Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Polyurethane modification method, polyurethane, polishing pad and polishing pad modification method

Polyurethane modification method, polyurethane, polishing pad and polishing pad modification method

Номер патента: JPWO2019216279A1
Опубликовано: 17-06-2021
Автор(ы): 充 加藤, 加藤　充, 晋哉 加藤, 梓紗 大下, 知大 岡本
Принадлежит: Kuraray Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Modification method of polyurethane, polyurethane, polishing pad, and modification method of polishing pad

Номер патента: US20240342858A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Modification method of polyurethane, polyurethane, polishing pad, and modification method of polishing pad

Номер патента: US12109665B2. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: US20200190247A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kurray Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: US11787894B2. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

MODIFICATION METHOD OF POLYURETHANE, POLYURETHANE, POLISHING PAD, AND MODIFICATION METHOD OF POLISHING PAD

Номер патента: US20210276143A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,OSHITA Azusa. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2021-09-09.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: IL270416B1. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2023-07-01.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: IL270416B2. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2023-11-01.

POLYURETHANE FOR POLISHING LAYER, POLISHING LAYER INCLUDING POLYURETHANE AND MODIFICATION METHOD OF THE POLISHING LAYER, POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20210087325A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,OSHITA Azusa. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2021-03-25.

POLYURETHANE FOR POLISHING LAYER, POLISHING LAYER INCLUDING POLYURETHANE AND MODIFICATION METHOD OF THE POLISHING LAYER, POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20200190247A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,OSHITA Azusa. Владелец: Kurray Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-06-18.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Metal film polishing pad and method for polishing metal film using the same

Номер патента: US20100035521A1. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Hirofumi Kikuchi. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-11.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240227118A9. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing pad with improved crosslinking density and process for preparing the same

Номер патента: US12076832B2. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240131653A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240149390A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Yoshihide Kawamura,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Formulations for chemical mechanical polishing pads with high planarization efficiency and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064845B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Polishing pad

Номер патента: US09539693B2. Автор: Hiroshi Seyanagi. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Soft polishing pad for polishing a semiconductor substrate

Номер патента: MY164313A. Автор: Ping Huang,William Allison,Diane Scott,Robert Kerprich,Richard Frentzel. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-12-15.

Polishing pad with adjusted crosslinking degree and process for preparing the same

Номер патента: US20210129284A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Polyurethane for polishing layers, polishing layer and polishing pad

Номер патента: EP3892418A1. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-13.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20240308022A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: EP4431237A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Polishing pad and manufacturing method therefor

Номер патента: EP2698809A1. Автор: Fumio Miyazawa,Kouki ITOYAMA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2014-02-19.

Porous polishing pad and process for producing the same all fees

Номер патента: US11772236B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230111352A1. Автор: Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064846B2. Автор: Michael E. Mills,Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton,Annette M. Crevasse,Vere O. Archibald. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Aliphatic uv cured polyurethane optical endpoint detection windows with high uv transparency for cmp polishing pads

Номер патента: US20190144713A1. Автор: Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Polishing pad and method for manufacturing same

Номер патента: US11883925B2. Автор: Hiroshi Kurihara,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Heterogeneous fluoropolymer mixture polishing pad

Номер патента: US11897082B2. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Porous polyurethane polishing pad and process for producing the same

Номер патента: US11766759B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Polishing pad, pyrolysis oil obtained therefrom, and process for preparing the same

Номер патента: US20240263080A1. Автор: JANGWON SEO,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: EP4223452A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Keisuke Tanaka,Kenichi Koike,Teppei Tateno,Yoshiki Miyauchi,Yoshie Kiraku. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-08-09.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20230415300A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Keisuke Tanaka,Kenichi Koike,Teppei Tateno,Yoshiki Miyauchi,Yoshie Kiraku. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Polishing pad, pyrolysis oil obtained therefrom, and process for preparing the same

Номер патента: EP4410857A1. Автор: JANGWON SEO,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Polishing pad and method for producing polished product

Номер патента: US20240149389A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Heat insulation pad and method of making the same, battery assembly and device

Номер патента: US20230231232A1. Автор: Zhiming Chen,Quan Yang,Boxiang LIAO,Haijian GUO. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Selective modification method of a base material surface

Номер патента: US20200051813A1. Автор: Hiroyuki Komatsu,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2020-02-13.

Polishing pad sheet, polishing pad, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12138736B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Polishing pads, polishing tools, and polishing methods

Номер патента: JPWO2020054823A1. Автор: 堀田　和利,和利 堀田,恭祐 天▲高▼,翔太 菱田,大祐 安井,英治 長谷. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2021-08-30.

Fluorine resin surface modification method, surface-modified fluorine resin production method, joining method, material having surface-modified fluorine resin, and joined body

Номер патента: US20230340220A1. Автор: Akihiro Shimamoto. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 2023-10-26.

Polyurethanes, polishing articles and polishing systems therefrom and method of use thereof

Номер патента: US20240254273A1. Автор: Joseph D. Rule,Jay M. Jennen,Duy K. LEHUU,David P. SIGLIN,Jaimie E. STOMBERG. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Polyurethanes, Polishing Articles and Polishing Systems Therefrom and Method of Use Thereof

Номер патента: US20230383048A1. Автор: Joseph D. Rule,Jay M. Jennen,Duy K. LEHUU,Jaimie E. STOMBERG. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-11-30.

Polishing pad employing polyamine and cyclohexanedimethanol curatives

Номер патента: US11845156B2. Автор: Lin Fu,Rui Ma,Chen-Chih Tsai,Jaeseok Lee,Sarah BROSNAN. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Composition for polishing pad and polishing pad

Номер патента: US12122013B2. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Hyeyoung HEO. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Composition for polishing pad and using this polishing pad

Номер патента: TWI234503B. Автор: Nobuo Kawahashi,Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Katsuaki Morino,Kuo Hasegawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-06-21.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US11759909B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Polishing pad with foundation layer and window attached thereto

Номер патента: US09868185B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Jose Arno,Paul Andre Lefevre. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Polishing pad compound

Номер патента: US09458280B2. Автор: Bong-su Ahn,Jungsik CHOI,Jin-Su Jeong,Youngjun JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-10-04.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and CMP pads made therewith

Номер патента: US11806830B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods

Номер патента: US11980992B2. Автор: YAN Zhao,Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashavani Kumar,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mario Dagio CORNEJO,Amritanshu SINHA,Ranga Rao Arnepalli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing pad with foundation layer and window attached thereto

Номер патента: MY191753A. Автор: Diane Scott,Jose Arno,William C Allison,Paul Andre Lefevre. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Fabrication process of semiconductor device and polishing method

Номер патента: US20060219662A1. Автор: Tetsuya Shirasu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US11772230B2. Автор: Jing Ren,Bryan E. Barton,Kwadwo Tettey. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

High removal rate chemical mechanical polishing pads from amine initiated polyol containing curatives

Номер патента: US20190168356A1. Автор: Bainian Qian,Kancharla-Arun K. Reddy,Marty W. Degroot,George C. Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-06-06.

Method of making low specific gravity polishing pads

Номер патента: US20230390970A1. Автор: Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20230256560A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Mayu Felicia Yamamura,Ashwin Murugappan Chockalingam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Cmp polishing pad

Номер патента: US20240091901A1. Автор: Bainian Qian,Nan-Rong Chiou,Donna M. Alden,Matthew Cimoch,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: EP4028440A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Srobona SEN,Atul Bhaskar Chaudhari. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-20.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US12006442B2. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Srobona SEN,Atul Bhaskar Chaudhari. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Polishing method, method for producing semiconductor substrate, and polishing composition set

Номер патента: EP4317337A1. Автор: Kohsuke Tsuchiya,Taiki ICHITSUBO. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Polishing pad, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20240189959A1. Автор: Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US11873399B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US20210054192A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-02-25.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Soft conductive polymer processing pad and method for fabricating the same

Номер патента: US20070218587A1. Автор: Yuchun Wang,Yongqi Hu,Yuan A. Tian,Rashid A. Mavliev,Robert A. Ewald. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-09-20.

Polishing pad

Номер патента: WO2003054097A1. Автор: Alan E. Wang,Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2003-07-03.

Polishing pad

Номер патента: EP1458830A1. Автор: Alan E. Wang,Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2004-09-22.

Composite polishing pad having layers with different hardness and process for producing the same

Номер патента: US09975214B2. Автор: Chun-Che Tsao,Te-Chao Liao,Wen-Jui Cheng,Tzai-Shing CHEN. Владелец: Nan Ya Plastics Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Polishing pad with porous interface and solid core, and related apparatus and methods

Номер патента: US09463551B2. Автор: Robert Vacassy,George Fotou. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Composite polishing pad including highly abrasion-resistant thin film coating bound with carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240217056A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Polishing pad with alignment feature

Номер патента: US20150152236A1. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Robert Kerprich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-04.

Composite polishing pad including highly abrasion-resistant thin film coating bound with carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: EP4431235A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Porous chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230330805A1. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Method for manufacturing a polishing sheet and a polishing pad

Номер патента: US20240066661A1. Автор: JANGWON SEO,Kyung Hwan Kim,Jong Wook YUN,Joonho AN,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Surface modification method and surface modified material

Номер патента: US8257776B2. Автор: Kazuyuki Miyazawa. Владелец: Shiseido Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-04.

Surface modification method and surface modified material

Номер патента: US20100221558A1. Автор: Kazuyuki Miyazawa. Владелец: Shiseido Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-02.

Anti-microbial modified material and anti-microbial modification method

Номер патента: US20150252162A1. Автор: Chih-Hao Chang,Che-Wei Hsu,Hsien-Yeh Chen,Ting-Ju Lin,Shu-Yun Yeh. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2015-09-10.

Transparent wear-resistant film layer, plastic surface modification method, and product

Номер патента: US20230321686A1. Автор: Jian Zong,Siyue LI,Fuxing LI. Владелец: Jiangsu Favored Nanotechnology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Modification method for graphene, modified graphene, and composition containing graphene

Номер патента: US20210017436A1. Автор: Fei Peng,Feng Guo. Владелец: Tunghsu Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Polyurethanes, polishing articles and polishing systems therefrom and method of use thereof

Номер патента: WO2024023618A1. Автор: Joseph D. Rule,Jay M. Jennen,Duy K. LEHUU,David P. SIGLIN,Jaimie E. STOMBERG. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2024-02-01.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: US09533395B2. Автор: Takahiro SHIMANO,Mutsumi Tanikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: US09469013B2. Автор: Takahiro SHIMANO,Mutsumi Tanikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Surface treatment method of polishing pad and polishing method of wafer using the same

Номер патента: WO2013069938A1. Автор: Sehun CHOI,Kyeongsoon KIM,Younghee MOON. Владелец: LG Siltron Inc.. Дата публикации: 2013-05-16.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: EP1622193A4. Автор: Mitsuru Saito,Toshihiro Izumi,Takuya Nagamine,Hisatomo Ohno,Ichiro Kodaka,Claughton Miller. Владелец: Nihon Micro Coating Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-20.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Method and apparatus for dressing polishing pad

Номер патента: US20110312254A1. Автор: Harumichi Koyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-22.

Semiconductor substrate polishing with polishing pad temperature control

Номер патента: EP4169058A1. Автор: Masaaki Ikeda. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-26.

Polishing pad

Номер патента: US09707663B2. Автор: Satoshi Yanagisawa,Hiroyasu Kato,Masaharu Wada,Yukihiro Matsuzaki,Hajime Nishimura,Kuniyasu Shiro. Владелец: Toray Coatex Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Polishing pad and apparatus for polishing substrate having the polishing pad, method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: KR102318482B1. Автор: 박성현,이근우. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2021-10-29.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: CN1651193A. Автор: 小野浩一,下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,驹井茂,堤正幸. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-10.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: CN1669739A. Автор: 小野浩一,下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,驹井茂,堤正幸. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-21.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: CN1651192A. Автор: 小野浩一,下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,驹井茂,堤正幸. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-10.

Polishing pad and multi-layer polishing pad

Номер патента: US20040014413A1. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Hiroshi Shiho,Tomoo Koumura,Kouji Kawahara,Yukio Hosaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-01-22.

Polishing pad and multi-layer polishing pad

Номер патента: TW200402098A. Автор: Hiroshi Shiho,Tomoo Koumura,Kouji Kawahara,Yukio Hosaka,Kuo Hasegawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-02-01.

METHOD OF MANUFACTURE INCLUDING POLISHING PAD MONITORING METHOD AND POLISHING APPARATUS INCLUDING POLISHING PAD MONITORING DEVICE

Номер патента: US20220093405A1. Автор: OH Seung-Hun,JANG Young-Seok,Kim Dong-Eog,LEE Eun-Seok,Shin Jin,LEE Nam-hoon,SON Woo-Mok. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-24.

METHOD OF MANUFACTURE INCLUDING POLISHING PAD MONITORING METHOD AND POLISHING APPARATUS INCLUDING POLISHING PAD MONITORING DEVICE

Номер патента: US20200152469A1. Автор: OH Seung-Hun,JANG Young-Seok,Kim Dong-Eog,LEE Eun-Seok,Shin Jin,LEE Nam-hoon,SON Woo-Mok. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

Polishing pad inspection method and polishing pad inspection apparatus

Номер патента: JP3878460B2. Автор: 忠森 全,桂源 金,裕信 梁,考厚 金. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-07.

Polishing pad, manufacturing method and polishing method of polishing pad

Номер патента: KR20210149837A. Автор: 미츠루 가토,신야 가토,히로후미 기쿠치,지히로 오카모토. Владелец: 주식회사 쿠라레. Дата публикации: 2021-12-09.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: KR100867339B1. Автор: 나카모리마사히코,야마다다카토시,고마이시게루,오노고이치,시모무라데쓰오,쓰쓰미마사유키. Владелец: 도요 고무 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2008-11-06.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: CN100365773C. Автор: 涩木俊一. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-01-30.

Wafer cleaning and polishing pad, wafer cleaning and polishing chamber, and method of cleaning and polishing wafer

Номер патента: CN111251174B. Автор: 杨青海,高耀寰,刘黄升. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-14.

Method of manufacturing polishing apparatus including polishing pad monitoring method and polishing apparatus

Номер патента: CN111230733A. Автор: 吴承勋,申镇,张永锡,孙佑睦,李南勋,金东亿,李恩石. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-05.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: CN1628374A. Автор: 涩木俊一. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Polishing pad conditioning method and polishing apparatus

Номер патента: WO2017056392A1. Автор: 正直 佐々木,辰男 榎本,一将 浅井,太一 安田,拓也 佐々木. Владелец: 信越半導体株式会社. Дата публикации: 2017-04-06.

Polishing pad conditioning method and polishing apparatus

Номер патента: TW201718177A. Автор: Masanao Sasaki,Takuya Sasaki,Tatsuo Enomoto,Taichi Yasuda,Kazumasa Asai. Владелец: Shin-Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-01.

Modification method of material surface by plasma treatment

Номер патента: RU2478141C2. Автор: Владимир Николаевич Литуновский,Дмитрий Алексеевич Карпов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт электрофизической аппаратуры им. Д.В. Ефремова" (ФГУП "НИИЭФА им. Д.В. Ефремова"). Дата публикации: 2013-03-27.

Modified hydrogenase, enzymatic electrode made of modified hydrogenase, and hydrogenase modification method

Номер патента: US20090081761A1. Автор: Hidetaka Nishikoori,Ki-Seok Yoon,Hirofumi Nishihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-03-26.

Surface modification method based on polymerization and cross-linking solidification of dopamine and/or derivatives thereof

Номер патента: US20190177570A1. Автор: Yan Xu,YAN Dai,Ning Zhang,Xiaoming Yan,Gaohong HE,Xuehua Ruan,Xuxing LIAO. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2019-06-13.

Charging module with moisture-proof pad and cleaning system having the same

Номер патента: US20220149637A1. Автор: Chi-Mou Chao,Hsuan-Yi Lu. Владелец: Hobot Technology Inc. Дата публикации: 2022-05-12.

Adhesive sheet for fixing polishing pad having a substrate, a polishing pad side adhesive layer and a fixed plate side adhesive layer

Номер патента: TW201728726A. Автор: Hiroyuki Watanabe,Hiroyuki Tsubaki,Shuuhei Yamamoto. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2017-08-16.

Chitosan modification method

Номер патента: RU2755719C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Виктор Викторович Климов,Евгений Викторович Брюзгин,Александр Валентинович Навроцкий,Ольга Владимировна Коляганова,Екатерина Борисовна Брюзгина,Виталия Максимовна Ярцева,Ольга Алексеевна Макевнина,Кристина Андреевна Белина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2021-09-20.

Surface modification method and surface-modified elastic body

Номер патента: US09540493B2. Автор: Yasuhisa Minagawa. Владелец: Sumitomo Rubber Industries Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Modification method of synthetic resins and modified synthetic resins

Номер патента: CA2021053A1. Автор: Nobuo Furuno. Владелец: Fine Clay Co Ltd. Дата публикации: 1991-01-14.

Surface modification method and surface-modified elastic body

Номер патента: US20140194547A1. Автор: Yasuhisa Minagawa. Владелец: Sumitomo Rubber Industries Ltd. Дата публикации: 2014-07-10.

Polishing apparatus, polishing pad positioning method, and polishing pad

Номер патента: US09919403B2. Автор: Takeshi Sakurai,Suguru Ogura,Kaoru Hamaura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US6159088A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-12-12.

Polysaccharide chemical modification method

Номер патента: RU2401278C2. Автор: Ханс-Юрген КЁЛЕ,Георг ШИК,Ханс Хеннинг ВЕНК,Катрин ЙОН,Маттиас ПАСКАЛИ,Штефан ВИЛЬДМОЗЕР. Владелец: Эвоник Дегусса Гмбх. Дата публикации: 2010-10-10.

Chitosan modification method

Номер патента: RU2757501C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Виктор Викторович Климов,Евгений Викторович Брюзгин,Александр Валентинович Навроцкий,Ольга Владимировна Коляганова,Екатерина Борисовна Брюзгина,Виталия Максимовна Ярцева,Ольга Алексеевна Макевнина,Кристина Андреевна Белина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2021-10-18.

Modified expanded polystyrene particles, modification method thereof, concrete containing modified expanded polystyrene

Номер патента: US11732103B2. Автор: HUI Li,Wukui ZHENG,Diyang HE. Владелец: Xian University of Architecture and Technology. Дата публикации: 2023-08-22.

Modified expanded polystyrene particles, modification method thereof, concrete containing modified expanded polystyrene

Номер патента: US20230235145A1. Автор: HUI Li,Wukui ZHENG,Diyang HE. Владелец: Xian University of Architecture and Technology. Дата публикации: 2023-07-27.

Surface modification method of fluoropolymers by electron beam irradiation and the fabrication of superhydrophobic surfaces using the same

Номер патента: US20120056108A1. Автор: Young-Chang Nho,Chan-Hee Jung,Jae-Hak Choi,In-Tae Hwang,Sung Oh Cho,Eun Je Lee. Владелец: Korea Hydro and Nuclear Power Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-08.

Thermochromic silicone rubber composite heat dissipation pad and preparation method thereof

Номер патента: US12065607B1. Автор: Guoqing Jiang,Lihua Zhao,Zi WANG,Lichuan JIA,Shenli JIA,Junwen REN,Huachao Wei,Ruichi Zeng. Владелец: Sichuan University. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma modification method and system for fabric, non-woven fabric, and porous thin film

Номер патента: GB2617918A. Автор: Yang Tao,Chen Shuang,Du Juan,Hu Xuefei,Zhang Xuemei,Gao Chen,Tsou Chih-Yuan,Tsou Chi-Hui,Zeng Chunyan,Wang Ruo-Yao,Ma Zheng-Lu,Ge Fei-Fan,Reyes De Guzman Manuel,Tian Xin-Yuan. Владелец: Sichuan Bozhiduo Tech Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Hydrophilic modification method and heat exchanger treated thereby

Номер патента: EP1245622A1. Автор: Toshio Inbe,Koichi Saito,Susumu Maekawa,Norizumi Matsui,Ushio Akira,Osamu c/o Denso Corporation Kasebe,Kengo c/o Denso Corporation Kobayashi,Hiroyoshi c/o Denso Corporation Sugawara,Kazuhisa c/o Denso Corporation Uchiyama. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-02.

Tank tread pad and composition for making

Номер патента: US4587280A. Автор: Kenneth A. Iseler,Robert C. Yen,Probir K. Guha. Владелец: Budd Co. Дата публикации: 1986-05-06.

