Method of forming self-aligned silicides

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Method of forming self-aligned silicides

Номер патента: TWI310211B. Автор: Steven Huang,Yeihsiung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-05-21.

Method of forming self-aligned silicides

Номер патента: TW200620405A. Автор: Steven Huang,Yei-Hsiung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-16.

METHOD FOR MANUFACTURING A SELF-ALIGNED SILICIDE

Номер патента: FR2763743B1. Автор: Water Lur,Shih Wei Sun,Tony Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-07-23.

METHOD FOR MANUFACTURING A SELF-ALIGNED SILICIDE

Номер патента: FR2763743A1. Автор: Water Lur,Shih Wei Sun,Tony Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1998-11-27.

All-in-one disposable/permanent spacer elevated source/drain, self-aligned silicide CMOS

Номер патента: US20030209765A1. Автор: Kam Lee,Ronnen Roy. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-11-13.

Self-aligned silicidation for replacement gate process

Номер патента: US20130092957A1. Автор: Andreas Knorr,Thorsten Kammler,Akif Sultan,Indradeep SEN. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-04-18.

Method of forming semiconductor device

Номер патента: US20120064709A1. Автор: Kyung-yub Jeon,Je-woo Han,Jun-ho Yoon,Kyoung-sub Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-03-15.

Self-aligned silicide (salicide) process for electrostatic discharge (ESD) protection

Номер патента: US5946573A. Автор: Chen-Chung Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-08-31.

Self-aligned silicidation for replacement gate process

Номер патента: US20120018816A1. Автор: Andreas Knorr,Thorsten Kammler,Akif Sultan,Indradeep SEN. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2012-01-26.

Method of fabricating a bipolar junction transistor

Номер патента: US20060099757A1. Автор: Ching-Hung Kao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-05-11.

Manufacturing method of self-aligned silicide

Номер патента: TW428231B. Автор: Shu-Ren Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-04-01.

Method of precision resistor in self-aligned silicided mos process

Номер патента: KR940002390B1. Автор: 케이. 에이. 제터룬드 번. Владелец: 디지털 이큅먼트 코오포레이숀. Дата публикации: 1994-03-24.

Self-aligned silicided process and structure

Номер патента: TW594872B. Автор: Chun-Chieh Lin,Chao-Hsiung Wang,Yee-Chia Yeo,Chien-Chao Huang,Chen-Ming Hu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2004-06-21.

Method of forming self align silicide in semiconductor device

Номер патента: KR100953489B1. Автор: 강양범. Владелец: 매그나칩 반도체 유한회사. Дата публикации: 2010-04-19.

STRUCTURE AND METHOD OF FORMING SELF ALIGNED CONTACTS IN SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190181047A1. Автор: Sung Min Gyu. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2019-06-13.

Semiconductor device with self aligned silicide layer and method for forming the same

Номер патента: KR20020048618A. Автор: 김진호. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2002-06-24.

Fin-last FinFET and methods of forming same

Номер патента: US09543301B2. Автор: Clement Hsingjen Wann,Yu-Lien Huang,Ming-Huan Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Methods of forming self aligned transistor structure having polycrystalline contacts

Номер патента: US3847687A. Автор: U Davidsohn,A Ajamie. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1974-11-12.

Method for forming self-aligned contact and integrated circuit with self-aligned contact

Номер патента: TW201243956A. Автор: Yi-Nan Chen,Hsien-Wen Liu,Jar-Ming Ho. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for forming self-aligned contact of semiconductor device

Номер патента: KR101046717B1. Автор: 이성권,정태우. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-07-05.

Method for forming self-aligned double-layer pattern

Номер патента: CN110459465B. Автор: 张志刚,徐灵芝,陆神洲. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-03-04.

Method for forming self align contact hole of semiconductor device

Номер патента: KR100745058B1. Автор: 조영재. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-08-01.

Method of Forming Self-Aligned Contacts for a Semiconductor Device

Номер патента: US20130189833A1. Автор: Peter Baars,Andy Wei,Martin Mazur,Erik Geiss. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-07-25.

Method of forming self-aligned silicide layers on semiconductor devices

Номер патента: US20020182860A1. Автор: Jerry Lin,Cheng-Kuo Yuan,Chi-Wei Chou. Владелец: SILICON INTEGRATED SYSTEMS CORP. Дата публикации: 2002-12-05.

Method for forming epitaxial Co self-align silicide for semiconductor device

Номер патента: US6077750A. Автор: Jeong Soo Byun,Dong Kyun Sohn. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2000-06-20.

Self-aligned silicide gate technology for advanced deep submicron MOS device

Номер патента: US6239452B1. Автор: Qi Xiang,Ming-Ren Lin,Shekhar Pramanick. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2001-05-29.

Process for fabricating self-aligned silicide lightly doped drain mos devices

Номер патента: CA1294061C. Автор: Di Ma,David H. Hoffman. Владелец: Standard Microsystems LLC. Дата публикации: 1992-01-07.

Method for forming self-aligned isolation trenches in semiconductor substrate and semiconductor device

Номер патента: US20150171162A1. Автор: Tzung-Han Lee,Yaw-Wen Hu. Владелец: Inotera Memories Inc. Дата публикации: 2015-06-18.

Method for forming self-aligned, dual silicon nitride liner for cmos devices

Номер патента: WO2006093730A1. Автор: Haining Yang,Thomas W. Dyer. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2006-09-08.

Method for forming self-aligned, dual silicon nitride liner for cmos devices

Номер патента: EP1856726A1. Автор: Haining Yang,Thomas W. Dyer. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2007-11-21.

Method of forming self-aligned contacts in a semi-conductor process

Номер патента: GB2269938B. Автор: James A Matthews. Владелец: Microunity Systems Engineering Inc. Дата публикации: 1994-09-07.

Method for forming self-aligned, dual silicon nitride liner for CMOS devices

Номер патента: TW200710993A. Автор: Thomas W Dyer,hai-ning Yang. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2007-03-16.

Method of making small contactless RAM cell

Номер патента: US5340762A. Автор: Madhukar B. Vora. Владелец: Fairchild Semiconductor Corp. Дата публикации: 1994-08-23.

A bicmos process for forming self-aligned npn emitters and bases and mosfet/source drains

Номер патента: EP0293731A3. Автор: Robert H. Havemann. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1989-09-27.

Method for forming self-aligned contact window

Номер патента: US6015741A. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Tony Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-01-18.

Forming nickel-platinum alloy self-aligned silicide contacts

Номер патента: US20140073130A1. Автор: Christian Lavoie,Ahmet S. Ozcan,David F. Hilscher. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-03-13.

Recessing RMG metal gate stack for forming self-aligned contact

Номер патента: US09570583B2. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Recessing RMG metal gate stack for forming self-aligned contact

Номер патента: US09455330B2. Автор: Xiuyu Cai,Kangguo Cheng,Ali Khakifirooz,Ruilong Xie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Self-aligned silicide process

Номер патента: US5888903A. Автор: Sean O'brien,Douglas A. Prinslow. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1999-03-30.

MOSFETs with recessed self-aligned silicide gradual S/D junction

Номер патента: US5994747A. Автор: Shye-Lin Wu. Владелец: Texas Instruments Acer Inc. Дата публикации: 1999-11-30.

Forming self-aligned vias and air-gaps in semiconductor fabrication

Номер патента: US20210202313A1. Автор: Lawrence A. Clevenger,John H. Zhang,Carl J. Radens. Владелец: Tessera LLC. Дата публикации: 2021-07-01.

Forming self-aligned vias and air-gaps in semiconductor fabrication

Номер патента: US10242911B2. Автор: Lawrence A. Clevenger,John H. Zhang,Carl J. Radens. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2019-03-26.

Forming self-aligned vias and air-gaps in semiconductor fabrication

Номер патента: US20220406658A1. Автор: Lawrence A. Clevenger,John H. Zhang,Carl J. Radens. Владелец: Tessera LLC. Дата публикации: 2022-12-22.

Method of making CMOS device and contacts therein by enhanced oxidation of selectively implanted regions

Номер патента: US4470852A. Автор: Daniel L. Ellsworth. Владелец: NCR Corp. Дата публикации: 1984-09-11.

Method for forming self-aligned wells to support tight spacing

Номер патента: US20090042377A1. Автор: Seetharaman Sridhar. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Method for forming self-aligned wells to support tight spacing

Номер патента: WO2009021187A3. Автор: Seetharaman Sridhar. Владелец: Seetharaman Sridhar. Дата публикации: 2009-04-09.

Method for forming self-aligned wells to support tight spacing

Номер патента: WO2009021187A2. Автор: Seetharaman Sridhar. Владелец: TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED. Дата публикации: 2009-02-12.

Forming self-aligned vias and air-gaps in semiconductor fabrication

Номер патента: US09911652B1. Автор: Lawrence A. Clevenger,John H. Zhang,Carl J. Radens. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

FORMING SELF-ALIGNED VIAS AND AIR-GAPS IN SEMICONDUCTOR FABRICATION

Номер патента: US20210202313A1. Автор: Clevenger Lawrence A.,Radens Carl J.,Zhang John H.. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-01.

Method for forming self-aligning contact structure in semiconductor IC device

Номер патента: CN1319886A. Автор: 金允基,朴东建,朴钟佑. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2001-10-31.

Integration circuit with self-aligned silicided ESD protection transistors

Номер патента: KR100369361B1. Автор: 정종척. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2003-01-30.

Methods of forming self aligned spacers for nanowire device structures

Номер патента: EP3394898A1. Автор: Anand Murthy,Karthik Jambunathan,Seiyon Kim,Jun Sung Kang,Glenn Glass. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-10-31.

Method of Forming Metal Silicide Regions on a Semiconductor Device

Номер патента: US20130015527A1. Автор: Peter Baars,Hans-Juergen Thees. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2013-01-17.

Method of Forming Contacts for Devices with Multiple Stress Liners

Номер патента: US20120299160A1. Автор: Peter Baars,Thilo Scheiper,Marco Lepper. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2012-11-29.

Method of forming self-aligned metal lines and vias

Номер патента: US09607893B1. Автор: Lawrence A. Clevenger,John H. Zhang,Carl J. Radens. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for forming self-aligned silicide layers on sub-quarter micron VLSI circuits

Номер патента: US6100191A. Автор: Jiun-Yuan Wu,Water Lur,Tony Lin,Hsiao-Lin Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-08-08.

