Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

Polishing pad with endpoint detection window

Номер патента: US20240253177A1
Опубликовано: 01-08-2024
Автор(ы): Hyunjin Kim, Lee Melbourne Cook, Yu-Chung Su
Принадлежит: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Polishing pad with endpoint window

Номер патента: US20240253176A1. Автор: Hyunjin Kim,Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Recycled polishing pad

Номер патента: US11541504B2. Автор: Yoon Ho Kim,Seung Taek Oh,Young Jun Yoo,Bong Su Ahn,Pal Kon Kim,Si Hyeong Kim,Jin Ok Moon. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

Recycled polishing pad

Номер патента: US20200238472A1. Автор: Yoon Ho Kim,Seung Taek Oh,Young Jun Yoo,Bong Su Ahn,Pal Kon Kim,Si Hyeong Kim,Jin Ok Moon. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Chemical mechanical polishing pad with broad spectrum, endpoint detection window and method of polishing therewith

Номер патента: CN104029116B. Автор: M·A·洛伊格斯,A·雷珀,D·B·詹姆士. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-05-24.

Multilayer Chemical Mechanical Polishing Pad With Broad Spectrum, Endpoint Detection Window

Номер патента: US20140256231A1. Автор: Degroot Marty W.,James David B.,Repper Angus,Leugers Mary A.. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-11.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Multi-layer polishing pad for low-pressure polishing

Номер патента: WO2006081286A2. Автор: Wei Lu,Yan Wang,Yongsik Moon,Alain Duboust,Siew Neo,Antoine Manens,Shou-sung Chang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2006-08-03.

Polishing pad with endpoint window

Номер патента: US20240253175A1. Автор: Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Chemical Mechanical Polishing Pad With Broad Spectrum, Endpoint Detection Window and Method of Polishing Therewith

Номер патента: US20140256225A1. Автор: James David B.,Repper Angus,Leugers Mary A.. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-11.

Homogeneous polishing pad for eddy current end-point detection

Номер патента: US20120083192A1. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Richard Frentzel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-04-05.

Polishing pad with grooved foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US09931729B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Polishing pad with grooved foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US9067298B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2015-06-30.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Polishing pad for substrate polishing apparatus and substrate polishing apparatus having polishing pad

Номер патента: US20200001424A1. Автор: Toshifumi Kimba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Thin polishing pad with window and molding process

Номер патента: WO2008154185A2. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-12-18.

Polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09884400B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Wen-Chieh Wu,Hsin-Ru Song. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad and polishing apparatus

Номер патента: US20230226661A1. Автор: Hsien-Chang Hung,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Lyang-Gung Wang,Hsin-Ru Song,Jeng Yi Wu,Chi Che Huang. Владелец: BESTAC ADVANCED MATERIAL Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: US20240025009A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: WO2021126470A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: US11813712B2. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Method of manufacturing polishing pad having detection window and polishing pad having detection window

Номер патента: US09707662B2. Автор: Kun-Che Pai,Shiuan-Tzung Li,Chao-Chin Wang,Wei-Wen Yang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Polishing pad for wafer polishing apparatus and manufacturing method therefor

Номер патента: EP3708299A1. Автор: Jin Woo Ahn. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-16.

Window in thin polishing pad

Номер патента: US11826875B2. Автор: Yongqi Hu,Kadthala Ramaya Narendrnath,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Split-window CMP polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20190210184A1. Автор: Siqi Song. Владелец: Chengdu Times Live Science And Technology Co ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Polishing pad comprising hydrophobic region and endpoint detection port

Номер патента: US7204742B2. Автор: Abaneshwar Prasad. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-04-17.

Polishing pad comprising hydrophobic region and endpoint detection port

Номер патента: WO2005099962A1. Автор: Abaneshwar Prasad. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2005-10-27.

Polishing pad comprising hydrophobic region and endpoint detection port

Номер патента: TW200600260A. Автор: Abaneshwar Prasad. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-01-01.

Single surface polishing device, single surface polishing method, and polishing pad

Номер патента: EP4180178A1. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-17.

Single-side polishing apparatus, single-side polishing method, and polishing pad

Номер патента: US20230330804A1. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09669518B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Wen-Chieh Wu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Polishing pad for wafer polishing apparatus

Номер патента: US20200078901A1. Автор: Seung Won Lee. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Material for use in carrier and polishing pads

Номер патента: US6607428B2. Автор: Robert D. Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-19.

Polishing pads having improved pore structure

Номер патента: WO2022245404A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Sudhakar Madhusoodhanan,Mayu YAMAMURA,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Sebastian David ROZO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-24.

Polishing pads and methods relating thereto

Номер патента: US6354915B1. Автор: Lee Melbourne Cook,David B. James,Arthur Richard Baker. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-03-12.

Polishing pad with grinding consistency end point detection window and application thereof

Номер патента: CN115056137A. Автор: 王凯,谢毓. Владелец: Wanhua Chemical Group Electronic Materials Co ltd. Дата публикации: 2022-09-16.

Polishing pad

Номер патента: US09737972B2. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Cmp pad with local area transparency

Номер патента: SG182327A1. Автор: Ping Huang,William Allison,Diane Scott,Robert Kerprich,Richard Frentzel. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2012-08-30.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Microreplicated polishing pad including fluorinated polymer window

Номер патента: WO2023126854A1. Автор: QIN Lin,Craig R. Hoff,Matthew J. TRIEMERT,Duy K. LEHUU,David J. MURADIAN,Alexander W. SIMPSON. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad

Номер патента: EP1224060B1. Автор: Stanley E. Eppert, Jr.,Alan H. Saikin,Peter W. Freeman,Marco A. Acevedo. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-23.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: EP1210209A4. Автор: John V H Roberts,David B James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-30.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: WO2001012387A1. Автор: John V. H. Roberts,David B. James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2001-02-22.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: EP1210209A1. Автор: John V. H. Roberts,David B. James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-05.

Broad Spectrum, Endpoint Detection Window Multilayer Chemical Mechanical Polishing Pad

Номер патента: US20140256232A1. Автор: Degroot Marty W.,James David B.,Repper Angus,Leugers Mary A.. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-11.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US09931728B2. Автор: Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Using sacrificial material in additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20210114172A1. Автор: Daniel REDFIELD,Jason Garcheung Fung,Mayu Felicia Yamamura. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Using sacrificial material in additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20230256567A1. Автор: Daniel REDFIELD,Jason Garcheung Fung,Mayu Felicia Yamamura. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Method of using polishing pad

Номер патента: US11691243B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-04.

Method of using polishing pad

Номер патента: US12070833B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Polishing pad, methods of manufacturing and use

Номер патента: US6090475A. Автор: Karl M. Robinson,Michael A. Walker,John K. Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-18.

Polishing pad comprising magnetically sensitive particles and method for the use thereof

Номер патента: EP1915234A2. Автор: Ronald Legal Dept. Cabot Microelec. Corp. MYERS,Abaneshwar Legal Dept. Cabot Microelec. Corp. PRASAD. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-04-30.

Polishing pad having a tricot mesh faberic as a base

Номер патента: US20110195646A1. Автор: Myung Mook Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-11.

Composite polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09682457B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Wen-Chieh Wu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Polyurethane polishing pad

Номер патента: US09731398B2. Автор: Benson Lee,Bainian Qian,Raymond L. Lavoie, JR.,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Polishing pads with improved planarization efficiency

Номер патента: WO2023219783A1. Автор: Ashwin CHOCKALINGAM,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-16.

Polishing pads with improved planarization efficiency

Номер патента: US20230364735A1. Автор: Ashwin CHOCKALINGAM,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240253178A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US09956669B2. Автор: Toshiro Doi,Masataka Takagi,Kiyoshi Seshimo,Hiroshi Kashiwada. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Method of manufacturing a polishing pad using a beam

Номер патента: US20020144985A1. Автор: Frank Miceli,Annette Crevasse,William Easter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: EP4431236A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Lifetime self-indicated polishing pad

Номер патента: GB2345657B. Автор: Hsueh-Chung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-08-15.

Polishing pad conditioning system and method of using

Номер патента: US20240009801A1. Автор: Wen Yen Kung. Владелец: TSMC Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Method of using polishing pad

Номер патента: US20230339068A1. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Polishing pad, polishing apparatus, and method for making the polishing pad

Номер патента: US20170297165A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Kun-Cheng Tsai. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Polishing pad, manufacturing method of polishing pad and polishing method

Номер патента: US20190321936A1. Автор: Yu-Piao Wang,I-Ping Chen. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Polishing pads formed using an additive manufacturing process and methods related thereto

Номер патента: WO2020153979A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-30.

Polishing pads formed using an additive manufacturing process and methods related thereto

Номер патента: EP3797015A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-31.

Polishing pad conditioner equipped polishing pad life time detecting device and polishing pad life time detecting method

Номер патента: KR20070028191A. Автор: 이창섭. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2007-03-12.

Polishing pad conditioning apparatus

Номер патента: US20210060727A1. Автор: Shih-Chung Chen,Hung-Lin Chen,Cheng-Ping Chen,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Polishing pad conditioning apparatus

Номер патента: US20230234184A1. Автор: Shih-Chung Chen,Hung-Lin Chen,Cheng-Ping Chen,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Polishing pad, production method for same, and production method for glass substrate

Номер патента: US8979611B2. Автор: Akinori Sato,Nobuyoshi Ishizaka. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-17.

Polishing pads useful for endpoint detection in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030148721A1. Автор: Manoocher Birang,Boguslaw Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-07.

Leak proof pad for cmp endpoint detection

Номер патента: WO2011008499A3. Автор: Young J. Paik,Ashish Bhatnagar,Kadthala Ramaya Narendrnath,Christopher R. Mahon. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Method of fabricating a polishing pad having an optical window

Номер патента: US20030084774A1. Автор: KYLE David. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2003-05-08.

Method of fabricating a polishing pad having an optical window

Номер патента: WO2003039812A1. Автор: Kyle W. David. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2003-05-15.

Method of fabricating polishing pad having detection window thereon

Номер патента: US7875335B2. Автор: Wen-Chang Shih,Yung-Chung Chang,Min-Kuei Chu,Lung-Chen Wei. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-25.

Polishing pad for wafer polishing device, and apparatus and method for manufacturing same

Номер патента: US20230040654A1. Автор: Jin Woo Ahn,Soo Cheon JANG. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Ultra high void volume polishing pad with closed pore structure

Номер патента: WO2015027026A1. Автор: Robert Vacassy,George Fotou,Achla Khanna. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2015-02-26.

Polishing pads with interconnected pores

Номер патента: WO2022265826A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240316721A1. Автор: Masamitsu Kimura,Koshiro Suzuki,Hideji HORITA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Surface treatment method of polishing pad and polishing method of wafer using the same

Номер патента: WO2013069938A1. Автор: Sehun CHOI,Kyeongsoon KIM,Younghee MOON. Владелец: LG Siltron Inc.. Дата публикации: 2013-05-16.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Polishing pad and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230381913A1. Автор: Boun Yoon,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

A polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: WO2000034008A9. Автор: Robert D Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-29.

Polishing pad and method of monitoring a polishing process using the same

Номер патента: US20240227113A1. Автор: JANGWON SEO,Kyung Hwan Kim,Joonho AN,Chang Gyu Im,Yujin Shin. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

CMP polishing pad with polishing elements on supports

Номер патента: US11833638B2. Автор: Bryan E. Barton,John R. McCormick. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Holding Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: US20010055939A1. Автор: Robert Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-12-27.

Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof

Номер патента: WO2006089293A1. Автор: Pradip K. Roy,Manish Deopura,Sudhanshu Misra. Владелец: Neopad Technologies Corporation. Дата публикации: 2006-08-24.

Polishing pad, and polishing method

Номер патента: EP4282588A1. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240131654A1. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Polishing pad, and polishing method using same

Номер патента: EP3858546A1. Автор: Shota HISHIDA,Toru Kamada,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2021-08-04.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240227119A9. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing apparatus and polishing pad

Номер патента: EP1395394A1. Автор: Shinro c/o Ebara Corporation OHTA,Kazuo c/o Ebara Corporation SHIMIZU. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2004-03-10.

Polishing pad and method for manufacturing same

Номер патента: SG11201407257TA. Автор: Bong-su Ahn,Sang-Mok Lee,Jang-Won SEO,Seung-geun Kim,Hak-Su Kang,Jeong-Seon CHOO,Kee-Cheon Song,Jin-Su Jeong,Young-Jun Jang,Gyoung-Pyo Kong. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2014-12-30.

Tank and method for producing polishing pad using tank

Номер патента: MY163432A. Автор: Hiroshi Seyanagi. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-15.

Polishing pads with interconnected pores

Номер патента: US11951590B2. Автор: Rajeev Bajaj,Ashwin CHOCKALINGAM,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Jason Garcheung Fung,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Porous chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230330805A1. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: US11806829B2. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Polishing pad installation tool

Номер патента: US20020081958A1. Автор: Bernard Foster. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-27.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Polishing pad, method for preparing the same, and chemical and mechanical polishing equipment

Номер патента: US11839945B2. Автор: Sungwoo Cho,Yuxuan Guo. Владелец: Xian Eswin Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: WO2021257136A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-23.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: US20240025010A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: EP4168210A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-26.

Composite polishing pad including highly abrasion-resistant thin film coating bound with carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240217056A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Composite polishing pad including highly abrasion-resistant thin film coating bound with carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: EP4431235A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Polishing pads for high temperature processing

Номер патента: US11911870B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,You Wang,Yingdong Luo,Aniruddh Jagdish KHANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030027500A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2003-02-06.

Base pad polishing pad and multi-layer pad comprising the same

Номер патента: EP1715980A1. Автор: Hyun-Woo Lee,Ju-Yeol Lee,Eu-Gene Song,Sung-Min 304-202 Joogong Apt. Gaesin-dong KIM,Jae-Seok 307-1305 Joogong Apt Boonpyung-dong KIM. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-02.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: CA2305106C. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2008-07-08.

Polishing pad having micro-grooves on the pad surface

Номер патента: WO2008011535A3. Автор: David Adam Wells,Marc C Jin,Oscar K Hsu,John Erik Aldeborgh. Владелец: John Erik Aldeborgh. Дата публикации: 2008-10-02.

Polishing pad and surface polishing method

Номер патента: MY124043A. Автор: Nakamura Koji,ITO Yasushi,Ichino Mitsuyoshi,Ishizawa Yoshiaki,Shimobayashi Takahiro,Ikemori Gosuke,Fujisawa Yuichiro. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-30.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: US6656018B1. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2003-12-02.

Removable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124176A1. Автор: Leonard J. Borucki. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2009-05-14.

Polishing pad, polishing apparatus and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20150202732A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Chun-Ta Wang,Wei-Te Liu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240139903A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Polishing pad

Номер патента: US20240042573A1. Автор: Takeshi Sato,Norihisa Arifuku. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Polishing pad

Номер патента: EP4382250A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Azusa SUNAYAMA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Polishing pad

Номер патента: MY153331A. Автор: Nakamura Kenji,Fukuda Takeshi,SATO Akinori,Doura Masato,Hirose Junji. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2015-01-29.

Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process

Номер патента: US20240123568A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Polishing pads for a semiconductor substrate

Номер патента: AU4982799A. Автор: Frank B. Kaufman,Sriram P. Anjur,Roland K. Sevilla. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-02-01.

Polishing pads for a semiconductor substrate

Номер патента: MY133820A. Автор: Roland K Sevilla,Frank B Kaufman,Sriram P Anjur. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-11-30.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing pad and method for producing the same

Номер патента: MY153842A. Автор: Kenji Nakamura,Takeshi Fukuda,Akinori Sato,Junji Hirose,Masato Doura. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2015-03-31.

Method for manufacturing glass substrate for information recording medium, method for manufacturing information recording medium, and polishing pad

Номер патента: MY175952A. Автор: Komatsu Takafumi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

Hydrophilic and zeta potential tunable chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11826876B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Ankit Vora,Sudhakar Madhusoodhanan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Printed chemical mechanical polishing pad having particles therein

Номер патента: US11794308B2. Автор: Kasiraman Krishnan,Nag B. Patibandla,Periya Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Printing of polishing pads

Номер патента: US20010041511A1. Автор: David James,Craig Lack,Chau Duong. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2001-11-15.

Broad spectrum, endpoint detection window chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US20140256226A1. Автор: James David B.,Repper Angus,Leugers Mary A.. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-11.

FLANGED OPTICAL ENDPOINT DETECTION WINDOWS AND CMP POLISHING PADS CONTAINING THEM

Номер патента: US20190084120A1. Автор: Pisklak Stephen G.,Hendron Jeffrey James. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-21.

POLISHING PAD FOR SUBSTRATE POLISHING APPARATUS AND SUBSTRATE POLISHING APPARATUS HAVING POLISHING PAD

Номер патента: US20200001424A1. Автор: KIMBA Toshifumi. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-02.

Polishing pad for substrate polishing apparatus and substrate polishing apparatus having polishing pad

Номер патента: SG10201905761RA. Автор: KIMBA Toshifumi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

POLISHING PAD AND MANUFACTURING METHOD OF POLISHING PAD AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20190061096A1. Автор: Wang Yu-Piao. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2019-02-28.

Polishing pad, method of preparing a polishing pad and method of polishing a substrate

Номер патента: TWI222389B. Автор: Roland K Sevilla,Jeremy Jones,James A Hicks. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-10-21.

