DAMAGE-FREE PLASMA-ENHANCED CVD PASSIVATION OF AlGaN/GaN HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTORS
Номер патента: WO2017200827A8
Опубликовано: 12-07-2018
Автор(ы): Andrew D. Koehler, Karl D. Hobart, Marko J. Tadjer, Travis J. Anderson
Принадлежит: The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 12-07-2018
Автор(ы): Andrew D. Koehler, Karl D. Hobart, Marko J. Tadjer, Travis J. Anderson
Принадлежит: The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Damage-free plasma-enhanced CVD passivation of AlGaN/GaN high electron mobility transistors
Номер патента: US09960266B2. Автор: Karl D. Hobart,Andrew D. Koehler,Travis J. Anderson,Marko J. Tadjer. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2018-05-01.