Wafer polishing pad centering apparatus

Номер патента: US20020086632A1. Автор: Terrence Stemm. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841B1. Автор: Nobuo c/o JSR Corporation Kawahashi,Kou c/o Jsr Corporation Hasegawa,Hiroshi c/o JSR Corporation Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-04-28.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841A4. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Hiroshi Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Polishing apparatus having temperature regulator for polishing pad

Номер патента: US09475167B2. Автор: Tadakazu Sone,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Polishing apparatus for a substrate and polishing method for a substrate using the same

Номер патента: US20230415303A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-28.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US09782870B2. Автор: Hisanori Matsuo,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Polishing pad cleaning systems employing fluid outlets oriented to direct fluid under spray bodies and towards inlet ports, and related methods

Номер патента: US09687960B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US09676076B2. Автор: Hozumi Yasuda,Keisuke Namiki,Shingo Togashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Polishing pad and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230381913A1. Автор: Boun Yoon,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Polishing system, polishing pad and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12042900B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Kang Sik F Myung. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Method for polishing using polishing pad provided with adsorption layer

Номер патента: US20200147749A1. Автор: Daisuke Ninomiya,Toshiyasu Yajima. Владелец: Maruishi Sangyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Polishing pad with offset concentric grooving pattern and method for polishing a substrate therewith

Номер патента: US09687956B2. Автор: Ching-Ming Tsai,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,Feng-Chih Hsu,Craig Kokjohn. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Cleaning process of wafer polishing pad and cleaning nozzle

Номер патента: US20230126122A1. Автор: Ching-Wen Teng,Wen Yi Tan,Shih-Jie Lin,Kuo Liang Huang. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

CMP polishing pad having edge exclusion region of offset concentric groove pattern

Номер патента: US09409276B2. Автор: Ching-Ming Tsai,Gregory Gaudet,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,hui-feng Chen. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Methods for making reinforced wafer polshing pads and apparatuses implementing the same

Номер патента: EP1345733A1. Автор: Fen Dai,Cangshan Xu,Eugene Y. Zhao. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-09-24.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20230008720A1. Автор: Masayoshi Ito,Itsuki Kobata. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-01-12.

Method of regulating a surface temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: US20190308293A1. Автор: Mitsunori Komatsu,Keisuke Kamiki,Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Polishing pad and method of monitoring a polishing process using the same

Номер патента: US20240227113A1. Автор: JANGWON SEO,Kyung Hwan Kim,Joonho AN,Chang Gyu Im,Yujin Shin. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: US11780057B2. Автор: Sunghoon YUN,Jang Won Seo,Joonsung RYOU,Tae Kyoung Kwon. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device

Номер патента: US20240300066A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Chang Gyu Im,Joon Ho An. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Laminated polishing pad and method for producing same

Номер патента: US20150079879A1. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Laminated polishing pad and method for producing same

Номер патента: US09636796B2. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Polishing apparatus and polishing pad

Номер патента: EP1395394A1. Автор: Shinro c/o Ebara Corporation OHTA,Kazuo c/o Ebara Corporation SHIMIZU. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2004-03-10.

Polishing pad and method for production thereof, as well as a method of producing a polished article

Номер патента: RU2736460C2. Автор: Шин ТОКУШИГЕ,Кейсуке НАКАСЕ,Хироши КАШИВАДА,Татсуя ЯМАДА,Кеничи КОЙКЕ,Йосуке НАРАДА. Владелец: Фудзибо Холдингс, Инк.. Дата публикации: 2020-11-17.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Pad-temperature regulating apparatus, method of regulating pad-temperature, polishing apparatus, and polishing system

Номер патента: US11919124B2. Автор: Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Polishing pads and systems and methods of making and using the same

Номер патента: EP3359335A1. Автор: David F. Slama,Duy K. LEHUU. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-08-15.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20190118334A1. Автор: Hisanori Matsuo,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-04-25.

Pad-temperature regulating apparatus, pad-temperature regulating method, and polishing apparatus

Номер патента: US11826871B2. Автор: Toru Maruyama,Shuji Uozumi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20220347814A1. Автор: Kenichi Suzuki,Hisanori Matsuo,Yasuyuki Motoshima,Ban ITO,Shuji Uozumi,Shumpei Miura,Seungho Yun. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-11-03.

Apparatus and method for shaping polishing pads

Номер патента: MY133665A. Автор: Robert J Walsh. Владелец: Memc Electronic Materials. Дата публикации: 2007-11-30.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US09399277B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Hozumi Yasuda,Makoto Fukushima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: EP1447840A1. Автор: Hisatomo NIHON MICRO COATING CO. LTD. OHNO,Satoru NIHON MICRO COATING CO. LTD. SATO,Kazunari NIHON MICRO COATING CO. LTD. OSAWA. Владелец: Nihon Micro Coating Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-18.

CMP polishing pad with polishing elements on supports

Номер патента: US11833638B2. Автор: Bryan E. Barton,John R. McCormick. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Holding Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Surface property measuring apparatus for polishing pad, surface property measuring method for polishing pad, and surface property judging method for polishing pad

Номер патента: US20240075579A1. Автор: Toshifumi Kimba,Hisanori Matsuo,Nobuyuki Takada,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

System and method for polishing and planarization of semiconductor wafers using reduced surface area polishing pads

Номер патента: WO2002053322A3. Автор: Yehiel Gotkis,John M Boyd,Rod Kistler. Владелец: Rod Kistler. Дата публикации: 2003-05-01.

Method of adhering polishing pads and jig for adhering the same

Номер патента: MY138787A. Автор: Yoshio Nakamura,Harumichi Koyama. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2009-07-31.

Polishing pad and apparatus for polishing a semiconductor wafer

Номер патента: US6077153A. Автор: Takashi Fujita,Yuzo Kozai,Motoyuki Ohara. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-06-20.

Method for raising polishing pad and polishing method

Номер патента: US20170341204A1. Автор: Takuya Sasaki,Yuki Tanaka. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-30.

Polishing pad

Номер патента: US20240157505A1. Автор: Osamu Kinoshita,Kazuo Shoji. Владелец: Universal Photonics Far East Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

A preconditioner for a polishing pad and method for using the same

Номер патента: IE960095A1. Автор: James Michael Mullins. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1996-08-07.

Polishing apparatus for substrate and polishing method for substrate using the same

Номер патента: US20230286108A1. Автор: Chungki MIN,Hyojung KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-14.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20230278159A1. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2000027585A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-05-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A4. Автор: Anthony Meyer,Michael Labunsky,Andrew J Nagengast,Tac Huynh,Glenn W Travis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Method and system for monitoring polishing pad before cmp process

Номер патента: US20180169825A1. Автор: Yen-Chih Chen,Yi-Chang Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Polishing pad

Номер патента: US09737972B2. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Polishing pad with polishing surface layer having an aperture or opening above a transparent foundation layer

Номер патента: US09597769B2. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse,Leslie M. Charns. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Apparatus for printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09457520B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Wafer edge asymmetry correction using groove in polishing pad

Номер патента: US20240075583A1. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Wafer edge asymmetry correction using groove in polishing pad

Номер патента: US11951589B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Wafer polishing pad and method of wafer polishing using the same

Номер патента: US20190193238A1. Автор: SANGHOON Lee,SungHyup KIM,Seok Ryul Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-27.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20230201991A1. Автор: Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Toshiki Miyakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Polishing pad, conditioner and method for polishing the same

Номер патента: MY135978A. Автор: Lee Hyun Woo,KIM Sung Min,Kim Jae Seok,KIM Geon,LEE Jong Myung,Lee Ju Yeol,Park In Ha,Song Eu Gene. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Method of regulating a surface temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: SG10201902954VA. Автор: KOMATSU Mitsunori,KAMIKI Keisuke,KABASAWA Masashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Temperature adjusting device and polishing device

Номер патента: US20200164480A1. Автор: Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Polishing method, and polishing apparatus

Номер патента: US20240181594A1. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan,Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Tank and method for producing polishing pad using tank

Номер патента: MY163432A. Автор: Hiroshi Seyanagi. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-15.

Method and apparatus for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: US09943943B2. Автор: Akira Nakamura,Hiroyuki Shinozaki,Akira Imamura,Takahiro SHIMANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US12138738B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Substrate holding apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US09550268B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: MY159320A. Автор: Kenji Nakamura,Yoshiyuki Nakai,Kazuyuki Ogawa. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2016-12-30.

Arrangement and method for conditioning a polishing pad

Номер патента: EP1270148A1. Автор: Walter Glashauser,Benno Utess,Andreas Purath,Peter Faustmann. Владелец: Infineon Technologies SC300 GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-02.

Polishing pad, polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor package using the same

Номер патента: US11878388B2. Автор: Ching-Hua Hsieh,Yi-Yang Lei,Kuan-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Method of cleaning a polishing pad conditioner and apparatus for performing the same

Номер патента: US20020119613A1. Автор: Min-Gyu Kim,Min-Soo Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-29.

Apparatus of cleaning a polishing pad and polishing device

Номер патента: US11780050B2. Автор: Ji Hwan CHO. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Method of forming a layered polishing pad

Номер патента: US7132033B2. Автор: Mark J. Boldizar,Robert T. Gamble,Vincent Matthew Hedrick,Jason M. Lawhorn,Alan H. Saikin,Katherine L. Tome. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-11-07.

Polishing pad and method for producing the same

Номер патента: MY153842A. Автор: Kenji Nakamura,Takeshi Fukuda,Akinori Sato,Junji Hirose,Masato Doura. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2015-03-31.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US10946493B2. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-16.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US20180304437A1. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Fluid dispensing fixed abrasive polishing pad

Номер патента: WO2001024969A2. Автор: Liming Zhang,Andrew Black,Landon Vines. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-04-12.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20190168355A1. Автор: Yuta Suzuki,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

Polishing apparatus and method of determining a time to replace polishing pad

Номер патента: US20230356350A1. Автор: Hiroaki Nishida,Yuta Suzuki,Taro Takahashi,Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240139903A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Polishing apparatus having surface-property measuring device of polishing pad and polishing system

Номер патента: US11958161B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230110921A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Polishing pad and polishing method using same

Номер патента: US20190232460A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20220203498A1. Автор: Yuta Suzuki,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Self-healing polishing pad

Номер патента: US20200039022A1. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Self-healing polishing pad

Номер патента: US20230118617A1. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: EP1372908A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Polishing platen and polishing apparatus

Номер патента: WO2007032517A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Tadakazu Sone,Takuji Kobayashi,Hiroomi Torii,Takashi Tsuzuki,Hideo Aizawa,Masao Umemoto. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2007-03-22.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: EP4446057A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240342857A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Polishing pad having polishing surface with continuous protrusions

Номер патента: US09649742B2. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Robert Kerprich,Paul Andre Lefevre,Leslie M. Charns,James Richard Rinehart. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: US09555518B2. Автор: Ping Huang,William C. Allison,Diane Scott,James P. LaCasse. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Polishing pad assembly with glass or crystalline window

Номер патента: US7614933B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Jeffrey Drue David,Bogdan Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-11-10.

Method of forming structured-open-network polishing pads

Номер патента: US9108291B2. Автор: Hamed Lakrout. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-08-18.

Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing and Method

Номер патента: US20230398659A1. Автор: Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Te-Chien Hou,Liang-Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Polishing pad, method for producing the same and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US11951591B2. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jae In Ahn. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US12011801B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US20190283206A1. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US11883926B2. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US10960513B2. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-30.

Polishing pad, polishing apparatus and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20150202732A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Chun-Ta Wang,Wei-Te Liu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Polishing pad comprising window similar in hardness to polishing layer

Номер патента: US11964360B2. Автор: Sunghoon YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN,Joonsung RYOU. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: WO2012051197A1. Автор: Ping Huang,William C. Allison,Diane Scott,James P. LaCasse. Владелец: NexPlanar Corporation. Дата публикации: 2012-04-19.

Dressing apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US11980997B2. Автор: Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Okamoto Machine Tool Works Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Polishing pad, process for producing the same and method of polishing therewith

Номер патента: US20060199473A1. Автор: Masato Yoshida,Masao Suzuki,Masaya Nishiyama,Hiroshi Nakagawa,Yasuo Shimamura. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-07.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US20210260719A1. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US20180304436A1. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US11618123B2. Автор: Tetsuji Togawa,Atsushi Yoshida,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-04-04.

Polishing pad, polishing apparatus and a method for polishing silicon wafer

Номер патента: US11471997B2. Автор: Yue Xie,Youhe Sha. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-10-18.

Polishing pads and systems for and methods of using same

Номер патента: US20230211455A1. Автор: Eric C. Coad,Joseph D. Rule,Duy K. LEHUU. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: MY167541A. Автор: Ping Huang,Diane Scott,William C Allison,James P Lacasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-09-05.

Cmp polishing pad with protruding structures having engineered open void space

Номер патента: US20230311269A1. Автор: Bryan E. Barton,John R. McCormick. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Polishing pad, polishing apparatus and a method for polishing silicon wafer

Номер патента: US20220009051A1. Автор: Yue Xie,Youhe Sha. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-01-13.

Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method

Номер патента: US11890716B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Asagi Matsugu,Akihiro Yazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Polishing head and polishing apparatus

Номер патента: US20150017890A1. Автор: Hisashi Masumura. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Polishing pad with recessed window

Номер патента: EP1667816A1. Автор: Kyle A. Cabot Microelectronics Corp. TURNER,Jeffrey L. Cabot Microelectronics Corp. BEELER,Kelly J. Cabot Microelectronics Corp. NEWELL. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-06-14.

Polishing head and polishing apparatus

Номер патента: US11752590B2. Автор: Yuichi Kato,Osamu Nabeya. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Polishing platens and polishing platen manufacturing methods

Номер патента: US12076877B2. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Bum Jick KIM,Danielle LOI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US12090599B2. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Polishing system and polishing method

Номер патента: US09718164B2. Автор: Shih-Chi Lin,Chih-Jen WU,Chen-Ming Huang,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Chih-Yuan Yang,Min Hao Hong,Chin-Hsiang Chang,Soon-Kang Huang,Kun-Tai Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Substrate holder, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US09662764B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Polishing device and polishing method

Номер патента: US09550269B2. Автор: Yoichi Kobayashi,Keita Yagi,Yoichi Shiokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Polishing pad

Номер патента: MY153331A. Автор: Nakamura Kenji,Fukuda Takeshi,SATO Akinori,Doura Masato,Hirose Junji. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2015-01-29.

Polishing pads for a semiconductor substrate

Номер патента: AU4982799A. Автор: Frank B. Kaufman,Sriram P. Anjur,Roland K. Sevilla. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-02-01.

Polishing pads for a semiconductor substrate

Номер патента: MY133820A. Автор: Roland K Sevilla,Frank B Kaufman,Sriram P Anjur. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-11-30.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Polishing pad, process for preparing the same, and process for preparing a semiconductor device using the same

Номер патента: US11931856B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jang Won Seo. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Polishing pad

Номер патента: US20230364736A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Yoshihide Kawamura,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Laminate polishing pad

Номер патента: SG184115A1. Автор: Atsushi Kazuno. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2012-10-30.

Polishing pad, double-side polishing device, and double-side polishing method for wafer

Номер патента: US20240009799A1. Автор: Junichi Ueno. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method

Номер патента: EP3842182A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Asagi Matsugu,Akihiro Yazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-30.

Polishing system with annular platen or polishing pad

Номер патента: US11780046B2. Автор: Fred C. Redeker,Paul D. Butterfield,Thomas H. Osterheld,Shou-sung Chang,Steven M. Zuniga,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Polishing pad, process for preparing the same, and process for preparing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20210122006A1. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jang Won Seo. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20210187692A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Asagi Matsugu,Akihiro Yazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Polishing pad with improved wettability and method for preparing same

Номер патента: US20230330806A1. Автор: JANGWON SEO,Sunghoon YUN,Jong Wook YUN,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing pad, polishing unit, polishing device, and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20230173637A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad

Номер патента: US20240042573A1. Автор: Takeshi Sato,Norihisa Arifuku. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: WO2002078902A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2002-10-10.

Polishing pad

Номер патента: EP4382250A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Azusa SUNAYAMA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Polishing pad having a groove arrangement for reducing slurry consumption

Номер патента: US7125318B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-10-24.

Polishing pad having a groove arrangement for reducing slurry consumption

Номер патента: EP1533076A1. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-05-25.

Printed chemical mechanical polishing pad having particles therein

Номер патента: US11794308B2. Автор: Kasiraman Krishnan,Nag B. Patibandla,Periya Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US20230381912A1. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20240017370A1. Автор: Akihiro Yazawa,Yasuyuki MIYASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Aliphatic polyurethane optical endpoint detection windows and cmp polishing pads containing them

Номер патента: US20180304438A1. Автор: George C. Jacob,Mohammad T. Islam,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US11780047B2. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Polishing pad, method for producing the same and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220288743A1. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Sung Hoon Yun. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: EP4238698A1. Автор: Akihiro Yazawa,Yasuyuki MIYASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-06.

Silicate Composite Polishing Pad

Номер патента: US20120122381A1. Автор: Joseph K. So,Donna M. Alden,Andrew R. Wank,Mark E. Gazze,Robert Gargione,David Drop,Mai Tieu Banh,Shawn Riley,Colin E. Cameron, JR.. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2012-05-17.

Optical film-thickness measuring apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US11951588B2. Автор: Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Yoichi Shiokawa,Yoshikazu Kato. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20230294241A1. Автор: Ban ITO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Temperature regulating apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US12023777B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20210170544A1. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US11759913B2. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US11911867B2. Автор: Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Yoichi Shiokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20180147687A1. Автор: Akihiko Ogawa,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Polishing head for face-up type polishing apparatus, polishing apparatus including the polishing head, and polishing method using the polishing apparatus

Номер патента: US11440161B2. Автор: Tetsuji Togawa,Kenichi Kobayashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-09-13.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20230381919A1. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20150255357A1. Автор: Yoichi Kobayashi,Keita Yagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US9390986B2. Автор: Yoichi Kobayashi,Keita Yagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-07-12.

Substrate polishing device and polishing method

Номер патента: US20190134776A1. Автор: Kenji Kodera,Masayuki Nakanishi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-05-09.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: SG10201808877SA. Автор: Takahashi Taro,Kobayashi Yoichi,SUGIYAMA Mitsunori. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Abrasive pad and glass substrate abrading method

Номер патента: EP3120379A1. Автор: Yoko Nakamura. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-01-25.

Polishing pad, and polishing method using same

Номер патента: EP3858546A1. Автор: Shota HISHIDA,Toru Kamada,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2021-08-04.

Using sacrificial material in additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20210114172A1. Автор: Daniel REDFIELD,Jason Garcheung Fung,Mayu Felicia Yamamura. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Using sacrificial material in additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20230256567A1. Автор: Daniel REDFIELD,Jason Garcheung Fung,Mayu Felicia Yamamura. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Apparatus for manufacturing polishing pad and method of manufacturing polishing pad using the same

Номер патента: US20140366396A1. Автор: Bong-su Ahn,Jungsik CHOI,Jin-Su Jeong,Youngjun JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-18.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US11965103B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Sudhakar Madhusoodhanan,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Daihua Zhang,Ashwin Murugappan Chockalingam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process

Номер патента: US20240123568A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Abrasive tool with flat and consistent surface topography for conditioning a cmp pad and method for making

Номер патента: WO2011009046A3. Автор: Richard W. J. Hall,Guohua Zhang,Jianhui Wu. Владелец: SAINT-GOBAIN ABRASIFS. Дата публикации: 2011-04-28.

Abrasive tool with flat and consistent surface topography for conditioning a cmp pad and method for making

Номер патента: US20140208661A1. Автор: Richard W. J. Hall,Guohua Zhang,Jianhui Wu. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2014-07-31.

Method of handling test pad and method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20230395440A1. Автор: Jun Zhou,Sheng Hu,Qiong Zhan. Владелец: Wuhan Xinxin Semiconductor Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Semiconductor device having a ring-shaped protection spacer above a contact pad and enclosing a source/drain contact plug

Номер патента: US12034060B2. Автор: Hongsik SHIN,Sughyun Sung,Heungsik Park,Wonhyuk LEE,Hyunjoon ROH,Dohaing LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-09.

Solder pads and method of making a solder pad

Номер патента: US20030051912A1. Автор: Mindaugas Dautartas. Владелец: Haleos Inc. Дата публикации: 2003-03-20.

Polishing pad cleaning composition and polishing pad cleaning method

Номер патента: JP4945857B2. Автор: 雅幸 服部,民智明 安藤,信夫 川橋. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

Liquid crystal cell, liquid crystal display device and surface modification method for infrared material

Номер патента: US20150103293A1. Автор: Feng Bai,Jiuxia YANG,Xiao Sun,Yiming Zhao,Bing Bai. Владелец: Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-16.

Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, polishing member, and surface plate with polishing pad

Номер патента: US20220195258A1. Автор: Tadashi Abe. Владелец: Toyochem Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Surface modification method of cement

Номер патента: RU2715276C1. Автор: Сергей Анатольевич Стельмах,Евгений Михайлович Щербань,Александр Каюмович Халюшев,Мухума Пахрудинович Нажуев,Николай Михайлович Зайченко,Андрей Александрович Чернильник. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Донской государственный технический университет", (ДГТУ). Дата публикации: 2020-02-26.