Surface treated window for polishing pad and polishing pad comprising the same

Номер патента: KR101945874B1. Автор: 허혜영,안재인,윤종욱,서장원,윤성훈. Владелец: 에스케이씨 주식회사. Дата публикации: 2019-02-11.

Surface treated window for polishing pad and polishing pad comprising the same

Номер патента: TW201919818A. Автор: 尹鍾旭,尹晟勛,徐章源,安宰仁,許惠映. Владелец: 南韓商Ｓｋｃ股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-01.

Polishing pad with transparent window having reduced window leakage for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030171070A1. Автор: Robert Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-09-11.

Polishing pad, polishing apparatus and method for polishing wafer

Номер патента: US20040266322A1. Автор: Kenji Kobayashi,Mitsunari Satake,Muneyuki Matsumoto,Eigo Shirakashi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-12-30.

Method of manufacturing polishing pad having detection window and polishing pad having detection window

Номер патента: TWI396602B. Автор: Kun Che Pai,Shiuan Tzung Li,Chao Chin Wang,Wei Wen Yang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-21.

Method of manufacturing polishing pad having detection window and polishing pad having detection window

Номер патента: TW201121710A. Автор: Kun-Che Pai,Shiuan-Tzung Li,Chao-Chin Wang,Wei-Wen Yang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-01.

Polishing pad for wafer polishing apparatus and manufacturing method therefor

Номер патента: EP3708299B1. Автор: Jin Woo Ahn. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-25.

There is the multilayer chemical mechanical polishing pad of wide spectrum end point detection windows

Номер патента: CN104029115B. Автор: M·A·洛伊格斯,A·雷珀,D·B·詹姆士,M·德格鲁特. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2017-03-01.

POLISHING PAD WITH GROOVED FOUNDATION LAYER AND POLISHING SURFACE LAYER

Номер патента: US20150266160A1. Автор: Scott Diane,Allison William C.,Lefevre Paul Andre,LaCasse James P.. Владелец: . Дата публикации: 2015-09-24.

POLISHING PAD WITH FOUNDATION LAYER AND POLISHING SURFACE LAYER

Номер патента: US20150273656A1. Автор: Scott Diane,Allison William C.,Simpson Alexander William,Lefevre Paul Andre,LaCasse James P.. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-01.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Polishing-pad laminated structure, polishing-pad positioning instrument, and method of attaching a polishing pad to a polishing table

Номер патента: US11642753B2. Автор: Toshikazu Nomura,Nobuyuki Takahashi,Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Suguru Sakugawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-09.

Polishing-pad laminated structure, polishing-pad positioning instrument, and method of attaching a polishing pad to a polishing table

Номер патента: US20200023489A1. Автор: Toshikazu Nomura,Nobuyuki Takahashi,Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Suguru Sakugawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-23.

Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process

Номер патента: US11772229B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Polishing pad with recessed window

Номер патента: EP1667816A1. Автор: Kyle A. Cabot Microelectronics Corp. TURNER,Jeffrey L. Cabot Microelectronics Corp. BEELER,Kelly J. Cabot Microelectronics Corp. NEWELL. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-06-14.

Polishing pad, polishing pad tile and method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2009025533A2. Автор: Yang-Soo Park,Won-Joon Kim. Владелец: Kolon Industries, Inc. Дата публикации: 2009-02-26.

Polishing pad, polishing pad tile and method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2009025533A3. Автор: Yang-Soo Park,Won-Joon Kim. Владелец: Won-Joon Kim. Дата публикации: 2009-04-30.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: EP1622193A4. Автор: Mitsuru Saito,Toshihiro Izumi,Takuya Nagamine,Hisatomo Ohno,Ichiro Kodaka,Claughton Miller. Владелец: Nihon Micro Coating Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-20.

Polishing pad with alignment feature

Номер патента: US20150152236A1. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Robert Kerprich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-04.

Method for polishing using polishing pad provided with adsorption layer

Номер патента: US20200147749A1. Автор: Daisuke Ninomiya,Toshiyasu Yajima. Владелец: Maruishi Sangyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Polishing pad and wafer notch polishing method

Номер патента: US20240293911A1. Автор: Takashi Ueno,Takatoshi Hattori,Takamasa Goto,Masatoshi Kishimoto,Sari SHOJI. Владелец: Bbs Kinmei Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Method for manufacturing polishing pad and polishing pad

Номер патента: US09862071B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Lyang-Gung Wang. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: GB9902373D0. Автор: . Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-24.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: MY122396A. Автор: Hisashi Masumura,Kiyoshi Suzuki,Teruaki Fukami. Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2006-04-29.

Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof

Номер патента: IL185099A. Автор: . Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2013-11-28.

Polishing pad

Номер патента: US20240157505A1. Автор: Osamu Kinoshita,Kazuo Shoji. Владелец: Universal Photonics Far East Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: EP1372908A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Method and apparatus for supporting a polishing pad during chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006879A1. Автор: Michael Walker,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Polishing layer of polishing pad and method of forming the same and polishing method

Номер патента: US09969049B2. Автор: Kun-Che Pai,Yu-Hao Pan. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20190099860A1. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: WO2012051197A1. Автор: Ping Huang,William C. Allison,Diane Scott,James P. LaCasse. Владелец: NexPlanar Corporation. Дата публикации: 2012-04-19.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: MY167541A. Автор: Ping Huang,Diane Scott,William C Allison,James P Lacasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-09-05.

Method of forming structured-open-network polishing pads

Номер патента: US9108291B2. Автор: Hamed Lakrout. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-08-18.

Polishing pad cluster for polishing a semiconductor wafer

Номер патента: US5575707A. Автор: Homayoun Talieh,David E. Weldon. Владелец: Ontrak Systems Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Laminated polishing pad and method for producing same

Номер патента: US20150079879A1. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Polishing pad and apparatus for polishing a semiconductor wafer

Номер патента: US6077153A. Автор: Takashi Fujita,Yuzo Kozai,Motoyuki Ohara. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-06-20.

Polishing pad, method for producing the same and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US11951591B2. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jae In Ahn. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Polishing pad

Номер патента: EP1536920B1. Автор: Markus c/o P & M NAUJOK. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-12.

Polishing pad, manufacturing method of polishing pad and polishing method

Номер патента: US11850701B2. Автор: Yu-Piao Wang,Liang-Chi Tu. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Polishing pad with controlled abrasion rate

Номер патента: US5297364A. Автор: Mark E. Tuttle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-03-29.

Wafer edge asymmetry correction using groove in polishing pad

Номер патента: US20240075583A1. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Wafer edge asymmetry correction using groove in polishing pad

Номер патента: US11951589B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods for making and using such pads and machines

Номер патента: US6361832B1. Автор: Scott G. Meikle,Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing pad, polishing unit, polishing device, and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20230173637A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Polishing pad

Номер патента: US20230364736A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Yoshihide Kawamura,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US11872671B2. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US11524389B2. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-13.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: WO2002078902A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2002-10-10.

Polishing pad, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20240189959A1. Автор: Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Laminate polishing pad

Номер патента: SG184115A1. Автор: Atsushi Kazuno. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2012-10-30.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Polishing pad design

Номер патента: US6887131B2. Автор: Paul Fischer,Sadasivan Shankar,Lei Jiang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-05-03.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Polishing pads and methods relating thereto

Номер патента: US6843712B2. Автор: Lee Melbourne Cook,David B. James,John H. V. Roberts. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-01-18.

Polishing pad

Номер патента: US20140154962A1. Автор: Seiji Fukuda,Shigetaka Kasai,Ryoji Okuda,Nana Takeuchi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-06-05.

Single surface polishing device, single surface polishing method, and polishing pad

Номер патента: EP4180178A4. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Composition for Forming Polishing Pad, Crosslinked Body for Polishing Pad, Polishing Pad Using the Same and Method for Producing Thereof

Номер патента: KR100770083B1. Автор: 도무 고무라,고 하세가와,유따까 고바야시. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-10-24.

Composition for forming polishing pad, crosslinked body for polishing pad, polishing pad using the same and method for producing thereof

Номер патента: US20020078632A1. Автор: Kou Hasegawa,Yutaka Kobayashi,Tomoo Koumura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-06-27.

POLISHING PAD, METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20190099856A1. Автор: Lin Pinyen,HUANG Chi-Hao,LIU Hsuan-Pang,SIE Yuan-Chun,Chien Cheng-Chung. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-04.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6210257B1. Автор: David W. Carlson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-03.

Crosslinked polyethylene polishing pad for chemical-mechnical polishing, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: WO2002043922A1. Автор: Yaw S. Obeng,Edward M. Yokley. Владелец: Psiloquest, Inc.. Дата публикации: 2002-06-06.

Method for manufacturing polishing pad for wafer and the polishing pad

Номер патента: KR100699522B1. Автор: 서학철. Владелец: (주)제이티앤씨. Дата публикации: 2007-03-27.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

An optimized grooving structure for a cmp polishing pad

Номер патента: WO2006026271A1. Автор: Peter Renteln. Владелец: J. H. Rhodes, Inc.. Дата публикации: 2006-03-09.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Polishing Pad with Secondary Window Seal

Номер патента: US20230278158A1. Автор: Yongqi Hu,Simon Yavelberg,Periya Gopalan,Rajkumar Alagarsamy,Christopher R. Mahon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Polishing pad with secondary window seal

Номер патента: US09731397B2. Автор: Yongqi Hu,Simon Yavelberg,Periya Gopalan,Rajkumar Alagarsamy,Christopher R. Mahon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

CMP polishing pad backside modifications for advantageous polishing results

Номер патента: US5913713A. Автор: Matthew J. Rutten,Terrance M. Wright,John E. Cronin,Roger W. Cheek,Douglas P. Nadeau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-06-22.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US6159088A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-12-12.

Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate

Номер патента: US5628862A. Автор: Chris C. Yu,Tat-Kwan Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1997-05-13.

Apparatus for distributing a fluid through a polishing pad

Номер патента: US20030027506A1. Автор: Stephen Schultz,John Herb. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2003-02-06.

CMP polishing pad

Номер патента: US6217426B1. Автор: Gopalakrishna B. Prabhu,Steven T. Mear,Robert D. Tolles,Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-17.

Polishing pad, conditioner and method for polishing the same

Номер патента: MY135978A. Автор: Lee Hyun Woo,KIM Sung Min,Kim Jae Seok,KIM Geon,LEE Jong Myung,Lee Ju Yeol,Park In Ha,Song Eu Gene. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Apparatus of cleaning a polishing pad and polishing device

Номер патента: US11780050B2. Автор: Ji Hwan CHO. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Polishing pad having a groove arrangement for reducing slurry consumption

Номер патента: US7125318B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-10-24.

Polishing pad having a groove arrangement for reducing slurry consumption

Номер патента: EP1533076A1. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-05-25.

Detection window, chemical mechanical polishing pad and polishing system

Номер патента: CN113478382B. Автор: 王腾,刘敏,杨浩,罗乙杰,王淑芹,林文多. Владелец: Hubei Dinghui Microelectronics Materials Co ltd. Дата публикации: 2022-11-04.

Polishing pad with high optical transmission window

Номер патента: EP1535699B1. Автор: John V. H. Roberts. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-05-03.

POLISHING PAD FOR ENDPOINT DETECTION AND RELATED METHODS

Номер патента: US20130295826A1. Автор: Swedek Boguslaw A.,Birang Manoocher. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

Method and apparatus for endpoint detection during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003041909A1. Автор: Prabodh J. Parikh. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-05-22.

Polishing pad having a pressure relief channel

Номер патента: US20050281983A1. Автор: Robert Gamble,T. Crkvenac,Jason Lawhorn. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-12-22.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Polishing pad with controlled release of desired micro-encapsulated polishing agents

Номер патента: TW434101B. Автор: Matthew Jeremy Rutten,Erick G Walton,Clifford Owen Morgan,Terrance Monte Wright,Matthew Kilpatrick Miller. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-05-16.

Lifetime self-indicate polishing pad for chemical mechanical polisher comprises a pad with body having multicolored indicate layers with a top surface

Номер патента: FR2789005A1. Автор: Hsueh Chung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-08-04.

Polishing pad and a method for making a polishing pad with covalently bonded particles

Номер патента: US5624303A. Автор: Karl M. Robinson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-04-29.

POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD

Номер патента: US20180036861A1. Автор: FENG CHUNG-CHIH,HUNG YUNG-CHANG,YAO I-PENG,Wu Wen-Chieh,CHEN Chin-Wei,SUNG PIN-HSIEN. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-08.

POLISHING PAD, MANUFACTURING METHOD OF POLISHING PAD AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20190321936A1. Автор: Wang Yu-Piao,Chen I-Ping. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2019-10-24.

Polishing pad, polishing apparatus and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: TW201611947A. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Chun-Ta Wang,Wei-Te Liu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co. Дата публикации: 2016-04-01.

Polishing pad having covalently bonded particles and method of manufacturing polishing pad

Номер патента: JP4174607B2. Автор: エム． ロビンソン カール. Владелец: マイクロン テクノロジー， インク．. Дата публикации: 2008-11-05.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pads

Номер патента: US20070049164A1. Автор: Clifford Thomson,Scott Daskiewich,Jeffrey Doyle. Владелец: JH RHODES CO Inc. Дата публикации: 2007-03-01.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pads

Номер патента: WO2007025226A1. Автор: Clifford O. Thomson,Scott B. Daskiewich,Jeffrey C. Doyle. Владелец: JH RHODES COMPANY, INC.. Дата публикации: 2007-03-01.

Method for manufacturing a polishing pad and polishing pad

Номер патента: EP2859997A1. Автор: Dr. Guido Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-04-15.

PHYSICAL-CHEMICAL POLISHING PAD, POLISHING DEVICE USING SUCH A PAD AND METHOD FOR FORMING INSULATION IN A SUBSTRATE

Номер патента: FR2789005B1. Автор: Hsueh Chung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-03-30.

Pad conditioning unit, substrate polishing apparatus having the same and method of conditioning polishing pad using the same

Номер патента: KR101083778B1. Автор: 이승호,최기훈. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-11-18.

Method for manufacturing a polishing pad and polishing pad

Номер патента: EP2859997B1. Автор: Dr. Guido Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-09-30.

Pad conditioning unit, substrate polishing apparatus having the same and method of conditioning polishing pad using the same

Номер патента: KR101041453B1. Автор: 권오진,최기훈. Владелец: 세메스 주식회사. Дата публикации: 2011-06-16.

METHOD OF MANUFACTURING POLISHING PAD HAVING DETECTION WINDOW AND POLISHING PAD HAVING DETECTION WINDOW

Номер патента: US20140057540A1. Автор: YANG Wei-Wen,Pai Kun-Che,LI Shiuan-Tzung,WANG Chao-Chin. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2014-02-27.

Polishing pad with endpoint window and systems and methods using the same

Номер патента: US20110143539A1. Автор: Rajeev Bajaj,William D. Joseph,Stephen Mark Fisher. Владелец: Stephen Mark Fisher. Дата публикации: 2011-06-16.

Polishing pad with endpoint window and systems and method using the same

Номер патента: KR101281076B1. Автор: 라지브 바자지,스테핀 엠 피셔,윌리암 디 조셉. Владелец: 세미퀘스트, 인코포레이티드. Дата публикации: 2013-07-09.

Polishing pad with reduced stress window

Номер патента: TW200539987A. Автор: John V H Roberts,Robert T Gamble,Jason M Lawhorn,Kyle W David,Leslie A Haschak,George E Lamborn Iii. Владелец: Rohm & Haas Elect Mat. Дата публикации: 2005-12-16.

POLISHING APPARATUS, POLISHING PAD POSITIONING METHOD, AND POLISHING PAD

Номер патента: US20150004886A1. Автор: Sakurai Takeshi,HAMAURA Kaoru,OGURA Suguru. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-01.

Method of fabricating polishing pad having detection window thereon

Номер патента: US20060197249A1. Автор: Wen-Chang Shih,Yung-Chung Chang,Min-Kuei Chu,Lung-Chen Wei. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-09-07.

Polishing pad, polishing plate hole cover, polishing apparatus, polishing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: EP1475827A1. Автор: Tsutomu Kobayashi,Kazuhiko Hashisaka,Kuniyasu Shiro. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2004-11-10.

Polishing pad having sealing barrier to protect fluid permeation onto window for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR100532440B1. Автор: 부재필,이상선,김진국,김종복. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2005-11-30.

Polishing pad, polishing plate hole cover, polishing apparatus, polishing method, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: EP1475827A4. Автор: Tsutomu Kobayashi,Kazuhiko Hashisaka,Kuniyasu Shiro. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2006-05-24.

Apparatus and method for providing a signal port in a polishing pad for optical endpoint detection

Номер патента: US6599765B1. Автор: John M. Boyd,Michael S. Lacy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-29.

Methods and systems for monitoring a parameter of a measurement device during polishing, damage to a specimen during polishing, or a characteristic of a polishing pad or tool

Номер патента: US20030180973A1. Автор: Kurt Lehman,Charles Chen,Robert Shinagawa,Anantha Sethuraman,Thanassis Trikas,Haiguang Chen,Ronald Allen,Christopher Bevis,Ching Meng. Владелец: KLA Tencor Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-25.

Chemical mechanical polishing pad with light stable polymeric endpoint detection window and method of polishing therewith

Номер патента: TW201219436A. Автор: Adam Loyack,Mary Jo Kulp,Alan Nakatani,david g Kelly. Владелец: Rohm & Haas Elect Mat. Дата публикации: 2012-05-16.

Chemical mechanical polishing pad with light stable polymeric endpoint detection window and method of polishing therewith

Номер патента: US8257545B2. Автор: Adam Loyack,Mary Jo Kulp,Alan Nakatani,David G. Kelly. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2012-09-04.

