Methods of forming self-aligned vias and air gaps
Номер патента: US10840186B2
Опубликовано: 17-11-2020
Автор(ы): Abhijit Basu Mallick, Praburam Gopalraja, Susmit Singha Roy, Ziqing Duan
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 17-11-2020
Автор(ы): Abhijit Basu Mallick, Praburam Gopalraja, Susmit Singha Roy, Ziqing Duan
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Self-aligned via patterning with multi-colored photobuckets for back end of line (BEOL) interconnects
Номер патента: US09406512B2. Автор: Kanwal Jit Singh,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Alan M. Myers. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-08-02.