Surface modification method for light metal casting

Номер патента: US20200002795A1. Автор: Keisuke Uchida,Masashi Furukawa. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Modification method of titanium-silicalite zeolite based on the mixture of quaternary ammonium salt and inorganic alkali

Номер патента: US09486790B2. Автор: Ji Su,Hongchen GUO,Guanghong Liu. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2016-11-08.

Alcohol pad system, alcohol pad, and method for cleaning a medicine vial

Номер патента: US09630222B2. Автор: Mary Jane Cotton. Владелец: DMJ PRODUCTS LLC. Дата публикации: 2017-04-25.

Micro-fluidic chip and its modification method and application in detection of the quantity of food bacteria

Номер патента: US10752963B2. Автор: ZHEN Wang,Min Zhou,Xudong Cao,Yuqian Jiang,Xingkai Hao,Chuanpi Wang,Meina Sun. Владелец: Greentown Agricultural Testing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-25.

Blank structure modification method

Номер патента: RU2295429C2. Автор: Брюс Гай Ирвайн ДАНС,Юэн Джеймс Крофорд КЕЛЛАР. Владелец: Дзе Велдинг Инститьют. Дата публикации: 2007-03-20.

Activated carbon modification method, filter mesh structure and use thereof, and filter material regeneration method

Номер патента: US20220152546A1. Автор: Yi-Hui YU. Владелец: Greenfiltec Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Surface modification method of aluminum oxide carrier

Номер патента: CA2866214C. Автор: Dechen SONG,Xiaodong Zhan,Shenke ZHENG. Владелец: Sunshine Kaidi New Energy Group Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Polymer composition on substrate and surface modification method

Номер патента: US20140199470A1. Автор: Meng-Yu Tsai,Hsien-Yeh Chen,Sheng-Tung Huang. Владелец: National Taiwan University NTU. Дата публикации: 2014-07-17.

Disc brake pad and method for the manufacturing thereof

Номер патента: WO2022123476A3. Автор: Omar Cividini,Fabio Giacometti. Владелец: BREMBO S.p.A.. Дата публикации: 2022-07-21.

Disc brake pad and method for the manufacturing thereof

Номер патента: EP4259949A2. Автор: Omar Cividini,Fabio Giacometti. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2023-10-18.

Carrier element for wastewater treatment and carrier element modification method

Номер патента: EP3851416A3. Автор: Selda Murat Hocaoglu,Pamir Talazan,Recep Partal,Irfan BASTÜRK. Владелец: Tuebitak. Дата публикации: 2021-11-10.

Abrasive powder material and abrasive suspension for semiconductor substrate selective polishing and polishing method

Номер патента: RU2401856C2. Автор: Эндрю Г. ХЭРЛЕ,Юн ВАНГ. Владелец: Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк.. Дата публикации: 2010-10-20.

Application of h2so4 as an electrolyte in metal smoothing and polishing processes by ion transfer using free solid bodies

Номер патента: RU2750390C1. Автор: Пау САРСАНЕДАС МИЛЛЕТ. Владелец: Драйлит, С.Л.. Дата публикации: 2021-06-28.

Polishing-pad laminated structure, polishing-pad positioning instrument, and method of attaching a polishing pad to a polishing table

Номер патента: US20200023489A1. Автор: Toshikazu Nomura,Nobuyuki Takahashi,Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Suguru Sakugawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-23.

Reinforced polishing pad for linear chemical mechanical polishing and method for forming

Номер патента: US20030013398A1. Автор: Tsu Shih,Wen-Chih Chiou,Ying-Ho Chen,Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Method and apparatus for conditioning polishing pad

Номер патента: US09731401B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Polishing-pad laminated structure, polishing-pad positioning instrument, and method of attaching a polishing pad to a polishing table

Номер патента: US11642753B2. Автор: Toshikazu Nomura,Nobuyuki Takahashi,Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Suguru Sakugawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-09.

Polishing pad for substrate polishing apparatus and substrate polishing apparatus having polishing pad

Номер патента: US20200001424A1. Автор: Toshifumi Kimba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Polish pad replacing apparatus

Номер патента: US20230158634A1. Автор: Chih-Chieh Su,Chun-Hsien Su,Ko-Chieh Chao. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-05-25.

Method and apparatus for conditioning polishing pad

Номер патента: US20150231760A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-08-20.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: WO2021257136A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-23.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: US11806829B2. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: US20240025010A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: EP4168210A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-26.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad with sonic energy

Номер патента: US20020086620A1. Автор: Michael Lacy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Polishing pad, method for preparing the same, and chemical and mechanical polishing equipment

Номер патента: US11839945B2. Автор: Sungwoo Cho,Yuxuan Guo. Владелец: Xian Eswin Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Conditioning of grooving in polishing pads

Номер патента: US09486893B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Robert T. Lum,Brian J. Brown,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Layout modification method for exposure manufacturing process

Номер патента: US20210296303A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chun-Kuang Chen,Chih-Tsung Shih,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Hung-Wen Cho,Fu-Jye Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Semiconductor device with air gap below landing pad and method for forming the same

Номер патента: US12051648B2. Автор: Chih-Tsung WU. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-07-30.

Layouts for pads and conductive lines of memory devices, and related devices, systems, and methods

Номер патента: US11742306B2. Автор: Takashi Ishihara. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-08-29.

Semiconductor die including diffusion barrier layers embedding bonding pads and methods of forming the same

Номер патента: US20210375790A1. Автор: Noriaki Oda,Teruo OKINA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-12-02.

Layout modification method for exposure manufacturing process

Номер патента: US20190131290A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chun-Kuang Chen,Chih-Tsung Shih,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Hung-Wen Cho,Fu-Jye Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-02.

Printed circuit board including conductive pad and electric device using the same

Номер патента: US20230199953A1. Автор: Bongsoo Kim,Gyeongmin JIN,Jaebum LEE,Hakjoon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Semiconductor devices with duplicated die bond pads and associated device packages and methods of manufacture

Номер патента: US09875993B2. Автор: Nathan J. Sirocka,Trismardawi Tanadi,Andrew D. Proescholdt. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-01-23.

Semiconductor devices having a TSV, a front-side bumping pad, and a back-side bumping pad

Номер патента: US09806004B2. Автор: Ho-Jin Lee,Jisoon Park,Byunglyul Park,Jinho AN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-10-31.

Electrical connector between die pad and z-interconnect for stacked die assemblies

Номер патента: US09508689B2. Автор: Suzette K. Pangrle,Reynaldo Co,Grant Villavicencio,Scott McGrath,Jeffrey S. Leal,Keith L. Barrie,Elmer M. del Rosario,John R. Bray,De Ann Eileen Melcher. Владелец: Invensas LLC. Дата публикации: 2016-11-29.

Heat dissipating structure, heat dissipating pad, and heat dissipating bag

Номер патента: US20130340988A1. Автор: Yung-Chiang Chu. Владелец: FLUIDITECH IP Ltd. Дата публикации: 2013-12-26.

Wafer with scribe lanes comprising external pads and/or active circuits for die testing

Номер патента: EP1932176A2. Автор: Hervé Marie,Sofiane Ellouz. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2008-06-18.

Wafer with scribe lanes comprising external pads and/or active circuits for die testing

Номер патента: US20090127553A1. Автор: Hervé Marie,Sofiane Ellouz. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2009-05-21.

Gan-based schottky diode having large bond pads and reduced contact resistance

Номер патента: EP3259781A1. Автор: Yih-Yin Lin. Владелец: VISHAY GENERAL SEMICONDUCTOR LLC. Дата публикации: 2017-12-27.

Method of manufacturing semiconductor device including bonding pad and fuse elements

Номер патента: US20070176258A1. Автор: Takashi Yamashita,Noriaki Fujiki,Junko Izumitani. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2007-08-02.

Method of manufacturing semiconductor device including bonding pad and fuse elements

Номер патента: US7335537B2. Автор: Takashi Yamashita,Noriaki Fujiki,Junko Izumitani. Владелец: Renesas Technology Corp. Дата публикации: 2008-02-26.

Circuit structure for connecting bonding pad and ESD protection circuit

Номер патента: US20030193071A1. Автор: Shao-Chang Huang,Jin-Tau Chou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-10-16.

Semiconductor device with self-aligned landing pad and method for fabricating the same

Номер патента: US11121137B1. Автор: Te-Yin Chen. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2021-09-14.

Semiconductor packages having improved reliability in bonds between connection conductors and pads and methods of manufacturing the same

Номер патента: US11676925B2. Автор: Taehun Kim,Jongpa Hong,Jiseok Hong,Jihwan HWANG,Hyuekjae Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-13.

Semiconductor component having test pads and method and apparatus for testing same

Номер патента: US20070218573A1. Автор: Jae Cho,Xin Wu,Chih-Chung Wu,Mohsen Mardi,Shih-Liang Liang,Sanjiv Stokes,Hassan Bazargan. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 2007-09-20.

Electronic device with first and second contact pads and related methods

Номер патента: US09466557B2. Автор: Jing-en Luan. Владелец: STMicroelectronics Shenzhen R&D Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Bonded semiconductor die assembly with metal alloy bonding pads and methods of forming the same

Номер патента: US20220246562A1. Автор: Peter Rabkin,Masaaki Higashitani,Lin Hou. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2022-08-04.

Semiconductor device having an air gap between a contact pad and a sidewall of contact hole

Номер патента: US12057396B2. Автор: Yong Woo HYUNG. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Structure with copper bond pad and copper interconnect

Номер патента: US20240178165A1. Автор: Kai Chong Chan,Ranjan Rajoo. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Integrated input/output pad and analog multiplexer architecture

Номер патента: US20220188499A1. Автор: Wenzhong Zhang,Ajay Kumar Sharma,Rishi BHOOSHAN. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Electronic device including connecting pad and conductive portion

Номер патента: US12094845B2. Автор: Tsung-Han Tsai,Jia-Yuan Chen. Владелец: Innolux Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Bonded assembly containing different size opposing bonding pads and methods of forming the same

Номер патента: US12125814B2. Автор: Peter Rabkin,Masaaki Higashitani,Lin Hou. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2024-10-22.

Layout modification method for exposure manufacturing process

Номер патента: US20190348409A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chun-Kuang Chen,Chih-Tsung Shih,Po-Chung Cheng,Li-Jui Chen,Hung-Wen Cho,Fu-Jye Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Capacitor pads and methods of manufacturing the same

Номер патента: US20230085698A1. Автор: Rajeev Ranjan,Kristof Darmawikarta,Srinivas PIETAMBARAM,Jung Kyu HAN. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-03-23.

IC package having non-horizontal die pad and lead frame therefor

Номер патента: US09379035B1. Автор: Zhijie Wang,Meng Kong Lye,You Ge. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2016-06-28.

Method for forming polishing pad and structure of polishing pad

Номер патента: KR20050012661A. Автор: 윤일영. Владелец: 매그나칩 반도체 유한회사. Дата публикации: 2005-02-02.

Resin composition for polishing pad and preparation method polishing pad

Номер патента: KR20220159685A. Автор: 서장원,윤성훈,권태경,이정남. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2022-12-05.

Polishing pad, method for manufacturing the polishing pad, and method for polishing an object

Номер патента: US20080009228A1. Автор: Hiroshi Misawa,Hiromasa Nagase,Akio Yokofuke. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-01-10.

Resin composition for polishing pad and preparation method polishing pad

Номер патента: KR102512486B1. Автор: 서장원,윤성훈,권태경,이정남. Владелец: 에스케이엔펄스 주식회사. Дата публикации: 2023-03-20.

Polishing pad, method of preparing a polishing pad and method of polishing a substrate

Номер патента: TWI222389B. Автор: Roland K Sevilla,Jeremy Jones,James A Hicks. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-10-21.

POLISHING APPARATUS, POLISHING PAD POSITIONING METHOD, AND POLISHING PAD

Номер патента: US20150004886A1. Автор: Sakurai Takeshi,HAMAURA Kaoru,OGURA Suguru. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-01.

Polishing pad dresser and manufacturing method thereof, polishing pad dressing devcie and polishing system

Номер патента: KR101610438B1. Автор: 지에 판,리준 야오,가즈히코 오이와,도시오 아이하라,수에즈 왕. Владелец: 콘풍 매테리얼스 인터네셔널 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2016-04-07.

Polishing pad dresser and manufacturing method thereof, polishing pad dressing device and polishing system

Номер патента: TW201446427A. Автор: Jie Pan,Toshio Aihara,Kazuhiko Oiwa,li-jun Yao,xue-ze Wang. Владелец: Konfoong Materials Int Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-16.

Method for manufacturing polishing pad for wafer and the polishing pad

Номер патента: KR100699522B1. Автор: 서학철. Владелец: (주)제이티앤씨. Дата публикации: 2007-03-27.

Stone polishing pad making device and polishing pad making method

Номер патента: KR101808123B1. Автор: 민경열. Владелец: 케스트다이아몬드 주식회사. Дата публикации: 2018-01-18.

Head gimbal assembly and magnetic disk drive with specific solder ball or slider pad and electrode stud dimensioning to produce reliable solder ball connection using laser energy

Номер патента: US7400470B2. Автор: Tatsumi Tsuchiya,Tatsushi Yoshida,Yoshio Uematsu,Yuhsuke Matsumoto,Takaaki Murokawa,Nobuyuki Hashi. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2008-07-15.

Semiconductor apparatus capable of detecting whether pad and bump are stacked

Номер патента: US9224722B2. Автор: Jong Chern Lee,Soo Bin LIM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2015-12-29.

Display panel including display signal pads and sensing signal pads mounted on the display panel sidewall

Номер патента: US11672151B2. Автор: Seung Ho Baek. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-06.

Microelectronic components including metal pillars secured to bond pads, and related methods, assemblies, and systems

Номер патента: US11869862B2. Автор: Shams U. Arifeen,Christopher Glancey,Koustav Sinha. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Electronic Device with First and Second Contact Pads and Related Methods

Номер патента: US20160372406A1. Автор: Jing-en Luan. Владелец: STMicroelectronics Shenzhen R&D Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-22.

Semiconductor device with air gap below landing pad and method for forming the same

Номер патента: US11894304B2. Автор: Chih-Tsung WU. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Semiconductor package having dummy pads and method of manufacturing semiconductor package having dummy pads

Номер патента: US20220173044A1. Автор: JONGHO LEE,Wonjae LEE,Sangwon Kim,Dae-woo Kim,Un-Byoung Kang,Hae-jung Yu,Young Kun JEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-06-02.

Bond Pad and Clip Configuration for Packaged Semiconductor Device

Номер патента: US20190371711A1. Автор: Chuan Cheah,Eung San Cho,Jobelito Anjao Guanzon. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2019-12-05.

Semiconductor device with air gap below landing pad and method for forming the same

Номер патента: US20240006321A1. Автор: Chih-Tsung WU. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Methods of adding pads and one or more interconnect layers to the passivated topside of a wafer including connections to at least a portion of the integrated circuit pads thereon

Номер патента: US8476630B2. Автор: Morgan T. Johnson. Владелец: Advanced Inquiry Systems Inc. Дата публикации: 2013-07-02.

Light emitting element package with thin film pad and manufacturing method thereof

Номер патента: US20190348591A1. Автор: Seung Hyun Oh,Hyo Gu Jeon,Chi Gyun Song,Jung Hye PARK. Владелец: Lumens Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-14.

Semiconductor memory device having transistors between bonding pads and word lines

Номер патента: US11929352B2. Автор: Hiroshi Maejima,Takashi Maeda,Masumi SAITOH,Tetsuaki Utsumi,Toshifumi Hashimoto. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-12.

Bond pad and clip configuration for packaged semiconductor device

Номер патента: US10692801B2. Автор: Chuan Cheah,Eung San Cho,Jobelito Anjao Guanzon. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2020-06-23.

Wafer with scribe lanes comprising external pads and/or active circuits for die testing

Номер патента: WO2007036867A3. Автор: Hervé Marie,Sofiane Ellouz. Владелец: Sofiane Ellouz. Дата публикации: 2007-07-19.

Programmable fuse with single fuse pad and control methods thereof

Номер патента: US11978701B2. Автор: Bo Zhou. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Semiconductor die including diffusion barrier layers embedding bonding pads and methods of forming the same

Номер патента: US20210375791A1. Автор: Noriaki Oda,Teruo OKINA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-12-02.

Methods of adding pads and one or more interconnect layers to the passivated topside of a wafer including connections to at least a portion of the integrated circuit pads thereon

Номер патента: US20130337587A1. Автор: Morgan T. Johnson. Владелец: Advanced Inquiry Systems Inc. Дата публикации: 2013-12-19.

Semiconductor package having dummy pads and method of manufacturing semiconductor package having dummy pads

Номер патента: US20210005553A1. Автор: JONGHO LEE,Wonjae LEE,Sangwon Kim,Dae-woo Kim,Un-Byoung Kang,Hae-jung Yu,Young Kun JEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-07.

Semiconductor structure containing multilayer bonding pads and methods of forming the same

Номер патента: US20210296269A1. Автор: Fei Zhou,Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Adarsh RAJASHEKHAR. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-09-23.

Method for producing a metallization having two multiple alternating metallization layers for at least one contact pad and semiconductor wafer having said metallization for at least one contact pad

Номер патента: US20120080794A1. Автор: Victor Sidorov,Joachim Wuerfl,Rimma Zhytnytska. Владелец: Forschungsverbund Berlin FVB eV. Дата публикации: 2012-04-05.

Electronic device with first and second contact pads and related methods

Номер патента: US20160111354A1. Автор: Jing-en Luan. Владелец: STMicroelectronics Shenzhen R&D Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-21.

Display device including a wiring pad and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230207573A1. Автор: Ji Woong Choi,Han Bum KWON. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-29.

Methods of adding pads and one or more interconnect layers to the passivated topside of a wafer including connections to at least a portion of the integrated circuit pads thereon

Номер патента: US20120156811A1. Автор: Morgan T. Johnson. Владелец: Advanced Inquiry Systems Inc. Дата публикации: 2012-06-21.

Electronic device with die pad and leads, and method of manufacturing

Номер патента: US11404356B2. Автор: Yoshio Higashida,Katsutoki Shirai. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2022-08-02.

Electronic device with die pads and leads

Номер патента: US12021010B2. Автор: Yoshio Higashida,Katsutoki Shirai. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2024-06-25.

Polishing pad, polishing method and polishing system

Номер патента: US20130017766A1. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-17.

POLISHING PAD, POLISHING SYSTEM AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20170036319A1. Автор: Chen Ko-Wen,Yu Shih-Ming. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2017-02-09.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US20020098778A1. Автор: Masayuki Takashima,Kazumasa Ueda. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-25.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: KR970005529A. Автор: 노부오 하야사카,렘페이 나카타,히사시 가네코,다케시 니시오카,요시쿠니 다케야마,유타카 나카노,야스타카 사사키. Владелец: 니시무로 타이조. Дата публикации: 1997-02-19.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: JPH11277407A. Автор: Hideharu Nakajima,英晴 中嶋. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-10-12.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: JP3329644B2. Автор: 佳邦 竪山,泰孝 佐々木,伸夫 早坂,岳 西岡,尚史 金子,錬平 中田,裕 中野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-09-30.

Polishing pad fixing mechanism and polishing machine

Номер патента: CN112828748B. Автор: 赵欣,李劲劲,曹文会. Владелец: National Institute of Metrology. Дата публикации: 2022-03-08.

Polishing pad dressing device and polishing equipment

Номер патента: CN113458972A. Автор: 李伟,刘福强,杨宽,史霄,舒福璋. Владелец: Beijing Semicore Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-01.

Method of forming metal contact pads and terminals on semiconductor chips

Номер патента: US5137845A. Автор: Georges Robert,Henri Lochon. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1992-08-11.

Semiconductor device with test pads and pad connection unit

Номер патента: US8198627B2. Автор: Woo-Seop Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-06-12.

Contact pad and bump pad arrangement for high-lead or lead-free bumps

Номер патента: US20060220244A1. Автор: Mirng-Ji Lii,Chung Wang,Hsin-Hui Lee,Szu Lu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Wiring substrate having metal post offset from conductor pad and method for manufacturing wiring substrate

Номер патента: US11935822B2. Автор: Yoji Sawada,Isao Ohno,Kazuhiko Kuranobu,Tomoya DAIZO. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Touch pad and method for manufacturing the same, touch display device

Номер патента: US20220147188A1. Автор: Zhao Dong,Le Li,Baoran Li,Bisheng Li,Qidi Wu. Владелец: Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Device and method for limiting the extent to which circuits in integrated circuit dice electrically load bond pads and other circuit nodes in the dice

Номер патента: US20010026185A1. Автор: Joseph Sher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-04.