Chemical mechanical polishing pad with light stable polymeric endpoint detection window and method of polishing therewith

Номер патента: CN102554765A. Автор: M·J·库尔普,D·G·凯利,A·洛亚克,A·纳卡塔尼. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2012-07-11.

Apparatus and method for removing a cmp polishing pad from a platen

Номер патента: US20050277368A1. Автор: Jun Liu,Gerard Moloney,Cormac Walsh,A. Ernesto Saldana. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2005-12-15.

Multi-phase polishing pad

Номер патента: US20020197946A1. Автор: Ramin Emami,Robert Lum,Sourabh Mishra. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-12-26.

Ultra high void volume polishing pad with closed pore structure

Номер патента: SG10201801419XA. Автор: Robert Vacassy,George Fotou,Achla Khanna. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-03-28.

Ultra high void volume polishing pad with closed pore structure

Номер патента: SG11201601177SA. Автор: Robert Vacassy,George Fotou,Achla Khanna. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-03-30.

Ultra high void volume polishing pad with closed pore structure

Номер патента: EP3036760A4. Автор: Robert Vacassy,George Fotou,Achla Khanna. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-05-03.

Base pad of polishing pad and multi-layer pad comprising the same

Номер патента: TW200536663A. Автор: Sung-min Kim,Hyun-Woo Lee,Jae-Seok Kim,Ju-Yeol Lee,Eu-Gene Song. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2005-11-16.

A polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: TW415869B. Автор: Robert D Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-21.

Polishing pad for endpoint detection and related methods

Номер патента: US9333621B2. Автор: Manoocher Birang,Boguslaw A. Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Method of adhering polishing pads and jig for adhering the same

Номер патента: MY138787A. Автор: Yoshio Nakamura,Harumichi Koyama. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2009-07-31.

Method of adhering polishing pads and jig for adhering the same

Номер патента: MY137884A. Автор: Yoshio Nakamura. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2009-03-31.

POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS, AND METHOD FOR MAKING THE POLISHING PAD

Номер патента: US20140110058A1. Автор: FENG CHUNG-CHIH,HUNG YUNG-CHANG,YAO I-PENG,TSAI Kun-Cheng. Владелец: SAN FANG CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD.. Дата публикации: 2014-04-24.

POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD

Номер патента: US20150050866A1. Автор: FENG CHUNG-CHIH,HUNG YUNG-CHANG,YAO I-PENG,Wu Wen-Chieh. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-19.

POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD

Номер патента: US20160082568A1. Автор: FENG CHUNG-CHIH,WANG CHUN-TA,HUNG YUNG-CHANG,YAO I-PENG,LIU WEI-TE. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-24.

POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD

Номер патента: US20180111247A1. Автор: FENG CHUNG-CHIH,HUNG YUNG-CHANG,YAO I-PENG,LIU WEI-TE. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-26.

POLISHING PAD, METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20170151648A1. Автор: Lin Pinyen,HUANG Chi-Hao,LIU Hsuan-Pang,SIE Yuan-Chun,Chien Cheng-Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-06-01.

Polishing pad, polishing apparatus and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20150202732A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Chun-Ta Wang,Wei-Te Liu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Manufacturing method of abrasive particle mixture composition, abrasive particle mixture composition, polishing pad using the same, polishing pad manufacturing method, and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP4452015B2. Автор: ▲ひゅん▼淳 朴,容壽 崔. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-04-21.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: EP1447840A1. Автор: Hisatomo NIHON MICRO COATING CO. LTD. OHNO,Satoru NIHON MICRO COATING CO. LTD. SATO,Kazunari NIHON MICRO COATING CO. LTD. OSAWA. Владелец: Nihon Micro Coating Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-18.

Cmp polishing pad with protruding structures having engineered open void space

Номер патента: US20230311269A1. Автор: Bryan E. Barton,John R. McCormick. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Fluid dispensing fixed abrasive polishing pad

Номер патента: WO2001024969A2. Автор: Liming Zhang,Andrew Black,Landon Vines. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-04-12.

Polishing pad for polishing a workpiece, chemical mechanical polishing apparatus, and method for polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: JP5789634B2. Автор: 遊 石井,賢也 伊藤,伊藤　賢也,正三 高橋,美加 鈴木. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-10-07.

POLISHING PAD WITH PAD WEAR INDICATOR

Номер патента: US20190224811A1. Автор: Vasquez Nestor A.,Gadinski Matthew R.,Guzman Mauricio E.,Hou Guanhua. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-25.

POLISHING PAD WITH FOUNDATION LAYER AND POLISHING SURFACE LAYER

Номер патента: US20150273655A1. Автор: Scott Diane,Allison William C.,Simpson Alexander William,Lefevre Paul Andre,LaCasse James P.. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-01.

Polishing pad and system and manufacture and this polishing pad of use and the method for system

Номер патента: CN106163740A. Автор: D·K·勒胡,K·A·P·梅耶,M·M·戴维. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2016-11-23.

Polishing pad and method for producing polishing pad

Номер патента: KR20170013315A. Автор: 도시카즈 다우라,후미히로 무카이. Владелец: 반도 카가쿠 가부시키가이샤. Дата публикации: 2017-02-06.

Composition for polishing pad and using this polishing pad

Номер патента: TWI234503B. Автор: Nobuo Kawahashi,Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Katsuaki Morino,Kuo Hasegawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2005-06-21.

Composition for polishing pad and polishing pad therewith

Номер патента: EP1394202A2. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Katsuaki Morino. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-03-03.

Composition for polishing pad and polishing pad therewith

Номер патента: EP1394202A3. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Katsuaki Morino. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-03-31.

Composition for polishing pad and polishing pad therewith

Номер патента: US20040063391A1. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Katsuaki Morino. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-04-01.

Polishing pad with micro grooves on the pad surface

Номер патента: JP5460316B2. Автор: オスカー・ケイ・ス,マーク・シー・ジン,デイヴィッド・アダム・ウェルズ,ジョン・エリック・アルデボー. Владелец: イノパッド，インコーポレイテッド. Дата публикации: 2014-04-02.

Polishing pad and polishing pad manufacturing method

Номер патента: JP2022153965A. Автор: Hiroshi Kurihara,哲平 立野,浩 栗原,Teppei Tateno,大和 ▲高▼見沢,さつき 山口,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2022-10-13.

Formulations for advanced polishing pads

Номер патента: US20230294239A1. Автор: Rajeev Bajaj,Mo Yang,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Boyi FU,Ankit Vora,Mario CORNEJO,Mayu YAMAMURA,Venkat HARIHARAN,Igor ABRAMSON. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US20020098778A1. Автор: Masayuki Takashima,Kazumasa Ueda. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-25.

Polishing pad and its manufacture method, a polishing device and polishing method

Номер патента: CN101184582B. Автор: 阿巴内施沃·普拉萨德,迈克尔·莱西. Владелец: Cabot Corp. Дата публикации: 2010-05-19.

Wafer cleaning and polishing pad, wafer cleaning and polishing chamber, and method of cleaning and polishing wafer

Номер патента: CN111251174B. Автор: 杨青海,高耀寰,刘黄升. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-14.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: MY159320A. Автор: Kenji Nakamura,Yoshiyuki Nakai,Kazuyuki Ogawa. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2016-12-30.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6106662A. Автор: John A. Adams,Christopher E. Barns,Thomas Frederick Allen Bibby, Jr.,Robert A. Eaton,Charles Hannes. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2000-08-22.

Pad temperature adjustment apparatus for adjusting temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: US20190193237A1. Автор: Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-06-27.

Reinforced polishing pad for linear chemical mechanical polishing and method for forming

Номер патента: US20030013398A1. Автор: Tsu Shih,Wen-Chih Chiou,Ying-Ho Chen,Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Method and apparatus for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: US09943943B2. Автор: Akira Nakamura,Hiroyuki Shinozaki,Akira Imamura,Takahiro SHIMANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Method and system for monitoring polishing pad before cmp process

Номер патента: US20180169825A1. Автор: Yen-Chih Chen,Yi-Chang Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: EP4446057A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: WO2001049453A1. Автор: Alex Finkelman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2001-07-12.

Method for estimating life of polishing pad and polishing device

Номер патента: US20230381910A1. Автор: Kenichiro Saito,Seiji Murata,Ban ITO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Method of regulating a surface temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: US20190308293A1. Автор: Mitsunori Komatsu,Keisuke Kamiki,Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Polishing pad dresser, polishing apparatus and polishing pad dressing method

Номер патента: US09849558B2. Автор: Dai Fukushima,Takayuki Nakayama. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Method and apparatus for dressing polishing pad

Номер патента: US20110312254A1. Автор: Harumichi Koyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-22.

CMP of a circlet wafer using disc-like brake polish pads

Номер патента: US6099387A. Автор: Mark I. Gardner,Mark C. Gilmer. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-08-08.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Method and a system for evaluating the physical consumption of a polishing pad of a cmp apparatus, and cmp apparatus

Номер патента: US20210402559A1. Автор: Renato CORETTI,Simone RIZZARDINI,Valentina ROBBIANO. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2021-12-30.

System and method for polishing and planarization of semiconductor wafers using reduced surface area polishing pads

Номер патента: WO2002053322A3. Автор: Yehiel Gotkis,John M Boyd,Rod Kistler. Владелец: Rod Kistler. Дата публикации: 2003-05-01.

Arrangement and method for conditioning a polishing pad

Номер патента: EP1270148A1. Автор: Walter Glashauser,Benno Utess,Andreas Purath,Peter Faustmann. Владелец: Infineon Technologies SC300 GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-02.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Method of regulating a surface temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: SG10201902954VA. Автор: KOMATSU Mitsunori,KAMIKI Keisuke,KABASAWA Masashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Polishing apparatus having surface-property measuring device of polishing pad and polishing system

Номер патента: US11958161B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing system with annular platen or polishing pad

Номер патента: US11780046B2. Автор: Fred C. Redeker,Paul D. Butterfield,Thomas H. Osterheld,Shou-sung Chang,Steven M. Zuniga,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Intelligent analysis system for measuring signals of polishing pad surface, method and computer readable medium thereof

Номер патента: US20230211451A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Wafer polishing pad and method of wafer polishing using the same

Номер патента: US20190193238A1. Автор: SANGHOON Lee,SungHyup KIM,Seok Ryul Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-27.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: US20220390403A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-12-08.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: WO2021099682A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2021-05-27.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: EP4062162A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-09-28.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: CA3161145A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2021-05-27.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: AU2020387657A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-05-26.

Apparatus and method for polishing a flat surface using a belted polishing pad

Номер патента: US6059643A. Автор: Burford J. Furman,Albert Hu,Mohamed Abushaban. Владелец: Aplex Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Method of producing polishing pad

Номер патента: US20080047205A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-28.

Backing pad with slots for sanding discs with multiple holes

Номер патента: CA2920502C. Автор: João Miguel FONTES DA ROCHA CASTRO,Alfredo Manuel FARELA VIZINHO,Óscar Emanuel RATOLA BRANCO. Владелец: INDASA Industria de Abrasivos SA. Дата публикации: 2022-03-08.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD WITH CLEAR ENDPOINT DETECTION WINDOW

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Degroot Marty W.,Qian Bainian. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: TWI574983B. Автор: 百年 錢,馬提 狄羅特. Владелец: 陶氏全球科技責任有限公司. Дата публикации: 2017-03-21.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

POLISHING PAD, METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD APPLYING POLISHING PAD

Номер патента: US20210094143A1. Автор: SEO Jang Won,YUN Sunghoon,AHN Jaein,YUN Jong Wook,HEO Hye Young,MOON Su Young. Владелец: SKC CO., LTD.. Дата публикации: 2021-04-01.

POLISHING-PAD LAMINATED STRUCTURE, POLISHING-PAD POSITIONING INSTRUMENT, AND METHOD OF ATTACHING A POLISHING PAD TO A POLISHING TABLE

Номер патента: US20200023489A1. Автор: Takahashi Nobuyuki,KISHI Takashi,KINOSHITA Masaki,Sakugawa Suguru,Nomura Toshikazu. Владелец: . Дата публикации: 2020-01-23.

Polyurethane resin composition for polishing pads, polyurethane polishing pads and method for making polyurethane polishing pads

Номер патента: TW201033237A. Автор: Tomoaki Shinchi,Hiroshi Suzaki. Владелец: Dainippon Ink & Chemicals. Дата публикации: 2010-09-16.

POLISHING PAD HAVING PATTERN STRUCTURE FORMED ON POLISHING SURFACE, POLISHING DEVICE INCLUDING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD

Номер патента: US20220080550A1. Автор: Kim Do Yeon,Lee Tae Kyung,Kim Hyoung Jae,KANG Pil Sik. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-17.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: IL157827A. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y Zhao,Michael David Steiman. Владелец: Michael David Steiman. Дата публикации: 2008-06-05.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: IL157827A0. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-03-28.

POLISH PAD, POLISH METHOD, AND METHOD MANUFACTURING POLISH PAD

Номер патента: US20140349554A1. Автор: Watanabe Takashi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2014-11-27.

POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS, AND METHOD FOR MAKING THE POLISHING PAD

Номер патента: US20170297165A1. Автор: FENG CHUNG-CHIH,HUNG YUNG-CHANG,YAO I-PENG,TSAI Kun-Cheng. Владелец: . Дата публикации: 2017-10-19.

POLISHING PAD, MANUFACTURING METHOD OF POLISHING PAD AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20200306923A1. Автор: Wang Yu-Piao,Tu Liang-Chi. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2020-10-01.

Polishing pad,method and apparatus for treating polishing pad and polishing method

Номер патента: GB2335591B. Автор: Koichi Tanaka,Koji Morita,Tsutomu Takaku. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2000-02-09.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Номер патента: WO2020255744A1. Автор: 加藤　充,知大 岡本,晋哉 加藤,菊池　博文. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2020-12-24.

Polishing pad, manufacturing method and polishing method of polishing pad

Номер патента: KR20210149837A. Автор: 미츠루 가토,신야 가토,히로후미 기쿠치,지히로 오카모토. Владелец: 주식회사 쿠라레. Дата публикации: 2021-12-09.

Polishing pad and polishing method using the polishing pad

Номер патента: JP7026943B2. Автор: 利康 矢島,大輔 二宮. Владелец: Maruishi Sangyo Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-01.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Номер патента: TW202114816A. Автор: 加藤充,岡本知大,加藤晉哉,菊池博文. Владелец: 日商可樂麗股份有限公司. Дата публикации: 2021-04-16.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: TW455524B. Автор: Hisashi Masumura,Kiyoshi Suzuki,Teruaki Fukami. Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2001-09-21.

Method of making cleaning, scouring and/or polishing pads and the improved pad produced thereby

Номер патента: CA1058812A. Автор: Heinz Kalbow. Владелец: Collo GmbH. Дата публикации: 1979-07-24.

Methods and Systems for Centrifugal Casting of Polymer Polish Pads and Polishing Pads Made by the Methods

Номер патента: US20130260657A1. Автор: Nguyen Long,SONG Kevin,West Thomas,McKeever Peter,Dietz Donald,Richardson Matt. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-03.

RESIN COMPOSITION, POLISHING PAD, AND METHOD FOR PRODUCING POLISHING PAD

Номер патента: US20210054192A1. Автор: Takahashi Nobuyuki,Ishiuchi Ryujin. Владелец: SHOWA DENKO K.K.. Дата публикации: 2021-02-25.

POLISHING PAD AND METHOD FOR PRODUCING POLISHING PAD

Номер патента: US20150068129A1. Автор: Miyazawa Fumio,MIYASAKA Hirohito,TATENO Teppei,MATSUOKA Ryuma,Kanazawa Yoshie. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-12.

COMPOSITION FOR POLISHING PAD AND POLISHING PAD

Номер патента: US20210122007A1. Автор: SEO Jang Won,YUN Jong Wook,JOENG Eun Sun,HEO Hyeyoung. Владелец: . Дата публикации: 2021-04-29.

Multilayer Polishing Pads Made by the Methods for Centrifugal Casting of Polymer Polish Pads

Номер патента: US20140287663A1. Автор: Nguyen Long,SONG Kevin,West Thomas,Quigley Gary,Galvez Pepito,McKeever Peter,Holani Suli,Richardson Matt,Craik Jorge. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE POLISHING PAD

Номер патента: US20190218697A1. Автор: Nakayama Kimio,KATO Mitsuru,TAKAOKA Nobuo,Kikuchi Hirofumi. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2019-07-18.

BASE LAYER, POLISHING PAD WITH BASE LAYER, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20170334033A1. Автор: Pan Yu-Hao,Lin Geng-I,Pai Kun-Che. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2017-11-23.

COMPOSITION FOR POLISHING PAD, POLISHING PAD AND PREPARATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20200391344A1. Автор: SEO Jang Won,YUN Jong Wook,HEO Hye Young,JOENG Eun Sun. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-17.

Polishing pad and method for manufacturing the polishing pad

Номер патента: KR101410116B1. Автор: 미츠루 가토,기미오 나카야마,노부오 다카오카,히로후미 기쿠치. Владелец: 가부시키가이샤 구라레. Дата публикации: 2014-06-25.

Method for manufacturing polishing pad and polishing pad

Номер патента: TWI404596B. Автор: Chung Chih Feng,I Peng Yao,Lyang Gung Wang,Yung Chang Hung. Владелец: San Fang Chemical Industry Co. Дата публикации: 2013-08-11.

