаврентий Лаврентьевич Ловицкий,Владислав Диясович Садртдинов,Айгуль Булатовна Бадретдинова. Владелец: Акционерное общество "Лётно-исследовательский институт имени М.М. Громова". Дата публикации: 2018-04-11.

Method for testing the biological activity of aerosol preparations

Номер патента: RU2750933C1. Автор: Олег Петрович Жирнов. Владелец: Олег Петрович Жирнов. Дата публикации: 2021-07-06.

Method for estimating the retroreflective capability of glass microspheres with an applied metallised coating

Номер патента: RU2758031C1. Автор: Сергей Дмитриевич Саутин,Екатерина Валентиновна Кошелева,Борис Александрович Ананченко,Екатерина Дмитриевна Щеголева. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Элемент 120" (ООО "НПП "Элемент 120"). Дата публикации: 2021-10-25.

Method for creating shell-less reclamation water lines-moisture exchangers

Номер патента: RU2762404C1. Автор: Олег Викторович Каблуков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский государственный аграрный университет - МСХА имени К.А. Тимирязева" (ФГБОУ ВО РГАУ - МСХА имени К.А. Тимирязева). Дата публикации: 2021-12-21.

Tablet of melatonin and method for preparing and using

Номер патента: RU2485949C2. Автор: Джон А. МакКАРТИ. Владелец: Фармасьютикал Продакшнс Инк. Дата публикации: 2013-06-27.

Full-scale model representing dental arch and including modeling elements, approximizing orthodontic brackets, and method for full-scale model manufacture

Номер патента: RU2638618C2. Автор: Дитмар БЛЕЕС,Ральф М. ПЭЙХЛ,Ральф ШЛИМПЕР. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2017-12-14.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing by using a sensor signal of a pad conditioner

Номер патента: US20040242122A1. Автор: Uwe Stoeckgen,Jens Kramer,Jens Kunath. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-12-02.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing by using a sensor signal of a pad conditioner

Номер патента: TW200507981A. Автор: Uwe Stoeckgen,Jens Kramer,Jens Kunath. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2005-03-01.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: US20210402555A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Hari Soundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-12-30.

Apparatus and method for CMP temperature control

Номер патента: US11919123B2. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Hari Soundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: US20240157504A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Hari Soundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing by using a sensor signal of a pad conditioner

Номер патента: TW200526358A. Автор: Gerd Marxsen,Jens Kramer,Uwe Gunter Stoeckgen. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2005-08-16.

Pad break-in method for chemical mechanical polishing tool which polishes with ceria-based slurry

Номер патента: TWI286958B. Автор: Kuo-Chun Wu,Karen Wong. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2007-09-21.

A method for searching for at least one motor vehicle out of a plurality of motor vehicles by a searching platform, a method for converting a microservice

Номер патента: GB2625326A. Автор: Schmidt Kyle. Владелец: Mercedes Benz Group AG. Дата публикации: 2024-06-19.

System, a method for controlling a device and a program thereof

Номер патента: US20110125858A1. Автор: Kiyoshi Yamabana. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2011-05-26.

Method for determining optimum cutting velocity

Номер патента: RU2658559C1. Автор: Дмитрий Вячеславович Васильев,Евгений Владимирович Артамонов,Михаил Олегович Чернышов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тюменский индустриальный университет" (ТИУ). Дата публикации: 2018-06-21.

Method for aquatic gas-hydrate deposit development

Номер патента: RU2627776C1. Автор: Леонид Васильевич Новиков,Александр Егорович Воробьев,Василий Михайлович Тарасюк. Владелец: Василий Михайлович Тарасюк. Дата публикации: 2017-08-11.

Method for predicting the probability of fatal outcome in 14-day period of acute ischemic stroke of the brain

Номер патента: RU2748685C1. Автор: Светлана Александровна Иванова,Валентина Михайловна Алифирова,Екатерина Сергеевна Королева,Станислав Дмитриевич Казаков,Наталия Георгиевна Бразовская,Людмила Александровна Левчук. Владелец: ФГБОУ ВО СибГМУ Минздрава России. Дата публикации: 2021-05-28.

Method for information processing

Номер патента: RU2628463C2. Автор: Эхсан САИДИ,Бабак АМИРПАРВИЗ. Владелец: Верили Лайф Сайенсиз ЭлЭлСи. Дата публикации: 2017-08-17.

Method for applying tendon suture

Номер патента: RU2673112C1. Автор: Карен Альбертович Егиазарян,Андрей Петрович Ратьев,Алексей Алексеевич Баранов,Наталья Валерьевна Челнокова,Эмиль Рашидович Шукюр-Заде,Дмитрий Сергеевич Черкасов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский национальный исследовательский медицинский университет им. Н.И. Пирогова" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ФГБОУ ВО РНИМУ им. Н.И. Пирогова Минздрава России). Дата публикации: 2018-11-22.