Method of forming self-aligned contacts and local interconnects

Номер патента: US20090280633A1. Автор: An Chyi Wei. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2009-11-12.

Method of manufacturing self-aligned silicide

Номер патента: US6150264A. Автор: Chih-Ching Hsu,Shu-Jen Chen,Ruoh-Haw Chang. Владелец: United Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-11-21.

A method to form self-aligned silicide with reduced sheet resistance

Номер патента: SG107556A1. Автор: Yung Tao Lin,Wei Ning Li. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2004-12-29.

Method for forming self-align silicide in semiconductor device

Номер патента: KR100271948B1. Автор: 이응준,서태욱,이수근,구자흠,김철성,정주혁. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2000-11-15.

Method to form self-aligned silicide with reduced sheet resistance

Номер патента: US6509264B1. Автор: Weining Li,Yung Tao Lin. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2003-01-21.

Method of making semiconductor devices having an implant damage protection film on the gate electrode sidewalls

Номер патента: US5145797A. Автор: Shoji Nakanishi. Владелец: Seiko Instruments Inc. Дата публикации: 1992-09-08.

Methods for forming self-aligned contacts using spin-on silicon carbide

Номер патента: WO2022177828A1. Автор: Lior HULI,Junling Sun,Angelique RALEY,Andrew Metz. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-08-25.

Methods for Forming Self-Aligned Contacts Using Spin-on Silicon Carbide

Номер патента: US20220262679A1. Автор: Lior HULI,Junling Sun,Angelique RALEY,Andrew Metz. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-18.

Method of forming self-aligned contacts for a semiconductor device

Номер патента: US8927407B2. Автор: Peter Baars,Andy Wei,Martin Mazur,Erik Geiss. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2015-01-06.

Method of forming self-aligned contacts and local interconnects

Номер патента: US20070004187A1. Автор: An Chyi Wei. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2007-01-04.

Self-aligned silicide strap connection of polysilicon layers

Номер патента: US5756394A. Автор: H. Monte Manning. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1998-05-26.

Methods of forming memory cells having self-aligned silicide

Номер патента: US6939764B2. Автор: Chun Chen,Graham Wolstenholme. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-09-06.

Method of forming a self-aligned silicide layer in a semiconductor device

Номер патента: KR100508080B1. Автор: 김한성,김호식,우성오. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-10-26.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US6194298B1. Автор: Ming-Shing Chen,Akira Mao. Владелец: United Semiconductor Corp. Дата публикации: 2001-02-27.

Formation method of self-aligned silicide layer using ammonia plasma

Номер патента: KR100455367B1. Автор: 서태욱,김민. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-01-17.

Method for Forming Self-Aligned Silcide of Semiconductor Device

Номер патента: KR100628253B1. Автор: 심규철,이완규. Владелец: 매그나칩 반도체 유한회사. Дата публикации: 2006-09-27.

Self-aligned silicide process in forming semiconductor sidewalls

Номер патента: WO1990001795A1. Автор: Tyler A. Lowrey,Clifford A. Maxwell. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 1990-02-22.

Method for forming a self aligned silicide contact hole

Номер патента: KR100470127B1. Автор: 김재영. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-05.

Methods of forming self-aligned contacts on FinFET devices

Номер патента: US09627274B1. Автор: Huang Liu,Xintuo Dai,Jinping Liu,Haifeng Sheng. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Methods of forming self-aligned device level contact structures

Номер патента: US09653356B2. Автор: Hoon Kim,Ruilong Xie,Chanro Park,Min Gyu Sung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for forming self-aligned double pattern and semiconductor structures

Номер патента: US12100593B2. Автор: Zhongming Liu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-09-24.

Method for forming self-aligned double pattern, and semiconductor structure

Номер патента: EP4181172A1. Автор: Zhongming Liu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-05-17.

Method and structure of forming self-aligned RMG gate for VFET

Номер патента: US09780208B1. Автор: Hoon Kim,Ruilong Xie,Chanro Park,Min Gyu Sung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

METHODS OF FORMING SELF-ALIGNED DEVICE LEVEL CONTACT STRUCTURES

Номер патента: US20170047253A1. Автор: Kim Hoon,Xie Ruilong,Park Chanro,Sung Min Gyu. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

Method of Forming Self-Aligned Contacts Using a Replacement Metal Gate Process in a Semiconductor Device

Номер патента: US20150263131A1. Автор: Metz Andrew. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2015-09-17.

Method of forming self-aligned contact structure with locally etched gate conductive layer

Номер патента: US6855610B2. Автор: Ming-Sheng Tung,Yueh-Chuan Lee. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2005-02-15.

Self-aligned silicide gate for discrete shielded-gate trench power mosfet

Номер патента: US20240063305A1. Автор: Zhenyin Yang. Владелец: Analog Devices Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Self-aligned silicide gate for discrete shielded-gate trench power mosfet

Номер патента: EP4325583A1. Автор: Zhenyin Yang. Владелец: Analog Devices Inc. Дата публикации: 2024-02-21.

Method and structure of forming self-aligned rmg gate for vfet

Номер патента: US20180019337A1. Автор: Hoon Kim,Ruilong Xie,Chanro Park,Min Gyu Sung. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-01-18.

TRANSISTOR WITH REDUCED GATE RESISTANCE AND IMPROVED PROCESS MARGIN OF FORMING SELF-ALIGNED CONTACT

Номер патента: US20220051939A1. Автор: YANG SHENG-HUI. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-17.

Transistor with reduced gate resistance and improved process margin of forming self-aligned contact

Номер патента: US20220051939A1. Автор: Sheng-hui Yang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-02-17.

Forming self-aligned dual patterning mandrel and non-mandrel interconnects

Номер патента: US09659818B1. Автор: Carl Radens,Lawrence A. Clevenger,John Zhang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-23.

Forming self-aligned NiSi placement with improved performance and yield

Номер патента: US09607989B2. Автор: XIN Wang,LUN Zhao,Xusheng Wu,Yong Meng Lee,Yue Hu,Wen-Pin Peng,Wei-Hua TONG. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Forming Self-Aligned Contact with Spacer First

Номер патента: US20190027580A1. Автор: Xie Ruilong,Fan Su Chen,Pranatharthiharan Balasubramanian,Greene Andrew M.,Lian Sean,Raymond Mark V.. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-24.

RECESSING RMG METAL GATE STACK FOR FORMING SELF-ALIGNED CONTACT

Номер патента: US20160149015A1. Автор: Cheng Kangguo,Khakifirooz Ali,Xie Ruilong,Cai Xiuyu. Владелец: . Дата публикации: 2016-05-26.

FORMING SELF-ALIGNED NiSi PLACEMENT WITH IMPROVED PERFORMANCE AND YIELD

Номер патента: US20160163702A1. Автор: WANG Xin,HU Yue,Wu Xusheng,Lee Yong Meng,ZHAO Lun,PENG Wen-Pin,TONG Wei-Hua. Владелец: . Дата публикации: 2016-06-09.

METHOD FOR FORMING SELF-ALIGNED ISOLATION TRENCHES IN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20150171162A1. Автор: LEE TZUNG-HAN,Hu Yaw-Wen. Владелец: INOTERA MEMORIES, INC.. Дата публикации: 2015-06-18.

USING SELECTIVELY FORMED CAP LAYERS TO FORM SELF-ALIGNED CONTACTS TO SOURCE/DRAIN REGIONS

Номер патента: US20210280690A1. Автор: Cheng Kangguo,Xie Ruilong,Park Chanro,Lee Choonghyun. Владелец: . Дата публикации: 2021-09-09.

Method to form self aligned, L-shaped sidewall spacers

Номер патента: EP1164636B1. Автор: Gupta Subhash,Pradeep Yelehanka,Chhagan Vijai. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2007-12-19.

Enlarged sacrificial gate caps for forming self-aligned contacts

Номер патента: US10008385B1. Автор: Haiting Wang,Chih-Chiang Chang,Ashish Kumar JHA,Mitchell Rutkowski. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-06-26.

Method for forming self-aligned double pattern, and semiconductor structure

Номер патента: EP4181172A4. Автор: Zhongming Liu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-27.

Forming self-aligned contacts

Номер патента: GB202001682D0. Автор: . Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-03-25.

Self-aligned silicide formation on source/drain through contact via

Номер патента: US9553189B2. Автор: Yoshihiro Uozumi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

N-channel clamp for ESD protection in self-aligned silicided CMOS process

Номер патента: US5262344A. Автор: Kaizad R. Mistry. Владелец: Digital Equipment Corp. Дата публикации: 1993-11-16.

N-channel clamp for esd protection in self-aligned silicided cmos process

Номер патента: CA2039777A1. Автор: Kaizad Rumy Mistry. Владелец: Digital Equipment Corp. Дата публикации: 1991-10-28.

Method for forming self-aligned contacts/vias with high corner selectivity

Номер патента: US20150170965A1. Автор: PENG Wang,Eric A. Hudson,Ananth INDRAKANTI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Method for forming self aligned contacts

Номер патента: US20020098640A1. Автор: Ii-Wook Kim,Jong-Sam Kim,Dong-kuk Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-07-25.

Asymmetric, double-sided self-aligned silicide and method of forming the same

Номер патента: US20030129831A1. Автор: Yongjun Hu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-10.

Methods to form self-aligned permanent on-chip interconnect structures

Номер патента: US20120018891A1. Автор: Qinghuang Lin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2012-01-26.

Methods of forming self-aligned contacts

Номер патента: US20220189965A1. Автор: Russell Chin Yee Teo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Methods of forming self-aligned contacts

Номер патента: US20200373309A1. Автор: Russell Chin Yee Teo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Methods of forming self-aligned contacts comprising reusing hardmask materials and lithography reticles

Номер патента: US11302699B2. Автор: Russell Chin Yee Teo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-12.

Method of Forming Self-Alignment Contact

Номер патента: US20170170292A1. Автор: HSU Hung-Chang,Jang Syun-Ming,Lin Sheng-Hsuan,SU Hung-Wen,Lee Ya-Lien,LIN Rueijer,TSAI Ming-Hsing,Liu Hsiao-Ping,Kao Yen-Shou. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

Method of forming self-aligning contacting hole

Номер патента: JPS60216582A. Автор: シエン テン スウ. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1985-10-30.

Method of fabricating a MOS transistor using a self-aligned silicide technique

Номер патента: TW501236B. Автор: Hyung-Shin Kwon,Do-hyeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-09-01.