Polishing pad and method for manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2010016486A1. Автор: 加藤　充,高岡　信夫,菊池　博文,中山　公男. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2010-02-11.

Polishing pad and method for manufacturing the polishing pad

Номер патента: EP2316614A1. Автор: Mitsuru Kato,Hirofumi Kikuchi,Kimio Nakayama,Nobuo Takaoka. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-04.

Polishing pad, and system and method for using the polishing pad

Номер патента: JP6789982B2. Автор: ポール エス． ラグ，,ポール エス． ラグ，,リアン エス． タン，,リアン エス． タン，,ブルース エー． スヴェンテク，,ブルース エー． スヴェンテク，. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2020-11-25.

Polishing pad and method for manufacturing the polishing pad

Номер патента: EP2316614B1. Автор: Mitsuru Kato,Hirofumi Kikuchi,Kimio Nakayama,Nobuo Takaoka. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-17.

Polishing pad with grooves to retain slurry on the pad texture

Номер патента: CN101234481A. Автор: G·P·马尔多尼. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2008-08-06.

Urethane resin composition for polishing pad, polishing pad and manufacturing method thereof

Номер патента: TWI532758B. Автор: 新地智昭,須崎弘. Владелец: 迪愛生股份有限公司. Дата публикации: 2016-05-11.

Adhesive sheet for fixing polishing pad having a substrate, a polishing pad side adhesive layer and a fixed plate side adhesive layer

Номер патента: TW201728726A. Автор: Hiroyuki Watanabe,Hiroyuki Tsubaki,Shuuhei Yamamoto. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2017-08-16.

Polishing layer of polishing pad and method of forming the same and polishing method

Номер патента: US20160375546A1. Автор: Kun-Che Pai,Yu-Hao Pan. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-12-29.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: JP3329644B2. Автор: 佳邦 竪山,泰孝 佐々木,伸夫 早坂,岳 西岡,尚史 金子,錬平 中田,裕 中野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-09-30.

Polishing method, polishing pad and polishing system

Номер патента: TWI409868B. Автор: Yu Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-21.

Method of polishing object to be polished and polishing pad

Номер патента: US20120064803A1. Автор: Kazumasa Kitamura,Tomoki Nagae. Владелец: NGK Insulators Ltd. Дата публикации: 2012-03-15.

POLISHING PAD, POLISHING SYSTEM AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20170036319A1. Автор: Chen Ko-Wen,Yu Shih-Ming. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2017-02-09.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: KR970005529A. Автор: 노부오 하야사카,렘페이 나카타,히사시 가네코,다케시 니시오카,요시쿠니 다케야마,유타카 나카노,야스타카 사사키. Владелец: 니시무로 타이조. Дата публикации: 1997-02-19.

Polishing layer of polishing pad and method of forming the same and polishing method

Номер патента: TWI647258B. Автор: 白昆哲,潘毓豪. Владелец: 智勝科技股份有限公司. Дата публикации: 2019-01-11.

Method of making diagram for use in selection of wavelength of light for polishing endpoint detection, method and apparatus for selecting wavelength of light for polishing endpoint detection, polishing endpoint detection method, polishing endpoint detection apparatus, and polishing monitoring method

Номер патента: US20130149938A1. Автор: Yoichi Kobayashi,Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Shinrou Ohta. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2013-06-13.

Polishing pad and wafer polishing method

Номер патента: US20240293915A1. Автор: Takatoshi Hattori,Takamasa Goto,Masatoshi Kishimoto,Sari SHOJI. Владелец: Bbs Kinmei Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Method for a copper CMP endpoint detection system

Номер патента: US6517413B1. Автор: Chen-Fa Lu,Tien-Chen Hu,Jin-Churng Twu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-02-11.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Devices and methods for optical endpoint detection during semiconductor wafer polishing

Номер патента: US7235154B2. Автор: Alice Madrone Dalrymple,Robert J. Horrell. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2007-06-26.

Technique for noise reduction in a torque-based chemical-mechanical polishing endpoint detection system

Номер патента: US20030109194A1. Автор: Leping Li,Xinhui Wang,Yingru Gu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2003-06-12.

Polish pad replacing apparatus

Номер патента: US20230158634A1. Автор: Chih-Chieh Su,Chun-Hsien Su,Ko-Chieh Chao. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-05-25.

Polishing apparatus, polishing pad positioning method, and polishing pad

Номер патента: US09919403B2. Автор: Takeshi Sakurai,Suguru Ogura,Kaoru Hamaura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Wafer polishing pad centering apparatus

Номер патента: US20020086632A1. Автор: Terrence Stemm. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Heat exchanger for regulating surface temperature of a polishing pad, polishing apparatus, polishing method, and medium storing computer program

Номер патента: US20180236631A1. Автор: Toru Maruyama,Yohei Eto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Device and method for moistening a polishing pad

Номер патента: WO2023242481A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2023-12-21.

Optical connector polishing pad

Номер патента: US20220219280A1. Автор: Kenji Aoki,Naoki Sugita,Masaaki Konishi. Владелец: NTT Advanced Technology Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Method and apparatus for conditioning a polish pad and for dispensing slurry

Номер патента: WO2001091974A1. Автор: Albert H. Liu,Nelson W. Ii White. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-12-06.

Method and apparatus for conditioning polishing pad

Номер патента: US09731401B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Method and apparatus for conditioning polishing pad

Номер патента: US20150231760A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-08-20.

High removal rate chemical mechanical polishing pads from amine initiated polyol containing curatives

Номер патента: US20190168356A1. Автор: Bainian Qian,Kancharla-Arun K. Reddy,Marty W. Degroot,George C. Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-06-06.

Polishing pad surface shape measuring instrument, method of using polishing pad surface shape measuring instrument, method of measuring apex angle of cone of polishing pad, method of measuring depth of groove of polishing pad, CMP polisher, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US7359069B2. Автор: Atsushi Tanaka,Toshihisa Tanaka,Takeshi Soma. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-04-15.

Polishing pad surface shape measuring instrument, method of using polishing pad surface shape measuring instrument, method of measuring apex angle of cone of polishing pad, method of measuring depth of groove of polishing pad, CMP polisher, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20080186511A1. Автор: Atsushi Tanaka,Toshihisa Tanaka,Takeshi Soma. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-08-07.

Polishing pad surface shape measuring instrument, method of using polishing pad surface shape measuring instrument, method of measuring apex angle of cone of polishing pad, method of measuring depth of groove of polishing pad, cmp polisher, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101197826B1. Автор: 아츠시 타나카,토시히사 타나카,타케시 소마. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2012-11-05.

Polishing method, polishing pad and polishing system

Номер патента: TW201103694A. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2011-02-01.

METHOD OF MANUFACTURING POLISHING PAD MOLD, POLISHING PAD MOLD MANUFACTURED BY THE METHOD, AND POLISHING PAD MANUFACTURED BY THE MOLD

Номер патента: US20140004780A1. Автор: Kimura Keiichi,Suzuki Keisuke,Ito Takahiro,Khajornrungruang Panart,Tashiro Yasunori,Takata Masato,Atari Toshiaki,Matsuo Masaaki. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-02.

Polishing pad and slurry feed

Номер патента: GB2362592A. Автор: Sailesh Mansinh Merchant,William Graham Easter,Frank Miceli,Annette Margaret Crevasse,John Albert Maze. Владелец: Agere Systems Guardian Corp. Дата публикации: 2001-11-28.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: TW592888B. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: Sk Evertec Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-21.

Polishing pad, method for manufacturing the polishing pad, and method for polishing an object

Номер патента: US20080009228A1. Автор: Hiroshi Misawa,Hiromasa Nagase,Akio Yokofuke. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2008-01-10.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: TW200918243A. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2009-05-01.

Polishing pad grooving method and apparatus

Номер патента: EP1299210A4. Автор: Oscar Kai Chi Hsu,Kenneth P Rodbell,Shyng-Tsong Chen,Alex Siu Keung Chung,Kenneth M Davis. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2004-11-17.

Polishing pad grooving method and apparatus

Номер патента: EP1299210B1. Автор: Kenneth P. Rodbell,Oscar Kai Chi Hsu,Shyng-Tsong Chen,Alex Siu Keung Chung,Kenneth M. Davis. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2005-10-19.

Polishing pad grooving method and apparatus

Номер патента: WO2002002269A1. Автор: Kenneth P. Rodbell,Oscar Kai Chi Hsu,Shyng-Tsong Chen,Alex Siu Keung Chung,Kenneth M. Davis. Владелец: Freudenberg Non Wovens. Дата публикации: 2002-01-10.

POLISHING PAD CONFIGURATION AND POLISHING PAD SUPPORT

Номер патента: US20160016281A1. Автор: Chen Hung Chih. Владелец: . Дата публикации: 2016-01-21.

Polishing pad and multi-layer polishing pad

Номер патента: US20040014413A1. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Hiroshi Shiho,Tomoo Koumura,Kouji Kawahara,Yukio Hosaka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-01-22.

Method for forming concave portion of polishing pad and polishing pad

Номер патента: CN109562506B. Автор: 大石邦晴,海野达广. Владелец: Daiki Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-12.

Polishing pad and multi-layer polishing pad

Номер патента: TW200402098A. Автор: Hiroshi Shiho,Tomoo Koumura,Kouji Kawahara,Yukio Hosaka,Kuo Hasegawa. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-02-01.

CHIMICO-MECHANICAL POLISHING PAD WITH GROOVES ARRANGED TO IMPROVE THE USE OF THE POLISHING MEDIUM

Номер патента: FR2879952A1. Автор: Gregory P Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-06-30.

Method for forming polishing pad and structure of polishing pad

Номер патента: KR20050012661A. Автор: 윤일영. Владелец: 매그나칩 반도체 유한회사. Дата публикации: 2005-02-02.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pad and polishing pad

Номер патента: CN1970232B. Автор: 志保浩司,西村秀树,保坂幸生,田野裕之. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-09-29.

Grid relief in CMP polishing pad to accurately measure pad wear, pad profile and pad wear profile

Номер патента: US6616513B1. Автор: Thomas H. Osterheld. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-09-09.

Polishing pad, polishing method and polishing system

Номер патента: US20130017766A1. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-17.

LOCAL AREA POLISHING SYSTEM AND POLISHING PAD ASSEMBLIES FOR A POLISHING SYSTEM

Номер патента: US20170274497A1. Автор: Chen Hui,OH JEONGHOON,Garretson Charles C.,Lee Wei-Cheng,Lau Eric,Chou Chih Chung,Sin Garrett Ho Yee,Heung King Yi,Suarez Edwin C.. Владелец: . Дата публикации: 2017-09-28.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: JPH11277407A. Автор: Hideharu Nakajima,英晴 中嶋. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-10-12.

Polishing pad and polishing method for polishing products

Номер патента: CN100528487C. Автор: R·V·帕拉帕思. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2009-08-19.

Wafer edge polishing pad, wafer edge polishing apparatus, and wafer edge polishing method

Номер патента: JP6565780B2. Автор: 竜一 谷本,康生 山田,慎 安藤. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2019-08-28.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: CN100365773C. Автор: 涩木俊一. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-01-30.

Composite polishing pad having layers with different hardness and process for producing the same

Номер патента: US09975214B2. Автор: Chun-Che Tsao,Te-Chao Liao,Wen-Jui Cheng,Tzai-Shing CHEN. Владелец: Nan Ya Plastics Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Method and apparatus for endpoint detection for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2000054935A9. Автор: John A Adams,Robert A Eaton,Thomas Frederick Allen J Bibby. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-06-20.

Polishing system, polishing pad and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12042900B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Kang Sik F Myung. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Polishing pad

Номер патента: US09707663B2. Автор: Satoshi Yanagisawa,Hiroyasu Kato,Masaharu Wada,Yukihiro Matsuzaki,Hajime Nishimura,Kuniyasu Shiro. Владелец: Toray Coatex Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2000027585A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-05-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A4. Автор: Anthony Meyer,Michael Labunsky,Andrew J Nagengast,Tac Huynh,Glenn W Travis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US12138738B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Polishing pads and systems and methods of making and using the same

Номер патента: EP3359335A1. Автор: David F. Slama,Duy K. LEHUU. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-08-15.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20230278159A1. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Method of forming a layered polishing pad

Номер патента: US7132033B2. Автор: Mark J. Boldizar,Robert T. Gamble,Vincent Matthew Hedrick,Jason M. Lawhorn,Alan H. Saikin,Katherine L. Tome. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-11-07.

Anionic polishing pads formed by printing processes

Номер патента: US11851570B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Sudhakar Madhusoodhanan,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Hand-held power tool, axial holding arrangement and polishing pad for such a power tool

Номер патента: EP4450222A1. Автор: Andrea Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-23.

Hand-held power tool, axial holding arrangement and polishing pad for such a power tool

Номер патента: US20240351160A1. Автор: Andrea Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-24.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: US11780057B2. Автор: Sunghoon YUN,Jang Won Seo,Joonsung RYOU,Tae Kyoung Kwon. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Polishing pad, polishing apparatus and a method for polishing silicon wafer

Номер патента: US11471997B2. Автор: Yue Xie,Youhe Sha. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-10-18.

Polishing pad, polishing apparatus and a method for polishing silicon wafer

Номер патента: US20220009051A1. Автор: Yue Xie,Youhe Sha. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-01-13.

Polishing pad, process for producing the same and method of polishing therewith

Номер патента: US20060199473A1. Автор: Masato Yoshida,Masao Suzuki,Masaya Nishiyama,Hiroshi Nakagawa,Yasuo Shimamura. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-07.

Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing and Method

Номер патента: US20230398659A1. Автор: Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Te-Chien Hou,Liang-Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Polishing pad comprising window similar in hardness to polishing layer

Номер патента: US11964360B2. Автор: Sunghoon YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN,Joonsung RYOU. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US20210054192A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-02-25.

Polishing pad and polishing method using same

Номер патента: US20190232460A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US11873399B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: EP4223452A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Keisuke Tanaka,Kenichi Koike,Teppei Tateno,Yoshiki Miyauchi,Yoshie Kiraku. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-08-09.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20230415300A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Keisuke Tanaka,Kenichi Koike,Teppei Tateno,Yoshiki Miyauchi,Yoshie Kiraku. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Polishing pad assembly with glass or crystalline window

Номер патента: US7614933B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Jeffrey Drue David,Bogdan Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-11-10.

Polishing pad

Номер патента: WO2003054097A1. Автор: Alan E. Wang,Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2003-07-03.

Polishing pad

Номер патента: EP1458830A1. Автор: Alan E. Wang,Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2004-09-22.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US12011801B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Polishing pad, process for preparing the same, and process for preparing a semiconductor device using the same

Номер патента: US11931856B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jang Won Seo. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Polishing pad, process for preparing the same, and process for preparing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20210122006A1. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jang Won Seo. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Polishing pad, method for producing the same and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220288743A1. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Sung Hoon Yun. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Tiltable platform for additive manufacturing of a polishing pad

Номер патента: US20180079152A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Nag B. Patibandla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Method of making low specific gravity polishing pads

Номер патента: US20230390970A1. Автор: Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for manufacturing a polishing sheet and a polishing pad

Номер патента: US20240066661A1. Автор: JANGWON SEO,Kyung Hwan Kim,Jong Wook YUN,Joonho AN,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Polishing pads and systems for and methods of using same

Номер патента: US20230211455A1. Автор: Eric C. Coad,Joseph D. Rule,Duy K. LEHUU. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-07-06.

Two step curing of polishing pad material in additive manufacturing

Номер патента: US20180079147A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Nag B. Patibandla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Silicate Composite Polishing Pad

Номер патента: US20120122381A1. Автор: Joseph K. So,Donna M. Alden,Andrew R. Wank,Mark E. Gazze,Robert Gargione,David Drop,Mai Tieu Banh,Shawn Riley,Colin E. Cameron, JR.. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2012-05-17.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and CMP pads made therewith

Номер патента: US11806830B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Method of manufacturing a polymer or polymer/composite polishing pad

Номер патента: US20020069591A1. Автор: Paul Yancey. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Cmp polishing pad

Номер патента: US20240091901A1. Автор: Bainian Qian,Nan-Rong Chiou,Donna M. Alden,Matthew Cimoch,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Conditioning wheel for conditioning a semiconductor wafer polishing pad and method of manufacture thereof

Номер патента: US20020106829A1. Автор: Jose Rodriguez,Arun Nanda,Charles Storey,Laurence Schultz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Ceramic polishing pad dresser and method for fabricating the same

Номер патента: US20070049185A1. Автор: Wei Huang,Yu-Tai Chen,Chou-Chih Tseng,Hsiu-Yi Lin. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2007-03-01.

Chemically modified chemical mechanical polishing pad, process of making a modified chemical mechanical polishing pad and method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20070037491A1. Автор: Yuzhuo Li,Stuart Hellring,Tianxi Zhang,Jason Keleher. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2007-02-15.

Aliphatic polyurethane optical endpoint detection windows and cmp polishing pads containing them

Номер патента: US20180304438A1. Автор: George C. Jacob,Mohammad T. Islam,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Polishing pad with offset concentric grooving pattern and method for polishing a substrate therewith

Номер патента: US09687956B2. Автор: Ching-Ming Tsai,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,Feng-Chih Hsu,Craig Kokjohn. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Polishing pad with foundation layer and window attached thereto

Номер патента: US09868185B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Jose Arno,Paul Andre Lefevre. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010019937A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Polishing pad sheet, polishing pad, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12138736B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Semiconductor substrate polishing with polishing pad temperature control

Номер патента: EP4169058A1. Автор: Masaaki Ikeda. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-26.