Semiconductor device with spacer over sidewall of bonding pad and method for preparing the same

Номер патента: US20210118830A1. Автор: Tse-Yao Huang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Bonded assembly containing different size opposing bonding pads and methods of forming the same

Номер патента: WO2023154079A1. Автор: Peter Rabkin,Masaaki Higashitani,Lin Hou. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2023-08-17.

Semiconductor chip including chip pad, redistribution wiring test pad, and redistribution wiring connection pad

Номер патента: US11705376B2. Автор: Chan-Ho Lee,Hyun-Soo Chung,Myeong-Soon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-18.

Semiconductor chip including chip pad, redistribution wiring test pad, and redistribution wiring connection pad

Номер патента: US11189535B2. Автор: Chan-Ho Lee,Hyun-Soo Chung,Myeong-Soon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-11-30.

Semiconductor chip including chip pad, redistribution wiring test pad, and redistribution wiring connection pad

Номер патента: US20220059417A1. Автор: Chan-Ho Lee,Hyun-Soo Chung,Myeong-Soon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-02-24.

Semiconductor chip including chip pad, redistribution wiring test pad, and redistribution wiring connection pad

Номер патента: US20200266114A1. Автор: Chan-Ho Lee,Hyun-Soo Chung,Myeong-Soon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-08-20.

Semiconductor chip including chip pad, redistribution wiring test pad, and redistribution wiring connection pad

Номер патента: US20170011976A1. Автор: Chan-Ho Lee,Hyun-Soo Chung,Myeong-Soon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-01-12.

Semiconductor device having conductive pads and a method of manufacturing the same

Номер патента: US20140131862A1. Автор: Chen-Shien Chen,Chen-Cheng Kuo,Tzuan-Horng LIU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-05-15.

Display device having a plurality of main pads, a plurality of redundant pads, and a light-emitting device in a display area

Номер патента: US12021179B2. Автор: Tsung-Han Tsai,Kuan-Feng Lee,Yuan-Lin Wu,Jia-Yuan Chen. Владелец: Innolux Corp. Дата публикации: 2024-06-25.

Integrated circuit package in which impendance between signal pads and signal lines is matched by reducing the size of a ground plane

Номер патента: US5331204A. Автор: Masao Kuroda,Ryuji Imai,Toshiya Asano. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 1994-07-19.

Densifying and polishing glass layers

Номер патента: US5217566A. Автор: Roger Patrick,Nicholas F. Pasch. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1993-06-08.

Modification method of anode for hydrogen production via electrolysis, anode for hydrogen production via electrolysis and use

Номер патента: US11987895B2. Автор: Zhongfeng Wang,Wenwen Xu,Zhiyi LU. Владелец: Ningbo Institute of Material Technology and Engineering of CAS. Дата публикации: 2024-05-21.

Flexible Charging Pad and Manufacturing Method Thereof

Номер патента: AU2021100802A4. Автор: Ho-Lung Lu,Shih-Wei Pan. Владелец: Dexin Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Flexible charging pad and manufacturing method thereof

Номер патента: US11990787B2. Автор: Ho-Lung Lu,Shih-Wei Pan. Владелец: Dexin Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Surface modification method of calcite

Номер патента: US09683104B2. Автор: Seung Woo Lee,Young Nam Jang,Chi Wan Jeon,Soo Chun Chae,Jun Hwan Bang,Kyung Sun Song. Владелец: Korea Institute of Geoscience and Mineral Resources KIGAM. Дата публикации: 2017-06-20.

Magnetic Pad And Countertop Combination System

Номер патента: US20170169925A1. Автор: Daniel T. Cordero. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-06-15.

Circuit board assembly with pads and connection lines having same resistance value as the pads and impedance matching method

Номер патента: US20150034375A1. Автор: Kai-Wen Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-05.

Circuit board assembly with pads and connection lines having same resistance value as the pads and impedance matching method

Номер патента: US20130269983A1. Автор: Kai-Wen Wu. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2013-10-17.

Immune cell modification method and cell modification device

Номер патента: EP2098589A3. Автор: Ute Dr. Steinfeld,Hyeck-Hee Dr. Lee. Владелец: Korea Institute of Science and Technology Europe Forschungs GmbH. Дата публикации: 2010-04-07.

Antenna apparatus, electronic apparatus and antenna modification method

Номер патента: US20190229755A1. Автор: Chao-Lin Wu,Yen-Hao Yu,Shih-Chia Liu,Li-Chun Lee,Jhin-Ciang Chen,Jui-Hung Lai. Владелец: Compal Electronics Inc. Дата публикации: 2019-07-25.

Modified lithium-rich manganese-based material, modification method of lithium-rich manganese-based material, secondary battery, and electrical device

Номер патента: EP4358182A1. Автор: Dong Zhao,QI Wu,Qiang Chen,Chongheng SHEN,Bangrun WANG,Jingpeng Fan. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-24.

Additive manufacturing apparatus and modification method therefor

Номер патента: EP3731598A2. Автор: Shinya Imano,Shigenobu Eguchi. Владелец: Mitsubishi Power Ltd. Дата публикации: 2020-10-28.

Friction material for brake pads and related brake pads

Номер патента: EP3011197A1. Автор: Fabio Corazza,Roberta Alfani,Flavio Rampinelli,Andrea Bonfanti,Laura SAMMARELLI,Paolo VAROTTO,Arianna BELOTTI. Владелец: Freni Brembo Spa. Дата публикации: 2016-04-27.

Printed circuit board having a circular signal pad surrounded by a ground pad and at least one recess section disposed therebetween

Номер патента: US09980370B2. Автор: Kazuhiro Kashiwakura. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Surface modification method of titanium-molybdenum-zirconium metastable beta-titanium alloy

Номер патента: LU500216B1. Автор: Zhijun Guo,Bianyun Cai,Chunchun Sun. Владелец: Univ China Mining. Дата публикации: 2021-11-29.

Friction material for brake pads and related brake pads

Номер патента: US09810277B2. Автор: Fabio Corazza,Roberta Alfani,Flavio Rampinelli,Andrea Bonfanti,Laura SAMMARELLI,Paolo VAROTTO,Arianna BELOTTI. Владелец: Freni Brembo Spa. Дата публикации: 2017-11-07.

Polypeptide or protein directional modification method based on sulfhydryl-alkenyl azide coupling

Номер патента: US20230382946A1. Автор: YING Zhou,Yong Wang,Jia GUO,Mingxing Ouyang,Mei-Hua Shen,Hua-Dong Xu,Yu-Jiao Wang,Xiao-Qian Liu,Linhong Deng. Владелец: CHANGZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-11-30.

Impurity removal and modification method for pyrolysis carbon black of waste tires

Номер патента: US20230242769A1. Автор: Ke Liu,Jie Hu,Lijuan Zhou,Yongxin DUAN,Zhengqing Kong,Yunxiao Liu. Владелец: Qingdao University of Science and Technology. Дата публикации: 2023-08-03.

Cast iron modification method

Номер патента: RU2634103C1. Автор: Александр Михайлович Каркарин,Леонид Геннадьевич Знаменский,Ольга Викторовна Ивочкина. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)". Дата публикации: 2017-10-23.

Modification method for the halloysite mineral and halloysite modified via modification method

Номер патента: EP4196441A2. Автор: Tugba UCAR DEMIR,Adnan ALTAS. Владелец: Esan Eczacibasi Endustriyel Hammaddeler Sanayi Ve Ticaret AS. Дата публикации: 2023-06-21.

Modification method of anode for hydrogen production via electrolysis, anode for hydrogen production via electrolysis and use

Номер патента: US20240084465A1. Автор: Zhongfeng Wang,Wenwen Xu,Zhiyi LU. Владелец: Ningbo Institute of Material Technology and Engineering of CAS. Дата публикации: 2024-03-14.

Surface modification apparatus for alloy steel component, surface modification method for alloy steel component, and method for manufacturing alloy steel component

Номер патента: US20160076130A1. Автор: Keisuke Suzuki,Noriyuki Uematsu,Satoshi Kawagashira. Владелец: FCC Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-17.

Aluminum alloy wheel hub and surface high-energy composite modification method therefor

Номер патента: NL2035838A. Автор: Chen Junying,Sun Jie,XU Zhilong,Jiang Qingshan,Liu Liehua,Chen Xiuyu,Lin Yuru. Владелец: Univ Jimei. Дата публикации: 2024-04-18.

Surface modification method of mg-al-ca based alloy

Номер патента: EP4071272A1. Автор: Akihiro Tanaka,Hiroki Mori,Takayuki Takahashi,Yoshihito Kawamura,Michiaki Yamasaki. Владелец: Kumamoto University NUC. Дата публикации: 2022-10-12.

Aluminum alloy wheel hub and surface high-energy composite modification method therefor

Номер патента: NL2035838B1. Автор: Chen Junying,Sun Jie,XU Zhilong,Jiang Qingshan,Liu Liehua,Chen Xiuyu,Lin Yuru. Владелец: Univ Jimei. Дата публикации: 2024-05-08.

New monoazo disperse dyestuffs of the azobenzene series and their use in dyeing, padding and printing polyester fibers

Номер патента: GB952468A. Автор: Curt Mueller,Urs Lerch. Владелец: SANDOZ AG. Дата публикации: 1964-03-18.

Display for multi-function key pad and electronic device having the same

Номер патента: US20090066655A1. Автор: Kyongdo Kim,Hyunah Jang,Hyungjun Namgung,Woojong Lee. Владелец: Samsung Mobile Display Co Ltd. Дата публикации: 2009-03-12.

Composite pad and battery module including the same

Номер патента: US20240097235A1. Автор: So Mi Lee,Jeong Tae Hwang,You Kyung PARK,Sang Gi SHIM. Владелец: SK On Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Composite Pad and Battery Module Including the Same

Номер патента: US20230198047A1. Автор: Jung Hyun Seo,Ju Young Choi,Jeong Tae Hwang,Eun Sam CHO. Владелец: SK On Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Modification method of surface layer of molded resin article, and modification apparatus of surface layer of molded resin article

Номер патента: EP1944332A3. Автор: Junji Tominaga,Tetsuo Moriya,Takashi Hiraga,Nobufumi Atoda,Qiying Chen,N. Dainichiseika C. & Chem. Mfg. Co. Ltd. Tanaka,H. Dainichiseika C. & Mfg. Co. Ltd. Yanagimoto,Ichiro ictor Company of Japan Ltd. Ueno,Koji Victor Company of Japan Ltd. TSUJITA. Владелец: Dainichiseika Color and Chemicals Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-21.

Flexible charging pad and manufacturing method thereof

Номер патента: US20220103001A1. Автор: Ho-Lung Lu,Shih-Wei Pan. Владелец: Dexin Corp. Дата публикации: 2022-03-31.

Process for dyeing, padding and printing of synthetic fibers with monoazo dyestuffs of a diazotized aminobenzene and aminophenylmethylpyrazolone

Номер патента: US3619107A. Автор: Helmut Lindner,Heinz Schmidt,Hans Schladetsch,Erich Brenneisen. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1971-11-09.

Monitor pad and body status monitoring system

Номер патента: US20220378374A1. Автор: Bosen Zhao. Владелец: Goertek Inc. Дата публикации: 2022-12-01.

Waxless composition for cleaning and polishing acrylic and glass surfaces

Номер патента: CA2198813A1. Автор: Jean Dagenais. Владелец: VERRE LE FUTUR Inc. Дата публикации: 1998-08-28.

Solutions and creams for silver plating and polishing

Номер патента: CA1300318C. Автор: Lawrence M. Perovetz,Jack Pickthall (Deceased). Владелец: PICKTHALL, TERENCE. Дата публикации: 1992-05-12.

Polyurethane polishing pad

Номер патента: US09731398B2. Автор: Benson Lee,Bainian Qian,Raymond L. Lavoie, JR.,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010019937A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Polishing pad, polishing pad tile and method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2009025533A2. Автор: Yang-Soo Park,Won-Joon Kim. Владелец: Kolon Industries, Inc. Дата публикации: 2009-02-26.

Polishing pad, polishing pad tile and method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2009025533A3. Автор: Yang-Soo Park,Won-Joon Kim. Владелец: Won-Joon Kim. Дата публикации: 2009-04-30.

Polishing pad with endpoint detection window

Номер патента: US20240253177A1. Автор: Lee Melbourne Cook,Hyunjin Kim,Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240316721A1. Автор: Masamitsu Kimura,Koshiro Suzuki,Hideji HORITA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Method and apparatus for supporting a polishing pad during chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006879A1. Автор: Michael Walker,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Non-planar glass polishing pad and method of manufacture

Номер патента: US09440326B2. Автор: James Anderson,Scott B. Daskiewich,Brent MUNCY,George James Wasilczyk. Владелец: JH RHODES CO Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Polishing pad with hybrid cloth and foam surface

Номер патента: US09687964B2. Автор: David Givens. Владелец: Showroom Polishing Systems LLC. Дата публикации: 2017-06-27.

Sloped polishing pad with hybrid cloth and foam surface

Номер патента: US09682461B2. Автор: David Givens. Владелец: Showroom Polishing Systems LLC. Дата публикации: 2017-06-20.

Vacuum cleaning systems for polishing pads, and related methods

Номер патента: US09452506B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Polishing pad and wafer notch polishing method

Номер патента: US20240293911A1. Автор: Takashi Ueno,Takatoshi Hattori,Takamasa Goto,Masatoshi Kishimoto,Sari SHOJI. Владелец: Bbs Kinmei Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Polishing pad and wafer polishing method

Номер патента: US20240293915A1. Автор: Takatoshi Hattori,Takamasa Goto,Masatoshi Kishimoto,Sari SHOJI. Владелец: Bbs Kinmei Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of monitoring a dressing process and polishing apparatus

Номер патента: US09808908B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Polishing pad window

Номер патента: US09475168B2. Автор: Ethan Scott Simon,Bainian Qian,George C. Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical-mechanical polishing pad conditioning system

Номер патента: US20110244764A1. Автор: Nannaji Saka,Jung-Hoon Chun,Thor Eusner. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2011-10-06.

Method for manufacturing polishing pad and polishing pad

Номер патента: US09862071B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Lyang-Gung Wang. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Pad temperature adjustment apparatus for adjusting temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: US20190193237A1. Автор: Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-06-27.

Polishing pads with interconnected pores

Номер патента: WO2022265826A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Ultra high void volume polishing pad with closed pore structure

Номер патента: WO2015027026A1. Автор: Robert Vacassy,George Fotou,Achla Khanna. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2015-02-26.

Single surface polishing device, single surface polishing method, and polishing pad

Номер патента: EP4180178A1. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-17.

Single-side polishing apparatus, single-side polishing method, and polishing pad

Номер патента: US20230330804A1. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: GB9902373D0. Автор: . Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-24.

Detection of diamond contamination in polishing pad and reconditioning system therefor

Номер патента: US20060166607A1. Автор: Laertis Economikos,John Fitzsimmons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09669518B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Wen-Chieh Wu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Polishing pad and method for manufacturing same

Номер патента: SG11201407257TA. Автор: Bong-su Ahn,Sang-Mok Lee,Jang-Won SEO,Seung-geun Kim,Hak-Su Kang,Jeong-Seon CHOO,Kee-Cheon Song,Jin-Su Jeong,Young-Jun Jang,Gyoung-Pyo Kong. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2014-12-30.

A polishing pad and method of producing the same

Номер патента: EP1792330A1. Автор: Alex Cooper,Yevgeny Bederak. Владелец: Universal Photonics Inc. Дата публикации: 2007-06-06.

Polishing pad, and polishing method

Номер патента: EP4282588A1. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20190099860A1. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240131654A1. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240227119A9. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09884400B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Wen-Chieh Wu,Hsin-Ru Song. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Composite polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09682457B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Wen-Chieh Wu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Polishing layer of polishing pad and method of forming the same and polishing method

Номер патента: US09969049B2. Автор: Kun-Che Pai,Yu-Hao Pan. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Split-window CMP polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20190210184A1. Автор: Siqi Song. Владелец: Chengdu Times Live Science And Technology Co ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20240208002A1. Автор: Keita Yagi,Masaki Kinoshita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Polishing device and polishing method

Номер патента: US09999956B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki,Shintaro Isono. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-06-19.

Dressing apparatus, polishing apparatus having the dressing apparatus, and polishing method

Номер патента: US09855638B2. Автор: Satoshi Nagai,Suguru Ogura,Kaoru Hamaura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Method and apparatus for measuring a change in the thickness of polishing pads used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5609718A. Автор: Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030027500A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2003-02-06.

Detection of diamond contamination in polishing pad and reconditioning system therefor

Номер патента: US7473159B2. Автор: Laertis Economikos,John Fitzsimmons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-06.

Polishing pad for wafer polishing apparatus and manufacturing method therefor

Номер патента: EP3708299A1. Автор: Jin Woo Ahn. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-16.

Processing system, pad transporting apparatus, liquid-receiving apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: US20240082982A1. Автор: Kenichiro Saito,Makoto Fukushima,Toshiki Miyakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Polishing pad with endpoint window

Номер патента: US20240253176A1. Автор: Hyunjin Kim,Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US09833876B2. Автор: I-Pin CHAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Polishing pad cleaning with vacuum apparatus

Номер патента: US09498866B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Tianyu YANG,Thomas Ho Fai LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Polishing pad having micro-grooves on the pad surface

Номер патента: WO2008011535A3. Автор: David Adam Wells,Marc C Jin,Oscar K Hsu,John Erik Aldeborgh. Владелец: John Erik Aldeborgh. Дата публикации: 2008-10-02.

Surface property measuring system, surface property measuring method, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20240075580A1. Автор: Toshifumi Kimba,Kohei Ota,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Container for drying and storing polishing pads

Номер патента: US20220017262A1. Автор: Jason LAMONT. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-20.

Recycled polishing pad

Номер патента: US11541504B2. Автор: Yoon Ho Kim,Seung Taek Oh,Young Jun Yoo,Bong Su Ahn,Pal Kon Kim,Si Hyeong Kim,Jin Ok Moon. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

Pad-temperature regulating apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: US11839947B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Base pad polishing pad and multi-layer pad comprising the same

Номер патента: EP1715980A1. Автор: Hyun-Woo Lee,Ju-Yeol Lee,Eu-Gene Song,Sung-Min 304-202 Joogong Apt. Gaesin-dong KIM,Jae-Seok 307-1305 Joogong Apt Boonpyung-dong KIM. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-02.

Recycled polishing pad

Номер патента: US20200238472A1. Автор: Yoon Ho Kim,Seung Taek Oh,Young Jun Yoo,Bong Su Ahn,Pal Kon Kim,Si Hyeong Kim,Jin Ok Moon. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Method of using polishing pad

Номер патента: US11691243B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-04.

Methods of cleaning cmp polishing pads

Номер патента: US20180169830A1. Автор: Charles J. Benedict,Aaron E. Lorin,Ryan Bortner. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Method of using polishing pad

Номер патента: US12070833B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

CMP polishing pad backside modifications for advantageous polishing results

Номер патента: US5913713A. Автор: Matthew J. Rutten,Terrance M. Wright,John E. Cronin,Roger W. Cheek,Douglas P. Nadeau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-06-22.

Method of adhering polishing pads and jig for adhering the same

Номер патента: MY137884A. Автор: Yoshio Nakamura. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2009-03-31.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods for making and using such pads and machines

Номер патента: US6361832B1. Автор: Scott G. Meikle,Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Method of making cleaning, scouring and/or polishing pads and the improved pad produced thereby

Номер патента: CA1058812A. Автор: Heinz Kalbow. Владелец: Collo GmbH. Дата публикации: 1979-07-24.

Apparatus for distributing a fluid through a polishing pad

Номер патента: US20030027506A1. Автор: Stephen Schultz,John Herb. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2003-02-06.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Polishing pad, manufacturing method of polishing pad and polishing method

Номер патента: US11850701B2. Автор: Yu-Piao Wang,Liang-Chi Tu. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Removable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124176A1. Автор: Leonard J. Borucki. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2009-05-14.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process

Номер патента: US11772229B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Polishing pad for wafer polishing device, and apparatus and method for manufacturing same

Номер патента: US20230040654A1. Автор: Jin Woo Ahn,Soo Cheon JANG. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Heat exchanger for regulating surface temperature of a polishing pad, polishing apparatus, polishing method, and medium storing computer program

Номер патента: US20180236631A1. Автор: Toru Maruyama,Yohei Eto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Polishing pad having a pressure relief channel

Номер патента: US20050281983A1. Автор: Robert Gamble,T. Crkvenac,Jason Lawhorn. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-12-22.

Polishing pad and surface polishing method

Номер патента: MY124043A. Автор: Nakamura Koji,ITO Yasushi,Ichino Mitsuyoshi,Ishizawa Yoshiaki,Shimobayashi Takahiro,Ikemori Gosuke,Fujisawa Yuichiro. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-30.