Methods of Forming CoSi2, Methods of Forming Field Effect Transistors, and Methods of Forming Conductive Contacts

Номер патента: US20090035938A1. Автор: Yongjun Jeff Hu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-02-05.

Methods of forming CoSi2, methods of forming field effect transistors, and methods of forming conductive contacts

Номер патента: US20070032071A1. Автор: Yongjun Hu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-02-08.

RECESSING RMG METAL GATE STACK FOR FORMING SELF-ALIGNED CONTACT

Номер патента: US20160372576A1. Автор: Cheng Kangguo,Khakifirooz Ali,Xie Ruilong,Cai Xiuyu. Владелец: . Дата публикации: 2016-12-22.

Method for forming self-aligned Schottky junctions for semiconductor devices

Номер патента: JP5001295B2. Автор: ミュラー マーカス. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2012-08-15.

Mosfet structure with multiple self-aligned silicide contacts

Номер патента: US20100304563A1. Автор: Kern Rim,Kevin K. Chan,Christian Lavoie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2010-12-02.

MOSFET structure with multiple self-aligned silicide contacts

Номер патента: US20060033165A1. Автор: Kern Rim,Kevin Chan,Christian Lavoie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-02-16.

Fabrication method of trenched power MOSFET with low gate impedance

Номер патента: US7608511B1. Автор: Hsiu Wen Hsu. Владелец: Niko Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-27.

Method of forming self-aligned top gate channel barrier region in ion-implanted JFET

Номер патента: US5120669A. Автор: Gregory A. Schrantz. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 1992-06-09.

Method of fabricating a heterojunction bipolar transistor

Номер патента: WO2006109208A3. Автор: Joost Melai,Philippe Meunier-Beillard,Erwin Hijzen,Johannes J T M Donkers. Владелец: Johannes J T M Donkers. Дата публикации: 2007-02-15.

Method of fabricating a heterojunction bipolar transistor

Номер патента: EP1875494A2. Автор: Johannes J. T. M. Donkers,Joost Melai,Philippe Meunier-Beillard,Erwin Hijzen. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2008-01-09.

Method of fabricating a heterojunction bipolar transistor

Номер патента: WO2006109208A2. Автор: Johannes J. T. M. Donkers,Joost Melai,Philippe Meunier-Beillard,Erwin Hijzen. Владелец: NXP B.V.. Дата публикации: 2006-10-19.

Methods of forming self aligned spacers for nanowire device structures

Номер патента: EP3394898B1. Автор: Anand Murthy,Karthik Jambunathan,Seiyon Kim,Jun Sung Kang,Glenn Glass. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-09-20.

METHODS OF FORMING SELF ALIGNED SPACERS FOR NANOWIRE DEVICE STRUCTURES

Номер патента: US20180358436A1. Автор: Murthy Anand,Kim Seiyon,JAMBUNATHAN KARTHIK,KANG Jun Sung,GLASS Glenn. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2018-12-13.

Method of fabricating semiconductor devices

Номер патента: US20080017933A1. Автор: Ching-Hung Kao. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-01-24.

Self-aligned silicide transistor and manufacturing method thereof

Номер патента: CN104425572A. Автор: 马万里,赵文魁,闻正锋. Владелец: Shenzhen Founder Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-18.

Method of forming a junction field effect transistor

Номер патента: US20170062431A1. Автор: Geert Van Der Plas,Geert Hellings,Mirko Scholz. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-03-02.

Method of forming a junction field effect transistor

Номер патента: US09847336B2. Автор: Geert Van Der Plas,Geert Hellings,Mirko Scholz. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2017-12-19.

FinFET device and method of forming

Номер патента: US09837539B1. Автор: Yi-Wei Chiu,Xi-Zong Chen,Cha-Hsin Chao,Te-Chih Hsiung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Methods of forming vertical memory strings, and methods of forming vertically-stacked structures

Номер патента: US09627550B2. Автор: John D. Hopkins. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Methods of forming transistors and devices comprising transistors

Номер патента: US20220189828A1. Автор: Kevin J. Torek. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Method of forming DRAM circuitry

Номер патента: US20030017680A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Garo Derderian,M. Visokay,J. Drynan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-23.

Semiconductor devices and methods of manufacture thereof

Номер патента: US09825043B2. Автор: Jean-Pierre Colinge,Carlos H. Diaz,Ta-Pen Guo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of forming self aligned grids in BSI image sensor

Номер патента: US11776985B2. Автор: Jiech-Fun Lu,Shih-Pei Chou,Tsun-Kai Tsao,Wei Chuang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Method of forming salicided self-aligned contact for SRAM cells

Номер патента: US5573980A. Автор: Chue-San Yoo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1996-11-12.

Fabrication method of power semiconductor structure with reduced gate impedance

Номер патента: US20120045877A1. Автор: Hsiu Wen Hsu. Владелец: Great Power Semiconductor Corp. Дата публикации: 2012-02-23.

Method of forming self-aligned thin film transistor

Номер патента: CA2228037A1. Автор: James F. Farrell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-02-13.

Method to form self-aligned high density nanocrystals

Номер патента: US20160071943A1. Автор: Sung-taeg Kang,Euhngi Lee. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2016-03-10.

Process for forming self-aligned dielectric isolation

Номер патента: EP0062170A2. Автор: Klaus Dietrich Beyer,Joseph Skinner Logan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1982-10-13.

Process for forming self-aligned dielectric isolation

Номер патента: EP0062170B1. Автор: Klaus Dietrich Beyer,Joseph Skinner Logan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1988-12-07.

Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: NL2018614B1. Автор: OHTANI Kinya. Владелец: Shindengen Electric Mfg. Дата публикации: 2018-02-01.

Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: NL2018616B1. Автор: OHTANI Kinya. Владелец: Shindengen Electric Mfg. Дата публикации: 2018-02-01.

Methods Of Forming Metal Chalcogenide Pillars

Номер патента: US20220051941A1. Автор: Srinivas Gandikota,Amrita B. Mullick. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-02-17.

Methods of forming metal chalcogenide pillars

Номер патента: WO2019173447A1. Автор: Srinivas Gandikota,Amrita B. Mullick. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2019-09-12.

Method of forming self-aligned via

Номер патента: US10923396B2. Автор: Mihaela Balseanu,Suketu Arun Parikh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-02-16.

Method Of Forming Self-Aligned Via

Номер патента: US20200144117A1. Автор: Mihaela Balseanu,Suketu Arun Parikh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-05-07.

Method for forming self-aligned contacts and local interconnects simultaneously

Номер патента: US20070235798A1. Автор: Kuang-Chao Chen,Tuung Luoh,Ling-Wuu Yang. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-11.

Forming self-aligned conductive lines for resistive random access memories

Номер патента: US09705080B2. Автор: Fabio Pellizzer,Innocenzo Tortorelli,Pietro Petruzza. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: US09627321B2. Автор: Kanwal Jit Singh,Boyan Boyanov. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: US09373584B2. Автор: Kanwal Jit Singh,Boyan Boyanov. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-06-21.

Method of fabricating a self-aligned contact using organic dielectric materials

Номер патента: US5482894A. Автор: Robert H. Havemann. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1996-01-09.

Manufacturing method of self-aligned silicide load for static random access memory

Номер патента: US5854103A. Автор: Kuei-Chang Liang. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-12-29.

Method of forming self-aligned contact of semiconductor device

Номер патента: KR100245136B1. Автор: 김정호,김승준,이동덕,김일욱. Владелец: 현대전자산업주식회사. Дата публикации: 2000-03-02.

Method of forming self aligned double pattern

Номер патента: KR100714305B1. Автор: 홍창기,윤보언,최재광,권병호,박준상,윤세라. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-05-02.

Methods Of Forming Self-Aligned Vias

Номер патента: US20190013202A1. Автор: Thompson David,Anthis Jeffrey W.,Mallick Abhijit Basu,Schmiege Benjamin,Duan Ziqing,Roy Susmit Singha. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-10.

Methods Of Forming Self-Aligned Vias

Номер патента: US20180096847A1. Автор: Thompson David,Anthis Jeffrey W.,Mallick Abhijit Basu,Schmiege Benjamin,Duan Ziqing,Roy Susmit Singha. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-05.

Method Of Forming Self-Aligned Via

Номер патента: US20210166973A1. Автор: Parikh Suketu Arun,Balseanu Mihaela A.. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-03.

Method Of Forming Self-Aligned Via

Номер патента: US20200144117A1. Автор: Balseanu Mihaela,Parikh Suketu Arun. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-07.

Method Of Forming Self-Aligned Via

Номер патента: US20200219768A1. Автор: Balseanu Mihaela,Parikh Suketu Arun. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

Methods Of Forming Self-Aligned Vias And Air Gaps

Номер патента: US20190348368A1. Автор: GOPALRAJA Praburam,Mallick Abhijit Basu,Duan Ziqing,Roy Susmit Singha. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-14.

Methods Of Forming Self-Aligned Vias And Air Gaps

Номер патента: US20180358260A1. Автор: GOPALRAJA Praburam,Mallick Abhijit Basu,Duan Ziqing,Roy Susmit Singha. Владелец: . Дата публикации: 2018-12-13.

Methods of forming self-aligned contacts

Номер патента: US20200373309A1. Автор: Russell Chin Yee Teo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-26.

Methods of forming self-aligned vias and air gaps

Номер патента: US10840186B2. Автор: Ziqing Duan,Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Praburam Gopalraja. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-17.

Method of forming self-aligned contact in semiconductor device

Номер патента: KR0164497B1. Автор: 최창원. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1999-02-01.

Methods of forming self-aligned vias and air gaps

Номер патента: US10403542B2. Автор: Ziqing Duan,Abhijit Basu Mallick,Susmit Singha Roy,Praburam Gopalraja. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-09-03.

A method of forming self-aligned contacts portion

Номер патента: CN106531684B. Автор: 赵超,朱慧珑,殷华湘,赵治国. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2019-07-16.

Method of forming self-aligned via structure

Номер патента: US6372641B1. Автор: Chuen-Der Lien. Владелец: Integrated Device Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-16.

Process of forming contact holes

Номер патента: US5500080A. Автор: Yang K. Choi. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1996-03-19.

Method for forming self-alignment insulation structure

Номер патента: US20090283873A1. Автор: Hon-Chun Wang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-19.

Methods to form self-aligned permanent on-chip interconnect structures

Номер патента: US20130001801A1. Автор: Qinghuang Lin. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-01-03.