Methods of cleaning cmp polishing pads

Номер патента: US20180169830A1. Автор: Charles J. Benedict,Aaron E. Lorin,Ryan Bortner. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Detection of diamond contamination in polishing pad and reconditioning system therefor

Номер патента: US20060166607A1. Автор: Laertis Economikos,John Fitzsimmons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841B1. Автор: Nobuo c/o JSR Corporation Kawahashi,Kou c/o Jsr Corporation Hasegawa,Hiroshi c/o JSR Corporation Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-04-28.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841A4. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Hiroshi Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240342857A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Chemical-mechanical polishing pad conditioning system

Номер патента: US20110244764A1. Автор: Nannaji Saka,Jung-Hoon Chun,Thor Eusner. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2011-10-06.

Polishing pad cleaning systems employing fluid outlets oriented to direct fluid under spray bodies and towards inlet ports, and related methods

Номер патента: US09687960B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Cleaning process of wafer polishing pad and cleaning nozzle

Номер патента: US20230126122A1. Автор: Ching-Wen Teng,Wen Yi Tan,Shih-Jie Lin,Kuo Liang Huang. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad with sonic energy

Номер патента: US20020086620A1. Автор: Michael Lacy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Method and apparatus for measuring a change in the thickness of polishing pads used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5609718A. Автор: Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Polishing pad with foundation layer and window attached thereto

Номер патента: MY191753A. Автор: Diane Scott,Jose Arno,William C Allison,Paul Andre Lefevre. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device

Номер патента: US20240300066A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Chang Gyu Im,Joon Ho An. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Surface property measuring apparatus for polishing pad, surface property measuring method for polishing pad, and surface property judging method for polishing pad

Номер патента: US20240075579A1. Автор: Toshifumi Kimba,Hisanori Matsuo,Nobuyuki Takada,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Polishing apparatus and method of determining a time to replace polishing pad

Номер патента: US20230356350A1. Автор: Hiroaki Nishida,Yuta Suzuki,Taro Takahashi,Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Apparatus and method for shaping polishing pads

Номер патента: MY133665A. Автор: Robert J Walsh. Владелец: Memc Electronic Materials. Дата публикации: 2007-11-30.

Detection of diamond contamination in polishing pad and reconditioning system therefor

Номер патента: US7473159B2. Автор: Laertis Economikos,John Fitzsimmons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-06.

Composition for polishing pad and polishing pad

Номер патента: US12122013B2. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Hyeyoung HEO. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Container for drying and storing polishing pads

Номер патента: US20220017262A1. Автор: Jason LAMONT. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-20.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

A preconditioner for a polishing pad and method for using the same

Номер патента: IE960095A1. Автор: James Michael Mullins. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1996-08-07.

Method of cleaning a polishing pad conditioner and apparatus for performing the same

Номер патента: US20020119613A1. Автор: Min-Gyu Kim,Min-Soo Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-29.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US10960513B2. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-30.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US20180304436A1. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Self-healing polishing pad

Номер патента: US20200039022A1. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Self-healing polishing pad

Номер патента: US20230118617A1. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Polishing pad with improved wettability and method for preparing same

Номер патента: US20230330806A1. Автор: JANGWON SEO,Sunghoon YUN,Jong Wook YUN,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing pad, double-side polishing device, and double-side polishing method for wafer

Номер патента: US20240009799A1. Автор: Junichi Ueno. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230110921A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Device for conditioning polishing pads

Номер патента: US5486131A. Автор: Joseph V. Cesna,Anthony G. Van Woerkom. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1996-01-23.

Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods

Номер патента: US11980992B2. Автор: YAN Zhao,Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashavani Kumar,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mario Dagio CORNEJO,Amritanshu SINHA,Ranga Rao Arnepalli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US20210260719A1. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US20190283206A1. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US11883926B2. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US10946493B2. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-16.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US20180304437A1. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Apparatus for manufacturing polishing pad and method of manufacturing polishing pad using the same

Номер патента: US20140366396A1. Автор: Bong-su Ahn,Jungsik CHOI,Jin-Su Jeong,Youngjun JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-18.

Method and apparatus for improved conditioning of polishing pads

Номер патента: US5941762A. Автор: Yuli Verhovsky,Michael A. Ravkin,Ilya A. Ravkin. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-24.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US11772230B2. Автор: Jing Ren,Bryan E. Barton,Kwadwo Tettey. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Polishing pad and method for producing polished product

Номер патента: US20240149389A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Polishing pad employing polyamine and cyclohexanedimethanol curatives

Номер патента: US11845156B2. Автор: Lin Fu,Rui Ma,Chen-Chih Tsai,Jaeseok Lee,Sarah BROSNAN. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Polishing pad and method for manufacturing same

Номер патента: US11883925B2. Автор: Hiroshi Kurihara,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Use of abrasive tape conveying assemblies for conditioning polishing pads

Номер патента: US5944585A. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1999-08-31.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US11965103B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Sudhakar Madhusoodhanan,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Daihua Zhang,Ashwin Murugappan Chockalingam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Cmp pad with composite transparent window

Номер патента: WO2004069476A1. Автор: Abaneshwar Prasad. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2004-08-19.

Polishing pad with window and method of fabricating a window in a polishing pad

Номер патента: US7118450B2. Автор: William L. Guthrie,Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-10-10.

Conditioning wheel for polishing pads

Номер патента: US20190358771A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Polishing pad for endpoint detection and related methods

Номер патента: US20030236055A1. Автор: Manoocher Birang,Boguslaw Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-12-25.

Polishing pad for endpoint detection and related methods

Номер патента: KR101110505B1. Автор: 보구슬라우 에이. 스웨덱,마누셔 비이랑. Владелец: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2012-02-06.

Laser interferometry endpoint detection with windowless polishing pad for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6565416B2. Автор: Samuel Vance Dunton,Yizhi Xiong. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2003-05-20.

SUBSTRATE POLISHING APPARATUS, SUBSTRATE POLISHING METHOD, AND APPARATUS FOR REGULATING TEMPERATURE OF POLISHING SURFACE OF POLISHING PAD USED IN POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20190168354A1. Автор: Ono Katsutoshi,Sone Tadakazu,Maruyama Toru,MOTOSHIMA Yasuyuki,SHIOKAWA Yoichi. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-06.

SUBSTRATE POLISHING APPARATUS, SUBSTRATE POLISHING METHOD, AND APPARATUS FOR REGULATING TEMPERATURE OF POLISHING SURFACE OF POLISHING PAD USED IN POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20210229235A1. Автор: Ono Katsutoshi,Sone Tadakazu,Maruyama Toru,MOTOSHIMA Yasuyuki,SHIOKAWA Yoichi. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-29.

PAD TEMPERATURE ADJUSTMENT APPARATUS FOR ADJUSTING TEMPERATURE OF POLISHING PAD, AND POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20190193237A1. Автор: MOTOSHIMA Yasuyuki. Владелец: . Дата публикации: 2019-06-27.

Polishing pad with hybrid cloth and foam surface

Номер патента: US09687964B2. Автор: David Givens. Владелец: Showroom Polishing Systems LLC. Дата публикации: 2017-06-27.

Sloped polishing pad with hybrid cloth and foam surface

Номер патента: US09682461B2. Автор: David Givens. Владелец: Showroom Polishing Systems LLC. Дата публикации: 2017-06-20.

Polishing pad conditioning process

Номер патента: US20070298689A1. Автор: Hung Nguyen,Wei-Yung Hsu,Sen-Hou Ko,James Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2007-12-27.

A polishing pad and method of producing the same

Номер патента: EP1792330A1. Автор: Alex Cooper,Yevgeny Bederak. Владелец: Universal Photonics Inc. Дата публикации: 2007-06-06.

Method for analyzing effective polishing frequency and times for chemical mechanical planarization polishing wafer with different polishing pad profile

Номер патента: TW200638477A. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: Univ Nat Taiwan Science Tech. Дата публикации: 2006-11-01.

Polishing pad and system

Номер патента: CA2441383C. Автор: Robert Piombini. Владелец: Saint Gobain Abrasives Inc. Дата публикации: 2006-01-24.

Chemical mechanical type polishing (cmp) method using under pad with different contraction area and polishing pad

Номер патента: JPH1128658A. Автор: C Kim San,サン・シー・キム,Pin Rai Rei,レイ・ピン・ライ,Bajaji Rajibu,ラジブ・バジャジ,Manzoni Adam,アダム・マンゾニー. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1999-02-02.

Chemical mechanical polishing (CMP) method using under pad and polishing pad with different compression regions

Номер патента: JP4286344B2. Автор: サン・シー・キム,レイ・ピン・ライ,ラジブ・バジャジ,アダム・マンゾニー. Владелец: NXP USA Inc. Дата публикации: 2009-06-24.

Polishing apparatus, method for attaching polishing pad, and method for replacing polishing pad

Номер патента: US20150118944A1. Автор: Tadakazu Sone,Takeshi Sakurai,Ryuichi Kosuge,Soichi Isobe,Eiji Hirai,Suguru Ogura,Kaoru Hamaura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-04-30.

POLISHING PAD DRESSER, POLISHING APPARATUS AND POLISHING PAD DRESSING METHOD

Номер патента: US20160243672A1. Автор: Nakayama Takayuki,Fukushima Dai. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2016-08-25.

Diamond conditioning of soft chemical mechanical planarization/polishing (CMP) polishing pads

Номер патента: TWI286502B. Автор: Philip Slutsky,Dan Doron,Boaz Eldad,Barak Yardeni. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2007-09-11.

POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS FOR POLISHING A WORKPIECE, AND METHOD OF POLISHING A WORKPIECE USING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20140004772A1. Автор: ITO Kenya,ISHII Yu,TAKAHASHI Shozo,SUZUKI Mika. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2014-01-02.

Substrate polishing apparatus, substrate polishing method, and apparatus for regulating temperature of polishing surface of polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: US20140364040A1. Автор: Tadakazu Sone,Katsutoshi Ono,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2014-12-11.

Substrate polishing apparatus, substrate polishing method, and apparatus for regulating temperature of polishing surface of polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: CN104842259A. Автор: 盐川阳一,曾根忠一,本岛靖之,丸山彻,大野胜俊. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-08-19.

Substrate polishing apparatus, substrate polishing method, and apparatus for regulating temperature of polishing surface of polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: US20110159782A1. Автор: Tadakazu Sone,Katsutoshi Ono,Yoichi Shiokawa,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2011-06-30.

METHOD OF DETECTING A POLISHING SURFACE OF A POLISHING PAD USING A POLISHING HEAD, AND POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20190351526A1. Автор: Kosuge Ryuichi,UMEMOTO Masao,Yoshida Kento,Kamata Shuichi. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2019-11-21.

Chemical mechanical polishing pad with offset circumferential grooves for improved removal rate and polishing uniformity

Номер патента: JP7201338B2. Автор: ユリア・コジューフ,バイニャン・チャン,テレサ・ブルガロラス・ブルファウ. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-01-10.

Method for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: TW201700217A. Автор: 篠崎弘行,島野隆寬,今村聽,中村顯. Владелец: 荏原製作所股份有限公司. Дата публикации: 2017-01-01.

Polishing pad with pad wear indicator

Номер патента: JP7294794B2. Автор: マシュー・アール・ガディンスキ,マウリシオ・イー・グスマン,ネスター・エー・バスケス,ガンフア・ホウ. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-06-20.

Method for monitoring polishing surface of polishing pad used in polishing apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: JP6088680B2. Автор: 弘行 篠崎,篠崎　弘行,顕 中村,聴 今村,隆寛 島野. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-03-01.

METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A POLISHING SURFACE OF A POLISHING PAD USED IN POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20160207162A1. Автор: SHINOZAKI Hiroyuki,SHIMANO Takahiro,IMAMURA Akira,NAKAMURA Akira. Владелец: . Дата публикации: 2016-07-21.

METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A POLISHING SURFACE OF A POLISHING PAD USED IN POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20150314416A1. Автор: SHINOZAKI Hiroyuki,SHIMANO Takahiro,IMAMURA Akira,NAKAMURA Akira. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

Slurry for use with fixed-abrasive polishing pads in polishing semiconductor device conductive structures that include copper and tungsten and polishing methods

Номер патента: KR100869044B1. Автор: 디네쉬 쵸프라,니샨트 신하. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2008-11-17.

Substrate polishing equipment, substrate polishing method and in the polissoir be used for adjust polishing pad burnishing surface temperature equipment

Номер патента: CN104842259B. Автор: 盐川阳一,曾根忠,曾根忠一,本岛靖之,丸山彻,大野胜俊,盐川阳. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-01-12.

Method and apparatus for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: TWI556911B. Автор: 篠崎弘行,島野隆寬,今村聽,中村顯. Владелец: 荏原製作所股份有限公司. Дата публикации: 2016-11-11.

Method and apparatus for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: KR101821886B1. Автор: 히로유끼 시노자끼,아끼라 나까무라,다까히로 시마노,아끼라 이마무라. Владелец: 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼. Дата публикации: 2018-01-24.

Slurry for use with fixed-abrasive polishing pads in polishing semiconductor device conductive structures that include copper and tungsten and polishing methods

Номер патента: US6602117B1. Автор: Nishant Sinha,Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-08-05.

Slurry for use with fixed-abrasive polishing pads in polishing semiconductor device conductive structurs that include copper and tungsten and polishing methods

Номер патента: US20020123299A1. Автор: Nishant Sinha,Dinesh Chopra. Владелец: Dinesh Chopra. Дата публикации: 2002-09-05.

Slurry for use with fixed-abrasive polishing pads in polishing semiconductor device conductive structures that include copper and tungsten and polishing methods

Номер патента: US6830500B2. Автор: Nishant Sinha,Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-14.

Slurry for use with fixed-abrasive polishing pads in polishing semiconductor device conductive structures that include copper and tungsten and polishing methods

Номер патента: WO2002018099A2. Автор: Nishant Sinha,Dinesh Chopra. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2002-03-07.

Slurry and polishing method for fixed abrasive polishing pad for polishing conductive structure of semiconductor device containing copper and tungsten

Номер патента: JP2004507899A. Автор: チョプラ、ディネッシュ,シンハ、ニシュアント. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-03-11.

Method and apparatus for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: US9302366B2. Автор: Akira Nakamura,Hiroyuki Shinozaki,Akira Imamura,Takahiro SHIMANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-04-05.

Polishing device and polishing system equipped with polishing pad surface texture measuring device

Номер патента: JP7269074B2. Автор: 徹 丸山,靖之 本島,啓佑 神木. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-08.

Polishing apparatus and polishing pad

Номер патента: US20190344398A1. Автор: Takashi Watanabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-11-14.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6206754B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-substrate assemblies

Номер патента: US6364746B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-02.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6234878B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-05-22.

Polishing pad for eddy current monitoring

Номер патента: US20080003936A1. Автор: Manoocher Birang,Boguslaw Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-01-03.

Aliphatic uv cured polyurethane optical endpoint detection windows with high uv transparency for cmp polishing pads

Номер патента: US20190144713A1. Автор: Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Polishing pad with improved crosslinking density and process for preparing the same

Номер патента: US12076832B2. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064846B2. Автор: Michael E. Mills,Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton,Annette M. Crevasse,Vere O. Archibald. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240227118A9. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US11759909B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Metal film polishing pad and method for polishing metal film using the same

Номер патента: US20100035521A1. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Hirofumi Kikuchi. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-11.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20240308022A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: EP4431237A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Formulations for chemical mechanical polishing pads with high planarization efficiency and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064845B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Polishing pad and method for production thereof, as well as a method of producing a polished article

Номер патента: RU2736460C2. Автор: Шин ТОКУШИГЕ,Кейсуке НАКАСЕ,Хироши КАШИВАДА,Татсуя ЯМАДА,Кеничи КОЙКЕ,Йосуке НАРАДА. Владелец: Фудзибо Холдингс, Инк.. Дата публикации: 2020-11-17.

Method for raising polishing pad and polishing method

Номер патента: US20170341204A1. Автор: Takuya Sasaki,Yuki Tanaka. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-30.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Polishing pad and manufacturing method therefor

Номер патента: EP2698809A1. Автор: Fumio Miyazawa,Kouki ITOYAMA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2014-02-19.

Polishing pad, polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor package using the same

Номер патента: US11878388B2. Автор: Ching-Hua Hsieh,Yi-Yang Lei,Kuan-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230111352A1. Автор: Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Polishing pad with adjusted crosslinking degree and process for preparing the same

Номер патента: US20210129284A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Heterogeneous fluoropolymer mixture polishing pad

Номер патента: US11897082B2. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240131653A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Porous polishing pad and process for producing the same all fees

Номер патента: US11772236B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Soft polishing pad for polishing a semiconductor substrate

Номер патента: MY164313A. Автор: Ping Huang,William Allison,Diane Scott,Robert Kerprich,Richard Frentzel. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-12-15.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240149390A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Yoshihide Kawamura,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US12090599B2. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Polyurethane for polishing layers, polishing layer and polishing pad

Номер патента: EP3892418A1. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-13.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: EP4028440A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Srobona SEN,Atul Bhaskar Chaudhari. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-20.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US12006442B2. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Srobona SEN,Atul Bhaskar Chaudhari. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20230256560A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Mayu Felicia Yamamura,Ashwin Murugappan Chockalingam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US20230381912A1. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US11780047B2. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Method and apparatus for endpoint detection in a semiconductor wafer etching system

Номер патента: US5151584A. Автор: Manoocher Birang,Peter Ebbing. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1992-09-29.