Method for simulating acute emotional immobilization stress during pregnancy in experiment

Номер патента: RU2767919C1. Автор: Саид Абдуллаевич Салехов,Василий Николаевич Цыган,Николай Несторович Максимюк,Инна Александровна Корабельникова,Фируз Абдуфаттоевич Шукуров,Елена Сергеевна Яблочкина,Мохамед Али Шариати,Саидходжа Муртазоевич Абдуллоев,Диана Саидовна Салехова,Махмадшох Курбонали Гудзода,Андрей Глебовович Васильев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Новгородский государственный университет имени Ярослава Мудрого». Дата публикации: 2022-03-22.

Method for manufacturing flat hull sections of watercrafts

Номер патента: RU2754420C1. Автор: Николай Алексеевич Носырев,Владимир Владимирович Лисицкий,Алексей Анатольевич Васильев,Константин Дмитриевич Могилко,Юрий Михайлович Габдрафиков. Владелец: Акционерное общество "Центр технологии судостроения и судоремонта" (АО "ЦТСС"). Дата публикации: 2021-09-02.

Method for synchronous hydromonitor construction of sets of draining trunks of small diameter and the device for its implementation

Номер патента: RU2770451C1. Автор: Ринат Абдрахманович Мулюков,Рустем Данирович Загиров,Юрий Алексеевич Грицай,Дамир Борисович Галимов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "СИМБУР". Дата публикации: 2022-04-18.

Turbomachine element comprising auxiliary sealing means and method for testing this element

Номер патента: RU2682301C2. Автор: Флоранс Ирэн Ноэлль ЛЕТАР,Тибо ЖАМОН,Оливье РЕНОН. Владелец: Сафран Эркрафт Энджинз. Дата публикации: 2019-03-18.

Apparatus and methods for acoustical monitoring and control of through-silicon-via reveal processing

Номер патента: WO2014179241A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jianshe Tang,Boguslaw A. Swedek,Uday Mahajan,Xiong Yeu CHEW,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2014-11-06.

Alpha-hydroxyketones for enhancing the activity of antimicrobial agents

Номер патента: EP4385328A1. Автор: Hauke Rohwer,Juergen Wiethan. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-06-19.

A removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: TW200724304A. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2007-07-01.

Method for creating a cluster of image regions for detecting a target object in an image, computer program product, camera system and motor vehicle

Номер патента: EP3555801A1. Автор: Sunil Chandra,Swaroop Kaggere Shivamurthy. Владелец: Connaught Electronics Ltd. Дата публикации: 2019-10-23.

Production line with flow-through feed heating and/or cooling system and heated surface for breeding insects, method for breeding insects and uses thereof

Номер патента: US20220330514A1. Автор: Damian JÓZEFIAK,Krzysztof Dudek,Piotr LUBIK. Владелец: Hipromine SA. Дата публикации: 2022-10-20.

Methods for characterizing tissues

Номер патента: AU2007263622A1. Автор: Konstantinos Balas. Владелец: Forth Photonics Ltd. Дата публикации: 2008-01-03.

Method for protecting a character entered at a graphical interface

Номер патента: WO2005083638A1. Автор: Yuen Chen Lim,Michelle Li Hua Tan. Владелец: Netrust Pte Ltd. Дата публикации: 2005-09-09.

Method for segmenting sign language into morphemes, method for predicting morpheme positions, and method for augmenting data

Номер патента: US20240249558A1. Автор: Jin Yea JANG,Sa Im SHIN,Han Mu PARK. Владелец: KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE. Дата публикации: 2024-07-25.

Systems and methods for generating synthetic data using federated, collaborative, privacy preserving learning models

Номер патента: WO2023044177A1. Автор: Alexander LITTLETON,Palka PATEL,Monik Raj BEHERA,Sudhir UPADHYAY,Arjun ACHARYA,Sophia WASSERMAN,Ker Fran LEE,Ahmed Elhassan,Senthil Nathan,Sudha PRIYADARSHINI. Владелец: JPMORGAN CHASE BANK, N.A.. Дата публикации: 2023-03-23.

Method for controlling limited time use of application, and electronic device

Номер патента: EP4206933A1. Автор: ZHAO Zhao. Владелец: Honor Device Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-05.

Method for protecting a character entered at a graphical interface

Номер патента: CA2558208A1. Автор: Yuen Chen Lim,Michelle Li Hua Tan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-09.