A method to form self-aligned anti-via interconnects

Номер патента: SG118126A1. Автор: Gupta Subhash,Hong Sangki,Kwok Keung Ho Paul. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2006-01-27.

Methods for forming self-aligned interconnect structures

Номер патента: US20240347384A1. Автор: Ru-Gun Liu,Shih-Ming Chang,Hoi-Tou Ng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Method for forming self-aligning local interconnects in integrated circuits

Номер патента: EP2592649B1. Автор: Michael C Smayling,Scott T Becker. Владелец: Tela Innovations Inc. Дата публикации: 2015-04-29.

The manufacturing process of self-aligned silicide, CMP, self-aligned silicide semiconductor

Номер патента: TW324836B. Автор: Sy-Miin Lin. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-01-11.

Method of manufacturing self-aligned silicide

Номер патента: TW366528B. Автор: Shu-Jen Chen,Ruoh-Haw Chang,Jr-Ching Shiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-08-11.

METHODS AND APPARATUSES TO FORM SELF-ALIGNED CAPS

Номер патента: US20130256899A1. Автор: Singh Kanwal Jit,Boyanov Boyan. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-03.

Methods for Forming Self-Aligned Interconnect Structures

Номер патента: US20210035862A1. Автор: Liu Ru-Gun,Chang Shih-Ming,Ng Hoi-Tou. Владелец: . Дата публикации: 2021-02-04.

METHOD TO FORM SELF-ALIGNED HIGH DENSITY NANOCRYSTALS

Номер патента: US20160071943A1. Автор: Kang Sung-Taeg,LEE Euhngi. Владелец: Freescale Semiconductor, Inc.. Дата публикации: 2016-03-10.

METHODS AND APPARATUSES TO FORM SELF-ALIGNED CAPS

Номер патента: US20220270978A1. Автор: Singh Kanwal Jit,Boyanov Boyan. Владелец: . Дата публикации: 2022-08-25.

METHOD FOR FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS/VIAS WITH HIGH CORNER SELECTIVITY

Номер патента: US20150170965A1. Автор: WANG Peng,Hudson Eric A.,INDRAKANTI Ananth. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-18.

METHODS AND APPARATUSES TO FORM SELF-ALIGNED CAPS

Номер патента: US20170207120A1. Автор: Singh Kanwal Jit,Boyanov Boyan. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-20.

Process Integration Techniques Using A Carbon Layer To Form Self-Aligned Structures

Номер патента: US20180308753A1. Автор: Mosden Aelan,KUMAR KAUSHIK. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

METHOD FOR FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS/VIAS WITH HIGH CORNER SELECTIVITY

Номер патента: US20150325479A1. Автор: WANG Peng,Hudson Eric A.,INDRAKANTI Ananth. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-12.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: US20200321282A1. Автор: Kanwal Jit Singh,Boyan Boyanov. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-10-08.

FORMING SELF-ALIGNED MULTI-METAL INTERCONNECTS

Номер патента: US20200357748A1. Автор: De Silva Ekmini Anuja,Dutta Ashim. Владелец: . Дата публикации: 2020-11-12.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: US20190393157A1. Автор: Kanwal Jit Singh,Boyan Boyanov. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

A method for forming self-aligned contact of semiconductor device

Номер патента: KR100276387B1. Автор: 이재구,조창현,정홍식. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2000-12-15.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: KR101684310B1. Автор: 보얀 보야노브,칸왈 지트 싱흐. Владелец: 인텔 코포레이션. Дата публикации: 2016-12-08.

Method for forming self aligned vias in multi level metal integrated circuit

Номер патента: KR100272499B1. Автор: 바실리 킷치. Владелец: 클라크 3세 존 엠.. Дата публикации: 2000-12-01.

Method for forming self aligned contact in semiconductor device with buried gate

Номер патента: KR101075526B1. Автор: 신종한,박점용. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-10-20.

Method for forming self-aligned contact hole in semiconductor device

Номер патента: KR100441998B1. Автор: 서준,송종희. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-07-30.

Method for forming self aligned contact hole in semiconductor

Номер патента: KR100839527B1. Автор: 전재영. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-06-19.

Method for forming self-aligned contact of semiconductor device

Номер патента: KR100268443B1. Автор: 조창현,김기남,정태영. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2000-10-16.

Method for forming self alignment contact

Номер патента: CN1244727A. Автор: 林炳俊. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-02-16.

Method for forming self-aligned contacts in semiconductor devices

Номер патента: KR970018058A. Автор: 최창원. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1997-04-30.

Method for forming self-aligned contact of semiconductor device

Номер патента: KR940016879A. Автор: 박해성. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1994-07-25.

Method for forming self align contact of semiconductor device

Номер патента: KR101073130B1. Автор: 이민석,이성권. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-10-12.

Method for forming self-aligned trench

Номер патента: CN113488430A. Автор: 杨军. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2021-10-08.

Methods for forming self-aligned interconnect structures

Номер патента: US11289376B2. Автор: Ru-Gun Liu,Shih-Ming Chang,Hoi-Tou Ng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-03-29.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: KR102151585B1. Автор: 보얀 보야노브,칸왈 지트 싱흐. Владелец: 인텔 코포레이션. Дата публикации: 2020-09-03.

Apparatus and method for forming self-aligned trench isolation

Номер патента: WO1988004106A1. Автор: Bing Yeh,Daniel Charles Guterman. Владелец: Xicor, Inc.. Дата публикации: 1988-06-02.

Forming self-aligned multi-metal interconnects

Номер патента: US11355442B2. Автор: Ekmini Anuja De Silva,Ashim Dutta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-06-07.

Method for forming self-aligned interconnect structure

Номер патента: CN112309963A. Автор: 张世明,刘如淦,伍海涛. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-02.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: KR102306796B1. Автор: 보얀 보야노브,칸왈 지트 싱흐. Владелец: 인텔 코포레이션. Дата публикации: 2021-09-30.

Method for forming self-aligned contacts using a hard mask

Номер патента: US6265296B1. Автор: Erik S. Jeng,Hung-Yi Luo,Hao-Chieh Liu,Tzu-Shih Yen. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2001-07-24.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: WO2013066356A1. Автор: Kanwal Jit Singh,Boyan Boyanov. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2013-05-10.

Method for forming self-aligned contact of semiconductor device

Номер патента: JP5084074B2. Автор: 眞 雄 金. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2012-11-28.

Methods and apparatuses to form self-aligned caps

Номер патента: TWI792018B. Автор: 肯瓦爾 辛格,伯葉 伯葉諾夫. Владелец: 美商英特爾股份有限公司. Дата публикации: 2023-02-11.

Forming self-aligned multi-metal interconnects

Номер патента: US11923311B2. Автор: Ekmini Anuja De Silva,Ashim Dutta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Methods for forming self-aligned interconnect structures

Номер патента: US12020984B2. Автор: Ru-Gun Liu,Shih-Ming Chang,Hoi-Tou Ng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Contactless local interconnect process utilizing self-aligned silicide

Номер патента: GB0214919D0. Автор: . Владелец: Agere Systems Guardian Corp. Дата публикации: 2002-08-07.

IMPROVED SELF-ALIGNED SILICIDE PROCESS

Номер патента: FR2752331B1. Автор: Jason Jenq,Tung Po Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1998-11-06.

The manufacturing method on self-aligned silicide barrier layer

Номер патента: CN106024622B. Автор: 陈宏�. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2019-04-19.

Eliminating buried contact trench in MOSFET devices having self-aligned silicide

Номер патента: US6211556B1. Автор: Shye-Lin Wu. Владелец: Texas Instruments Acer Inc. Дата публикации: 2001-04-03.

Self-aligned silicide for word lines and contacts

Номер патента: US20050242390A1. Автор: Chun Chen,Graham Wolstenholme. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-11-03.

Contactless local interconnect process utilizing self- aligned silicide

Номер патента: JP2003086680A. Автор: Seungmoo Choi,チョイ セウングムー. Владелец: Agere Systems Guardian Corp. Дата публикации: 2003-03-20.

method of of forming interconnection lines in a semiconductor memory device

Номер патента: KR100558493B1. Автор: 나영섭. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-03-07.

Method of forming self-aligned poly for embedded flash

Номер патента: US20050127435A1. Автор: Han-Ping Chen,Chung-Yi Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2005-06-16.

Method of forming self-aligned poly for embedded flash

Номер патента: US7153744B2. Автор: Han-Ping Chen,Chung-Yi Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2006-12-26.

method for forming self aligned field effect transistor structure

Номер патента: KR101070408B1. Автор: 백규하,도이미. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2011-10-06.

SELF-ALIGNED SILICIDATION FOR REPLACEMENT GATE PROCESS

Номер патента: US20130092957A1. Автор: KNORR Andreas,Kammler Thorsten,Sultan Akif,SEN Indradeep. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-04-18.

SELF-ALIGNED SILICIDE FORMATION ON SOURCE/DRAIN THROUGH CONTACT VIA

Номер патента: US20150318395A1. Автор: Uozumi Yoshihiro. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

Method of forming graphene nanopattern by using mask formed from block copolymer

Номер патента: US09748108B2. Автор: Seongjun Park,Yunseong LEE,Seongjun JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-08-29.

Method of forming contact hole and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20060134910A1. Автор: Pin-Yao Wang,Min-San Huang,Leon Lai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-22.

METHOD OF FORMING SELF ALIGNED GRIDS IN BSI IMAGE SENSOR

Номер патента: US20200135798A1. Автор: Lu Jiech-Fun,Tsao Tsun-Kai,Wu Wei Chuang,Chou Shih-Pei. Владелец: . Дата публикации: 2020-04-30.

METHOD OF FORMING SELF ALIGNED GRIDS IN BSI IMAGE SENSOR

Номер патента: US20210280630A1. Автор: Lu Jiech-Fun,Tsao Tsun-Kai,Wu Wei Chuang,Chou Shih-Pei. Владелец: . Дата публикации: 2021-09-09.

Method of forming self-aligned stacked capacitor

Номер патента: US20020022321A1. Автор: Ching-ming Lee,Wunn-Shien Liao,Ky Yang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-02-21.

FORMING SELF-ALIGNED CONDUCTIVE LINES FOR RESISTIVE RANDOM ACCESS MEMORIES

Номер патента: US20160028002A1. Автор: Tortorelli Innocenzo,Petruzza Pietro,Pellizzer Fabio. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-28.