Method and apparatus for heating polishing pad

Номер патента: EP1497076A4. Автор: Ren Zhou,Linda Jiang,Tuan Nguyen,David Wei,Xuyen Pham,Tony Luong,Sridharan Srivatsan,Anjun Jerry Jin,Katgenhalli Y Ramanujam,Joseph P Simon. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2008-07-16.

Method and apparatus for heating polishing pad

Номер патента: EP1497076A1. Автор: Ren Zhou,Linda Jiang,Tuan Nguyen,David Wei,Xuyen Pham,Tony Luong,Joseph P. Simon,Sridharan Srivatsan,Katgenhalli Y. Ramanujam,Anjun Jerry Jin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-19.

Heat exchanger for regulating surface temperature of a polishing pad, polishing apparatus, polishing method, and medium storing computer program

Номер патента: US20180236631A1. Автор: Toru Maruyama,Yohei Eto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Platen constructure of polishing device and method for changing polishing pad fixed the platen in semiconductor wafer polishing device

Номер патента: KR100643495B1. Автор: 김경현,고용선,민충기. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-11-10.

Sample polishing apparatus, sample polishing method, and polishing pad

Номер патента: JP3992092B2. Автор: 渉 高橋,明彦 佐口. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-17.

Heat exchanger for regulating surface temperature of a polishing pad, polishing apparatus, polishing method, and medium storing computer program

Номер патента: SG10201800735UA. Автор: Maruyama Toru,ETO Yohei. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-09-27.

Platen constructure of polishing device and method for changing polishing pad fixed the platen in semiconductor wafer polishing device

Номер патента: KR20060054712A. Автор: 김경현,고용선,민충기. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-05-23.

Polishing pad for semiconductor wafer and laminated body for polishing of semiconductor wafer equipped with the same as well as method for polishing of semiconductor wafer

Номер патента: KR100858392B1. Автор: 고오하세가와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-09-11.

Flanged optical endpoint detection windows and CMP polishing pads containing them

Номер патента: US10569383B2. Автор: Stephen G. Pisklak,Jeffrey James Hendron. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2020-02-25.

Polishing pad assembly, apparatus for polishing a wafer including the polishing pad assembly and method for polishing a wafer using the polishing pad assembly

Номер патента: US20050272348A1. Автор: Kyung-hyun Kim,Yong-Sun Ko,Chung-Ki Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-12-08.

Polishing pad of a hand-held power tool and power tool with such a polishing pad

Номер патента: EP3421180C0. Автор: Guido Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-12.

Two-component urethane resin composition for polishing pad, polyurethane polishing pad, and method for producing polyurethane polishing pad

Номер патента: KR101750775B1. Автор: 도모아키 신치,히로시 스자키. Владелец: 디아이씨 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2017-06-26.

Two-component urethane resin composition for polishing pad, polyurethane polishing pad, and method for producing polyurethane polishing pad

Номер патента: JPWO2011001755A1. Автор: 智昭 新地,弘 須崎. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2012-12-13.

Method of manufacturing polishing pad mold, polishing pad mold, and polishing pad

Номер патента: CN103522165A. Автор: 田代康典,高田正人,中利明,松尾正昭,伊藤高广,铃木惠友,木村景一,P·哈乔尔朗格鲁昂. Владелец: MISHIMA OPTICAL INDUSTRY Co Ltd. Дата публикации: 2014-01-22.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: CN1651193A. Автор: 小野浩一,下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,驹井茂,堤正幸. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-10.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: CN1669739A. Автор: 小野浩一,下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,驹井茂,堤正幸. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2005-09-21.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: CN1651192A. Автор: 小野浩一,下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,驹井茂,堤正幸. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2005-08-10.

Method of manufacturing polishing pad mold, polishing pad mold manufactured by the method, and polishing pad manufactured by the mold

Номер патента: TW201417953A. Автор: 田代康典,高田正人,中利明,松尾正昭,木村景一,伊藤高廣,鈴木惠友,潘亞特 卡哈瓊路葛魯吉. Владелец: 三島光產股份有限公司. Дата публикации: 2014-05-16.

Turning tool for grooving polishing pad, apparatus and method of producing polishing pad using the tool, and polishing pad produced by using the tool

Номер патента: US20040198204A1. Автор: Tatsutoshi Suzuki. Владелец: Toho Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-07.

Two liquid-type urethane resin composition for polishing pad, polyurethane polishing pad, and method for producing polyurethane polishing pad

Номер патента: TWI488876B. Автор: Tomoaki Shinchi,Hiroshi Suzaki. Владелец: Dainippon Ink & Chemicals. Дата публикации: 2015-06-21.

Turning tool for grooving polishing pad, apparatus and method of producing polishing pad using the tool, and polishing pad produced by using the tool

Номер патента: US7017246B2. Автор: Tatsutoshi Suzuki. Владелец: Toho Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2006-03-28.

Two liquid-type urethane resin composition for polishing pad, polyurethane polishing pad, and method for producing polyurethane polishing pad

Номер патента: TW201107360A. Автор: Tomoaki Shinchi,Hiroshi Suzaki. Владелец: Dainippon Ink & Chemicals. Дата публикации: 2011-03-01.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TWI731225B. Автор: 巴札拉吉菲,李泰倫斯Ｙ,秦貝瑞李. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2021-06-21.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TWI767681B. Автор: 拉吉菲 巴札,泰倫斯Ｙ 李,貝瑞李 秦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2022-06-11.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TW202323015A. Автор: 拉吉菲 巴札,泰倫斯Ｙ 李,貝瑞李 秦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2023-06-16.

Apparatus for fabricating polishing layer of polishing pad and method of forming polishing layer of chemical mechanical polishing pad

Номер патента: TW202140246A. Автор: 拉吉菲 巴札,泰倫斯Ｙ 李,貝瑞李 秦. Владелец: 美商應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2021-11-01.

Polishing pad for cmp, method for polishing substrate using it and method for producing polishing pad for cmp

Номер патента: KR100548085B1. Автор: 마사야 니시야마,마사노부 하비로,야스히또 이와쯔끼,히로까즈 히라오까. Владелец: 신코베덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-02-02.

Polishing pad for CMP, method for polishing substrate using it and method for producing polishing pad for CMP

Номер патента: CN1565048A. Автор: 羽广昌信,西山雅也,岩月保仁,平冈宏一. Владелец: Shin Kobe Electric Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-12.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Номер патента: US10189143B2. Автор: Pinyen Lin,Chi-Hao Huang,Hsuan-Pang LIU,Yuan-Chun SIE,Cheng-Chung Chien. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-01-29.

Polishing pad for CMP, method for polishing substrate using it and method for producing polishing pad for CMP

Номер патента: US7374474B2. Автор: Masaya Nishiyama,Masanobu Habiro,Hirokazu Hiraoka,Yasuhito Iwatsuki. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-05-20.

Polishing pad, polishing pad holder, lens refining and machining system and automatic detachable pad system

Номер патента: JP2001198788A. Автор: Douglas J Roberts,Michael J Goulet,Jeffrey Murray,Jonathan Dooley,ジェイ ロバーツ ダグラス,ドュリー ジョナサン,Laurence Wolfson,ウルフソン ローレンス,ジェイ ゴーレット マイケル,マレイ ジェフリー. Владелец: Gerber Coburn Optical Inc. Дата публикации: 2001-07-24.

A method for manufacturing chemical mechanical polishing pad polishing layers having reduced gas inclusion defects

Номер патента: TW201043399A. Автор: Michael E Watkins,John Esbenshade,Andrew M Geiger,Paul Libbers,Samuel J November,Paul J Sacchetti,Jonathan Tracy,David Verbaro. Владелец: Rohm & Haas Elect Mat. Дата публикации: 2010-12-16.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: KR102283399B1. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2021-07-30.

Polishing pad with polishing surface layer having an aperture or opening above a transparent foundation layer

Номер патента: US20130324020A1. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse,Leslie M. Charns. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-12-05.

Polishing pad and process for production of polishing pad

Номер патента: KR101146966B1. Автор: 미츠루 가토,기미오 나카야마,노부오 다카오카,히로후미 기쿠치,지로 다나카. Владелец: 가부시키가이샤 구라레. Дата публикации: 2012-05-23.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: KR101825734B1. Автор: 알렉산더 윌리엄 심슨,윌리엄 씨. 앨리슨,다이앤 스코트,뽈 앙드레 르페브르,제임스 피 라카쎄. Владелец: 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션. Дата публикации: 2018-02-05.

Pad conditioner for improving removal rate and roughness of polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus using the same

Номер патента: KR100693251B1. Автор: 이동준,강경문,소재현,안봉수,문성택. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-03-13.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: KR20210002429A. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨 주식회사. Дата публикации: 2021-01-08.

Polishing pad, method for producing polishing pad, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: CN115302401A. Автор: 徐章源,尹晟勋,安宰仁,郑恩先. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-08.

Polishing pad, process for producing the same, and process for producing semiconductor device using said polishing pad

Номер патента: KR101214687B1. Автор: 마사히로 와타나베,즈요시 기무라,요시유키 나카이. Владелец: 도요 고무 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2012-12-21.

STACK FORMING MULTI-LAYER MECHANICAL CHEMICAL POLISHING PAD WITH SOFT AND CONDITIONABLE POLISHING LAYER

Номер патента: FR3006220A1. Автор: Bainian Qian,David B James,James Murnane,Fengji Yeh,Michelle K Jensen,Marty W Degroot,Jeffrey James Hendron,John G Nowland. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2014-12-05.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: TWI608898B. Автор: 威廉Ｃ 亞歷森,黛安 史考特,保羅 安德烈 里伏瑞,詹姆士Ｐ 拉凱斯,亞力山卓 威廉 辛普森. Владелец: 卡博特微電子公司. Дата публикации: 2017-12-21.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: TW202225286A. Автор: 立野哲平,栗原浩,田中啓介,喜樂香枝,小池堅一,宮内慶樹. Владелец: 日商富士紡控股股份有限公司. Дата публикации: 2022-07-01.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: EP2785496A2. Автор: Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2014-10-08.

Polishing pad with polishing surface layer having an aperture or opening above a transparent foundation layer

Номер патента: KR101729610B1. Автор: 폴 안드레 레페브레,윌리엄 씨 앨리슨,알렉산더 윌리엄 심슨,다이안 스코트,핑 후앙,레즐리 엠 샤른스,제임스 피 라카세. Владелец: 넥스플래너 코퍼레이션. Дата публикации: 2017-04-24.

Polishing pad, manufacturing method thereof, and cushion layer for polishing pad

Номер патента: JPWO2002043921A1. Автор: 小野　浩一,下村　哲生,中森　雅彦,山田　孝敏,駒井　茂,堤　正幸. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-02.

Polishing pad with base layer and polishing surface layer

Номер патента: JP6805191B2. Автор: シー． アリソン ウィリアム,シー． アリソン ウィリアム,スコット ダイアン,アンドレ レフィーバー ポール,アンドレ レフィーバー ポール,ピー． ラカッセ ジェイムズ,ピー． ラカッセ ジェイムズ,ウィリアム シンプソン アレクサンダー,ウィリアム シンプソン アレクサンダー. Владелец: シーエムシー マテリアルズ，インコーポレイティド. Дата публикации: 2020-12-23.

Polishing pad and cushion layer for polishing pad

Номер патента: US20060148393A1. Автор: Koichi Ono,Masayuki Tsutsumi,Shigeru Komai,Tetsuo Shimomura,Masahiko Nakamori,Takatoshi Yamada. Владелец: Takatoshi Yamada. Дата публикации: 2006-07-06.

Method of fabricating a chemical mechanical polishing pad conditioner using ceramic material and chemical mechanical polishing pad conditioner fabricated thereby

Номер патента: KR100508300B1. Автор: 정만섭. Владелец: (주)디디다이아. Дата публикации: 2005-08-17.

Polishing pad, method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: KR100867339B1. Автор: 나카모리마사히코,야마다다카토시,고마이시게루,오노고이치,시모무라데쓰오,쓰쓰미마사유키. Владелец: 도요 고무 고교 가부시키가이샤. Дата публикации: 2008-11-06.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: KR101819539B1. Автор: 알렉산더 윌리엄 심슨,윌리엄 씨. 앨리슨,다이앤 스코트,뽈 앙드레 르페브르,제임스 피 라카쎄. Владелец: 캐보트 마이크로일렉트로닉스 코포레이션. Дата публикации: 2018-01-17.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: EP3798244B1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-03-06.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: EP3798244B8. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-04-10.

POLISHING PAD FOR A RELEASABLE ATTACHMENT TO A BOTTOM SURFACE OF A PLATE-LIKE BACKING PAD OF A POWER TOOL, BACKING PAD AND HAND-HELD POWER TOOL

Номер патента: US20190001459A1. Автор: VALENTINI Guido. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-03.

Polishing pad for releasable attachment to a bottom surface of a plate-like backing pad of a power tool, backing pad and hand-held power tool

Номер патента: EP3421179A1. Автор: Guido Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2019-01-02.

Polishing layer, polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Номер патента: IL314429A. Автор: Mitsuru Kato,Azusa SUNAYAMA,Yuko GOSHI. Владелец: Yuko GOSHI. Дата публикации: 2024-09-01.

Polishing pad surface cooling by compressed gas

Номер патента: WO2022256059A1. Автор: Robert Lewis RHOADES,Bryan Francis SENNETT,Peter Sterling Patrick VOWELL. Владелец: Revasum, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

ALIPHATIC POLYURETHANE OPTICAL ENDPOINT DETECTION WINDOWS AND CMP POLISHING PADS CONTAINING THEM

Номер патента: US20180304438A1. Автор: Jacob George C.,Chiou Nan-Rong,Islam Mohammad T.. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

ALIPHATIC POLYURETHANE OPTICAL ENDPOINT DETECTION WINDOWS AND CMP POLISHING PADS CONTAINING THEM

Номер патента: US20180304439A1. Автор: Jacob George C.,Chiou Nan-Rong,Islam Mohammad T.. Владелец: . Дата публикации: 2018-10-25.

Processing method of polishing pad for semiconductor wafer and polishing pad for semiconductor wafer

Номер патента: TW200403741A. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Hiroshi Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-03-01.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

POLISHING PAD, METHOD FOR MANUFACTURING POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD APPLYING POLISHING PAD

Номер патента: US20210094144A1. Автор: SEO Jang Won,YUN Sunghoon,AHN Jaein,YUN Jong Wook,HEO Hye Young,MOON Su Young. Владелец: SKC CO., LTD.. Дата публикации: 2021-04-01.

Polishing pad and apparatus for polishing substrate having the polishing pad, method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: KR102318482B1. Автор: 박성현,이근우. Владелец: 주식회사 케이씨텍. Дата публикации: 2021-10-29.

HEAT EXCHANGER FOR REGULATING TEMPERATURE OF POLISHING SURFACE OF POLISHING PAD, POLISHING APPARATUS HAVING SUCH HEAT EXCHANGER, POLISHING METHOD FOR SUBSTRATE USING SUCH HEAT EXCHANGER, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM STORING A PROGRAM FOR REGULATING TEMPERATURE OF POLISHING SURFACE OF POLISHING PAD

Номер патента: US20190126428A1. Автор: Maruyama Toru,MATSUO Hisanori,MOTOSHIMA Yasuyuki,KABASAWA Masashi. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-02.

Detection window for CMP (chemical mechanical polishing) pad and preparation method of detection window

Номер патента: CN105922126A. Автор: 朱顺全,梅黎黎. Владелец: Hubei Dinglong Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-07.

Compliant polishing pad and polishing module

Номер патента: US09751189B2. Автор: Steven M. Zuniga,Chih Hung Chen,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-05.

Tungsten chemical mechanical polishing method using fixed polishing pad and tungsten layer chemical mechanical polishing solution for chemical mechanical polishing using fixed polishing pad

Номер патента: JP4010112B2. Автор: ダイネッシュ チョップラ，,スコット， ジー． メイクル，. Владелец: マイクロン テクノロジー， インク．. Дата публикации: 2007-11-21.

Polishing pad and method for making polishing pad with elongated microcolumns

Номер патента: EP1009588A1. Автор: Scott G. Meikle,Trung Tri Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-06-21.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6206756B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6273786B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-14.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028585A1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-05-18.

Tungsten chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a tungsten layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: KR100443458B1. Автор: 디네쉬 코프라,스코트지. 메이클. Владелец: 미크론 테크놀로지,인코포레이티드. Дата публикации: 2004-08-09.

METHOD OF MANUFACTURE INCLUDING POLISHING PAD MONITORING METHOD AND POLISHING APPARATUS INCLUDING POLISHING PAD MONITORING DEVICE

Номер патента: US20220093405A1. Автор: OH Seung-Hun,JANG Young-Seok,Kim Dong-Eog,LEE Eun-Seok,Shin Jin,LEE Nam-hoon,SON Woo-Mok. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-24.

METHOD OF MANUFACTURE INCLUDING POLISHING PAD MONITORING METHOD AND POLISHING APPARATUS INCLUDING POLISHING PAD MONITORING DEVICE

Номер патента: US20200152469A1. Автор: OH Seung-Hun,JANG Young-Seok,Kim Dong-Eog,LEE Eun-Seok,Shin Jin,LEE Nam-hoon,SON Woo-Mok. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

Polishing pad dresser and manufacturing method thereof, polishing pad dressing devcie and polishing system

Номер патента: KR101610438B1. Автор: 지에 판,리준 야오,가즈히코 오이와,도시오 아이하라,수에즈 왕. Владелец: 콘풍 매테리얼스 인터네셔널 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2016-04-07.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Номер патента: CN109311138B. Автор: 小田善之,柴雄一郎. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2021-06-22.