Method for protecting a character entered at a graphical interface

Номер патента: EP1723608A1. Автор: Yuen Chen Lim,Michelle Li Hua Tan. Владелец: Netrust Pte Ltd. Дата публикации: 2006-11-22.

Manufacturing method of a thin-film magnetic head

Номер патента: US7712204B2. Автор: Hiroshi Kamiyama,Hiroshi Yamazaki,Makoto Hasegawa,Kazuhiko Maejima,Atsuhiro Nonaka,Teruhisa Shindo. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2010-05-11.

Method for sensor edge and mask height control for narrow track width devices

Номер патента: US20070010044A1. Автор: Mustafa Pinarbasi. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2007-01-11.

Method for manufacturing mold for retroreflective element and method for manufacturing retroreflective element

Номер патента: US20230158717A1. Автор: Sho Arai,Yukinobu NISHIO. Владелец: Nalux Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

Method for determining the depth from a single image and system thereof

Номер патента: WO2022201212A1. Автор: Fabio TOSI,Matteo Poggi,Stefano Mattoccia,Filippo Aleotti,Valentino Peluso,Antonio Cipolletta,Andrea Calimera. Владелец: Alma Mater Studiorum - Università di Bologna. Дата публикации: 2022-09-29.

Method for preparing uo2 mixture powder for nuclear fuel manufacturing by means of ibc blender, and uo2 mixture powder for nuclear fuel manufacturing, prepared thereby

Номер патента: EP4354461A1. Автор: Dong Hyun Cho,Junseok Park,Bohyun JO,Hui Sung CHOI,Ji Hwan SON. Владелец: Kepco Nuclear Fuel Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Method for determining a treatment plan including a dose distribution

Номер патента: US20240312597A1. Автор: Cornelis KAMERLING,Mattia DONZELLI. Владелец: BRAINLAB AG. Дата публикации: 2024-09-19.

Method for braking a vehicle

Номер патента: US12115883B2. Автор: Emil ÅBERG. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Method and device for the chemical-mechanical polishing of workpieces

Номер патента: AU2003227044A1. Автор: Ulrich Ising,Thomas Keller,Marc Reichmann. Владелец: PETER WOLTERS SURFACE TECHNOLO. Дата публикации: 2003-11-03.

Method for casting molten metal using anti-shock insert in intermediate bucket

Номер патента: RU2754217C2. Автор: Иван ПРЬЕСОЛ. Владелец: И.П.Ц. Рефрацторьес, Спол. С Р.О.. Дата публикации: 2021-08-30.

Method for identifying narcotic and psychoactive substances in complex biological matrices of a human body

Номер патента: RU2705932C1. Автор: Андрей Петрович Новиков,Алексей Константинович Буряк,Сергей Александрович Савчук,Николай Юрьевич Шаборшин. Владелец: Сергей Александрович Савчук. Дата публикации: 2019-11-12.

Refrigeration apparatus and method for control of temperature in such refrigeration apparatus

Номер патента: RU2509966C2. Автор: Йохен ХЭРЛЕН,Панагиотис ФОТИАДИС,Харальд ЙОКШ. Владелец: Бсх Бош Унд Сименс Хаусгерете Гмбх. Дата публикации: 2014-03-20.

Method for determining cardiocotography type of human fetus

Номер патента: RU2688022C1. Автор: Владимир Александрович Крамарский,Юрий Викторович Трусов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение дополнительного профессионального образования "Российская медицинская академия непрерывного профессионального образования" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2019-05-17.

Method for growing betula pubescens birch wood

Номер патента: RU2725473C1. Автор: Сергей Вениаминович Залесов,Юрий Валерьевич Зарипов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уральский государственный лесотехнический университет". Дата публикации: 2020-07-02.

Method for identifying underwater hydrodynamic source (hds) by quasi-mirror radar image of sea surface

Номер патента: RU2763947C2. Автор: Сергей Владимирович Переслегин,Заур Анверович Халиков,Илья Олегович Карпов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт океанологии им. П.П. Ширшова РАН. Дата публикации: 2022-01-11.

Systems and methods for determining potential malicious event

Номер патента: RU2768512C1. Автор: Синь Ван,Пэнчэн ФЭН,Сяотан ЛИ,Вэньши ЧЖАНЬ,Шаофэй ЧЖАН,Юэ ЦЗЯН. Владелец: Бейджин Диди Инфинити Текнолоджи Энд Девелопмент Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-03-24.

Working blade for gas turbine, manufacturing method for such blade and gas turbine with such blade

Номер патента: RU2543100C2. Автор: Александр Ханин. Владелец: АЛЬСТОМ ТЕКНОЛОДЖИ ЛТД. Дата публикации: 2015-02-27.

