Wafer temperature measurement tool
Номер патента: WO2014158549A1
Опубликовано: 02-10-2014
Автор(ы): David Vandenberg, Edward A. Mccloud
Принадлежит: QUALITAU, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 02-10-2014
Автор(ы): David Vandenberg, Edward A. Mccloud
Принадлежит: QUALITAU, INC.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
In-situ wafer temperature measurement and control
Номер патента: WO2008033234A2. Автор: Keith Gaff. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-03-20.