Polishing pad dresser and manufacturing method thereof, polishing pad dressing device and polishing system

Номер патента: TW201446427A. Автор: Jie Pan,Toshio Aihara,Kazuhiko Oiwa,li-jun Yao,xue-ze Wang. Владелец: Konfoong Materials Int Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-16.

Polishing pad adhesive film, polishing pad laminate comprising same, and method for polishing wafer

Номер патента: CN115401603A. Автор: 徐章源,尹晟勋,李正男. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-29.

Polishing pad and polishing device using polishing pad

Номер патента: TW201200296A. Автор: Atsushi Kiyama,Tatsuro Kochi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-01-01.

Polishing pad and polishing pad manufacturing method

Номер патента: JPWO2016181751A1. Автор: 和夫 西藤,歳和 田浦,高木　大輔,大輔 高木. Владелец: Bando Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2017-05-25.

POLISHING PAD OF A HAND-HELD POWER TOOL AND POWER TOOL WITH SUCH A POLISHING PAD

Номер патента: US20190001458A1. Автор: VALENTINI Guido. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-03.

POLISHING PAD SHEET, POLISHING PAD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20220176514A1. Автор: KIM Kyung Hwan,SEO Jang Won,YUN Sung Hoon,Ahn Jae In. Владелец: . Дата публикации: 2022-06-09.

COMPOSITION FOR A POLISHING PAD, POLISHING PAD, AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME

Номер патента: US20200207904A1. Автор: SEO Jang Won,YUN Jong Wook,HEO Hye Young,JOENG Eun Sun. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-02.

Polishing pad with offset concentric grooving pattern and method for polishing a substrate therewith

Номер патента: US20150298287A1. Автор: Ching-Ming Tsai,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,Feng-Chih Hsu,Craig Kokjohn. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-10-22.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: JP6639939B2. Автор: 正敏 赤時. Владелец: Nitta Haas Inc. Дата публикации: 2020-02-05.

Polishing Apparatus and Polishing Pad Useful In Polishing Apparatus and Polishing Method

Номер патента: KR100650079B1. Автор: 스즈끼게이스께. Владелец: 로무 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-11-27.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and cmp pads made therewith

Номер патента: KR20220106052A. Автор: 렌 징,테티 크와드우,이. 바톤 브라이언. Владелец: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머티리얼스 씨엠피 홀딩스, 인코포레이티드. Дата публикации: 2022-07-28.

Microporous polyurethane material having antistatic property for polishing pad and method for preparing the same and polishing pad using the same

Номер патента: KR100986969B1. Автор: 김춘수,차윤종. Владелец: 주식회사 에이피텍. Дата публикации: 2010-10-11.

Auxiliary plate for polishing pad and method for regenerating polishing pad using the same

Номер патента: JP4680314B1. Автор: 辰俊 鈴木,英資 鈴木. Владелец: Toho Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2011-05-11.

Chemical mechanical polishing devices, pad conditioner assembly and polishing pad conditioning method thereof

Номер патента: US20070077871A1. Автор: Moo-Yong Park,Tai-Hyoung Kim,Choon-goang Kim,Dong-Il Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-05.

Polishing pad dresser and polishing pad dressing method

Номер патента: CN107471113B. Автор: 唐强. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Tianjin Corp. Дата публикации: 2019-12-27.

Polishing pad and polishing pad manufacturing method

Номер патента: JP6046865B1. Автор: 和夫 西藤,歳和 田浦,高木　大輔,大輔 高木. Владелец: Bando Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 2016-12-21.

Composition for polishing pad and polishing pad

Номер патента: CN112692725A. Автор: 徐章源,许惠暎,尹钟旭,郑恩先. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-23.

Polishing pad, method for processing polishing pad and method for producing substrate using it

Номер патента: US20080139094A1. Автор: Yasutsugu Soeta. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2008-06-12.

Method of treating lens polishing pads

Номер патента: US3698937A. Автор: Donald O Hoffman. Владелец: American Optical Corp. Дата публикации: 1972-10-17.

Polishing pad configuration and polishing pad support

Номер патента: US10105812B2. Автор: HUNG Chih Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-10-23.

Polishing pad and method for producing polishing pad

Номер патента: EP2832774A4. Автор: Fumio Miyazawa,Teppei Tateno,Hirohito Miyasaka,Ryuma Matsuoka,Yoshie Kanazawa. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2015-10-14.

Polishing pad and method for producing polishing pad

Номер патента: TWI722108B. Автор: 赤時正敏. Владелец: 日商霓塔杜邦股份有限公司. Дата публикации: 2021-03-21.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841A1. Автор: Nobuo c/o JSR Corporation Kawahashi,Kou c/o Jsr Corporation Hasegawa,Hiroshi c/o JSR Corporation Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-08-18.

Polishing pad, production method therefor, production method for polished article, lapping pad, production method therefor, and production method for lapped article

Номер патента: WO2022138958A1. Автор: 哲也 河野. Владелец: 富士紡ホールディングス株式会社. Дата публикации: 2022-06-30.

SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE SUCTION DETERMINATION METHOD, SUBSTRATE POLISHING APPARATUS, SUBSTRATE POLISHING METHOD, METHOD OF REMOVING LIQUID FROM UPPER SUFACE OF WAFER TO BE POLISHED, ELASTIC FILM FOR PRESSING WAFER AGAINST POLISHING PAD, SUBSTRATE RELEASE METHOD, AND CONSTANT AMOUNT GAS SUPPLY APPARATUS

Номер патента: US20210217647A1. Автор: FUKUSHIMA Makoto,NABEYA Osamu,YAMAKI Satoru. Владелец: . Дата публикации: 2021-07-15.

A SELF-SHARPENING POLISHING DEVICE WITH MAGNETORHEOLOGICAL FLEXIBLE POLISHING PAD FORMED BY DYNAMIC MAGNETIC FIELD AND POLISHING METHOD THEREOF

Номер патента: US20180021910A1. Автор: Yu Peng,Gao Weiqiang,PAN Jisheng,YAN Qiusheng. Владелец: . Дата публикации: 2018-01-25.

Wafer polishing method and polishing pad for wafer polishing

Номер патента: JP3664676B2. Автор: 憲一 井上,寿 桝村,和弥 冨井,栄直 伊藤,健一 安在. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-29.

Polishing pad, double-side polishing device, and double-side polishing method for wafer

Номер патента: WO2022107468A1. Автор: 淳一 上野. Владелец: 信越半導体株式会社. Дата публикации: 2022-05-27.

Polishing apparatus, polishing pad, and polishing information management system

Номер патента: TW201143980A. Автор: Jae-Hong Park. Владелец: Nitta Haas Inc. Дата публикации: 2011-12-16.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING DEVICE

Номер патента: US20210066086A1. Автор: MOON Deuk Kyu,Jung Moon Il,KIM Do Yoon,TAKAI Kenji,YOON Min Hee. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-04.

Method of manufacturing polishing apparatus including polishing pad monitoring method and polishing apparatus

Номер патента: CN111230733A. Автор: 吴承勋,申镇,张永锡,孙佑睦,李南勋,金东亿,李恩石. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-05.

Polishing pad, double-side polishing device, and double-side polishing method for wafer

Номер патента: TW202222492A. Автор: 上野淳一. Владелец: 日商信越半導體股份有限公司. Дата публикации: 2022-06-16.

Support disc for expendable polishing pad

Номер патента: EP2199023A3. Автор: Guido Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-09-29.

METHOD FOR MANUFACTURING A POLISHING PAD AND POLISHING PAD

Номер патента: US20150099440A1. Автор: VALENTINI Guido. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-09.

Resin composition for polishing pad and preparation method polishing pad

Номер патента: KR20220159685A. Автор: 서장원,윤성훈,권태경,이정남. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2022-12-05.

Stone polishing pad making device and polishing pad making method

Номер патента: KR101808123B1. Автор: 민경열. Владелец: 케스트다이아몬드 주식회사. Дата публикации: 2018-01-18.

Polishing pad with high elasticity and hardness comprising polyurethane and polishing agent

Номер патента: KR100632964B1. Автор: 이승현,김태경,안경철. Владелец: (주)피에스텍. Дата публикации: 2006-10-11.

Resin composition for polishing pad and preparation method polishing pad

Номер патента: KR102512486B1. Автор: 서장원,윤성훈,권태경,이정남. Владелец: 에스케이엔펄스 주식회사. Дата публикации: 2023-03-20.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD WITH ENDPOINT DETECTION WINDOW

Номер патента: US20150273651A1. Автор: Degroot Marty W.,Qian Bainian. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-01.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD WITH ENDPOINT DETECTION WINDOW

Номер патента: US20150306729A1. Автор: Degroot Marty W.,Qian Bainian. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-29.

Chemical mechanical polishing pad with endpoint detection window

Номер патента: CN105014527A. Автор: B·钱,M·W·德格鲁特. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2015-11-04.

Aliphatic polyurethane optical endpoint detection windows and CMP polishing pads containing them

Номер патента: CN108723983B. Автор: G·C·雅各布,N-R·邱,M·T·伊斯兰. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2021-02-02.

Aliphatic polyurethane optical endpoint detection windows and CMP polishing pads containing them

Номер патента: US10293456B2. Автор: George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Mohammad T. Islam,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-05-21.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: IL270416B1. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2023-07-01.

Method for modifying polyurethane, polyurethane, polishing pad, and method for modifying polishing pad

Номер патента: IL278376B2. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Thermoplastic polyurethane for polishing layer, polishing layer, and polishing pad

Номер патента: EP4410478A1. Автор: Mitsuru Kato,Azusa SUNAYAMA,Yuko GOSHI. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Modification method of polyurethane, polyurethane, polishing pad, and modification method of polishing pad

Номер патента: US12109665B2. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Modification method of polyurethane, polyurethane, polishing pad, and modification method of polishing pad

Номер патента: US20240342858A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method applying polishing pad

Номер патента: US11628535B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN,Su Young Moon. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-18.

Polyurethane for polishing layers, polishing layer and polishing pad

Номер патента: IL282788B1. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2024-04-01.

Polyurethane for polishing layers, polishing layer and polishing pad

Номер патента: IL282788B2. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6276996B1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-08-21.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028586A2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2000-05-18.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US6676484B2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-01-13.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: WO2000028586A3. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-10-12.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: US20010016469A1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-23.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adaptedfor chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: AU1724500A. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-05-29.

Copper chemical-mechanical polishing process using a fixed abrasive polishing pad and a copper layer chemical-mechanical polishing solution specifically adapted for chemical-mechanical polishing with a fixed abrasive pad

Номер патента: EP1138069A2. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-10-04.

Polishing pad with adjusted crosslinking degree and process for preparing the same

Номер патента: SG10202008329VA. Автор: Wook Yun Jong,Sun Joeng Eun,Won Seo Jang. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-28.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: US11787894B2. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: US20200190247A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kurray Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Polishing pad for metallic film and polishing method of metallic film using the same

Номер патента: TW200908119A. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Hirofumi Kikuchi. Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2009-02-16.

ALIPHATIC POLYURETHANE LIMIT POINT OPTICAL DETECTION WINDOWS AND CMP POLISHING PADS CONTAINING SAME

Номер патента: FR3065385A1. Автор: George C. Jacob,Mohammad T. Islam,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-10-26.

ALIPHATIC POLYURETHANE OPTICAL LIMIT POINT DETECTION WINDOWS AND CMP POLISHING PADS CONTAINING THEM

Номер патента: FR3065385B1. Автор: Mohammad T Islam,George C Jacob,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2021-12-10.

OPTICAL FINISH DETECTION WINDOWS OF AN ALIPHATIC POLYURETHANE AND CMP POLISHING PADS CONTAINING THEM

Номер патента: DE102018003155A1. Автор: George C. Jacob,Mohammad T. Islam,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

POLYURETHANE FOR POLISHING LAYER, POLISHING LAYER INCLUDING POLYURETHANE AND MODIFICATION METHOD OF THE POLISHING LAYER, POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20210087325A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,OSHITA Azusa. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2021-03-25.

POLYURETHANE FOR POLISHING LAYER, POLISHING LAYER INCLUDING POLYURETHANE AND MODIFICATION METHOD OF THE POLISHING LAYER, POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20200190247A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,OSHITA Azusa. Владелец: Kurray Co., Ltd.. Дата публикации: 2020-06-18.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer comprising polyurethane, method for modifying polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: CN110573547B. Автор: 加藤充,冈本知大,加藤晋哉,竹越穰,大下梓纱. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-10.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: IL270416B2. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2023-11-01.

Substrate holding apparatus, substrate suction determination method, substrate polishing apparatus, substrate polishing method, method of removing liquid from upper suface of wafer to be polished, elastic film for pressing wafer against polishing pad, substrate release method, and constant amount gas supply apparatus

Номер патента: US20200043773A1. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Satoru Yamaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20200207981A1. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

POLYURETHANE POLISHING LAYER, POLISHING PAD COMPRISING POLISHING LAYER, METHOD FOR PREPARING POLISHING LAYER AND METHOD FOR PLANARIZING MATERIAL

Номер патента: US20200215661A1. Автор: Liu Min,ZHANG JIPING,ZHU Shunquan,LUO Yijie,CHE Liyuan. Владелец: HUBEI DINGHUI MICROELECTRONICS MATERIALS CO., LTD. Дата публикации: 2020-07-09.

MODIFICATION METHOD OF POLYURETHANE, POLYURETHANE, POLISHING PAD, AND MODIFICATION METHOD OF POLISHING PAD

Номер патента: US20210276143A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,OSHITA Azusa. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2021-09-09.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD WITH POLISHING LAYER AND WINDOW

Номер патента: US20150273652A1. Автор: Degroot Marty W.,James David B.,Repper Angus,Qian Bainian,Yeh Fengji,Murnane James,Jensen Michelle,Nowland John G.,Hendron Jeffrey J.. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-01.

Polishing pad composition and polishing pad using the same

Номер патента: JP3925041B2. Автор: 信夫 川橋,俊博 小川,亨 長谷川. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-06-06.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method of semiconductor device

Номер патента: KR102237351B1. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2021-04-07.

Polyurethane polishing layer, polishing pad including polishing layer, method for manufacturing polishing layer and material planarization method

Номер патента: KR102338854B1. Автор: 슌취엔 주,šœ취엔 주,이지에 루오,민 리우,지핑 장,리위엔 츠어. Владелец: 후베이 딩후이 마이크로일렉트로닉스 머티리얼즈 코., 엘티디. Дата публикации: 2021-12-15.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method of semiconductor device

Номер патента: KR102237357B1. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2021-04-07.

Polishing pad and polishing pad modification method

Номер патента: JP7068445B2. Автор: 穣 竹越,知大 岡本,晋哉 加藤,充 加藤,梓紗 大下. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-16.

Composition for Polishing Pad and Polishing Pad Using the Same

Номер патента: KR100792102B1. Автор: 노부오 가와하시,고우 하세가와,도시히로 오가와. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2008-01-04.

Chemical mechanical polishing pad and manufacturing method of the polishing pad

Номер патента: JP6870928B2. Автор: ユリア・コジューフ,ユファ・トン,アンドリュー・ワンク,ディエゴ・ルーゴ,マーク・アール・スタック,デイビッド・マイケル・ヴェネツィアーレ,マーティー・ディグルート,ジョージ・シー・ジェイコブ,ジェフリー・ビー・ミラー,バイニャン・チャン,テレサ・ブルガロラス・ブルファウ,トニー・クアン・トラン,フェンジィ・イエ. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2021-05-12.

Polyurethane modification method, polyurethane, polishing pad and polishing pad modification method

Номер патента: JPWO2019216279A1. Автор: 穣 竹越,加藤　充,知大 岡本,晋哉 加藤,充 加藤,梓紗 大下. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-17.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: KR102273097B1. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2021-07-05.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: KR20200079884A. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨 주식회사. Дата публикации: 2020-07-06.

Chemical mechanical polishing pad with polishing layer and window

Номер патента: CN104942702A. Автор: M·詹森,钱百年,M·W·德格鲁特,D·B·詹姆斯,J·穆奈恩,A·雷珀,J·J·亨道恩,J·G·诺兰,叶逢蓟. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2015-09-30.

Porous polyurethane polishing pad and method for manufacturing porous polyurethane polishing pad

Номер патента: JP6688845B2. Автор: ソ・チャンウォン,ハン・ヒョクヒ,ホ・ヘヨン,リュ・ジュンソン,クォン・ヨンピル. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Cellular polyurethane polishing pad and the method for preparing semiconductor devices by using the polishing pad

Номер патента: CN108673332A. Автор: 徐章源,尹晟勋,安宰仁,文寿泳,甄明玉. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-19.

Method for modifying polyurethane, polyurethane, polishing pad, and method for modifying polishing pad

Номер патента: WO2019216279A1. Автор: 穣 竹越,加藤　充,知大 岡本,晋哉 加藤,梓紗 大下. Владелец: 株式会社クラレ. Дата публикации: 2019-11-14.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and cmp pads made therewith

Номер патента: TW202237685A. Автор: 布萊恩Ｅ 巴頓,安妮特Ｍ 克里維斯,特里沙 布魯格洛雷斯布魯法,維爾Ｏ 阿奇博爾德,麥克E 米爾斯. Владелец: 美商羅門哈斯電子材料Ｃｍｐ控股公司. Дата публикации: 2022-10-01.