Rubbing head with adaptivity and the chemical mechanical polishing apparatus with it

Номер патента: CN107363717A. Автор: 路新春,赵德文,陈祥玉. Владелец: Tianjin Hwatsing Technology Co Ltd (hwatsing Co Ltd). Дата публикации: 2017-11-21.

A method and system for controlling the chemical mechanical polishing by using a sensor signal of pad conditioner

Номер патента: KR101192418B1. Автор: 젠스 크레이머,우베 군테르 스토엑겐,젠스 쿠나쓰. Владелец: 글로벌파운드리즈 인크.. Дата публикации: 2012-10-17.

Window logic for control of polishing process

Номер патента: WO2023249678A1. Автор: Benjamin Cherian,Volker Geissler. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-12-28.

CMP polishing head design for improving removal rate uniformity

Номер патента: US11865666B2. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Shen-Nan Lee,Yung-Cheng Lu,Kuo-Yin Lin,Ching-Hong Jiang,Te-Chien Hou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Window logic for control of polishing process

Номер патента: US20230415302A1. Автор: Benjamin Cherian,Volker Geissler. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

CMP Polishing Head Design for Improving Removal Rate Uniformity

Номер патента: US20190126429A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Shen-Nan Lee,Yung-Cheng Lu,Kuo-Yin Lin,Ching-Hong Jiang,Te-Chien Hou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

System and method for providing stock market recommendation

Номер патента: WO2021060968A1. Автор: Weiying KOK,Chuan Hai NGO,Yasaman EFTEKHARYPOUR. Владелец: MIMOS BERHAD. Дата публикации: 2021-04-01.

System and method for monitoring people in the store

Номер патента: EP4392914A2. Автор: Goran Sundholm,Jarmo Kivinen. Владелец: Marielectronics Oy. Дата публикации: 2024-07-03.

System and methods for controlling nerve activity using electrical stimulation

Номер патента: EP3562388A1. Автор: Peng-Sheng Chen,Lan S. Chen. Владелец: Indiana University Research And Technology Corp. Дата публикации: 2019-11-06.

Method for building language model, speech recognition method and electronic apparatus

Номер патента: US20160314783A1. Автор: guo-feng Zhang. Владелец: Via Technologies Inc. Дата публикации: 2016-10-27.

Computer-implemented method for the automatic classification of emitter structures, apparatus for carrying out the method, machine-readable program code and storage medium

Номер патента: US20220237760A1. Автор: Jens Fuerst,Benjamin Samuel LUTZ,Andreas Selmaier. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2022-07-28.

System and method for efficient planning under uncertainty for autonomous vehicles

Номер патента: US20240092384A1. Автор: Brent Navin Roger Bacchus,Sayyed Rouhollah Jafari Tafti. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2024-03-21.

System and methods for educational and psychological modeling and assessment

Номер патента: CA3228240A1. Автор: Burr Settles,Kevin Yancey,Geoffery LAFLAIR,Arya MCMCARTHY. Владелец: Duolingo Inc. Дата публикации: 2023-03-23.

Method for a sanitizing treatment of textiles in a washing machine, device, washing machine, and computer program product

Номер патента: US20240218579A1. Автор: Alexander Löffler,Dirk Sieding,Marcel Zielke,Christian Beckord. Владелец: Miele und Cie KG. Дата публикации: 2024-07-04.

System and method for printing a cancellation mark on a ticket

Номер патента: US20140168332A1. Автор: Michael John Wilsher,Brian Reid,Christopher D. Olliffe,Duncan Ian STEVENSON. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

System and method for detecting cyclic activity in an event flow for dynamic application analysis

Номер патента: US20240095353A1. Автор: Vitaly V. Butuzov,Anton A. Kivva. Владелец: Kaspersky Lab AO. Дата публикации: 2024-03-21.

Method for scanning an area with a multi-photon laser scanning microscope and such multi-photon laser scanning microscope

Номер патента: WO2024134231A1. Автор: Gergely Katona,Mate Veress,Pal Maak,Gergely Szalay,András Fehér,Janos Orban,József Balázs RÓZSA,Katalin ÓCSAI,Péter PATAI. Владелец: Femtonics Kft.. Дата публикации: 2024-06-27.

Model driven system and method for development of micro service applications

Номер патента: US20210216293A1. Автор: Subbarao Siram,Jyoti Joshi,Yugesh Avadhanula,Ashutosh Damodar SABDE. Владелец: Tata Consultancy Services Ltd. Дата публикации: 2021-07-15.