Polishing pads formed using an additive manufacturing process and methods related thereto

Номер патента: WO2020153979A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-30.

Conditioning wheel for polishing pads

Номер патента: US20190358771A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Polishing pads formed using an additive manufacturing process and methods related thereto

Номер патента: EP3797015A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-31.

Polishing pad comprising magnetically sensitive particles and method for the use thereof

Номер патента: EP1915234A2. Автор: Ronald Legal Dept. Cabot Microelec. Corp. MYERS,Abaneshwar Legal Dept. Cabot Microelec. Corp. PRASAD. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-04-30.

Method of fabricating a polishing pad having an optical window

Номер патента: US20030084774A1. Автор: KYLE David. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2003-05-08.

Method of fabricating a polishing pad having an optical window

Номер патента: WO2003039812A1. Автор: Kyle W. David. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2003-05-15.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US09956669B2. Автор: Toshiro Doi,Masataka Takagi,Kiyoshi Seshimo,Hiroshi Kashiwada. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Polishing pad with grooved foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US09931729B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Polishing pad, methods of manufacturing and use

Номер патента: US6090475A. Автор: Karl M. Robinson,Michael A. Walker,John K. Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-18.

Material for use in carrier and polishing pads

Номер патента: US6607428B2. Автор: Robert D. Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-19.

Polishing pad cluster for polishing a semiconductor wafer

Номер патента: US5575707A. Автор: Homayoun Talieh,David E. Weldon. Владелец: Ontrak Systems Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Polishing pads with interconnected pores

Номер патента: US11951590B2. Автор: Rajeev Bajaj,Ashwin CHOCKALINGAM,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Jason Garcheung Fung,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Polishing pads for high temperature processing

Номер патента: US11911870B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,You Wang,Yingdong Luo,Aniruddh Jagdish KHANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Polishing pad, manufacturing method of polishing pad and polishing method

Номер патента: US20190321936A1. Автор: Yu-Piao Wang,I-Ping Chen. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof

Номер патента: IL185099A. Автор: . Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2013-11-28.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad and polishing apparatus

Номер патента: US20230226661A1. Автор: Hsien-Chang Hung,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Lyang-Gung Wang,Hsin-Ru Song,Jeng Yi Wu,Chi Che Huang. Владелец: BESTAC ADVANCED MATERIAL Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Device for conditioning polishing pads

Номер патента: US5486131A. Автор: Joseph V. Cesna,Anthony G. Van Woerkom. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1996-01-23.

Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof

Номер патента: WO2006089293A1. Автор: Pradip K. Roy,Manish Deopura,Sudhanshu Misra. Владелец: Neopad Technologies Corporation. Дата публикации: 2006-08-24.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Method and apparatus for conditioning a polish pad and for dispensing slurry

Номер патента: WO2001091974A1. Автор: Albert H. Liu,Nelson W. Ii White. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-12-06.

Polishing pads having improved pore structure

Номер патента: WO2022245404A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Sudhakar Madhusoodhanan,Mayu YAMAMURA,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Sebastian David ROZO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-24.

Polishing table and polishing apparatus having the same

Номер патента: US20180345447A1. Автор: Kenichiro Saito,Ryuichi Kosuge. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Retainer ring, polish apparatus, and polish method

Номер патента: US20150183082A1. Автор: Dai Fukushima,Takashi Watanabe,Jun Takayasu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-07-02.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: MY122396A. Автор: Hisashi Masumura,Kiyoshi Suzuki,Teruaki Fukami. Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2006-04-29.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: WO2001049453A1. Автор: Alex Finkelman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2001-07-12.

Hand-held power tool, axial holding arrangement and polishing pad for such a power tool

Номер патента: EP4450222A1. Автор: Andrea Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-23.

Hand-held power tool, axial holding arrangement and polishing pad for such a power tool

Номер патента: US20240351160A1. Автор: Andrea Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-24.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US09931728B2. Автор: Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Method of manufacturing polishing pad having detection window and polishing pad having detection window

Номер патента: US09707662B2. Автор: Kun-Che Pai,Shiuan-Tzung Li,Chao-Chin Wang,Wei-Wen Yang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Retainer ring, polish apparatus, and polish method

Номер патента: US09539696B2. Автор: Dai Fukushima,Takashi Watanabe,Jun Takayasu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Conductive chemical mechanical planarization polishing pad

Номер патента: US09415479B2. Автор: Hsin-Hsien Lu,Chang-Sheng Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Lifetime self-indicated polishing pad

Номер патента: GB2345657B. Автор: Hsueh-Chung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-08-15.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Polishing pad having a tricot mesh faberic as a base

Номер патента: US20110195646A1. Автор: Myung Mook Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-11.

CMP polishing pad

Номер патента: US6217426B1. Автор: Gopalakrishna B. Prabhu,Steven T. Mear,Robert D. Tolles,Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-17.

CMP of a circlet wafer using disc-like brake polish pads

Номер патента: US6099387A. Автор: Mark I. Gardner,Mark C. Gilmer. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-08-08.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing pad conditioning system and method of using

Номер патента: US20240009801A1. Автор: Wen Yen Kung. Владелец: TSMC Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Method for estimating life of polishing pad and polishing device

Номер патента: US20230381910A1. Автор: Kenichiro Saito,Seiji Murata,Ban ITO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Method of using polishing pad

Номер патента: US20230339068A1. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Method for producing substrate, method for producing magnetic disk, and polishing apparatus

Номер патента: WO2020198761A1. Автор: Luong NGUYEN TAI. Владелец: Hoya Glass Disk Vietnam Ltd.. Дата публикации: 2020-10-01.

Polishing pad installation tool

Номер патента: US20020081958A1. Автор: Bernard Foster. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-27.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Polishing pads and methods relating thereto

Номер патента: US6354915B1. Автор: Lee Melbourne Cook,David B. James,Arthur Richard Baker. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-03-12.

Polishing pads and methods relating thereto

Номер патента: US6843712B2. Автор: Lee Melbourne Cook,David B. James,John H. V. Roberts. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-01-18.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Polishing pad with controlled abrasion rate

Номер патента: US5297364A. Автор: Mark E. Tuttle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-03-29.

Device and method for moistening a polishing pad

Номер патента: WO2023242481A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US11872671B2. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Polishing pad

Номер патента: EP1536920B1. Автор: Markus c/o P & M NAUJOK. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-12.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US11524389B2. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-13.

Two step curing of polishing pad material in additive manufacturing

Номер патента: US20180079147A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Nag B. Patibandla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20200262027A1. Автор: Akira Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240253178A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

An optimized grooving structure for a cmp polishing pad

Номер патента: WO2006026271A1. Автор: Peter Renteln. Владелец: J. H. Rhodes, Inc.. Дата публикации: 2006-03-09.

Polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: US20010055939A1. Автор: Robert Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-12-27.

A polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: WO2000034008A9. Автор: Robert D Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-29.

Method of manufacturing a polishing pad using a beam

Номер патента: US20020144985A1. Автор: Frank Miceli,Annette Crevasse,William Easter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Method and a system for evaluating the physical consumption of a polishing pad of a cmp apparatus, and cmp apparatus

Номер патента: US20210402559A1. Автор: Renato CORETTI,Simone RIZZARDINI,Valentina ROBBIANO. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2021-12-30.

Polishing pad with endpoint window

Номер патента: US20240253175A1. Автор: Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: EP4431236A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Polishing pad dresser, polishing apparatus and polishing pad dressing method

Номер патента: US09849558B2. Автор: Dai Fukushima,Takayuki Nakayama. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Homogeneous polishing pad for eddy current end-point detection

Номер патента: US09597777B2. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Richard Frentzel. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Device for cleaning fixed abrasives polishing pad

Номер патента: US09475170B2. Автор: FENG CHEN. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate

Номер патента: US5628862A. Автор: Chris C. Yu,Tat-Kwan Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1997-05-13.

Polishing pad with grooved foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US9067298B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2015-06-30.

Methods and systems for monitoring a parameter of a measurement device during polishing, damage to a specimen during polishing, or a characteristic of a polishing pad or tool

Номер патента: US20030180973A1. Автор: Kurt Lehman,Charles Chen,Robert Shinagawa,Anantha Sethuraman,Thanassis Trikas,Haiguang Chen,Ronald Allen,Christopher Bevis,Ching Meng. Владелец: KLA Tencor Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-25.

Polishing pad and system

Номер патента: CA2441383C. Автор: Robert Piombini. Владелец: Saint Gobain Abrasives Inc. Дата публикации: 2006-01-24.

Optical connector polishing pad

Номер патента: US20220219280A1. Автор: Kenji Aoki,Naoki Sugita,Masaaki Konishi. Владелец: NTT Advanced Technology Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Deformable non-cellular polyurethane polishing wheel

Номер патента: US4150955A. Автор: Ivar J. Samuelson. Владелец: Manufacturers Brush Co. Дата публикации: 1979-04-24.

Polishing pads with improved planarization efficiency

Номер патента: WO2023219783A1. Автор: Ashwin CHOCKALINGAM,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-16.

Polishing pads with improved planarization efficiency

Номер патента: US20230364735A1. Автор: Ashwin CHOCKALINGAM,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Polishing pad, polishing apparatus, and method for making the polishing pad

Номер патента: US20170297165A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Kun-Cheng Tsai. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Polishing pad conditioner equipped polishing pad life time detecting device and polishing pad life time detecting method

Номер патента: KR20070028191A. Автор: 이창섭. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2007-03-12.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: CA2305106C. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2008-07-08.

Polishing pad design

Номер патента: US6887131B2. Автор: Paul Fischer,Sadasivan Shankar,Lei Jiang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-05-03.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: US6656018B1. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2003-12-02.

Window in thin polishing pad

Номер патента: US11826875B2. Автор: Yongqi Hu,Kadthala Ramaya Narendrnath,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Intelligent analysis system for measuring signals of polishing pad surface, method and computer readable medium thereof

Номер патента: US20230211451A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Conditioning wheel for conditioning a semiconductor wafer polishing pad and method of manufacture thereof

Номер патента: US20020106829A1. Автор: Jose Rodriguez,Arun Nanda,Charles Storey,Laurence Schultz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: AU2020387657A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-05-26.

Polishing pad conditioning apparatus

Номер патента: US20210060727A1. Автор: Shih-Chung Chen,Hung-Lin Chen,Cheng-Ping Chen,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Polishing pad conditioning apparatus

Номер патента: US20230234184A1. Автор: Shih-Chung Chen,Hung-Lin Chen,Cheng-Ping Chen,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Polishing pad for wafer polishing apparatus

Номер патента: US20200078901A1. Автор: Seung Won Lee. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

CMP polishing pad with enhanced rate

Номер патента: US12138737B2. Автор: Mohammad T. Islam. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Holdings Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Method for producing laminated polishing pad

Номер патента: US09457452B2. Автор: Yoshiyuki Nakai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: WO2021126470A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

Method of fabricating polishing pad having detection window thereon

Номер патента: US7875335B2. Автор: Wen-Chang Shih,Yung-Chung Chang,Min-Kuei Chu,Lung-Chen Wei. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-25.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Thin polishing pad with window and molding process

Номер патента: WO2008154185A2. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-12-18.

Method and apparatus for improved conditioning of polishing pads

Номер патента: US5941762A. Автор: Yuli Verhovsky,Michael A. Ravkin,Ilya A. Ravkin. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-24.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: US20240025009A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: US20220390403A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-12-08.

Hydrophilic and zeta potential tunable chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11826876B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Ankit Vora,Sudhakar Madhusoodhanan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: US11813712B2. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Homogeneous polishing pad for eddy current end-point detection

Номер патента: US20120083192A1. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Richard Frentzel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-04-05.

Method for manufacturing glass substrate for information recording medium, method for manufacturing information recording medium, and polishing pad

Номер патента: MY175952A. Автор: Komatsu Takafumi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Microreplicated polishing pad including fluorinated polymer window

Номер патента: WO2023126854A1. Автор: QIN Lin,Craig R. Hoff,Matthew J. TRIEMERT,Duy K. LEHUU,David J. MURADIAN,Alexander W. SIMPSON. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2023-07-06.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: EP1210209A4. Автор: John V H Roberts,David B James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-30.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: WO2001012387A1. Автор: John V. H. Roberts,David B. James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2001-02-22.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: WO2021099682A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2021-05-27.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: EP4062162A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-09-28.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: CA3161145A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2021-05-27.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: EP1210209A1. Автор: John V. H. Roberts,David B. James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-05.

Tiltable platform for additive manufacturing of a polishing pad

Номер патента: US20180079152A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Nag B. Patibandla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Method of manufacturing a polymer or polymer/composite polishing pad

Номер патента: US20020069591A1. Автор: Paul Yancey. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Polishing pad for endpoint detection and related methods

Номер патента: US9333621B2. Автор: Manoocher Birang,Boguslaw A. Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Apparatus for cleaning and polishing a surface

Номер патента: US5947807A. Автор: Elmo R. Overseth. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-09-07.

Use of abrasive tape conveying assemblies for conditioning polishing pads

Номер патента: US5944585A. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1999-08-31.

Polishing pad, production method for same, and production method for glass substrate

Номер патента: US8979611B2. Автор: Akinori Sato,Nobuyoshi Ishizaka. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-17.

Printing of polishing pads

Номер патента: US20010041511A1. Автор: David James,Craig Lack,Chau Duong. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2001-11-15.

Apparatus and method for polishing a flat surface using a belted polishing pad

Номер патента: US6059643A. Автор: Burford J. Furman,Albert Hu,Mohamed Abushaban. Владелец: Aplex Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Polishing pad

Номер патента: EP1224060B1. Автор: Stanley E. Eppert, Jr.,Alan H. Saikin,Peter W. Freeman,Marco A. Acevedo. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-23.

Multi-layer polishing pad for low-pressure polishing

Номер патента: WO2006081286A2. Автор: Wei Lu,Yan Wang,Yongsik Moon,Alain Duboust,Siew Neo,Antoine Manens,Shou-sung Chang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2006-08-03.

Method of producing polishing pad

Номер патента: US20080047205A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-28.

Polishing pad

Номер патента: US20140154962A1. Автор: Seiji Fukuda,Shigetaka Kasai,Ryoji Okuda,Nana Takeuchi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-06-05.

Ceramic polishing pad dresser and method for fabricating the same

Номер патента: US20070049185A1. Автор: Wei Huang,Yu-Tai Chen,Chou-Chih Tseng,Hsiu-Yi Lin. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2007-03-01.

Polishing method and polishing apparatus for workpiece

Номер патента: US20230311267A1. Автор: Toshifumi Kimba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US12076830B2. Автор: Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Method of making diagram for use in selection of wavelength of light for polishing endpoint detection, method and apparatus for selecting wavelength of light for polishing endpoint detection, polishing endpoint detection method, polishing endpoint detection apparatus, and polishing monitoring method

Номер патента: US20130149938A1. Автор: Yoichi Kobayashi,Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Shinrou Ohta. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2013-06-13.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20240300068A1. Автор: Hiroto Yamada,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Method of creating responsive profile of polishing rate of workpiece, polishing method, and polishing apparatus

Номер патента: US20240198480A1. Автор: Akira Nakamura,Keita Yagi,Satoru Yamaki,Kodai SHIRAKAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Connection apparatus for electrically conductive pads and touch control screen

Номер патента: US09807879B2. Автор: Jun Ma,Zhongshou Huang,Jialing Li. Владелец: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

System for cyber boundary wall using SDN-based zero wall pad and operation method thereof

Номер патента: US12028183B2. Автор: Young Kyu Kim. Владелец: Securea Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Network device and modification method of the connections of at least one user socket to a service

Номер патента: EP2045978A3. Автор: Alberto Piccini. Владелец: BEA Srl. Дата публикации: 2010-07-21.

Display panel including display signal pads and sensing signal pads mounted on the display panel sidewall

Номер патента: US20230263024A1. Автор: Seung Ho Baek. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for forming matching table of inner pads and outer pads and method for matching inner pads with outer pads using the same

Номер патента: US20080044933A1. Автор: Chih-Chiang Lin. Владелец: Wintek Corp. Дата публикации: 2008-02-21.

Method for forming matching table of inner pads and outer pads and method for matching inner pads with outer pads using the same

Номер патента: US7793246B2. Автор: Chih-Chiang Lin. Владелец: Wintek Corp. Дата публикации: 2010-09-07.

Display panel including display signal pads and sensing signal pads mounted on the display panel sidewall

Номер патента: US12022707B2. Автор: Seung Ho Baek. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Charging pad and wireless telephone

Номер патента: US20200259346A1. Автор: Yoshihiro Mizoguchi,Yasushi Kitajima,Yoshihiro Takata,Tadashi Shimotoso,Shunichi Itai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Connection pad and substrate

Номер патента: US12052820B2. Автор: Zongmin LIU,Dongdong Zhang,Feng Qu,Mengjun Hou,Jijing HUANG. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Turbo coding having combined turbo de-padding and rate matching de-padding

Номер патента: US20120063537A1. Автор: Ba-Zhong Shen,Tak K. Lee. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2012-03-15.

Structure of memory module and modification method of memory module

Номер патента: US11778740B2. Автор: Shih-Hsiung Lien. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-10-03.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

Laminated pad and method of manufacturing

Номер патента: US20020088539A1. Автор: Wallace Beaudry. Владелец: Sohn Manufacturing Inc. Дата публикации: 2002-07-11.

Connection modification method applicable to user equipment and base station

Номер патента: US09894519B2. Автор: Chih-Hsiang Wu. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2018-02-13.

Methods for optimizing friction between a pad and a disc in an optical disc restoration device

Номер патента: US09754622B2. Автор: Mariusz Surowaniec,William Olszta,Daniel St. Laurent. Владелец: Venmill Industries Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Bearer Modification Method and Access Network Device

Номер патента: US20220078677A1. Автор: Yu Yin,Caixia Qi,Zhenyu Tao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Packet modification method and apparatus, computer device, and storage medium

Номер патента: US20230336643A1. Автор: FENG Zhou,Hengqi Liu,Jinlin Xu,Tonglei TAN. Владелец: Sanechips Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Bearer modification method and access network device

Номер патента: EP3962164A1. Автор: Yu Yin,Caixia Qi,Zhenyu Tao. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-02.

Hygienic telephone pad and dispenser apparatus

Номер патента: US5396557A. Автор: Matulina Tonci. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-03-07.

Touch pad and display tube circuitry

Номер патента: CA1149088A. Автор: Charles W. Eichelberger,Scott E. Cutler. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1983-06-28.

Foam buffing pad and method of manufacture thereof

Номер патента: US6044512A. Автор: Scott S. McLain,Richard A. Kaiser,David M. Hornby. Владелец: Lake Country Manufacturing Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Connection modification method applicable to base station

Номер патента: US20180146368A1. Автор: Chih-Hsiang Wu. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2018-05-24.

System for cyber boundary wall using sdn-based zero wall pad and operation method thereof

Номер патента: US20230275780A1. Автор: Young Kyu Kim. Владелец: Securea Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Structure of memory module and modification method of memory module

Номер патента: US20230413436A1. Автор: Shih-Hsiung Lien. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of surface renewal of brake discs, abrasive brake pads and manufacturing method thereof

Номер патента: EP4335587A1. Автор: Andrius Malisauskas,Kestutis Pauza. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-13.

Laminated structure with pads and manufacturing method thereof

Номер патента: US20230319991A1. Автор: Chien-Hsun Lee,Tsung-Ding Wang,Chien-Hsun Chen,Hao-Cheng Hou,Jung-Wei CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Optimizing friction between a pad and a disc in an optical disc restoration device

Номер патента: WO2015134960A1. Автор: Mariusz Surowaniec,William Olszta,Daniel St. Laurent. Владелец: Venmill Industries Incorporated. Дата публикации: 2015-09-11.

Charging pad and wireless telephone

Номер патента: US10958090B2. Автор: Yoshihiro Mizoguchi,Yasushi Kitajima,Yoshihiro Takata,Tadashi Shimotoso,Shunichi Itai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-23.

Apparatus for grinding and polishing a welded seam

Номер патента: CA1052576A. Автор: Jorgen Clausen. Владелец: ELEKTROGENO AS. Дата публикации: 1979-04-17.

Improvements in and relating to the grinding and polishing of lenses

Номер патента: GB580110A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1946-08-27.

Improvements in method and apparatus for smoothing and polishing workpieces

Номер патента: GB656686A. Автор: . Владелец: J M NASH CO. Дата публикации: 1951-08-29.

Polishing pad material, method for producing polishing pad, method for producing substrate for magnetic disk, and method for producing magnetic disk

Номер патента: CN110253419B. Автор: 山城祐治,久原巧己. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-08-13.

Substrate modification method

Номер патента: US09995709B2. Автор: Yusuke Nakayama. Владелец: Arkray Inc. Дата публикации: 2018-06-12.

