Exposure mask using space division manner
Номер патента: KR100707014B1
Опубликовано: 11-04-2007
Автор(ы): 김성주
Принадлежит: 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-04-2007
Автор(ы): 김성주
Принадлежит: 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Euv exposure mask blanks and their fabrication process, and euv exposure mask
Номер патента: US20070015065A1. Автор: Tsukasa Abe,Shiho Sasaki. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2007-01-18.