System and method for analysing railway related data

Номер патента: WO2023208744A1. Автор: Andres HERNANDEZ CANSECO. Владелец: Konux Gmbh. Дата публикации: 2023-11-02.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

METAL CONDUCTOR CHEMICAL MECHANICAL POLISH

Номер патента: US20120001262A1. Автор: Yang Chi-Ming,Lin Chin-Hsiang,Jeng Shwang-Ming,Kang Huang Soon,Kuo Han-Hsin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: MY132791A. Автор: C Billings Scott,K Hsu Oscar,K Vangsness Jean,S Gilbride David. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Номер патента: US20120003823A1. Автор: Sasaki Makoto,NISHIGUCHI Taro,HARADA Shin,Okita Kyoko,Namikawa Yasuo. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Large Area Nitride Crystal and Method for Making It

Номер патента: US20120000415A1. Автор: Speck James S.,"DEvelyn Mark P.". Владелец: Soraa, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Forming the Same

Номер патента: US20120001229A1. Автор: Zhu Huilong,Liang Qingqing. Владелец: INSTITUTE OF MICROELECTRONICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001331A1. Автор: . Владелец: KABUSHI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Sophisticated Metallization Systems in Semiconductors Formed by Removing Damaged Dielectric Surface Layers After Forming the Metal Features

Номер патента: US20120001343A1. Автор: Feustel Frank,Huisinga Torsten,Grillberger Michael. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF REDUCING EROSION OF A METAL CAP LAYER DURING VIA PATTERNING IN SEMICONDUCTOR DEVICES

Номер патента: US20120003832A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING SOLID STATE IMAGING DEVICE AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE

Номер патента: US20120001292A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003801A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

LAYER HAVING FUNCTIONALITY, METHOD FOR FORMING FLEXIBLE SUBSTRATE HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001181A1. Автор: AOKI Tomoyuki,Tsurume Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR ON GLASS SUBSTRATE WITH STIFFENING LAYER AND PROCESS OF MAKING THE SAME

Номер патента: US20120001293A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL MODULATOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120003767A1. Автор: . Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

GRIPPING DEVICE, TRANSFER DEVICE, PROCESSING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120004773A1. Автор: . Владелец: SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR REACTING NATURAL GAS TO AROMATICS WHILE ELECTROCHEMICALLY REMOVING HYDROGEN AND ELECTROCHEMICALLY REACTING THE HYDROGEN WATER

Номер патента: US20120004482A1. Автор: Ahrens Sebastian,PANCHENKO Alexander,Heidemann Thomas,Tsou Joana Coelho,Wentink Annebart Engbert. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR SEPARATING A FEED MATERIAL DERIVED FROM A PROCESS FOR RECOVERING BITUMEN FROM OIL SANDS

Номер патента: US20120000831A1. Автор: Moran Kevin,Doiron Jacques. Владелец: Titanium Corporation Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for increasing process window in the chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW432523B. Автор: Yung-Nian Deng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2001-05-01.

FILLET WELD JOINT AND METHOD FOR GAS SHIELDED ARC WELDING

Номер патента: US20120003035A1. Автор: Suzuki Reiichi,Kinefuchi Masao,KASAI RYU. Владелец: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.). Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING PROPYLENE

Номер патента: US20120004490A1. Автор: Takamatsu Yoshikazu,Miyazaki Ryusuke. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPERATION METHODS FOR MEMORY CELL AND ARRAY FOR REDUCING PUNCH THROUGH LEAKAGE

Номер патента: US20120002484A1. Автор: Tsai Wen-Jer,HUANG JYUN-SIANG,OU TIEN-FAN,CHONG LIT-HO. Владелец: MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Systems and Methods for the Collection, Retention, and Redistribution of Rainwater and Methods of Construction of the Same

Номер патента: US20120000546A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NONLINEAR MODEL PREDICTIVE CONTROL OF A BATCH REACTION SYSTEM

Номер патента: US20120003623A1. Автор: . Владелец: ROCKWELL AUTOMATION TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING ALPHA-L-ASPARTYL-L-PHENYLALANINE-BETA-ESTER AND METHOD FOR PRODUCING ALPHA-L-ASPARTYL-L-PHENYLALANINE-ALPHA-METHYL ESTER

Номер патента: US20120003692A1. Автор: . Владелец: AJINOMOTO CO., INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS AND METHODS FOR INDUCTION AND ENHANCEMENT OF APOPTOSIS IN TUMOR CELLS

Номер патента: US20120004182A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICE AND METHODS FOR USE OF A DYNAMIC CONE PENETROMETER FOR EVALUATING SOIL COMPACTION

Номер патента: US20120004848A1. Автор: Kinast John Arthur,Farrag Khalid A.,Todres H.A. (Alan). Владелец: Sandy Golgart Sales Inc. d/b/a SGS. Дата публикации: 2012-01-05.

System and method for in-situ monitoring slurry flow rate during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW558482B. Автор: Bing-Shin Chen. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2003-10-21.