Substrate Modification Method

Номер патента: US20130105316A1. Автор: Yusuke Nakayama. Владелец: Arkray Inc. Дата публикации: 2013-05-02.

Diamond polishing pad caddy

Номер патента: US8091705B1. Автор: David L. McCutchen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-10.

Packaging of "package" type and corresponding modification method of such packaging

Номер патента: RU2698734C1. Автор: Ларс Родман. Владелец: Эколин Аб. Дата публикации: 2019-08-29.

Method and apparatus for the determination of defects during a surface modification method

Номер патента: US12051185B2. Автор: Moritz Martinius,David Mark Newton,Michael Herbert Oelscher,Uemit Yigit. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2024-07-30.

Sealing shaft and sealing shaft member designed, in particular, for manufacture of woman's hygienic pad, and method for manufacture of pad

Номер патента: RU2255865C2. Автор: Ханс-Вернер ШЕЛЛИНГ. Владелец: Джонсон энд Джонсон ГмбХ. Дата публикации: 2005-07-10.

Wood modification method

Номер патента: RU2764925C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Виктор Викторович Климов,Евгений Викторович Брюзгин,Александр Валентинович Навроцкий,Ольга Владимировна Коляганова,Анна Андреевна Рысухина,Светлана Васильевна Киселева,Екатерина Борисовна Брюзгина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2022-01-24.

Glazing with profiled seal and pad and glazing making method

Номер патента: RU2736291C2. Автор: Ромен Гонне,Иоанн Машизо. Владелец: СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС. Дата публикации: 2020-11-13.

Device for locking thrust bearing pad and housing at set of rolls and transfer carriage

Номер патента: RU2496591C2. Автор: Рюдигер ХОЛЬЦ,Конрад ШУНН,Лотар ЦВИНГМАНН,Хольгер ПУЛЬСТ,Арнульф ВУРМ. Владелец: Смс Зимаг Акциенгезелльшафт. Дата публикации: 2013-10-27.

Wood modification method

Номер патента: RU2764926C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Виктор Викторович Климов,Евгений Викторович Брюзгин,Александр Валентинович Навроцкий,Ольга Владимировна Коляганова,Анна Андреевна Рысухина,Екатерина Борисовна Брюзгина,Арина Демьяновна Груданова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2022-01-24.

Stabilizer pad and assembly

Номер патента: AU2021373075A9. Автор: Paul S. PERKINS II. Владелец: Raptor Tech Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Stabilizer pad and assembly

Номер патента: AU2021373075A1. Автор: Paul S. PERKINS II. Владелец: Raptor Tech Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Journal box rubber pad and bogie

Номер патента: US20130008338A1. Автор: Lidong Li,Haibin Hu,Zhenming Liu,Shuming Xing,Pingwei Yin,Chaoyu Li,Weichun Ren. Владелец: Qiqihar Railway Rolling Stock Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-10.

Braking system with brake-by-wire type disc brakes, equipped with dynamic adjustment of the distance between the brake disc and the pads and related method for adjusting the distance between the brake disc and pads in a brake-by-wire type braking system

Номер патента: US20240240683A1. Автор: Alessandro Rossi,Patrick Gruber,Aldo Sorniotti,Matteo Mazzoni,Beniamin Szewczyk,Victor Vidal Munoz,Davide Tavernini. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2024-07-18.

Track runner pad and rear suspension of track vehicle with such pad

Номер патента: RU2631379C1. Автор: Клод БОДУЭН. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ТК АВМ-Трейд". Дата публикации: 2017-09-21.

Die, stamp pad and closing cover

Номер патента: RU2710628C2. Автор: Хельмут Линднер,Бернхард ЗИЛИПП,Бернд ЛАНГЕДЕР. Владелец: ТРОДАТ ГМБХ. Дата публикации: 2019-12-30.

Pad and method of its production

Номер патента: RU2736457C1. Автор: Томас Штрайхардт. Владелец: Фриц Эггер Гмбх Унд Ко. Ог. Дата публикации: 2020-11-17.

Rubber for radial tire repair, method of radial tire repair by application of rubber pad and radial tire thus repaired

Номер патента: RU2545363C1. Автор: Ёсинобу СОЯМА. Владелец: Бриджстоун Корпорейшн. Дата публикации: 2015-03-27.

Bunk board runner padding and underlayment

Номер патента: US11919433B1. Автор: Paul M Engle,Paul J Engle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-03-05.

Methods and apparatus for conformable medical data acquisition pad and configurable imaging system

Номер патента: EP1954196A2. Автор: Karla M. Callahan,Firat Kahraman. Владелец: Vizyontech Imaging Inc. Дата публикации: 2008-08-13.

Reduced Weight Equine Orthotic Pad and Method

Номер патента: US20120279184A1. Автор: Monty L. Ruetenik. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-11-08.

Environmental protection and safety sign pad and manufacturing method thereof

Номер патента: US20080220238A1. Автор: Su-Tuan Hsu Tang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-11.

Environment protective multi-color pad and method of manufacturing the same

Номер патента: US20080220674A1. Автор: Su-Tuan Hsu Tang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-11.

Vibration-based coating layer surface modification method considering boundary layer thickness

Номер патента: US11826777B2. Автор: Kyoung Su Park,Dong Su Park. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Gachon University. Дата публикации: 2023-11-28.

Impact pad, tundish and apparatus including the impact pad, and method of using same

Номер патента: US09643248B2. Автор: Tathagata Bhattacharya. Владелец: ARCELORMITTAL INVESTIGACIÓN Y DESARROLLO SL. Дата публикации: 2017-05-09.

Cap having expanded pad and towing pipe mounted to said cap

Номер патента: US09604513B2. Автор: Dong-Wook Kim,Hyun-Baek Jung. Владелец: Hyundai Motor Co. Дата публикации: 2017-03-28.

Stabilizer pad and handle apparatus

Номер патента: US09550657B2. Автор: Richard Koberg. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-01-24.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: US20150089760A1. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-04-02.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: WO2012012730A1. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Woods Marilyn S. Дата публикации: 2012-01-26.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: US20120021187A1. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-26.

Sensor, sensor pad and sensor array for detecting infrasonic acoustic signals

Номер патента: US20150320323A1. Автор: Peter Bakema,Bret Kline,Gary Stephen,Alan Langston. Владелец: CVR GLOBAL Inc. Дата публикации: 2015-11-12.

Sensor, Sensor Pad and Sensor Array for Detecting Infrasonic Acoustic Signals

Номер патента: US20120232427A1. Автор: Peter Bakema,Bret Kline,Gary Stephen,Alan Langston. Владелец: CVR GLOBAL Inc. Дата публикации: 2012-09-13.

Method and apparatus for manufacturing a suspension pad and corresponding suspension pad

Номер патента: WO2008095732A1. Автор: Olivier Vanthournout. Владелец: L&P SWISS HOLDING AG. Дата публикации: 2008-08-14.

Method for producing a patient-specific pad and corresponding pad

Номер патента: US09474586B2. Автор: Dirk Wiechmann,Hoang Viet-Ha Julius Vu. Владелец: DW LINGUAL SYSTEMS GMBH. Дата публикации: 2016-10-25.

Lifting system, handler receptacle, mounting pad and method of mounting handling systems

Номер патента: RU2454364C2. Автор: Михаель МАТАЙСЛ,Вольфганг КЛЯЙН,Андреас ХАЙН,Вольфганг КЛЯЙН (AT),Андреас ХАЙН (AT),Михаель МАТАЙСЛ (AT). Владелец: Инвенцио Аг. Дата публикации: 2012-06-27.

Inner-c-forging assembly, front axle assembly and modification method of an integral front axle assembly

Номер патента: AU2022203205B2. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Back surface member for seat pad and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240262271A1. Автор: Futoshi Takahashi,Ryo Iwasawa,Shota Matsushita,Masaya KADOTA. Владелец: Toyotsu Vehitecs Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Guide pad and cutter head for a cutting tool

Номер патента: US09956623B2. Автор: Per Hansson. Владелец: Sandvik Intellectual Property AB. Дата публикации: 2018-05-01.

Wood modification method

Номер патента: RU2764921C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Виктор Викторович Климов,Евгений Викторович Брюзгин,Александр Валентинович Навроцкий,Ольга Владимировна Коляганова,Анна Андреевна Рысухина,Светлана Васильевна Киселева,Екатерина Борисовна Брюзгина. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2022-01-24.

Wood modification method

Номер патента: RU2764924C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Виктор Викторович Климов,Евгений Викторович Брюзгин,Александр Валентинович Навроцкий,Ольга Владимировна Коляганова,Анна Андреевна Рысухина,Екатерина Борисовна Брюзгина,Арина Демьяновна Груданова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ). Дата публикации: 2022-01-24.

Method and apparatus for the determination of defects during a surface modification method

Номер патента: US20220067914A1. Автор: Moritz Martinius,David Mark Newton,Michael Herbert Oelscher,Uemit Yigit. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2022-03-03.

Progressive metallic surface micro-nano modification method

Номер патента: EP4086364A1. Автор: Xiao Zhang,Huiliang ZHANG,Lili DONG,Hongyu WEI,Laishui ZHOU,Ghulam HUSSAIN,Wanlin ZHOU,Haiji CHEN. Владелец: Nanjing University of Aeronautics and Astronautics. Дата публикации: 2022-11-09.

Composite padding and method of its fabrication

Номер патента: RU2373059C2. Автор: Ллойд Гэрролд УЭЙД. Владелец: Федерал-Могал Корпорейшн. Дата публикации: 2009-11-20.

Method for manufacture of friction material for brake pads and brake pad

Номер патента: RU2645857C1. Автор: Владислав Валентинович Берент. Владелец: Владислав Валентинович Берент. Дата публикации: 2018-02-28.

Continuous cradle pad and skid for railway cars

Номер патента: US4220097A. Автор: Paul J. Dumser,Richard J. Wempe. Владелец: ACF Industries Inc. Дата публикации: 1980-09-02.

Impact pad, tundish and apparatus including the impact pad, and method of using same

Номер патента: CA2957935A1. Автор: Tathagata Bhattacharya. Владелец: ARCELORMITTAL INVESTIGACIÓN Y DESARROLLO SL. Дата публикации: 2016-02-18.

Method and apparatus for padding and cushioning an equine saddle

Номер патента: US6050067A. Автор: Ralphine S. Knight,Joel D. Knight,Kathryn J. Bridges. Владелец: Fastrac Ideas Inc. Дата публикации: 2000-04-18.

Continuous cradle pad and skid for railway cars

Номер патента: CA1103995A. Автор: Paul J. Dumser,Richard J. Wempe. Владелец: ACF Industries Inc. Дата публикации: 1981-06-30.

Impact pad, tundish and apparatus including the impact pad, and method of using same

Номер патента: CA2957935C. Автор: Tathagata Bhattacharya. Владелец: ARCELORMITTAL INVESTIGACIÓN Y DESARROLLO SL. Дата публикации: 2023-05-16.

Pads and their formation

Номер патента: CA1227963A. Автор: Peter Bancroft. Владелец: Banson Nominees Pty Ltd. Дата публикации: 1987-10-13.

Scouring pad and method for producing same

Номер патента: CA1226110A. Автор: William J. Clayton. Владелец: Mobil Oil Corp. Дата публикации: 1987-09-01.

Polyurethane foam pad and methods of making and using same

Номер патента: CA2743930C. Автор: Gregory Fowler. Владелец: Shaw Industries Group Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Ultra-resilient pad and method of making thereof

Номер патента: CA2824975C. Автор: Bjorn Rydin,Robert Hansen. Владелец: Albany International Corp. Дата публикации: 2019-01-15.

Method for washing an article and collecting the used wash water, and wash pad and mobile apparatus useful therewith

Номер патента: CA2084700C. Автор: Douglas Latimer. Владелец: Splash Mobile Truck Wash Inc.. Дата публикации: 1999-03-02.

Folded combination horn pad and driver position sensor assembly and method for providing the assembly

Номер патента: US5961144A. Автор: Mark R. Desmarais. Владелец: TRW Inc. Дата публикации: 1999-10-05.

Combination computer mouse pad and writing pad

Номер патента: US6322033B1. Автор: Leonard Lee. Владелец: Giraffics Inc. Дата публикации: 2001-11-27.

Noise barrier pad and the method for the production of same

Номер патента: US4242391A. Автор: Hans Reinhardt,Armin Tritsch,Manfred Schmahl. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-12-30.

Garment padding and reinforcing fibrous structures

Номер патента: GB1392279A. Автор: . Владелец: SNIA Viscosa SpA. Дата публикации: 1975-04-30.

Circular saw blade guide pads, circular saw guide assemblies including the guide pads, circular saws including the guide assemblies, methods of manufacturing the guide pads, and methods of utilizing circular saws

Номер патента: US20230211427A1. Автор: Gary Arthur Stroud,Craig J. Tompkins. Владелец: BURTON SAW AND SUPPLY LLC. Дата публикации: 2023-07-06.

Automotive crash pad and manufacturing method thereof

Номер патента: US20220024401A1. Автор: Chang Wan Son,Do Hyung Kim. Владелец: Hyundai Mobis Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Stabilizer pad and assembly

Номер патента: EP4240621A1. Автор: Paul S. PERKINS II. Владелец: Raptor Tech Inc. Дата публикации: 2023-09-13.

Stabilizer pad and assembly

Номер патента: US20240003113A1. Автор: II Paul S. PERKINS. Владелец: Raptor Tech Inc. Дата публикации: 2024-01-04.

Inner-c-forging assembly, integral front axle assembly and modification method thereof

Номер патента: AU2023202932B2. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Circular saw blade guide pads, circular saw guide assemblies including the guide pads, circular saws including the guide assemblies, methods of manufacturing the guide pads, and methods of utilizing circular saws

Номер патента: CA3042072C. Автор: Gary Arthur Stroud,Craig J. Tompkins. Владелец: BURTON SAW AND SUPPLY LLC. Дата публикации: 2020-08-25.

Antibacterial cupric-ion-fiber corrective shoe-pad and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240190113A1. Автор: Jessica Wang,Edmund Wang,Yung Lin Wang. Владелец: Jet Crown International Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: EP3658429A1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: Freni Brembo Spa. Дата публикации: 2020-06-03.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: US20210380089A1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: Freni Brembo Spa. Дата публикации: 2021-12-09.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: WO2019021246A1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: FRENI BREMBO S.P.A.. Дата публикации: 2019-01-31.

Firearm recoil pad and associated accessories

Номер патента: US20190390936A1. Автор: Shane Keng. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-12-26.

Inner-c-forging assembly, front axle assembly and modification method of an integral front axle assembly

Номер патента: CA3199371A1. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-18.

Inner-c-forging assembly, front axle assembly and modification method of an integral front axle assembly

Номер патента: CA3163584C. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Inner-c-forging assembly, front axle assembly and modification method of an integral front axle assembly

Номер патента: AU2022203205A1. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Paint pad and paint pad tray assembly

Номер патента: US20140113081A1. Автор: Damon H. DeHart. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-04-24.

Inner-c-forging assembly, front axle assembly and modification method of an integral front axle assembly

Номер патента: CA3163584A1. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-18.

Inner-c-forging assembly, integral front axle assembly and modification method thereof

Номер патента: AU2023202932A1. Автор: Dehui Du,Jia Fu. Владелец: Shanghai Yinshun Trading Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Customizable knee pads and process of forming the same

Номер патента: AU2021204446A1. Автор: Joshua Keeler,Michael Panosian. Владелец: Toughbuilt Industries Inc. Дата публикации: 2022-01-20.

Integral wear-resistant pad and method

Номер патента: RU2558555C2. Автор: Тейн Хтун ОНГ,Рауль Г. ГАРСА,Эндрю Дж. АЛЛЕН,Р. Томас МУР. Владелец: РОТАРИ ДРИЛЛИНГ ТУЛЗ ЮЭсЭй ЭлПи. Дата публикации: 2015-08-10.

Low profile shear pad and adapter

Номер патента: US8205560B2. Автор: David M. East,Giuseppe Sammartino,Ronald D. Golembiewski. Владелец: Standard Car Truck Co. Дата публикации: 2012-06-26.

Low profile shear pad and adapter

Номер патента: CA2645447C. Автор: David M. East,Giuseppe Sammartino,Ronald D. Golembiewski. Владелец: Standard Car Truck Co. Дата публикации: 2015-12-29.

Vacuum suction pads, and method for manufacturing same

Номер патента: US5639553A. Автор: Shigekazu Nagai,Shuuzou Sakurai,Tadasu Kawamoto. Владелец: SMC Corp. Дата публикации: 1997-06-17.

Low profile shear pad and adapter

Номер патента: CA2903683C. Автор: David M. East,Giuseppe Sammartino,Ronald D. Golembiewski. Владелец: Standard Car Truck Co. Дата публикации: 2017-06-20.

A flexible body armor pad and a process for making a flexible body armor pad

Номер патента: WO2020237360A1. Автор: Brian E. Spencer,Zachary B. Spencer,Robert A. SOTELO,Andrew H. Weisberg,Jack J. MASSARELLO. Владелец: Global Metallix Canada Inc.. Дата публикации: 2020-12-03.

Low profile shear pad and adapter

Номер патента: CA2645447A1. Автор: David M. East,Giuseppe Sammartino,Ronald D. Golembiewski. Владелец: Standard Car Truck Co. Дата публикации: 2009-06-21.

Perforated absorptive pad and method of fabrication

Номер патента: CA2116316C. Автор: Lionel M. Larsonneur,Stanley E. Schilcher. Владелец: Paper Pak Products Inc. Дата публикации: 1997-12-02.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: US9051669B2. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-09.

Buffer pad and packaging bag

Номер патента: AU2022436769A1. Автор: Jinwei Yan. Владелец: Huizhou Beta Packtech Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Method of manufacturing bristled pad and mouthpiece for brushing plurality of dental positions, mouthpiece and bristle pad

Номер патента: EP4298955A3. Автор: Joppe Gideon VAN DIJK,Tim Anton SNIJDER,Thomas VAN DE WATER. Владелец: Dental Robotics Group BV. Дата публикации: 2024-03-27.

Method of manufacturing bristled pad and mouthpiece for brushing plurality of dental positions, mouthpiece and bristle pad

Номер патента: AU2024200690A1. Автор: Joppe Gideon VAN DIJK,Tim Anton SNIJDER,Thomas VAN DE WATER. Владелец: Dental Robotics Group BV. Дата публикации: 2024-02-22.

Method of manufacturing bristled pad and mouthpiece for brushing plurality of dental positions, mouthpiece and bristle pad

Номер патента: EP4298955A2. Автор: Joppe Gideon VAN DIJK,Tim Anton SNIJDER,Thomas VAN DE WATER. Владелец: Dental Robotics Group BV. Дата публикации: 2024-01-03.

Method of manufacturing bristled pad and mouthpiece for brushing plurality of dental positions, mouthpiece and bristle pad

Номер патента: AU2021208885B2. Автор: Joppe Gideon VAN DIJK,Tim Anton SNIJDER,Thomas VAN DE WATER. Владелец: Dental Robotics Group BV. Дата публикации: 2023-11-16.

Cushioning pad and packaging box

Номер патента: US20200055656A1. Автор: Qiong Wu. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-02-20.

Apparatus for producing shock absorbing pads and associated methods

Номер патента: US20010018819A1. Автор: John M. Tharpe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Radiating spacer for a brake pad and braking system

Номер патента: US12006990B2. Автор: John Davies. Владелец: Federal Mogul Motorparts LLC. Дата публикации: 2024-06-11.

Cushioning pad and cushioning apparatus

Номер патента: US20210269217A1. Автор: Qiong Wu,Wenqiang Bao. Владелец: Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-02.

Method for propeller blades grinding and polishing

Номер патента: RU2715323C1. Автор: Борис Васильевич Мусаев,Виктор Васильевич Сухой. Владелец: Виктор Васильевич Сухой. Дата публикации: 2020-02-26.

Method for manufacturing magnetic-disk substrate, method for manufacturing magnetic disk, raw material for polishing pad, and method for manufacturing substrate

Номер патента: MY182511A. Автор: Yuji YAMASHIRO,Takumi Kuhara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-01-25.

Food product taste modification method

Номер патента: RU2555440C2. Автор: Бернард ЛАУСС. Владелец: Сэнс Фо Тэйст. Дата публикации: 2015-07-10.

Modification method of arrangement scheme of bore pits, drilling installation and programme product

Номер патента: RU2415269C1. Автор: Эмели ХАВЕРИНЕН. Владелец: Сандвик Майнинг Энд Констракшн Ой. Дата публикации: 2011-03-27.

Method and device for control of wear of brake pads and air gap of working brake of vehicles

Номер патента: RU2592753C2. Автор: Томас Виттманн,Штефан ВЕЛЛЬНЕР. Владелец: Ман Трак Унд Бас Аг. Дата публикации: 2016-07-27.