METHOD FOR FORMING SELF-ALIGNED AIRGAP INTERCONNECT STRUCTURES

Номер патента: US20150054122A1. Автор: Lin Qinghuang,Fletcher Benjamin L.,Cabral Cyril. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-26.

METHODS AND APPARATUSES TO FORM SELF-ALIGNED CAPS

Номер патента: US20150270224A1. Автор: Singh Kanwal Jit,Boyanov Boyan. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-24.

FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS ON PILLAR STRUCTURES

Номер патента: US20180261649A1. Автор: "OSullivan Eugene J.",EDELSTEIN Daniel C.,Utomo Henry K.,Annunziata Anthony J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-09-13.

FORMING SELF-ALIGNED CONDUCTIVE LINES FOR RESISTIVE RANDOM ACCESS MEMORIES

Номер патента: US20160293842A1. Автор: Tortorelli Innocenzo,Petruzza Pietro,Pellizzer Fabio. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2016-10-06.

FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS ON PILLAR STRUCTURES

Номер патента: US20180308897A1. Автор: "OSullivan Eugene J.",EDELSTEIN Daniel C.,Utomo Henry K.,Annunziata Anthony J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS ON PILLAR STRUCTURES

Номер патента: US20180308898A1. Автор: "OSullivan Eugene J.",EDELSTEIN Daniel C.,Utomo Henry K.,Annunziata Anthony J.. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

SELF-ALIGNED SILICIDE FORMATION ON SOURCE/DRAIN THROUGH CONTACT VIA

Номер патента: US20130092988A1. Автор: Uozumi Yoshihiro. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2013-04-18.

Method for producing self-aligned silicide MOSFET

Номер патента: TW393691B. Автор: Shie-Lin Wu. Владелец: Tsmc Acer Semiconductor Mfg Co. Дата публикации: 2000-06-11.

Image sensor having self-aligned silicide layer

Номер патента: TW416155B. Автор: Sang-Hoon Park. Владелец: Hyundai Electronics Ind. Дата публикации: 2000-12-21.

Apparatuses including stair-step structures and methods of forming the same

Номер патента: US09870990B2. Автор: Michael A. Smith,Eric H. Freeman. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Apparatuses including stair-step structures and methods of forming the same

Номер патента: US09466531B2. Автор: Michael A. Smith,Eric H. Freeman. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Method of forming wiring pattern, and method of forming source electrode and drain electrode for TFT

Номер патента: US20060051500A1. Автор: Toshimitsu Hirai,Shinri Sakai. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2006-03-09.

Method of forming a capacitor and an electrical connection thereto, and method of forming DRAM circuitry

Номер патента: US20010055850A1. Автор: Howard Rhodes. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-27.

Semiconductor packaging structure and method of forming the same

Номер патента: US20190319010A1. Автор: Boo Yang Jung,Jason Au. Владелец: Agency for Science Technology and Research Singapore. Дата публикации: 2019-10-17.

Alignment structures and methods of forming same

Номер патента: US09646944B2. Автор: Hsien-Wei Chen,Ching-Jung Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Processing method of substrate and manufacturing method of liquid ejection head

Номер патента: US09552984B2. Автор: Ryoji Kanri,Atsushi Hiramoto,Atsunori Terasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Alignment structures and methods of forming same

Номер патента: US09355979B2. Автор: Hsien-Wei Chen,Ching-Jung Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-05-31.

Method of patterning capacitors and capacitors made thereby

Номер патента: US20040063278A1. Автор: Haoren Zhuang,Ulrich Egger,Karl Hornik,Jenny Lian. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-01.

Method of patterning capacitors and capacitors made thereby

Номер патента: WO2004030069A2. Автор: Haoren Zhuang,Ulrich Egger,Karl Hornik,Jenny Lian. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2004-04-08.

Capacitors, methods of forming capacitors, and methods of forming capacitor dielectric layers

Номер патента: US20030045050A1. Автор: John Moore,Scott DeBoer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Method of forming carbon layer and method of forming interconnect structure

Номер патента: US20220068633A1. Автор: Hyeonjin Shin,Keunwook SHIN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-03-03.

Through via structure, methods of forming the same

Номер патента: US09608026B2. Автор: Byung-Jun Park,Seung-Hun Shin. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-03-28.

Forming method and method of manufacturing article

Номер патента: US09564374B2. Автор: Masaki Mizutani,Kenichiro Mori,Seiya Miura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Magnetic tunnel junctions and methods of forming magnetic tunnel junctions

Номер патента: EP3044815A1. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2016-07-20.

Method of forming p-n junction on zno thin film and p-n junction thin film

Номер патента: US20030183818A1. Автор: Young-Chang Kim,Sang-Yeol Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-02.

Methods of forming capacitor-over-bit line memory circuitry

Номер патента: EP1603152A3. Автор: Tyler A. Lowrey,Alan R. Reinberg,Luan C. Tran,D Mark Durcan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-05-16.

Method of forming conductive bumps for cooling device connection

Номер патента: US09899296B2. Автор: Perre Kao,Chun-Jen Chen,You-Hua Chou,Yi-Jen LAI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Methods Of Forming An Array Of Cross Point Memory Cells

Номер патента: US20180342671A1. Автор: Scott E. Sills,Durai Vishak Nirmal Ramaswamy. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-11-29.

Method of manufacturing heat sink and heat sink

Номер патента: US20210138592A1. Автор: Keiichi Takahashi,Kazuto Arai. Владелец: Nakamura Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Post bump and method of forming the same

Номер патента: US20090184420A1. Автор: Chang-Sup Ryu,Seung-Hyun Cho,Seung-Wan Kim,Jin-won Choi. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2009-07-23.

Method of producing substrate and method of producing display device

Номер патента: US20190350085A1. Автор: Mikihiro Noma. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Organic light-emitting diode display and method of manufacturing the same

Номер патента: US09627620B2. Автор: Chungi You. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Method of forming an integrated circuit device including a pillar capped by barrier layer

Номер патента: US09627339B2. Автор: Wei Sen CHANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Method of forming semiconductor structures with contact holes

Номер патента: US09449822B2. Автор: Joy Cheng,Kuang-Jung Chen,Wu-Song Huang,Wai-Kin Li. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09385262B2. Автор: Yukinobu Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-07-05.

Method of forming self-aligned mask ROM

Номер патента: US6420235B1. Автор: Ling-Sung Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-07-16.

Stacked structure and method of manufacturing the same

Номер патента: US20120069487A1. Автор: Tatsuya Nakamura,Hitoshi Noguchi,Naoki Tanaka. Владелец: Sanyo Electric Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-22.

Method of forming connector press-connecting terminal

Номер патента: US20020031957A1. Автор: Yujiro Imai. Владелец: AutoNetworks Technologies Ltd. Дата публикации: 2002-03-14.

Manufacturing method of electrode outer casing

Номер патента: US12103289B2. Автор: Satoshi Nakashima. Владелец: Prime Planet Energy and Solutions Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Method for forming self-aligned thermal isolation cell for a variable resistance memory array

Номер патента: TW200725810A. Автор: Erh-Kun Lai,Chia-Hua Ho,Kuang-Yeu Hsieh. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-01.

Method to form self-aligned split gate flash with L-shaped wordline spacers

Номер патента: US6784039B2. Автор: Chia-Ta Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-08-31.

Method of forming self-aligned V-grooves and waveguides

Номер патента: IE913491A1. Автор: Anthony David Welbourn. Владелец: British Telecomm. Дата публикации: 1992-04-22.

Method of forming self-aligned v-grooves and waveguides

Номер патента: IE79653B1. Автор: Anthony David Welbourn. Владелец: British Telecomm. Дата публикации: 1998-05-20.

Methods of making bulk metallic glass from powder and foils

Номер патента: US20180080109A1. Автор: Naoto Matsuyuki,Yoshihiko Yokoyama,Theodore A. Waniuk. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Method for forming self-aligned overlay mark

Номер патента: US8664077B2. Автор: David Pratt,Vinay Nair,Christopher Hawk,Richard Housley. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2014-03-04.

Method for forming self aligning contact window structure on semiconductor substrate

Номер патента: CN1365137A. Автор: 曾鸿辉. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2002-08-21.

Cyclosporine suspensions a of form 2

Номер патента: RU2641963C2. Автор: Анурадха В. ГОР,Прем Сваруп МОХАНТИ,Э. Квинн ФАРНЕС. Владелец: Аллерган, Инк.. Дата публикации: 2018-01-23.

Method of forming transport road (versions)

Номер патента: RU2582685C1. Автор: Лев Петрович Петренко. Владелец: Лев Петрович Петренко. Дата публикации: 2016-04-27.

Method of producing adiponitrile

Номер патента: RU2373191C2. Автор: Филипп Леконт,Беатрис БАРАТО. Владелец: Родиа Шими. Дата публикации: 2009-11-20.

Method of forming three-dimensional images in coatings

Номер патента: RU2590880C2. Автор: Петер КЛАУТЕР,Томас ГЁТЦ. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2016-07-10.

Method of forming blade edge

Номер патента: RU2725946C2. Автор: Сергей Георгиевич Бирюков. Владелец: Сергей Георгиевич Бирюков. Дата публикации: 2020-07-07.

Method of sandwiched panel assembly and shaping

Номер патента: RU2516508C2. Автор: Эндрю ЛЕВЕРС,Гари УИЛЕС. Владелец: Эйрбас Оперэйшнз Лимитед. Дата публикации: 2014-05-20.

Method of forming nanopattern and substrate having pattern formed using the method

Номер патента: EP1999513A1. Автор: Seung-Tae Oh,Sang-Choll Han,Deok-Joo Kim,Matthias Henyk. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2008-12-10.

Methods of and apparatus for forming a biometric image

Номер патента: WO2008155550A3. Автор: Robin Hamilton. Владелец: Innometriks Ltd. Дата публикации: 2009-04-16.

Methods of and apparatus for forming a biometric image

Номер патента: WO2008155550A2. Автор: Robin Hamilton. Владелец: Innometriks Limited. Дата публикации: 2008-12-24.

Mats of glass fibers and pulp fibers and their method of manufacture

Номер патента: EP1218595A1. Автор: Daojie Dong. Владелец: Owens Corning. Дата публикации: 2002-07-03.

Methods of and apparatus for forming a biometric image

Номер патента: EP2158562A2. Автор: Robin Hamilton. Владелец: Innometriks Ltd. Дата публикации: 2010-03-03.

Method of obtaining protection elements and hologram

Номер патента: RU2640711C2. Автор: Николай А. ГРИГОРЕНКО,Мишель РИШЕР,Ролан ФЛЕРИ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-01-11.

