Exposure Mask and Method for Fabricating Semiconductor Device Using the Same
Номер патента: US20080153277A1
Опубликовано: 26-06-2008
Автор(ы): Yong Soon Jung
Принадлежит: Hynix Semiconductor Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 26-06-2008
Автор(ы): Yong Soon Jung
Принадлежит: Hynix Semiconductor Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Resist composition, method for forming resist pattern, and semiconductor device and method for manufacturing the same
Номер патента: US20070224537A1. Автор: Koji Nozaki,Miwa Kozawa. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2007-09-27.