Extra-protection pads and related methods

Номер патента: US09757281B2. Автор: Gary Shuster,David Goldsmith,Lorrie GOLDSMITH. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Optical disc having homogenous structure (modifications), method for recording and/or reproduction (modifications)

Номер патента: RU2260861C2. Автор: Киунг-геун ЛИ,Ин-сик ПАРК,Ду-сеоп ЙООН. Владелец: Самсунг Электроникс Ко., Лтд. Дата публикации: 2005-09-20.

Sleeper pad and method for its manufacture, construction of railway sleeper with sleeper pad fixed in it and method for connecting sleeper pad with railway sleeper

Номер патента: RU2756929C1. Автор: Андрей Александрович Смирнов,Александр Владимирович Замуховский,Александр Владимирович Шутько,Никита Александрович Терентьев,Марина Дмитриевна Лимонова. Владелец: Камарян Хачатур Оганесович. Дата публикации: 2021-10-07.

Attachable and detachable padded and or inflatable potty pad cushion system

Номер патента: US20200312185A1. Автор: Irina Shekhtman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-10-01.

Combination leg pad and trauma strap

Номер патента: US20240226617A1. Автор: Judd J. Perner,Luis D. Herrera,Andres Rubalcava. Владелец: Checkmate Lifting and Safety Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Combination leg pad and trauma strap

Номер патента: WO2024149968A1. Автор: Judd J. Perner,Luis D. Herrera,Andres Rubalcava. Владелец: Guardian Fall Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Friction pad and brake shoe for brake system

Номер патента: RU2709149C1. Автор: Дейвид Дуглас МАФФЛИ,Дейвид Торнтон ПИНДАР,Дэниэл Эван БЕРАРД,Кадзухико ИСОНО. Владелец: Федерал-Могул Моторпартс Ллк. Дата публикации: 2019-12-16.

Manufacturing method of brake pad, and brake pad

Номер патента: RU2504703C2. Автор: Эндрю ДИЛНОТ,Кристина ЯГАР,Петра ЗЕВЕРИТ. Владелец: Тмд Фрикшн Сервисиз Гмбх. Дата публикации: 2014-01-20.

System and method for medical ultrasound with monitoring pad and multifunction monitoring system

Номер патента: US20240225597A1. Автор: Bernard Lefebvre,Hugo Douville,Yannick Le Devehat,Maxime Valois,Jean-François Lanctôt. Владелец: Gestion Andre Halley Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Bra pad and method for manufacturing same

Номер патента: CA3207960A1. Автор: Emily Suess,Valerie Ann Mcardle. Владелец: Chicos Brands Investments Inc. Дата публикации: 2022-08-18.

Bra pad and method for manufacturing same

Номер патента: AU2022218853A1. Автор: Emily Suess,Valerie Ann Mcardle. Владелец: Chicos Brands Investments Inc. Дата публикации: 2023-08-31.

Bra pad and method for manufacturing same

Номер патента: EP4291062A1. Автор: Emily Suess,Valerie Ann Mcardle. Владелец: Chicos Brands Investments Inc. Дата публикации: 2023-12-20.

Bra pad and method for manufacturing same

Номер патента: WO2022174167A1. Автор: Emily Suess,Valerie Ann Mcardle. Владелец: Chico's Brands Investments, Inc.. Дата публикации: 2022-08-18.

Cover, elastic pad and furniture

Номер патента: AU2023285939A1. Автор: Luhao Leng. Владелец: New Tec Integration Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Pad and electronic device employing the same

Номер патента: US20060151204A1. Автор: Chun-Yi Yaor. Владелец: Inventec Corp. Дата публикации: 2006-07-13.

Jewelry organizer with cushioned pads and strips

Номер патента: US20060169600A1. Автор: Stephanie ROBERTS. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-03.

Cooling pad and methods of making and using the same

Номер патента: WO2024097075A3. Автор: Tiffany YEH. Владелец: Eztia Corp.. Дата публикации: 2024-06-27.

Image modification method and image modification device

Номер патента: US20220415081A1. Автор: Ching-Hao YU,Po-Sen CHEN,Tao-Hua Cheng,Chia-Liang Chiang,Tsai-Chien Kao,Cyuan-Yue Jhong. Владелец: Pegatron Corp. Дата публикации: 2022-12-29.

Blocking pad and method for preventing injury to a user from a special individual

Номер патента: US20240304105A1. Автор: James Gaynor,Kim Sanders,Christopher S. FELTNER. Владелец: Grafton Schools Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Cooling pad and methods of making and using the same

Номер патента: WO2024097075A2. Автор: Tiffany YEH. Владелец: Eztia Corp.. Дата публикации: 2024-05-10.

Recoil pads including gas chambers and a base plate assembly, firearms including such recoil pads, and related methods

Номер патента: US20160273874A1. Автор: Russ Martin,Lawrence V. Butler. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-22.

Pad-and-spring assembly for a brake caliper

Номер патента: US12129898B2. Автор: Cristian Crippa,Andrea MECOCCI,Mauro Mambretti,Marco Fumagalli. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2024-10-29.

Bra pad and method for manufacturing same

Номер патента: US12127607B2. Автор: Emily Suess,Valerie Ann Mcardle. Владелец: Chicos Brands Investments Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Lap desk with mouse pad and device slot

Номер патента: US09999298B1. Автор: Patrick Hogan Sullins. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-06-19.

Application name modification method and device, and storage medium

Номер патента: US09921817B2. Автор: BO LIU,Zhe CHANG. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Erosion control equipment pads and accessories

Номер патента: US09702106B1. Автор: Jay F. Rowland. Владелец: JFR Enterprises Inc. Дата публикации: 2017-07-11.

Fixed caliper disk brake having stabilized brake pads, and related assembly and pad replacement methods

Номер патента: US09689445B2. Автор: Thierry Bindner,Sandra Merrien,Andre Gaye. Владелец: Chassis Brakes International BV. Дата публикации: 2017-06-27.

Detachment apparatus having arched drum pad and method for fabricating lightweight, thin liquid crystal display device using the same

Номер патента: US09645419B2. Автор: Jaewon Lee,Jeongjoon Lee,JinKyoung Kim,DaeHoon LEE,KiBok KANG,Byongll Lee. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Fire-resistant door, method of border section bar manufacturing, reinforcement pad and section bar for glasing of such door

Номер патента: RU2412322C2. Автор: Хендрик Ян ВИДЖНВЕЛД. Владелец: Виджнвелд Б.В.. Дата публикации: 2011-02-20.

Techniques for designing custom contoured rocker arm pads and custom contoured camshaft lobes

Номер патента: US20150128887A1. Автор: Bruce Geist,William F. Resh,Mark S. Hannon,Scott K. Fisher,Christopher L. Allmond. Владелец: FCA US LLC. Дата публикации: 2015-05-14.

Targeted temperature management systems, pads, and methods thereof

Номер патента: CA3216816A1. Автор: Michael R. Hoglund,Madeline Stich,Sean E. WALKER,Gabriel A. Johnston,Rebecca D. SALISBURY,James Davi HUGHETT. Владелец: Medivance Inc. Дата публикации: 2022-11-10.

Brake pad, brake caliper equipped with the brake pad, and vehicle equipped with the brake caliper

Номер патента: US20230175563A1. Автор: Bo Ram Yoon,Mun Hwan BYOUN. Владелец: Hyundai Mobis Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Recoil pads including gas chambers, firearms including such recoil pads, and related methods

Номер патента: WO2014109912A1. Автор: Lawrence V. Butler. Владелец: Butler Lawrence V. Дата публикации: 2014-07-17.

Seal forming portion, pad and cushion for a patient interface and method of manufacturing

Номер патента: US12048811B2. Автор: Achim Biener,Robert Eibl,Christian Bayer,Johannes Nickol,Jens ROTHFUSS,Andreas Kirchberger,Bernd Christoph Lang,Johann Sebastian Burz. Владелец: ResMed Pty Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Vacuum pad and related system

Номер патента: US12042438B2. Автор: Teresa Lance,Neeraj Desai,Neil Whitehouse. Владелец: Orlando Health Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Pin-pad and security method thereof

Номер патента: US09977923B2. Автор: Il Bok Lee. Владелец: WOOSIM SYSTEMS Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Absorbent pad and related methods

Номер патента: US09943452B1. Автор: Craig Sundheimer,Lloyd Jarvis. Владелец: Merit Medical Systems Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Rock climbing walls, fall safety pads, and accessories

Номер патента: US09925444B2. Автор: David Allan Jones. Владелец: Platypus IP LLC. Дата публикации: 2018-03-27.

Manikin sensing pads and liners in an AED training system

Номер патента: US09881521B2. Автор: John J. Pastrick,Timothy E. Lint. Владелец: PRESTAN PRODUCTS LLC. Дата публикации: 2018-01-30.

Rock climbing walls, fall safety pads, and accessories

Номер патента: US09492725B2. Автор: David Allan Jones. Владелец: Platypus IP LLC. Дата публикации: 2016-11-15.

Test modification method for in vitro diagnosis of tuberculous pleurisy

Номер патента: RU2708388C1. Автор: Михаил Валерьевич Синицын,Светлана Григорьевна Сафонова,Татьяна Валерьевна Ванеева,Неиля Вафиновна Куликовская,Аркуб Тамила Исмаиловна Абу. Владелец: ГБУЗ "Московский городской научно-практический центр борьбы с туберкулёзом Департамента здравоохранения города Москвы". Дата публикации: 2019-12-06.

Map with integrated circuit having modified operating program and corresponding modification method

Номер патента: RU2483359C2. Автор: Сириль ПЕПЕН,Гийом РУДЬЕР. Владелец: Морфо. Дата публикации: 2013-05-27.

Soft mouse pad and an associated illuminating method

Номер патента: US20160124526A1. Автор: Hung-Jen Chou. Владелец: Hades Gaming Corp. Дата публикации: 2016-05-05.

All-in-one packing, pad and shoe for hoof protection

Номер патента: EP2240089A1. Автор: Frank Rovelli. Владелец: Vettec Inc. Дата публикации: 2010-10-20.

Blocking pad and a method of use thereof

Номер патента: US20180313637A1. Автор: James Gaynor,Kim Sanders,Christopher S. FELTNER. Владелец: GRAFTON SCHOOL Inc. Дата публикации: 2018-11-01.

Blocking pad and a method of use thereof

Номер патента: US20220364833A1. Автор: James Gaynor,Kim Sanders,Christopher S. FELTNER. Владелец: Grafton Schools Inc. Дата публикации: 2022-11-17.

Circuit modification method

Номер патента: US20020060572A1. Автор: Michio Komoda. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Pad and thrust device assembly, brake caliper

Номер патента: US20240141960A1. Автор: Cristian Crippa,Andrea Teruzzi,Andrea MECOCCI,Davide D'alessio. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2024-05-02.

Jewelry display insert pad and jewelry display prop

Номер патента: WO1981001235A1. Автор: D Crawford. Владелец: Bufkor Inc. Дата публикации: 1981-05-14.

Fuel injection device for locomotive engine, internal combustion engine, and engine modification method

Номер патента: RU2414617C2. Автор: Хосе М. КАСАБИАНКА,Шон Майкл ГАЛЛАХЕР,Эрик Ричард ДИЛЛЕН,Хосе М. КАСАБИАНКА (US),Шон Майкл ГАЛЛАХЕР (US),Эрик Ричард ДИЛЛЕН (US). Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2011-03-20.

Steel and alloy modification method

Номер патента: RU2454466C1. Автор: Георгий Георгиевич Кривенко,Владимир Николаевич Денисов,Александр Николаевич Котов,Елена Александровна Мысливец,Анатолий Васильевич Чепурин. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Научно-Производственное Объединение "Техномаш". Дата публикации: 2012-06-27.

Scanning modification method and display device

Номер патента: US20220036787A1. Автор: Qianqian Liu,Chuanyan LAN,Xin Bi. Владелец: Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-02-03.

Animal hair modification method

Номер патента: EP4276240A1. Автор: Kazuyoshi Nishikawa,Kazusa Nakanishi,Yuji Suetsune,Kodai KANEKO. Владелец: MITEJIMA CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Electronic device and video object motion trajectory modification method thereof

Номер патента: US20150125028A1. Автор: Chia-Wei Liao,Kai-Hsuan CHAN. Владелец: INSTITUTE FOR INFORMATION INDUSTRY. Дата публикации: 2015-05-07.

Data modification method, data reproduction method, program, data modification device

Номер патента: US20240203458A1. Автор: Kazuhiko Yamamoto,Takuya Fujishima,Satoshi Usa,Yoshimasa Isozaki. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Brake pad of drum brake, set of brake pads and drum brake

Номер патента: RU2569340C2. Автор: Виктор ПАПП. Владелец: Кнорр-Бремзе Зюстеме Фюр Нутцфарцойге Гмбх. Дата публикации: 2015-11-20.

Bearing with self-aligning segment pads and method of its manufacturing

Номер патента: RU2717302C1. Автор: Лоренцо НАЛЬДИ,Элис ИННОЧЕНТИ. Владелец: Нуово Пиньоне Текнолоджи Срл. Дата публикации: 2020-03-19.

Anchor rail fastening, sub-terminal pad and shock-absorbing under-rail gasket of anchor rail fastening (versions)

Номер патента: RU2695944C1. Автор: Борис Алексеевич Лёвин,Юрий Николаевич Аксенов,Андрей Юрьевич Богачев,Семен Андреевич Гнездилов,Елена Геннадьевна Курзина,Алексей Андреевич ЛАКТЮШИН. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Холдинг АРС". Дата публикации: 2019-07-29.

Covering pads and hypotension systems for linear wounds

Номер патента: RU2471461C2. Автор: Чарльз Алан СИГЕРТ. Владелец: КейСиАй ЛАЙСЕНЗИНГ, ИНК.. Дата публикации: 2013-01-10.

Disc brake for utility vehicle, brake pad and brake pad kit

Номер патента: RU2699955C1. Автор: Тобиас ФИШЛЬ,Вольфганг ПРИЦ,Андреас ПЕЧКЕ,Йозеф ШРОПП,Юлиан Като ДАЛЕНБУРГ,Маркус БАРТЕЛ. Владелец: Кнорр-Бремзе Зюстеме Фюр Нутцфарцойге Гмбх. Дата публикации: 2019-09-11.

Integrated fiber reinforced ceramic matrix composite brake pad and back plate

Номер патента: US5984055A. Автор: Steven Donald Atmur,Thomas Edward Strasser. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 1999-11-16.

Integrated fiber reinforced ceramic matrix composite brake pad and back plate

Номер патента: US6062351A. Автор: Steven Donald Atmur,Thomas Edward Strasser. Владелец: Northrop Grumman Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Oven (modifications), method for cooling of oven door, air control assembly and oven assembly

Номер патента: RU2313035C2. Автор: Сунг Кванг КИМ,Сунг Соо ПАРК,Пунг Йеун ЧО,Чеол Дзин КИМ,Кионг Хо КИМ,Кил Янг ЛИ,Ю. Дзеуб ХА,Юн Ик ХВАНГ,Санг Хиун КАНГ,Сеок Веон ХОНГ,Тае Хо КИМ. Владелец: САМСУНГ ЭЛЕКТРОНИКС КО., ЛТД.. Дата публикации: 2007-12-20.

Padding for realising procedure of complex operations with materials, method of padding fabrication, method of fabricating materials of padding and facilities for operations with padding

Номер патента: RU2384832C2. Автор: Михаил Евгеньевич Гиваргизов. Владелец: Михаил Евгеньевич Гиваргизов. Дата публикации: 2010-03-20.

Signal modification method for efficient encoding of speech signals

Номер патента: RU2302665C2. Автор: Милан ЕЛИНЕК,Микко ТАММИ,Клод ЛЯФЛЯММ,Веса РУОППИЛА. Владелец: Нокиа Корпорейшн. Дата публикации: 2007-07-10.

Targeted temperature management systems, pads, and methods thereof

Номер патента: WO2022155130A1. Автор: Younggeun CHO,Cecille A. CANARY,Christopher K. BROOKS,Nathaniel BARNES. Владелец: C. R. BARD, INC.. Дата публикации: 2022-07-21.

Patient lift with adjustable knee pads and sling hooks

Номер патента: CA2809275C. Автор: James Zhou,Frances Spidare,Russell Pizzuto,John Owens,Roger Wang,Richard Li,Kenneth Chapman,Chris Jaeger. Владелец: Invacare Corp. Дата публикации: 2014-11-25.

System, pad and method for monitoring a sleeping person to detect an apnea state condition

Номер патента: US20100191136A1. Автор: Danette K. Wolford. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-07-29.

Patient lift with adjustable knee pads and sling hooks

Номер патента: US8250687B2. Автор: James Zhou,Frances Spidare,Russell Pizzuto,John Owens,Roger Wang,Richard Li,Kenneth Chapman,Chris Jaeger. Владелец: Invacare Corp. Дата публикации: 2012-08-28.

A new or improved attachment for drying and polishing glasses and analogous articles

Номер патента: GB169213A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1921-09-29.

Method and electronic apparatus for displaying reference locations for locating ECG pads and recording medium using the method

Номер патента: US11164481B2. Автор: Huan-Hsin Li,De-Zhang Peng,Ming-Tien Lin. Владелец: HTC Corp. Дата публикации: 2021-11-02.

Improvements in or relating to brake pad and brake pad carrier combinations for disc brakes

Номер патента: GB1185179A. Автор: . Владелец: Alfred Teves Gmbh. Дата публикации: 1970-03-25.

Diaper with integral changing pad and disposal container

Номер патента: US4964859A. Автор: Ruth L. Feldman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-10-23.

Patient lift with adjustable knee pads and sling hooks

Номер патента: CA2730354C. Автор: James Zhou,Frances Spidare,Russell Pizzuto,John Owens,Roger Wang,Richard Li,Kenneth Chapman,Chris Jaeger. Владелец: Invacare Corp. Дата публикации: 2015-02-10.

Improved scent pad and mechanism for housing the same

Номер патента: CA2823417C. Автор: Janet Talbot,Lara Peterson. Владелец: Helen of Troy Ltd. Дата публикации: 2020-05-12.

Combination computer mouse pad and note pad

Номер патента: US5405168A. Автор: G. Gary Holt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1995-04-11.

Integrated mouse pad and wrist and arm support

Номер патента: US5918840A. Автор: Leslie Palmatier Christensen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-07-06.

Shock absorbent for protective pad and protective pad and protective clothes using the same

Номер патента: EP1932440A1. Автор: Takeshi Okada,Keiko Imai,Momoyo Terada,Akira Niikura. Владелец: Lighthouse Inc. Дата публикации: 2008-06-18.

Improvements in corn pads and the like

Номер патента: GB447668A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1936-05-22.

Liquid-absorbing pad and method of making same

Номер патента: CA2023249C. Автор: Mark J. Heiman. Владелец: Standard Textile Co Inc. Дата публикации: 1999-03-30.

Targeted Temperature Management Systems, Pads, and Methods Thereof

Номер патента: US20240082052A1. Автор: Younggeun CHO,Cecille A. CANARY,Christopher K. BROOKS,Nathaniel BARNES. Владелец: CR Bard Inc. Дата публикации: 2024-03-14.

System and method for medical ultrasound with monitoring pad and multifunction monitoring system

Номер патента: EP4304483A1. Автор: Bernard Lefebvre,Hugo Douville,Yannick Le Devehat,Maxime Valois,Jean-François Lanctôt. Владелец: Sonoscope Inc. Дата публикации: 2024-01-17.

Test pad and system

Номер патента: US11874269B2. Автор: Bonnie Goodman,Jeff Goodman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-16.

Disinfestation pad and use thereof

Номер патента: MY196993A. Автор: TAN Dong Lin Eugene. Владелец: TAN Dong Lin Eugene. Дата публикации: 2023-05-17.

Detachment Apparatus Having Arched Drum Pad and Method for Fabricating Lightweight, Thin Liquid Crystal Display Device Using the Same

Номер патента: US20160246082A1. Автор: Jaewon Lee,Jeongjoon Lee,JinKyoung Kim,DaeHoon LEE,Byongil Lee,KiBok KANG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-25.

Detachment Apparatus Having Arched Drum Pad and Method for Fabricating Lightweight, Thin Liquid Crystal Display Device Using the Same

Номер патента: US20140179190A1. Автор: Jaewon Lee,Jeongjoon Lee,JinKyoung Kim,DaeHoon LEE,Byongil Lee,KiBok KANG. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-26.

Pad for acetabular bone revision and reconstruction and fixing structure for pad and acetabular cup prosthesis

Номер патента: US11672665B2. Автор: Qing Lei. Владелец: Third Hospital Of Changsha. Дата публикации: 2023-06-13.

