Hardmask composition with improved storage stability for forming resist underlayer film
Номер патента: TW201024923A
Опубликовано: 01-07-2010
Автор(ы): Do-Hyeon Kim, Dong-Seon Uh, Hui-Chan Yun, Jong-Seob Kim, Mi-young Kim, Sang-Hak Lim, Sang-kyun Kim, Sang-Ran Koh
Принадлежит: Cheil Ind Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 01-07-2010
Автор(ы): Do-Hyeon Kim, Dong-Seon Uh, Hui-Chan Yun, Jong-Seob Kim, Mi-young Kim, Sang-Hak Lim, Sang-kyun Kim, Sang-Ran Koh
Принадлежит: Cheil Ind Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Composition for forming silicon-containing resist underlayer film removable by wet process
Номер патента: US11815815B2. Автор: Hiroyuki Wakayama,Makoto Nakajima,Masahisa Endo,Wataru Shibayama. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-11-14.