Method of applying solid solder

Номер патента: RU2420375C2. Автор: Лудвиг ВИРЕС. Владелец: Эмитек Гезельшафт Фюр Эмиссионстехнологи Мбх. Дата публикации: 2011-06-10.

Methods of forming objects by diffusion welding of foils

Номер патента: EP3452245A1. Автор: David Myron Lineman,Martin Herbert Goller. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2019-03-13.

Method of manufacturing multi-segmented optical fiber and preform

Номер патента: US20020189296A1. Автор: Michael Cain,Richard Fiacco,Liam dePaor,Robert Desorcie,Cynthia Giroux. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2002-12-19.

Thin film magnetic head, method of manufacturing the same and method of forming magnetic layer pattern

Номер патента: US20020034045A1. Автор: Yoshitaka Sasaki. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2002-03-21.

Optical recording medium, and method of manufacturing same

Номер патента: US20010017841A1. Автор: Shin Masuhara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Method of making mesh containers with a rail and mesh container formed therefrom

Номер патента: US09687074B2. Автор: Christopher Hardy,Hsi-Ming Cheng,R. Neal Post. Владелец: Design Ideas Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Manufacturing method of glass forming body and forming die

Номер патента: US09650278B2. Автор: Katsuhiro Suzuki,Shiro Funatsu,Tomoharu Hayashi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Multi-layer fabric and its method of its manufacture

Номер патента: RU2507332C2. Автор: Роберт А. ХЭНСЕН. Владелец: Олбани Интернешнл Корп.. Дата публикации: 2014-02-20.

Method of forming a section of engagement in a part

Номер патента: RU2726515C2. Автор: Томас БЕТТЕРМАНН. Владелец: Хомаг Борзюстеме Гмбх. Дата публикации: 2020-07-14.

Methods of synthesizing lipstatin derivatives

Номер патента: US20240228451A1. Автор: Zeeshan KAMAL,Apparao BOKKA,Gopalakrishna AKURATHI,Gary Richard Lee. Владелец: Panafina Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

A method of enhancing ethanol fermentation

Номер патента: WO2021186164A1. Автор: Andrew John LEE. Владелец: Lytegro Limited. Дата публикации: 2021-09-23.

Fabrication methods of a luneburg lens

Номер патента: US20240227329A9. Автор: Andrey Kobyakov,Gregory Kobyakov. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

A method of enhancing ethanol fermentation

Номер патента: CA3175585A1. Автор: Andrew John LEE. Владелец: Lytegro Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

A method of enhancing ethanol fermentation

Номер патента: AU2021236950A1. Автор: Andrew John LEE. Владелец: Lytegro Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

A method of enhancing ethanol fermentation

Номер патента: EP4121509A1. Автор: Andrew John LEE. Владелец: Lytegro Ltd. Дата публикации: 2023-01-25.

Fibrin particles and methods of forming fibrin particles

Номер патента: US12030918B2. Автор: John Oakey,Alan STENQUIST. Владелец: UNIVERSITY OF WYOMING. Дата публикации: 2024-07-09.

Mesh containers and method of making

Номер патента: WO2006014707A9. Автор: Christopher Hardy,Hsi-Ming Cheng,Neal R Post. Владелец: Design Ideas Ltd. Дата публикации: 2006-05-11.

Method of manufacturing nozzle plate

Номер патента: US20070054221A1. Автор: Tsutomu Yokouchi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2007-03-08.

Method of producing a collapsible hat

Номер патента: US20140109291A1. Автор: Shane Douglas Smith. Владелец: BUYSEASONS Inc. Дата публикации: 2014-04-24.

Method of manufacturing liquid jet head

Номер патента: US20050185025A1. Автор: Masato Shimada,Tetsushi Takahashi. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2005-08-25.

Method of forming article, coated powder and article

Номер патента: US11945030B2. Автор: David A. Stewart. Владелец: Rolls Royce PLC. Дата публикации: 2024-04-02.

Method of forming an article of footwear incorporating a knitted upper with tensile strand

Номер патента: EP3673758A2. Автор: John Droege,Daniel A. Podhajny. Владелец: Nike Innovate CV USA. Дата публикации: 2020-07-01.

Method of forming an article of footwear incorporating a knitted upper with tensile strand

Номер патента: EP3673758A3. Автор: John Droege,Daniel A. Podhajny. Владелец: Nike Innovate CV USA. Дата публикации: 2020-09-02.

Method of forming an article of footwear incorporating a knitted upper with tensile strand

Номер патента: EP3041379A1. Автор: John Droege,Daniel A. Podhajny. Владелец: Nike Innovate CV USA. Дата публикации: 2016-07-13.

Method of forming an article of footwear incorporating a knitted upper with tensile strand

Номер патента: WO2015034568A1. Автор: John Droege,Daniel A. Podhajny. Владелец: Nike Innovate C.V.. Дата публикации: 2015-03-12.

Method of manufacturing slider

Номер патента: US20090238952A1. Автор: Mitsuru Kubo,Satoshi Tomita,Masayuki Hamakawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2009-09-24.

Method of manufacturing housing

Номер патента: EP3750650A1. Автор: Haruhiko Tan,Shota Tominaga. Владелец: Kawasaki Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2020-12-16.

Method of producing casing

Номер патента: US20210213518A1. Автор: Haruhiko Tan,Shota Tominaga. Владелец: Kawasaki Jukogyo KK. Дата публикации: 2021-07-15.

Near field transducers (NFTS) and methods of making

Номер патента: US09928859B2. Автор: Michael C. Kautzky,Martin Blaber,Mark H. Ostrowski,David Michael Grundman. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2018-03-27.

Article and method of forming an article

Номер патента: US09849510B2. Автор: Benjamin Paul Lacy,Srikanth Chandrudu Kottilingam,David Edward Schick,Sandip Dutta. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-12-26.

Method of forming a template

Номер патента: WO1993015475A1. Автор: William John Welsh,Mark Andrew Shackleton. Владелец: BRITISH TELECOMMUNICATIONS PUBLIC LIMITED COMPANY. Дата публикации: 1993-08-05.

Near field transducers (NFTS) and methods of making

Номер патента: US09620152B2. Автор: Michael C. Kautzky,Martin Blaber,Mark H. Ostrowski,David Michael Grundman. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2017-04-11.

Method of forming a container

Номер патента: US09498917B2. Автор: Henry William Slack. Владелец: 3 Boys Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Systems and methods of encoding biosensor calibration

Номер патента: RU2688222C2. Автор: Игорь ГОФМАН. Владелец: Асцензия Диабетс Кэар Холдингс АГ. Дата публикации: 2019-05-21.

Method of forming self-aligned silicide by double ion implantation

Номер патента: TW418449B. Автор: Chi-Ming Yang,Jau-Jie Tsai,Shou-Ren Jang,Jeng-Kuen Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-01-11.

Method of forming self-aligned rugged crown-shaped capacitor of high-density dynamic random access memory

Номер патента: TW425702B. Автор: Shie-Lin Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-03-11.

Fabrication method of forming self-aligned salicide

Номер патента: TW281788B. Автор: Ming-Jong Yang,Bor-Ren Jeng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1996-07-21.

Method of forming self-aligned salicide

Номер патента: TW308721B. Автор: Jiunn-Shyan Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1997-06-21.

Method of forming self-aligned contacts

Номер патента: TWI221639B. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-01.

Method of forming self-aligned contacts

Номер патента: TW200423234A. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2004-11-01.

Method of forming poly insulator poly capacitor by self-aligned silicide process

Номер патента: TWI220553B. Автор: Hao Fang,Rong-Zheng Gao. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2004-08-21.

Method of forming poly insulator poly capacitor by self-aligned silicide process

Номер патента: TW200516703A. Автор: Hao Fang,Rong-Zheng Gao. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2005-05-16.

METHODS OF FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED USING REPLACEMENT GATE TECHNIQUES

Номер патента: US20130288468A1. Автор: Chi Min-Hwa. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-10-31.

Manufacturing method of mask read only memory capable of using self-aligned silicide

Номер патента: TWI251336B. Автор: Shuang-Feng Ye. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2006-03-11.

Manufacturing method of mask read only memory capable of using self-aligned silicide

Номер патента: TW200623397A. Автор: Shuang-Feng Ye. Владелец: Grace Semiconductor Mfg Corp. Дата публикации: 2006-07-01.

METHODS OF FORMING SELF-ALIGNED THROUGH SILICON VIA

Номер патента: US20130065393A1. Автор: Gambino Jeffrey P.,Stamper Anthony K.,LEIDY Robert K.. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2013-03-14.

Method of Forming Self-Aligned Contacts for a Semiconductor Device

Номер патента: US20130189833A1. Автор: Baars Peter,Wei Andy,Geiss Erik,Mazur Martin. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-07-25.

METHODS OF FORMING SELF-ALIGNED CONTACTS FOR A SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20130288471A1. Автор: Chi Min-Hwa. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-10-31.

Method of forming self-aligned metal silicide

Номер патента: TWI251272B. Автор: Erh-Kun Lai,Tung-Cheng Kuo,Shou-Wei Hwang,Yu-Ping Huang. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-11.

Method of forming self-aligned salicide

Номер патента: TW304279B. Автор: Jenn-Hwa Yu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 1997-05-01.

Manufacturing method of forming self-aligned twin-tub well on semiconductor substrate

Номер патента: TW301769B. Автор: Jyi-Shyi Wu. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1997-04-01.

Manufacturing method of bridge free MOSFET with self-aligned silicide

Номер патента: TW396607B. Автор: Hung-Huei Tzeng. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2000-07-01.

Manufacturing method of self-aligned silicide with low resistance

Номер патента: TW299474B. Автор: Jenn-Hwa Yu,Sheau-Lin Suei. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 1997-03-01.

Manufacturing method of self-aligned silicide

Номер патента: TW552640B. Автор: Shau-Lin Shue,Chih-Wei Chang,Mei-Yun Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2003-09-11.

Manufacturing method of field effect transistor with self-aligned silicide

Номер патента: TW320750B. Автор: Shuenn-Liang Sheu,Taw-Jye Tsay. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 1997-11-21.

Method of producing self-aligned silicide

Номер патента: TW418446B. Автор: Jian-Rung Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2001-01-11.

Integrally formed self aligning bearing

Номер патента: AU220369B2. Автор: Mills Ready Graeme. Владелец: Individual. Дата публикации: 1957-11-07.