Enhanced information overlay for use with a digitizing pad and computer

Номер патента: WO1991001523A3. Автор: James Mcjunkin. Владелец: James Mcjunkin. Дата публикации: 1996-10-31.

Elastic module unit, elastic pad and furniture

Номер патента: EP4360508A1. Автор: Luhao Leng. Владелец: New Tec Integration Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Test Pad and System

Номер патента: US20200386737A1. Автор: Bonnie Goodman,Jeff Goodman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-10.

Therapeutic Joint Compression, Comfort, Cooling, and Heating Compress Pad and Wrap

Номер патента: US20220249278A1. Автор: Keith ABLOW,Kathi Fairbend. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-08-11.

Driving Instruction Modification Method and Receiver Applied To Display Driver Integrated Circuit

Номер патента: US20240054970A1. Автор: Kevin Nam,Rion Lee,Daniel Ji. Владелец: Beijing Eswin Computing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Driving instruction modification method and receiver applied to display driver integrated circuit

Номер патента: US11887559B1. Автор: Kevin Nam,Rion Lee,Daniel Ji. Владелец: Beijing Eswin Computing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Enhanced information overlay for use with a digitizing pad and computer

Номер патента: WO1991001523A2. Автор: James Mcjunkin. Владелец: James Mcjunkin. Дата публикации: 1991-02-07.

Cover, elastic pad and furniture

Номер патента: US20240215733A1. Автор: Luhao Leng. Владелец: New Tec Integration Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Absorbent article with superabsorbent particle containing insert pad and liquid dispersion pad

Номер патента: US5188624A. Автор: Richard H. Young, Sr.,Christel Brunnenkant,Michael R. Hansen,E. Peter Lancaster,Haresh R. Mehta. Владелец: Weyerhaeuser Co. Дата публикации: 1993-02-23.

Friction pad and support for a disc brake

Номер патента: CA1233760A. Автор: Donald J. Davidson,David D. Sheill,David J. Dettloff. Владелец: Rockwell International Corp. Дата публикации: 1988-03-08.

Pneumatic pad and roll cover for ironing rolls on industrial ironers

Номер патента: US3961430A. Автор: Dan D. Mazzolla. Владелец: Individual. Дата публикации: 1976-06-08.

Combination buccal tube molar pad and hook

Номер патента: US3639986A. Автор: Peter C Kesling. Владелец: Individual. Дата публикации: 1972-02-08.

Well logging apparatus comprising a measuring pad and a combinaton device including such apparatus

Номер патента: US5596142A. Автор: David C. Hoyle,Bronislaw Seeman,Alan J. Sallwasser,Alain G. M. Delpuech. Владелец: Schlumberger Technology Corp. Дата публикации: 1997-01-21.

Blocking pad and a method of use thereof

Номер патента: WO2014099766A1. Автор: James Gaynor,Kim Sanders,Christopher S. FELTNER. Владелец: GRAFTON SCHOOL, INC.. Дата публикации: 2014-06-26.

Tone hole pad and process for magnetically seating same

Номер патента: US5297466A. Автор: Steven A. Wasser. Владелец: Verne Q Powell Flutes Inc. Дата публикации: 1994-03-29.

Animal scratching pad and amusement device

Номер патента: CA2094022C. Автор: Donald A. Mccance. Владелец: Individual. Дата публикации: 1996-04-16.

Targeted temperature management systems, pads, and methods thereof

Номер патента: EP4322896A1. Автор: Michael R. Hoglund,Madeline Stich,Sean E. WALKER,Gabriel A. Johnston,Rebecca D. SALISBURY,James Davi HUGHETT. Владелец: Medivance Inc. Дата публикации: 2024-02-21.

Indicators for Confirming Fluid Connections in Systems, Pads, and Methods for Targeted Temperature Management

Номер патента: US20220280336A1. Автор: Jesse Smith,Gabriel A. Johnston,Niharika PATHARE,Mengjia YI. Владелец: CR Bard Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Targeted Temperature Management Systems, Pads, and Methods Thereof for Treating Burn Wounds

Номер патента: US20220233344A1. Автор: Michael R. Hoglund. Владелец: CR Bard Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Cavitated pad and innerspring assembly combination having springs with free terminal convolutions

Номер патента: NZ510896A. Автор: Bruce G Barman,Said A Dimitry. Владелец: Ohio Mattress Co. Дата публикации: 2002-07-26.

Electrical muscle stimulation electrode mask pad and method using the same

Номер патента: US11794000B2. Автор: James Bartholomeusz,Kwang Chon Ko. Владелец: Lutronic Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Vacuum pad and related system

Номер патента: WO2023063982A1. Автор: Teresa Lance,Neeraj Desai. Владелец: ORLANDO HEALTH, INC.. Дата публикации: 2023-04-20.

Vacuum pad and related system

Номер патента: EP4166078A1. Автор: Teresa Lance,Neeraj Desai. Владелец: Orlando Health Inc. Дата публикации: 2023-04-19.

Nose pad and eyewear

Номер патента: US20200174286A1. Автор: Taiki Komoda. Владелец: Jins Holdings Inc. Дата публикации: 2020-06-04.

Nose pad and eyewear

Номер патента: US11237411B2. Автор: Taiki Komoda. Владелец: Jins Holdings Inc. Дата публикации: 2022-02-01.

Container pad and heat-insulating sleeve

Номер патента: US20140224818A1. Автор: Wen-Chun Chou. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-08-14.

Vacuum pad and related system

Номер патента: US20230114026A1. Автор: Teresa Lance,Neeraj Desai. Владелец: Orlando Health Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Rock climbing walls, fall safety pads, and accessories

Номер патента: US20160030824A1. Автор: David Allan Jones. Владелец: Platypus IP LLC. Дата публикации: 2016-02-04.

Packed breast milk absorbent pad and method for packing

Номер патента: US20070287979A1. Автор: Michiyo Fujikawa,Hikari Kawakami. Владелец: Unicharm Corp. Дата публикации: 2007-12-13.

Semiconductor logic circuit device having pull-up/pull-down circuit for input buffer pad and wafer-probing testing method therefor

Номер патента: US20050093568A1. Автор: Yoshihiro Ohara. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2005-05-05.

Semiconductor integrated circuit device including variable frequency type probe test pad and semiconductor system

Номер патента: US20160252572A1. Автор: Seung Geun Baek. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-09-01.

Vacuum pad and related system

Номер патента: CA3232107A1. Автор: Teresa Lance,Neeraj Desai,Neil Whitehouse. Владелец: Orlando Health Inc. Дата публикации: 2023-04-20.

Vacuum pad and related system

Номер патента: AU2022363358A1. Автор: Teresa Lance,Neeraj Desai,Neil Whitehouse. Владелец: Orlando Health Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Image heating apparatus with pads and urging means contacting the pads and a step between pad contacting surfaces

Номер патента: US7627278B2. Автор: Tomohito Nakagawa,Tetsuro Awaya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2009-12-01.

Techniques for designing custom contoured rocker arm pads and custom contoured camshaft lobes

Номер патента: US9429047B2. Автор: Bruce Geist,Mark S Hannon,William F Resh,Scott K Fisher,Christopher L Allmond. Владелец: FCA US LLC. Дата публикации: 2016-08-30.

Adapter system comprising frame, active ingredient pad and cover

Номер патента: CA3072008A1. Автор: Uwe Wortmann,Michael Horstmann,Roman Hadaschik. Владелец: LTS Lohmann Therapie Systeme AG. Дата публикации: 2019-02-14.

Electronic equipment including a touch pad and a method for controlling usage of the touch pad

Номер патента: EP1343068A3. Автор: Akihiro Toshiba Corporation Kojo,Hiroshi Toshiba Corporation Yamazaki. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-01-31.

Hinge incorporating leaf pads and tabs of uniform thickness

Номер патента: US4686743A. Автор: Charles R. Suska. Владелец: Individual. Дата публикации: 1987-08-18.

Shoulder pad and brassiere strap pad apparatus

Номер патента: US5201078A. Автор: Ardella R. Melton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1993-04-13.

Diaper changing pad and pad cover

Номер патента: US20210315391A1. Автор: Matthew L. Vroom. Владелец: Kizua LLC. Дата публикации: 2021-10-14.

Abrasive composition for cleaning teeth and method for cleaning and polishing teeth

Номер патента: RU2269337C2. Автор: Дональд Джеймс Мл. УАЙТ,Кэтлин Мэри КОЗАК,Винсент БЕРКОВИЧИ,Роберт Фрэнсиз ДЭЙТ. Владелец: Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани. Дата публикации: 2006-02-10.

Composition for mouth cavity health care and method for teeth cleaning, blanching and polishing

Номер патента: RU2270666C2. Автор: Сатианараяна МАДЖЕТИ,Стефен Андрас КОВАЧ,Уилльям Майкл ГЛЭНДОРФ,Нитеен Васант БАПАТ,Паула Дэниз КЛАЙМЕР,Элизабет Энн РЕНО,Уилль м Майкл ГЛЭНДОРФ (US),Сатианара на МАДЖЕТИ (US),Нитеен Васант БАПАТ (US),Паула Дэниз КЛАЙМЕР (US),Элизабет Энн РЕНО (US),Стефен Андрас КОВАЧ (US). Владелец: Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани. Дата публикации: 2006-02-27.

Improvements in devices for holding boots during cleaning and polishing

Номер патента: GB162970A. Автор: . Владелец: Giovanni Paolo Malfatti. Дата публикации: 1921-05-12.

Method of Regenerating a Polishing Pad Using a Polishing Pad Sub Plate

Номер патента: US20120003903A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: Toho Engineering. Дата публикации: 2012-01-05.

POLISHING PAD AUXILIARY PLATE AND POLISHING DEVICE EQUIPPED WITH POLISHING PAD AUXILIARY PLATE

Номер патента: US20130029566A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: TOHO ENGINEERING KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-31.

Polishing pad fixing tape and polishing pad

Номер патента: JP6372662B2. Автор: 智浩 岩尾. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-08-15.

Polishing pad manufacturing method and polishing pad

Номер патента: CN102211319A. Автор: 冯崇智,姚伊蓬,王良光,洪永璋. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-12.

Polishing pad for CMP and polishing apparatus using the same

Номер патента: JP3229986B2. Автор: 彰 石川. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-19.

Polishing pad for CMP and polishing method using the same

Номер патента: JP4563025B2. Автор: 雅彦 中森,哲生 下村,孝敏 山田,一幸 小川,淳 数野,毅 木村. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-13.

Polishing pad arranging device and polishing device

Номер патента: CN203426856U. Автор: 唐强,张溢钢. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2014-02-12.

Improvements in Holders for Polishing Pads and the like.

Номер патента: GB190412316A. Автор: Charles Berry Hammerton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-03-30.

Improvements in Knife Cleaning and Polishing Machines.

Номер патента: GB190204785A. Автор: Henry Allen Pryor,Herbert Lawson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-02-25.

A New Polishing Pad

Номер патента: GB190212809A. Автор: Thomas Wild,Harry Barton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-05-14.

Improvements in Polishing Pads for Boots, Shoes and the like.

Номер патента: GB190319241A. Автор: . Владелец: S D Page & Sons Ltd. Дата публикации: 1904-07-14.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: MY132791A. Автор: C Billings Scott,K Hsu Oscar,K Vangsness Jean,S Gilbride David. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Octogen modification method rocket technology

Номер патента: RU2441862C1. Автор: Виктор Евгеньевич Ковтун,Геннадий Васильевич Куценко,Лев Борисович Сироткин,Людмила Леонидовна Хименко,Владимир Иннокентьевич Владыкин,Софья Иосифовна Трахтенберг,Ирина Федоровна Ощепкова,Венера Миратовна Бахмутова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт полимерных материалов". Дата публикации: 2012-02-10.

Modification method of aluminium-silicon alloys

Номер патента: RU2475550C1. Автор: Генрих Гаврилович Крушенко. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт вычислительного моделирования Сибирского отделения Российской академии наук (ИВМ СО РАН). Дата публикации: 2013-02-20.

Metal coating of upgraded adhesion to material of pad and method of fabrication of this coating

Номер патента: RU2358034C2. Автор: Александр Германович Ермилов,Сергей Иванович Сухонос,Дмитрий Николаевич Вовк. Владелец: Дмитрий Николаевич Вовк. Дата публикации: 2009-06-10.

An Improved Device for Cleaning and Polishing Metal Articles.

Номер патента: GB190914086A. Автор: Agnes Edmond. Владелец: Individual. Дата публикации: 1910-04-21.

Applicator with flexible pad and handle

Номер патента: CA137548S. Автор: . Владелец: Specialty Products of Greenwood Missouri Inc. Дата публикации: 2012-01-23.

Modification method of aluminium and aluminium-silicone alloys (silumins) by carbon

Номер патента: RU2538850C2. Автор: Владимир Анатольевич Изотов,Юлия Валентиновна Чибирнова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рыбинский государственный авиационный технический университет имени П.А. Соловьева". Дата публикации: 2015-01-10.

Modification method of products surface made of titanium alloy

Номер патента: RU2346080C2. Автор: Валентин Иванович Голубев,Сергей Вениаминович Кирьянов,Александр Николаевич Литвинов,Сергей Александрович Рзянкин,нов Сергей Вениаминович Кирь,Юрий Николаевич Буторин,Анатолий Леонидович Половников,нкин Сергей Александрович Рз. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Корпорация Всмпо-Ависма". Дата публикации: 2009-02-10.

Modification method of surface of items from titanium alloys in vacuum

Номер патента: RU2562185C1. Автор: Камиль Нуруллаевич Рамазанов,Владимир Васильевич Будилов,Юлдаш Гамирович Хусаинов,Рашид Денисламович Агзамов,Илья Владимирович Золотов,Игорь Степанович Рамазанов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уфимский государственный авиационный технический университет". Дата публикации: 2015-09-10.

Kit for menstrual blood separation from vulval pad and storage

Номер патента: RU2413486C1. Автор: Николай Львович Коржук,Александр Агубечирович Хадарцев,Денис Викторович Иванов,Виталий Александрович Хадарцев. Владелец: Федеральное агентство по науке и инновациям. Дата публикации: 2011-03-10.

Locking device of small arms breechblock (modifications), method for breechblock locking and double-stage gas engine

Номер патента: RU2294506C2. Автор: Вениамин Михайлович Горобцов. Владелец: Вениамин Михайлович Горобцов. Дата публикации: 2007-02-27.

Method of fabricating jack-pad and said jack-pad

Номер патента: RU2423315C1. Автор: Евгений Федорович Харченко,Владимир Александрович Анискович,Николай Александрович Зеленов,Александр Болеславович Миткевич. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Научно производственное предприятие "АРМОКОМ-ЦЕНТР". Дата публикации: 2011-07-10.

Modification method of hypoeutectic aluminium-silicon alloys

Номер патента: RU2337981C2. Автор: Генрих Гаврилович Крушенко,Андрей Ефимович Буров,Владимир Викторович Москвичёв,Генрих Гаврилович Крушенко (RU),Владимир Викторович Москвичев (RU),Андрей Ефимович Буров (RU). Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-инженерный центр технологий материалов и конструкций". Дата публикации: 2008-11-10.

Method of fabricating jack-pad and said jack-pad

Номер патента: RU2453492C1. Автор: Владимир Иванович Губин,Евгений Федорович Харченко,Владимир Александрович Анискович,Николай Александрович Зеленов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Научно-производственное предприятие "АРМОКОМ-ЦЕНТР". Дата публикации: 2012-06-20.

An Improved Harness Saddle or Van Pad, and Apparatus for making the same.

Номер патента: GB189717077A. Автор: George Hill Williams. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-07-20.

Applicator with flexible pad and handle

Номер патента: AU333541S. Автор: . Владелец: Specialty Products of Greenwood Missouri Inc. Дата публикации: 2010-11-09.

Improvements in Jewellery Stock Pads and the like

Номер патента: GB190306278A. Автор: Elizabeth Warrillow,Henry James Whitehouse. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-05-28.

Flocculant modification method

Номер патента: RU2529229C1. Автор: Татьяна Викторовна Шевченко,Юлия Владиславовна Устинова,Ирина Олеговна Токмакова,Николай Алексеевич Кучер. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кемеровский технологический институт пищевой промышленности". Дата публикации: 2014-09-27.

Cast iron modification method

Номер патента: RU2542041C1. Автор: Николай Сафонович Гущин,Асиф Ашур оглы Тахиров,Виктор Алексеевич Дурынин,Игорь Сергеевич Вачаев,Дмитрий Павлович Буланов,Людмила Вячеславовна Иванова. Владелец: Открытое акционерное общество Научно-производственное объединение "Центральный научно-исследовательский институт технологии машиностроения" ОАО НПО "ЦНИИТМАШ". Дата публикации: 2015-02-20.

Electric equipment for lifting of reservoir fluid in well pad and method of its control

Номер патента: RU2554692C1. Автор: Олег Михайлович Перельман,Данила Николаевич Мартюшев,Анатолий Михайлович Санталов,Ольга Николаевна Хоцянова,Олег Владиславович Комаров,Евгений Сергеевич Хорошев. Владелец: Акционерное общество "Новомет-Пермь" (АО "Новомет-Пермь"). Дата публикации: 2015-06-27.

Joint pad and method of its application

Номер патента: RU2478152C2. Автор: Александр Тихонович Зиньковский,Татьяна Михайловна Зиньковская. Владелец: Татьяна Михайловна Зиньковская. Дата публикации: 2013-03-27.

Rail pad and method of its use

Номер патента: RU2449073C2. Автор: Александр Тихонович Зиньковский,Татьяна Михайловна Зиньковская. Владелец: Татьяна Михайловна Зиньковская. Дата публикации: 2012-04-27.

Friction iron for locomotive brake pad and method of its fabrication

Номер патента: RU2573848C1. Автор: Алексей Валентинович Стручков,Анатолий Александрович Климов,Денис Сергеевич Хацкевич,Роман Александрович Денисов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Иркутский государственный университет путей сообщения". Дата публикации: 2016-01-27.

Note pad and organizer clip

Номер патента: AU325620S. Автор: . Владелец: Memo Clip. Дата публикации: 2009-04-07.

Grinding and polishing adapter with disc working organ (variants)

Номер патента: RU2289501C2. Автор: Александр Владимирович Смирнов. Владелец: Александр Владимирович Смирнов. Дата публикации: 2006-12-20.

Machine for band grinding and polishing of spiral springs

Номер патента: RU2070505C1. Автор: В.В. Клубович,В.Ф. Луцко,А.С. Еремеев. Владелец: Институт технической акустики АНБ. Дата публикации: 1996-12-20.

Method of item surgace cleaning and polishing (variants)

Номер патента: RU2324769C2. Автор: Азат Фивзатович Гайсин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Казанский государственный технический университет им. А.Н. Туполева. Дата публикации: 2008-05-20.

Combination process for strengthening and polishing surfaces at local contact

Номер патента: RU2284256C1. Автор: Дмитрий Никитович Ешуткин,Юрий Сергеевич Степанов,Андрей Викторович Киричек,Борис Иванович Афанасьев,Дмитрий Сергеевич Фомин,Евгений Николаевич Бологов,Тать на Сергеевна Рогожина,Татьяна Сергеевна Рогожина. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Орловский государственный технический университет" (ОрелГТУ). Дата публикации: 2006-09-27.

Device for cleaning and polishing surfaces

Номер патента: RU2083445C1. Автор: Евгений Сергеевич Барышев,Надежда Евгеньевна Барышева. Владелец: Евгений Сергеевич Барышев. Дата публикации: 1997-07-10.

Machine for abrasive tape grinding and polishing of elongate cylindrical articles

Номер патента: RU2066614C1. Автор: Владимир Владимирович Клубович,Валерий Федорович Луцко,Александр Сергеевич Еремеев. Владелец: Александр Сергеевич Еремеев. Дата публикации: 1996-09-20.

Poly-planetary machine for grinding, glossing and polishing floor

Номер патента: RU2268132C1. Автор: Сергей Александрович Захаров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Торговый Дом "КВАРЦ". Дата публикации: 2006-01-20.

Method of glass grinding and polishing

Номер патента: RU2595283C2. Автор: Владимир Федорович Солинов,Юрий Иванович Машир,Александр Николаевич Ситкин. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации. Дата публикации: 2016-08-27.

Tool for grinding and polishing parts with loose abrasive (options)

Номер патента: RU2118249C1. Автор: И.М. Чемоданов. Владелец: Открытое акционерное общество "ГАЗ". Дата публикации: 1998-08-27.

Apparatus for pieces double side grinding and polishing

Номер патента: RU2022765C1. Автор: Анатолий Станиславович Мошковский. Владелец: Анатолий Станиславович Мошковский. Дата публикации: 1994-11-15.

Grinding and polishing device

Номер патента: CA1036824A. Автор: Jacques J. G. G. Broido. Владелец: Individual. Дата публикации: 1978-08-22.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.