Prevention of wafer breaking in the chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW448086B. Автор: Ying-Lang Wang,Jiun-Jang Chen,Hung-Ru Jian,Wen-Gung Jeng. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-08-01.

Method of detecting the ending point during the chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW416891B. Автор: Ruei-Ping Juang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-01-01.

Method for bulk stock drying and unit to implement thereof

Номер патента: RU2328949C1. Автор: Александр Николаевич Остриков,Юли Владимировна Складчикова,Юлия Владимировна Складчикова. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежская государственная технологическая академия". Дата публикации: 2008-07-20.

Method for manufacturing of high-temperature superconducting josephson junction

Номер патента: RU2105390C1. Автор: Михаил Юрьевич Куприянов,Сергей Николаевич Поляков,Анатолий Михайлович Балбашов,Олег Васильевич Снигирев,Эрнст Константинович Ковьев,Игорь Иванович Венгрус,Игорь Юрьевич Парсегов. Владелец: Игорь Юрьевич Парсегов. Дата публикации: 1998-02-20.

Method of the removal of the remained tungsten layer along the wafer edge after the chemical mechanical polishing

Номер патента: TW393377B. Автор: Shiun-Ming Jang,Shuang-Ming Jeng,Jen-Hua Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-06-11.

The chemical mechanical polishing planarization technology of IC

Номер патента: TW288162B. Автор: Shiun-Ming Jang,Jenn-Hwa Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 1996-10-11.

STRUCTURE PROVIDED WITH ZEOLITE SEPARATION MEMBRANE, METHOD FOR PRODUCING SAME, METHOD FOR SEPARATING MIXED FLUIDS AND DEVICE FOR SEPARATING MIXED FLUIDS

Номер патента: US20120000358A1. Автор: MORI Nobuhiko,KAWAI Masaaki,SATOH Aya,TOMITA Toshihiro. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM FOR DATA COMMUNICATIONS, ROUTER, AND METHOD FOR DATA TRANSMISSION AND MOBILITY MANAGEMENT

Номер патента: US20120002600A1. Автор: ZHANG Gong,He Cheng,Xiang Yanping. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Surgical Method for Performing a Coronary Blood Vessel Bypass

Номер патента: US20120004499A1. Автор: Ott Douglas E.. Владелец: Lexion Medical, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for electrochemical polishing of metals and alloys

Номер патента: RU2550068C2. Автор: Иван Яковлевич Шестаков,Людмила Алексеевна Бабкина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирский государственный аэрокосмический университет имени академика М.Ф. Решетнева" (СибГАУ). Дата публикации: 2015-05-10.

Method for determining the thickness of film to be planarized in chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW466619B. Автор: Jiun-Fang Wang,Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Shuo-Yen Tai. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2001-12-01.

Alignment method for chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW368698B. Автор: bi-shan Wang,Yuan-Lung Liou,Jau-Jie Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 1999-09-01.

A method for alignment mark reappearing after chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW364170B. Автор: Chen-Hua Yu,Tsu Shih. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 1999-07-11.

ASSEMBLY AND METHOD FOR DETECTING AND MEASURING THE FOULING RATEOF FLOW HOLES IN A SECONDARY CIRCUIT OF A PRESSURIZED WATER NUCLEAR REACTOR

Номер патента: US20120002775A1. Автор: . Владелец: AREVA NP. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for preparing insecticide preparation and preparation based on microorganisms bacillus thuringiensis

Номер патента: RU2264102C2. Автор: Л.К. Каменек. Владелец: Каменек Людмила Кирилловна. Дата публикации: 2005-11-20.

A corrosion retarding polishing slurry for the chemical mechanical polishing of copper surfaces

Номер патента: TW200422364A. Автор: Yaw S Obeng. Владелец: psiloQuest Inc. Дата публикации: 2004-11-01.

Method for technological evaluation of technical variety grapes

Номер патента: RU2529839C1. Автор: Елена Викторовна Остроухова,Виктор Афанасьевич Загоруйко,Анатолий Мканович Авидзба,Вячеслав Иосифович Иванченко,Виктория Григорьевна Гержикова,Ирина Валериевна Пескова. Владелец: Национальный институт винограда и вина "Магарач" (НИВиВ "Магарач"). Дата публикации: 2014-09-27.

Methods and devices for enhancing chemical mechanical polishing processes

Номер патента: TW201130029A. Автор: jian-min Song. Владелец: jian-min Song. Дата публикации: 2011-09-01.