Method for forming self-aligned trench isolation

Номер патента: TW492140B. Автор: Horng-Huei Tseng. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2002-06-21.

Structure and method for forming self-aligned bipolar junction transistor with expitaxy base

Номер патента: TW546809B. Автор: Shu-Ya Chuang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-08-11.

Integrally formed self aligning bearing

Номер патента: AU2197556A. Автор: Mills Ready Graeme. Владелец: Individual. Дата публикации: 1957-11-07.

Process for forming self-aligned multi-level interconnect structure

Номер патента: TW444335B. Автор: Hsu-Li Cheng,Erik S Jeng. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2001-07-01.

Manufacturing method of self-aligned silicide device with extended path

Номер патента: TW306058B. Автор: Horng-Huei Tzeng. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 1997-05-21.

Method of making a self-aligned silicide

Номер патента: TW429440B. Автор: Jian-Ting Lin,Jr-Wen Jou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-04-11.

Method of manufacturing a short-channel nMOSFET having a self-aligned silicide contact

Номер патента: TW403948B. Автор: Shie-Lin Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-09-01.

METHODS TO FORM SELF-ALIGNED PERMANENT ON-CHIP INTERCONNECT STRUCTURES

Номер патента: US20120018891A1. Автор: . Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-26.

METHOD FOR FORMING SELF-ALIGNED CONTACT

Номер патента: US20120267727A1. Автор: . Владелец: NANYA TECHNOLOGY CORPORATION. Дата публикации: 2012-10-25.

METHODS TO FORM SELF-ALIGNED PERMANENT ON-CHIP INTERCONNECT STRUCTURES

Номер патента: US20130001801A1. Автор: Lin Qinghuang. Владелец: INTERNATIOANL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2013-01-03.

METHOD FOR FORMING SELF-ALIGNED OVERLAY MARK

Номер патента: US20130210213A1. Автор: Pratt David,Nair Vinay,Hawk Christopher,Housley Richard. Владелец: . Дата публикации: 2013-08-15.

How to form self-aligned contacts

Номер патента: KR950025876A. Автор: 남종완,권성우. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1995-09-18.

Method for forming self-aligned metallic silicide

Номер патента: CN102044422B. Автор: 聂佳相,卢炯平,杨瑞鹏,孔祥涛. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2012-07-04.

How to form self-aligned contacts

Номер патента: KR19990074362A. Автор: 염계희. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 1999-10-05.

How to form self-aligned contacts

Номер патента: KR950007100A. Автор: 성진모. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1995-03-21.

How to form self-aligned contacts

Номер патента: KR940007990A. Автор: 김진웅,손곤. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 1994-04-28.

Method for forming self-aligning contact window structure

Номер патента: CN1290158C. Автор: 董明圣,李岳川. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 2006-12-13.

Method for using dual damascene trench to form self-aligned mask ROM

Номер патента: TW477003B. Автор: Pei-Ren Jeng,Tzung-Ye Li,Wei-Min Jung. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2002-02-21.

Method for forming self-alignment metal salicide CMOS semi transistor

Номер патента: TW366566B. Автор: Shye-Lin Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-11.

Making process for forming self-alignment contact plug useful in an embedded random access memory

Номер патента: TW385529B. Автор: Jen-Ye Shr. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-03-21.

Method for forming self-aligned metal oxide semiconductor transistor

Номер патента: TW563189B. Автор: Ding-Jang Jang,Huang-Jung Jeng,Jeng-Jie Yang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-11-21.

Self-aligned silicide technology

Номер патента: TW411511B. Автор: Jian-Ting Lin,Jiun-Yuan Wu,Huo-Tie Lu,Shiau-Ling Liu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-11.

MOSFET with self-aligned silicide and gate-side air-gap structure

Номер патента: TW346647B. Автор: Shye-Lin Wu. Владелец: Ti Acer Co Ltd. Дата публикации: 1998-12-01.

Formation self-aligned silicide layer by using double ion implantation

Номер патента: TW398034B. Автор: Jau-Jie Tsai,Ching-Shiung He,Shou-Ren Jang,Jeng-Kuen Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-07-11.

The manufacturing method for self-aligned silicide

Номер патента: TW325585B. Автор: Jiing-Jiang Jang,Chorng-Jou Chen. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-01-21.

Double self-aligned silicide manufacture process

Номер патента: TW486752B. Автор: Hung-Huei Tzeng. Владелец: Vanguard Int Semiconduct Corp. Дата публикации: 2002-05-11.

Method for manufacturing embedded DRAM having a self-aligned silicide logic bit structure

Номер патента: TW415043B. Автор: Wan-Yi Lian. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-12-11.

Method for preventing bridge phenomenon in self-aligned silicide formation

Номер патента: TW394978B. Автор: Jian-Ting Lin,Jr-Wen Jou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-06-21.

Method for forming a self-aligned silicide

Номер патента: TW434712B. Автор: Jian-Ting Lin,Rung-Jiun Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

Process for producing self-aligned silicide

Номер патента: TW337596B. Автор: Hann-Shing Liou. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1998-08-01.

Self Aligned Silicided Contacts

Номер патента: US20120126343A1. Автор: . Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2012-05-24.

SELF-ALIGNED SILICIDE FORMATION ON SOURCE/DRAIN THROUGH CONTACT VIA

Номер патента: US20120241963A1. Автор: Uozumi Yoshihiro. Владелец: TOSHIBA AMERICA ELECTRONIC COMPONENTS, INC.. Дата публикации: 2012-09-27.

Self Aligned Silicide Device Fabrication

Номер патента: US20130134558A1. Автор: Speck Robert K.,Tull Kenneth B.,Miller Marjorie L.. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2013-05-30.

FORMING NICKEL-PLATINUM ALLOY SELF-ALIGNED SILICIDE CONTACTS

Номер патента: US20140073130A1. Автор: Lavoie Christian,Ozcan Ahmet S.,Hilscher David F.. Владелец: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION. Дата публикации: 2014-03-13.

Method for forming MOSFETs with recessed self-aligned silicide joint and extended source/drain junction

Номер патента: TW544859B. Автор: Shie-Lin Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2003-08-01.

Manufacturing process of self-aligned silicide barrier layer

Номер патента: CN1971857A. Автор: 陈华伦,周贯宇. Владелец: Shanghai Hua Hong NEC Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-30.

Method for producing self-aligned silicide (salicide)

Номер патента: TW434710B. Автор: Shiue-Wen Wang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-05-16.

Structure and manufacturing method for self-aligned silicide

Номер патента: TW383456B. Автор: Jau-Jie Tsai,Shiu-Sheng Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2000-03-01.

Method to fabricate MOSFETS with ESD resistance and self-aligned silicide

Номер патента: TW360970B. Автор: Shye-Lin Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd. Дата публикации: 1999-06-11.

Method for forming a self-aligned silicide

Номер патента: TW447020B. Автор: Chi-Dung Huang,Jeng-Cheng Shiue. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2001-07-21.

MEMORY CELL THAT EMPLOYS A SELECTIVELY FABRICATED CARBON NANO-TUBE REVERSIBLE RESISTANCE-SWITCHING ELEMENT AND METHODS OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120001150A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC EL DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001186A1. Автор: ONO Shinya,KONDOH Tetsuro. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001247A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE & METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001249A1. Автор: Alsmeier Johann,Samachisa George. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ULTRAHIGH DENSITY VERTICAL NAND MEMORY DEVICE AND METHOD OF MAKING THEREOF

Номер патента: US20120001250A1. Автор: Alsmeier Johann. Владелец: SanDisk Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120001881A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, image display device and production method of antistatic laminate

Номер патента: US20120003467A1. Автор: . Владелец: FUJI FILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

CANCER BIOMARKERS AND METHODS OF USE THEREOF

Номер патента: US20120003639A1. Автор: KERLIKOWSKE KARLA,TLSTY THEA D.,GAUTHIER MONA L.,BERMAN HAL K.,BREMER TROY,MOLINARO ANNETTE M.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003795A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FORMING THE SAME

Номер патента: US20120003828A1. Автор: Chang Sung-Il,Choe Byeong-In,KANG Changseok. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Forming Nonvolatile Memory Devices Using Nonselective and Selective Etching Techniques to Define Vertically Stacked Word Lines

Номер патента: US20120003831A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method Of Refining The Grain Structure Of Alloys

Номер патента: US20120000317A1. Автор: Flemings Merton C.,Ragone David V.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Engine systems and methods of operating an engine

Номер патента: US20120000435A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000484A1. Автор: . Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

PHOTOVOLTAIC MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000506A1. Автор: Kim Dong-Jin,KANG Ku-Hyun,NAM Yuk-Hyun,Lee Jung-Eun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS USING EPITAXIAL DEPOSITION

Номер патента: US20120000511A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

STAMPER, METHOD OF MANUFACTURING THE STAMPER, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD USING THE STAMPER

Номер патента: US20120000885A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Manufacturing Method of Electrode Material

Номер патента: US20120001120A1. Автор: Yamakaji Masaki,Miwa Takuya. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Antireflective Coatings for Via Fill and Photolithography Applications and Methods of Preparation Thereof

Номер патента: US20120001135A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC LIGHT-EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001182A1. Автор: Choi Jong-Hyun,Lee Dae-Woo. Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF FABRICATING SAME

Номер патента: US20120001190A1. Автор: Yaneda Takeshi,Aita Tetsuya,Harumoto Yoshiyuki,Inoue Tsuyoshi,OKABE Tohru. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

ARRAY SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING THE ARRAY SUBSTRATE, AND DISPLAY APPARATUS INCLUDING THE ARRAY SUBSTRATE

Номер патента: US20120001191A1. Автор: . Владелец: Samsung Mobile Display Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

RADIATION IMAGE DETECTION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF RADIATION IMAGE DETECTOR

Номер патента: US20120001201A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LAMP

Номер патента: US20120001220A1. Автор: . Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS OF FORMING NANOSCALE FLOATING GATE

Номер патента: US20120001248A1. Автор: Sandhu Gurtej S.,Ramaswamy D.V. Nirmal. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

ETCHANTS AND METHODS OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICES USING THE SAME

Номер патента: US20120001264A1. Автор: YANG Jun-Kyu,Kim Hong-Suk,Hwang Ki-Hyun,Ahn Jae-Young,Lim Hun-Hyeong,KIM Jin-Gyun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE WHICH A PLURALITY OF TYPES OF TRANSISTORS ARE MOUNTED

