Method of forming self-aligned silicides
Номер патента: US20060121708A1
Опубликовано: 08-06-2006
Автор(ы): Steven Huang, Yei-Hsiung Lin
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-06-2006
Автор(ы): Steven Huang, Yei-Hsiung Lin
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of forming self-aligned silicides
Номер патента: TWI310211B. Автор: Steven Huang,Yeihsiung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-05-21.