Method for preparing 5-aminolevulinic acid alkyl ester hydrochlorides

Номер патента: RU2270189C1. Автор: Георгий Николаевич Ворожцов,Сергей Георгиевич Кузьмин,нец Евгений Антонович Лукь,Евгений Антонович Лукьянец,Владимир Михайлович Негримовский,Михаил Викторович Горелик,Тамара Хаимовна Гладышева,Галина Ефимовна Самойлова. Владелец: Федеральное Государственное унитарное предприятие "Государственный научный центр "Научно-исследовательский институт органических полупродуктов и красителей" (ФГУП "ГНЦ "НИОПИК5). Дата публикации: 2006-02-20.

Method for producing heat-insulating product based on vermiculite

Номер патента: RU2563263C1. Автор: Юрий Сергеевич Саркисов,Сергей Иванович Рябов,Ирина Анатольевна Рахманова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Томский государственный архитектурно-строительный университет" (ТГАСУ). Дата публикации: 2015-09-20.

Method for determining location of unauthorised connection of load of unknown power to power transmission line

Номер патента: RU2561410C1. Автор: Виктор Александрович Козлов,Георгий Анатольевич Большанин. Владелец: Виктор Александрович Козлов. Дата публикации: 2015-08-27.

Method for obtaining potassium dodecahydro-closo-dodecaborate

Номер патента: RU2573679C2. Автор: Юрий Михайлович Михайлов,Александр Александрович Меркин,Вадим Евгеньевич Рыбин,Виталий Иванович Салдин,Василий Викторович Суховей,Вячеслав Михайлович Бузник,Александр Алексеевич Комаров. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли (Минпромторг России). Дата публикации: 2016-01-27.

Method for surgical management of chronic anal fissure

Номер патента: RU2567279C1. Автор: Виталий Сергеевич Грошилин,Елена Александровна Рогожкина,Анна Владимировна Перепечаева. Владелец: Государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ростовский государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации (ГБОУ ВПО РостГМУ Минздрава России). Дата публикации: 2015-11-10.

Method for treatment of irritable bowel syndrome

Номер патента: RU2314017C1. Автор: Леонид Борисович Лазебник,Ирина Николаевна Ручкина,Асфольд Иванович Парфенов,Ирина Евгеньевна Трубицына. Владелец: Ирина Евгеньевна Трубицына. Дата публикации: 2008-01-10.

Method for preparing levulinic acid esters

Номер патента: RU2319690C1. Автор: Усеин Меметович Джемилев,Равил Исмагилович Хуснутдинов,Альфия Руслановна Байгузина,Ринат Рифхатович Мукминов,Альфи Руслановна Байгузина,Антон Александрович Смирнов. Владелец: Институт нефтехимии и катализа РАН. Дата публикации: 2008-03-20.

Method for synthesis of cross-linked retinol-modified salt of hyaluronic acid

Номер патента: RU2386641C2. Автор: Михаил Анатольевич Селянин,Александр Николаевич Зеленецкий,Владимир Петрович Волков,Владимир Николаевич Хабаров,Владимир Петрович Волков (RU),Александр Николаевич Зеленецкий (RU),Владимир Николаевич Хабаров (RU),Михаил Анатольевич Селянин (RU). Владелец: ООО "Лаборатория ТОСКАНИ". Дата публикации: 2010-04-20.

Method for nondestructive inspection of product in course of its operation

Номер патента: RU2518407C1. Автор: Александр Федорович Гетман,Александр Георгиевич Казанцев,Александр Васильевич Михальчук,Геннадий Викторович Аркадов. Владелец: Открытое акционерное общество "Всероссийский научно-исследовательский институт по эксплуатации атомных электростанций" (ОАО ВНИИАЭС). Дата публикации: 2014-06-10.

Method for determining vehicle movement speed

Номер патента: RU2557666C2. Автор: Рамиль Гамилович Мустафин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Казанский государственный энергетический университет" (ФГБОУ ВПО "КГЭУ"). Дата публикации: 2015-07-27.

Method for preparation of product for mealing meat and fish semi-products

Номер патента: RU2569477C2. Автор: Евгений Сергеевич Попов,Наталья Сергеевна Родионова,Татьяна Васильевна Алексеева,Михаил Иванович Корыстин,Александр Анатольевич Родионов,Максим Михайлович Зяблов,Юлия Сергеевна Корнева,Александр Генадиевич Саблин. Владелец: Александр Генадиевич Саблин. Дата публикации: 2015-11-27.

Method for obtaining chemosorbing element

Номер патента: RU2569358C1. Автор: Сергей Борисович Путин,Николай Федорович Гладышев,Юрий Анатольевич Ферапонтов,Людмила Леонидовна Ферапонтова,Леонид Эдуардович Козадаев,Борис Викторович Путин,Юлия Александровна Суворова. Владелец: Открытое акционерное общество "Корпорация "Росхимзащита" (ОАО "Корпорация "Росхимзащита"). Дата публикации: 2015-11-20.