Номер патента: US20120001265A1. Автор: . Владелец: FUJITSU SEMICONDUCTOR LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120001267A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND SOLID-STATE IMAGE SENSOR

Номер патента: US20120001291A1. Автор: Kokumai Kazuo. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR PACKAGE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001329A1. Автор: Kim Young Lyong,Lee Jongho,AHN EUNCHUL,Kim Hyeongseob. Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR MODULES AND SEMICONDUCTOR MODULE

Номер патента: US20120001349A1. Автор: Suzuki Yoshikazu,KANEKO Takahisa,HARADA Daisuke,ISHIYAMA Hiroshi. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SYSTEM AND METHOD OF ILLUMINATING INTERFEROMETRIC MODULATORS USING BACKLIGHTING

Номер патента: US20120001962A1. Автор: Tung Ming-Hau,Chui Clarence. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

DRIVING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002132A1. Автор: . Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DRIVING A LASER DIODE

Номер патента: US20120002690A1. Автор: Watanabe Hideki,Ikeda Masao,Yokoyama Hiroyuki,Miyajima Takao,Oki Tomoyuki,Kono Shunsuke. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120002931A1. Автор: Watanabe Shinya. Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN ELECTROCHEMICAL DEVICE USING ULTRAFAST PULSED LASER DEPOSITION

Номер патента: US20120003395A1. Автор: CHE Yong,HU Zhendong. Владелец: IMRA AMERICA, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003503A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MAKING A FUEL CELL DEVICE

Номер патента: US20120003570A1. Автор: Devoe Alan,Devoe Lambert. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MAKING A FUEL CELL DEVICE

Номер патента: US20120003571A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING WAX-CONTAINING POLYMER PARTICLES

Номер патента: US20120003581A1. Автор: Yang Xiqiang,Bennett James R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING FINE PATTERNS USING A BLOCK COPOLYMER

Номер патента: US20120003587A1. Автор: . Владелец: Samsung Electronics Co., Ltd. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE AND FABRICATION SYSTEM OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003761A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF PRODUCING ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE

Номер патента: US20120003764A1. Автор: Koike Atsushi,Kameyama Makoto. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of manufacturing semiconductor devices with Si and SiGe epitaxial layers

Номер патента: US20120003799A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE

Номер патента: US20120003806A1. Автор: . Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003808A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Номер патента: US20120003812A1. Автор: Sasaki Makoto,NISHIGUCHI Taro,HARADA Shin,Okita Kyoko,Namikawa Yasuo. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003815A1. Автор: Lee Sang-yun. Владелец: BESANG INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING STRAINED EPITAXIAL CARBON-DOPED SILICON FILMS

Номер патента: US20120003825A1. Автор: Dip Anthony. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003829A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003841A1. Автор: . Владелец: ULVAC, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Field emission electrode, method of manufacturing the same, and field emission device comprising the same

Номер патента: US20120003895A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS OF DELIVERY OF PHARMACOLOGICAL AGENTS

Номер патента: US20120004177A1. Автор: Trieu Vuong,Desai Neil P.,Soon-Shiong Patrick. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Polymer and Method of Forming a Polymer

Номер патента: US20120004338A1. Автор: Hywel-Evans Duncan. Владелец: Adbruf Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

WOUND DRESSING APPARATUS AND METHOD OF USE

Номер патента: US20120004628A1. Автор: . Владелец: Smith & Nephew PLC. Дата публикации: 2012-01-05.

STEERABLE SURGICAL SNARE AND METHOD OF USE

Номер патента: US20120004647A1. Автор: Cowley Collin George. Владелец: The University of Utah. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of manufacturing printed circuit board having flow preventing dam

Номер патента: US20120000067A1. Автор: CHOI Jin Won,KIM Seung Wan. Владелец: SAMSUNG ELLECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

CRYSTALLINE CERIUM OXIDE AND PREPARATION METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120000137A1. Автор: CHOI Sang-Soon,CHO Seung-Beom,HA Hyun-Chul,KWAK Ick-Soon,CHO Jun-Yeon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF STACKING FLEXIBLE SUBSTRATE

Номер патента: US20120000602A1. Автор: KIM Yong Hae,PARK Dong Jin,Suh Kyung Soo,KIM Gi Heon,KIM Chul Am. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2012-01-05.

Knuckle Formed Through The Use Of Improved External and Internal Sand Cores and Method of Manufacture

Номер патента: US20120000877A1. Автор: Smerecky Jerry R.,Nibouar F. Andrew,SMITH Douglas. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CMOS Image Sensor Including PNP Triple Layer And Method Of Fabricating The CMOS Image Sensor

Номер патента: US20120001241A1. Автор: Park Won-je. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Manufacturing Vertical Pin Diodes

Номер патента: US20120001305A1. Автор: Peroni Marco,Pantellini Alessio. Владелец: SELEX SISTEMI INTEGRATI S.P.A.. Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001333A1. Автор: HWANG Chang Youn. Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

WAFER STACKED PACKAGE WAVING BERTICAL HEAT EMISSION PATH AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120001348A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING A DRESSING

Номер патента: US20120001366A1. Автор: . Владелец: BOEHRINGER TECHNOLOGIES, L.P.. Дата публикации: 2012-01-05.

STATOR FOR ELECTRIC ROTATING MACHINE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001516A1. Автор: . Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING MODULE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001544A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

Номер патента: US20120001885A1. Автор: Kim Na-Young,Kang Ki-Nyeng,Park Yong-Sung. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of Forming Long Strips of Dielectric Coated Metalized Film

Номер патента: US20120002347A1. Автор: Balliette William M.,Jamison Keith D.. Владелец: FARADOX ENERGY STORAGE, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF DRIVING A LASER DIODE

Номер патента: US20120002695A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

ALIGNMENT METHOD OF SEMICONDUCTOR OPTICAL AMPLIFIER AND LIGHT OUTPUT DEVICE

Номер патента: US20120002696A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

WAVELENGTH MULTIPLEXER/DEMULTIPLEXER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120002918A1. Автор: . Владелец: FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods of Preparing Non-Alcohol Bioactive Esential Oil Mouth Rinses

Номер патента: US20120003162A1. Автор: Mordas Carolyn J.,Queiroz Daniel R.,Tsai Patrick B.. Владелец: McNeil-PPC, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Methods Of Enhancing Antibody-Dependent Cellular Cytotoxicity

Номер патента: US20120003213A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CERAMIC/STRUCTURAL PROTEIN COMPOSITES AND METHOD OF PREPARATION THEREOF

Номер патента: US20120003280A1. Автор: Wei Mei,Qu Haibo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MANURACTURING METHOD OF EGG WITH EDIBLE COMPOSITION

Номер патента: US20120003368A1. Автор: LEE Hye-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE

Номер патента: US20120003385A1. Автор: Naito Ryusuke. Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE

Номер патента: US20120003393A1. Автор: . Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FABRICATING A LIGHT EMITTING DIODE CHIP HAVING PHOSPHOR COATING LAYER

Номер патента: US20120003758A1. Автор: HSIEH Chung-Chuan. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LIGHT EMITTING DIODE HAVING A THERMAL CONDUCTIVE SUBSTRATE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME

Номер патента: US20120003766A1. Автор: . Владелец: Seoul Opto Device Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

SATIATION POUCHES AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120004590A1. Автор: Stack Richard S.,Williams Michael S.,Glenn Richard A.,Athas William L.,LUNSFORD John,Balbierz Dan. Владелец: Barosense, Inc. Дата публикации: 2012-01-05.

System and Method of Making Tapered Looped Suture

Номер патента: US20120004686A1. Автор: Maiorino Nicholas,Bowns William R.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPRESSION SPRINGS AND METHODS OF MAKING SAME

Номер патента: US20120000073A1. Автор: . Владелец: Renton Coil Spring Company. Дата публикации: 2012-01-05.

BATTERY TAB JOINTS AND METHODS OF MAKING

Номер патента: US20120000964A1. Автор: . Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

RRAM structure and method of making the same

Номер патента: US20120001141A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR MODULE AND ELECTRONIC SYSTEM INCLUDING THE SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001272A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

PACKAGE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001311A1. Автор: . Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

MULTI-LAYER PANEL AND METHOD OF MANUFACTURING SUCH A PANEL

Номер патента: US20120002288A1. Автор: Maass Uwe. Владелец: MUSION SYSTEMS LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF FORMING A TERNARY ALLOY CATALYST FOR FUEL CELL

Номер патента: US20120003569A1. Автор: Protsailo Lesia V.,Kawamura Tetsuo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SOL-GEL MONOLITHIC COLUMN WITH OPTICAL WINDOW AND METHOD OF MAKING

Номер патента: US20120000850A1. Автор: . Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2012-01-05.

PACKAGE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001310A1. Автор: Horiki Hiroshi,NISHINO MASANORI. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD OF NON-AQUEOUS INKJET COMPOSITE PRINTING AND INK SET

Номер патента: US20120001979A1. Автор: WATANABE Yoshifumi,YAMAMOTO Akiko. Владелец: RISO KAGAKU CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Liquid Crystal Display Device And Method Of Manufacturing That

Номер патента: US20120004453A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTROLYTIC METHOD OF FUEL

Номер патента: US20120000788A1. Автор: . Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Method of forming areflux esophageal-enteric anastomosis

Номер патента: RU2437623C2. Автор: Игорь Александрович Ли. Владелец: Игорь Александрович Ли. Дата публикации: 2011-12-27.

IMAGE SCANNING APPARATUS AND CONTROL METHOD OF DOCUMENT SIZE DETECTION LIGHT SOURCE

Номер патента: US20120002247A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Acoustic horn and method of making same (versions)

Номер патента: RU2519852C1. Автор: Алексей Юрьевич Химичев. Владелец: Алексей Юрьевич Химичев. Дата публикации: 2014-06-20.

Method of forming decorative vinegrove head

Номер патента: RU2473206C1. Автор: Лев Петрович Петренко. Владелец: Лев Петрович Петренко. Дата публикации: 2013-01-27.

Method of forming active layer of tubular catalyst

Номер патента: RU2401699C1. Автор: Юрий Терентьевич Синяпкин. Владелец: Юрий Терентьевич Синяпкин. Дата публикации: 2010-10-20.

Method of forming ground cereal products

Номер патента: RU2263544C1. Автор: В.Л. Злочевский,А.В. Злочевский. Владелец: Злочевский Алексей Валерьевич. Дата публикации: 2005-11-10.