Method for preparing hydrophobic dispersed material

Номер патента: RU2235064C2. Автор: В.И. Селиверстов,В.И. Стенковой,В.Л. Бахарев,П.Г. Веретинский,Н.М. Григорьев. Владелец: Селиверстов Владимир Иванович. Дата публикации: 2004-08-27.

Method for evaluating of quality of treated flax fibers

Номер патента: RU2256012C1. Автор: Е.Л. Пашин,А.В. Куликов,А.Е. Виноградова,Е.Л. Пашин (RU),А.Е. Виноградова (RU),А.В. Куликов (RU). Владелец: Всероссийский Научно-Исследовательский Институт По Переработке Лубяных Культур (Вниилк). Дата публикации: 2005-07-10.

Method for manufacturing microwave integrated circuit

Номер патента: RU2557317C1. Автор: Константин Владимирович Дудинов,Михаил Петрович Духновский,Александр Михайлович Темнов,Александр Юрьевич Городецкий. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И.Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина"). Дата публикации: 2015-07-20.

Method for obtaining growth stimulator listeria monocytogenes from activated embryonic egg mass of quails

Номер патента: RU2535980C2. Автор: Людмила Дмитриевна Тимченко,Инна Николаевна Ткаченко,Валерий Николаевич Вакулин,Игорь Владимирович Ржепаковский,Марина Николаевна Сизоненко. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Северо-Кавказский федеральный университет". Дата публикации: 2014-12-20.

Method for extraction of sucrose from beet chips

Номер патента: RU2398885C1. Автор: Раиса Степановна Решетова,Константин Сергеевич Кулик,Сергей Николаевич Мартьянов,Артём Георгиевич Ворвуль,Константин Сергеевич Кулик (RU),Сергей Николаевич Мартьянов (RU),Раиса Степановна Решетова (RU),Артём Георгиевич Ворвуль (RU). Владелец: Сергей Николаевич Мартьянов. Дата публикации: 2010-09-10.

Method of reprocessing of the metallic beryllium wastes

Номер патента: RU2315714C1. Автор: Валериян Иванович Никонов,Михаил Леонидович Коцарь,Татьяна Аркадьевна Доброскокина,Валентин Владиславович Лазаренко,Андрей Маркович Попов,Вячеслав Семенович Каськов,Владимир Евстафьевич Большаков,Виктор Семенович Сизенев. Владелец: ФГУП "Всероссийский научно-исследовательский институт химической технологии". Дата публикации: 2008-01-27.

Auto feedback method of Receipes for chemical mechanical polishing(CMP)apparatus and controlling method for the same

Номер патента: TW200740553A. Автор: Chih-Hao Chuang,Sheng-Huan Tseng,Chien-Ying Chuang. Владелец: Powerchip Semiconductor Corp. Дата публикации: 2007-11-01.

Hydraulic fracturing method for oil or gas deposit

Номер патента: RU2516626C1. Автор: Олег Вячеславович Салимов,Вячеслав Гайнанович Салимов,Арслан Валерьевич Насыбуллин. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2014-05-20.

Method for formation hydraulic fracturing in horizontal open well shaft

Номер патента: RU2541693C1. Автор: Олег Вячеславович Салимов,Радик Зяузятович Зиятдинов,Рафкат Мазитович Рахманов,Фанзат Завдатович Исмагилов,Камиль Мансурович Гарифов. Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2015-02-20.

Method for development of high-viscosity oil reserves

Номер патента: RU2442883C1. Автор: Радик Зяузятович Зиятдинов,Владимир Борисович Оснос,Дмитрий Витальевич Страхов,Рашит Газнавиевич Рамазанов,Ильшат Мухаметович Бакиров,Дмитрий Витальевич Страхов (RU),Радик Зяузятович Зиятдинов (RU),Владимир Борисович Оснос (RU),Рашит Газнавиевич Рамазанов (RU),Ильшат Мухаметович Бакиров (RU). Владелец: Открытое акционерное общество "Татнефть" имени В.Д. Шашина. Дата публикации: 2012-02-20.

A kind of novel retaining ring and the chemical-mechanical polishing mathing equipped with the retaining ring

Номер патента: CN209425232U. Автор: 吴庚平. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-09-24.

Floating ring of the chemical mechanical polishing head

Номер патента: TW399007B. Автор: Wei-Jie Shiu. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2000-07-21.

Estimation method of polishing time for chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW450873B. Автор: Ying-Lang Wang,Yu-Gu Lin,Wen-Bin Jang,Huei-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-08-21.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.