Polishing pad inspection method and polishing pad inspection apparatus

Номер патента: JP3878460B2. Автор: 忠森 全,桂源 金,裕信 梁,考厚 金. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-07.

Method for manufacturing a composition for a polishing pad, a polishing pad and a semiconductor element

Номер патента: JP7059321B2. Автор: ジョン、ウンソン,ユン、ジョンウク,ソ、ジャンウォン,ホ、ヘヨン. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-25.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method of semiconductor device using same

Номер патента: KR102298112B1. Автор: 허혜영,윤종욱,서장원,정은선. Владелец: 에스케이씨솔믹스 주식회사. Дата публикации: 2021-09-03.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: CN111440288A. Автор: 徐章源,许惠映,郑恩先,尹锺旭. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-24.

Chemical mechanical polishing pads with polishing layer and window

Номер патента: CN104942702B. Автор: M·詹森,钱百年,M·W·德格鲁特,D·B·詹姆斯,J·穆奈恩,A·雷珀,J·J·亨道恩,J·G·诺兰,叶逢蓟. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-01-19.

Cushion for polishing pad and polishing pad using the cushion

Номер патента: CN101678527A. Автор: 加藤充,加藤晋哉,菊池博文. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2010-03-24.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: CN114762953A. Автор: 许惠暎,尹钟旭,安宰仁,郑恩先. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-19.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and cmp pads made therewith

Номер патента: JP2022112498A. Автор: Brugarolas Brufau Teresa,テレサ・ブルガロラス・ブルファウ,ブライアン・イー・バートン,E Barton Bryan,アネット・エム・クレバス,M Crevasse Annette,ヴィア・オー・アーチボールド,O Archibald Vere,マイケル・イー・ミルズ,E Mills Michael. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2022-08-02.

Chemical mechanical polishing pad with polishing layer and window

Номер патента: KR20150112856A. Автор: 제프리 제임스 헨드런,펑지 예,데이비드 비 제임스,바이니안 첸,마티 더블유 데그루트,미셸 케이 젠센,제임스 머난,존 지 놀런드. Владелец: 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨. Дата публикации: 2015-10-07.

Cellular polyurethane polishing pad and the method that semiconductor devices is prepared using the polishing pad

Номер патента: CN108581822A. Автор: 徐章源,尹晟勋,安宰仁,文寿泳,甄明玉. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-28.

Cushion for polishing pad and polishing pad using the cushion

Номер патента: US20100120343A1. Автор: Mitsuru Kato,Shinya Kato,Hirofumi Kikuchi. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2010-05-13.

Polyurethane polishing layer, polishing pad containing polishing layer, method for preparing polishing layer and method for planarizing material

Номер патента: WO2019042428A1. Автор: 刘敏,朱顺全,张季平,车丽媛,罗乙杰. Владелец: 湖北鼎汇微电子材料有限公司. Дата публикации: 2019-03-07.

Composition for polishing pad, polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: CN111378085A. Автор: 徐章源,许惠映,郑恩先,尹锺旭. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-07.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: JP7231704B2. Автор: ジョン、ウンソン,ユン、ジョンウク,ホ、ヘヨン,アン、ジェイン. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-01.

Substrate holding apparatus, substrate suction determination method, substrate polishing apparatus, substrate polishing method, method of removing liquid from upper surface of wafer to be polished, elastic film for pressing wafer against polishing pad, substrate release method, and constant amount gas supply apparatus

Номер патента: SG10201907127TA. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Satoru Yamaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-03-30.

Method for modifying polyurethane, polyurethane, polishing pad, and method for modifying polishing pad

Номер патента: IL278376B1. Автор: . Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2024-04-01.

Polishing pads, polishing tools, and polishing methods

Номер патента: JPWO2020054823A1. Автор: 堀田　和利,和利 堀田,恭祐 天▲高▼,翔太 菱田,大祐 安井,英治 長谷. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2021-08-30.

Polishing layer imporosity formed body, polishing pad and polishing method

Номер патента: CN107073678A. Автор: 加藤充,冈本知大,加藤晋哉,竹越穰,门胁清文. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-18.

NON-POROUS MOLDED ARTICLE FOR POLISHING LAYER, POLISHING PAD, AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20170291275A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,KADOWAKI Kiyofumi,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori. Владелец: Kurray Co., Ltd.. Дата публикации: 2017-10-12.

Polishing pad, pyrolysis oil obtained therefrom, and process for preparing the same

Номер патента: US20240263080A1. Автор: JANGWON SEO,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Polishing pad, pyrolysis oil obtained therefrom, and process for preparing the same

Номер патента: EP4410857A1. Автор: JANGWON SEO,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Porous polyurethane polishing pad and process for producing the same

Номер патента: US11766759B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Diamond polishing pad caddy

Номер патента: US8091705B1. Автор: David L. McCutchen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-10.

Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, polishing member, and surface plate with polishing pad

Номер патента: US20220195258A1. Автор: Tadashi Abe. Владелец: Toyochem Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

System for detecting window or glass panel damage

Номер патента: US11745701B2. Автор: Tom Roger Larsen. Владелец: Dtecto As. Дата публикации: 2023-09-05.

Distance sensing and visual indicator arrays with reconfigurable detection windows

Номер патента: US20220229180A1. Автор: Charles Dolezalek. Владелец: Banner Engineering Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

Distance sensing and visual indicator arrays with reconfigurable detection windows

Номер патента: EP4260081A1. Автор: Charles Dolezalek. Владелец: Banner Engineering Corp. Дата публикации: 2023-10-18.

Distance sensing and visual indicator arrays with reconfigurable detection windows

Номер патента: CA3204809A1. Автор: Charles Dolezalek. Владелец: Banner Engineering Corp. Дата публикации: 2022-07-28.

Distance sensing and visual indicator arrays with reconfigurable detection windows

Номер патента: WO2022159921A1. Автор: Charles Dolezalek. Владелец: Banner Engineering Corp.. Дата публикации: 2022-07-28.

Reconfigurable detection windows with dynamically activated detection arrays

Номер патента: WO2024073431A1. Автор: William Theunissen,Charles Dolezalek,Abdi AMARO. Владелец: Banner Engineering Corp.. Дата публикации: 2024-04-04.

Brake pad with open metal insert

Номер патента: RU2757101C2. Автор: Тимоти А. РАМП,А. Гари БОУДЕН,Владислав ВЕССЕЛОВ. Владелец: АрЭфПиСи ХОЛДИНГ КОРП.. Дата публикации: 2021-10-11.

Lift Pads With Alignment Functionality and Methods of Using the Same

Номер патента: US20210339992A1. Автор: R. Bradford Fawley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-11-04.

Padding with integrated automatically filled air tubes and method of its manufacture

Номер патента: RU2639976C2. Автор: Ё-Син ХАМ,У-Сон ХАМ. Владелец: У-Сон ХАМ. Дата публикации: 2017-12-25.

Mold for seat pad with mesh fixed

Номер патента: US12036709B2. Автор: Sang-soo Lee,Sang-Do Park,Chan-Ho JUNG,Sang-Hark Lee,Deok-Soo LIM,Beom-Sun Kim,Sang-In Woo,Hyun-Seok Song. Владелец: Hyundai Transys Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Apparatus and method for molding a foam pad with a wire assembly

Номер патента: US20200324443A1. Автор: Ricky Brown,Christopher John Meurer,Bryan Keith Caskey,Russel Eugene Strang. Владелец: Magna Seating Inc. Дата публикации: 2020-10-15.

Mold for seat pad with mesh fixed

Номер патента: US20240316847A1. Автор: Sang-soo Lee,Sang-Do Park,Chan-Ho JUNG,Sang-Hark Lee,Deok-Soo LIM,Beom-Sun Kim,Sang-In Woo,Hyun-Seok Song. Владелец: Hyundai Transys Inc. Дата публикации: 2024-09-26.

Mouse pad with usable double surface

Номер патента: US20220342492A1. Автор: Hung-Jen Chou. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-10-27.

Method for manufacturing pad with dynamic massage bubbles

Номер патента: US20230182402A1. Автор: Zhaoming Wei. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-06-15.

Absorbent pad with drawstring system and method

Номер патента: US20230363349A1. Автор: Eddie Albarricin,Gretchen Zamjahn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-11-16.

A landing pad with a built-in fire suppressor

Номер патента: EP2382355A1. Автор: Neelesh Uppal. Владелец: Aluminium Offshore Pte Ltd. Дата публикации: 2011-11-02.

A landing pad with a built-in fire suppressor

Номер патента: WO2010074653A9. Автор: Neelesh Uppal. Владелец: Aluminium Offshore Pte Ltd. Дата публикации: 2010-10-28.

Paint Pad with Adjustable Handle

Номер патента: US20070226935A1. Автор: Jianxin Lu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-10-04.

Damping pad with low compression set

Номер патента: US11759984B1. Автор: Ming-Hui Lin,Sung-Yen Kung. Владелец: Hertide Material Co. Дата публикации: 2023-09-19.

Damping pad with low compression set

Номер патента: US20230286195A1. Автор: Ming-Hui Lin,Sung-Yen Kung. Владелец: Hertide Material Co. Дата публикации: 2023-09-14.

Lift Pads With Alignment Functionality and Methods of Using the Same

Номер патента: US20200283277A1. Автор: R. Bradford Fawley. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-09-10.

Anti-slip pad with high coefficient of static friction

Номер патента: US20240123711A1. Автор: Ming-Hui Lin,Sung-Yen Kung. Владелец: Hertide Material Co. Дата публикации: 2024-04-18.

Filter pad with pocket and method of using the same

Номер патента: CA1322965C. Автор: Joel M. Goldstein,Albert Abrevaya. Владелец: Aquarium Pharmaceuticals Inc. Дата публикации: 1993-10-12.

CMP porous pad with particles in a polymeric matrix

Номер патента: US09951054B2. Автор: Shoutian Li,Robert Vacassy,Jaishankar Kasthuri. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Method for manufacturing magnetic-disk substrate, method for manufacturing magnetic disk, raw material for polishing pad, and method for manufacturing substrate

Номер патента: MY182511A. Автор: Yuji YAMASHIRO,Takumi Kuhara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-01-25.

Chemical mechanical polishing pad with endpoint detection window

Номер патента: KR20150112855A. Автор: 바이니안 첸,마티 데그루트. Владелец: 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨. Дата публикации: 2015-10-07.

Monitoring enterprise networks with endpoint agents

Номер патента: US20200213210A1. Автор: Michael Meisel,Ricardo V. Oliveira,Nelson Rodrigues,Santiago Alessandri,Martin Dam. Владелец: ThousandEyes LLC. Дата публикации: 2020-07-02.

Monitoring enterprise networks with endpoint agents

Номер патента: US20210126843A1. Автор: Michael Meisel,Ricardo V. Oliveira,Nelson Rodrigues,Santiago Alessandri,Martin Dam. Владелец: ThousandEyes LLC. Дата публикации: 2021-04-29.

Methods, systems, and computer readable media for identifying network locations associated with endpoints

Номер патента: US20160234113A1. Автор: Marius Pavel NISTOR,Mihail Florin CONSTANTINESCU. Владелец: IXIA. Дата публикации: 2016-08-11.

Device and method for indicating a detection window

Номер патента: RU2767052C2. Автор: Синхуа СУН,Цзянцинь ЛЮ. Владелец: Хуавей Текнолоджиз Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-03-16.

Detection window indication method and apparatus

Номер патента: EP4401497A3. Автор: Jianqin Liu,Xinghua Song. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Detection window indication method and apparatus

Номер патента: EP4401497A2. Автор: Jianqin Liu,Xinghua Song. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Identifying unmanaged cloud resources with endpoint and network logs

Номер патента: US11888760B2. Автор: Andrew Chi,Blake Harrell Anderson,David Arthur McGrew,Saran Singh Ahluwalia. Владелец: Cisco Technology Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Identifying unmanaged cloud resources with endpoint and network logs

Номер патента: US20230029656A1. Автор: Andrew Chi,Blake Harrell Anderson,David Arthur McGrew,Saran Singh Ahluwalia. Владелец: Cisco Technology Inc. Дата публикации: 2023-02-02.

Face detection window refinement using depth

Номер патента: US20180247110A1. Автор: WEI Hu,Yimin Zhang,Sirui Yang,Haibing Ren. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-08-30.

Endpoint detection method for chamber component refurbishment

Номер патента: US20230184539A1. Автор: Gary Powell,Dinkar Nandwana,Allen D'Ambra,Dinh Tran. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-06-15.

Detachable detection window and detecting system

Номер патента: US20080236486A1. Автор: Nan-Ying Lin. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-10-02.

Endpoint detection system for enhanced spectral data collection

Номер патента: US20240230462A1. Автор: Lei Lian,Pengyu Han. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Command keywords with input detection windowing

Номер патента: US20240212680A1. Автор: Connor Kristopher Smith,Matthew David Anderson. Владелец: Sonos Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and device for image-based malware detection, and artificial intelligence-based endpoint detection and response system using same

Номер патента: EP4254241A1. Автор: Seung Chul Han,Hyo Seop BANG,Dong Hwan SUN,Kyung Shin KIM. Владелец: NPCORE Inc. Дата публикации: 2023-10-04.

Immunoassay with extended detection window

Номер патента: US20110189794A1. Автор: Stephen Peter Fitzgerald,Robert Ivan Mcconnell,Elouard Benchikh,Philip Andrew Lowry. Владелец: Randox Laboratories Ltd. Дата публикации: 2011-08-04.

Input detection windowing

Номер патента: US12119000B2. Автор: Connor Kristopher Smith,Matthew David Anderson. Владелец: Sonos Inc. Дата публикации: 2024-10-15.

Endpoint detection using spectral or temporal pattern matching

Номер патента: WO2024191630A1. Автор: Jorge Luque,Jeffrey D. BONDE,Jindoo CHOI. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-19.

Etch processing system having reflective endpoint detection

Номер патента: US12007686B2. Автор: Michael N. Grimbergen,Khiem K. Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Improved endpoint detection system and method for plasma etching

Номер патента: WO1991005367A1. Автор: Calvin Gabriel,Jim Nulty. Владелец: Vlsi Technology, Inc.. Дата публикации: 1991-04-18.

Apparatus and method for endpoint detection

Номер патента: US09960089B2. Автор: Morgan Evans,Ross Bandy. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Calibrating a three-dimensional sensor using detection windows

Номер патента: WO2023200727A1. Автор: Akiteru Kimura. Владелец: Magik Eye Inc.. Дата публикации: 2023-10-19.

Input detection windowing

Номер патента: US20230352024A1. Автор: Connor Kristopher Smith,Matthew David Anderson. Владелец: Sonos Inc. Дата публикации: 2023-11-02.

Command keywords with input detection windowing

Номер патента: US11881222B2. Автор: Connor Kristopher Smith,Matthew David Anderson. Владелец: Sonos Inc. Дата публикации: 2024-01-23.

Input detection windowing

Номер патента: US20210366477A1. Автор: Connor Kristopher Smith,Matthew David Anderson. Владелец: Sonos Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Command keywords with input detection windowing

Номер патента: US20210366476A1. Автор: Connor Kristopher Smith,Matthew David Anderson. Владелец: Sonos Inc. Дата публикации: 2021-11-25.

Optical cable for interferometric endpoint detection

Номер патента: WO2022103586A1. Автор: Lei Lian,Pengyu Han. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-05-19.

Vehicle based endpoint detection and response

Номер патента: US20240161603A1. Автор: Mauro Marzorati,Jeremy R. Fox,Trudy L. Hewitt,Carolina Garcia Delgado. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Method and apparatus employing external light source for endpoint detection

Номер патента: US20010009459A1. Автор: David Johnson,Robert Hatfield,Joe Phillip,Todd Nielsen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-26.

Method and apparatus employing external light source for endpoint detection

Номер патента: US20010046043A1. Автор: David R. Johnson,Robert J. Hatfield,Joe Lee Phillips,Todd C. Nielsen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-29.

Process chamber qualification for maintenance process endpoint detection

Номер патента: US20240248466A1. Автор: YI Qi,Arvind Shankar Raman,Harikrishnan Rajagopal,Vishwath Ram Amarnath,Minal Balkrishna Shettigar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Endpoint detection utilizing ultraviolet mass spectrometry

Номер патента: US5504328A. Автор: Douglas J. Bonser. Владелец: Sematech Inc. Дата публикации: 1996-04-02.

Auto-detection of observables and auto-disposition of alerts in an endpoint detection and response (edr) system using machine learning

Номер патента: US20240146746A1. Автор: Aankur Bhatia,Abhishek BASU,Kyle Proctor,Luiz Marcel Arbos,Terry Liggett. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-05-02.

Auto-detection of observables and auto-disposition of alerts in an endpoint detection and response (edr) system using machine learning

Номер патента: WO2024093872A1. Автор: Aankur Bhatia,Abhishek BASU,Kyle Proctor,Luiz Marcel Arbos,Terry Liggett. Владелец: Ibm (China) Co., Limited. Дата публикации: 2024-05-10.

Sleeper pad and method for its manufacture, construction of railway sleeper with sleeper pad fixed in it and method for connecting sleeper pad with railway sleeper

Номер патента: RU2756929C1. Автор: Андрей Александрович Смирнов,Александр Владимирович Замуховский,Александр Владимирович Шутько,Никита Александрович Терентьев,Марина Дмитриевна Лимонова. Владелец: Камарян Хачатур Оганесович. Дата публикации: 2021-10-07.

Endpoint detection and novel chemicals in copper stripping

Номер патента: US20020153030A1. Автор: Mei Zhou,Simon Chooi. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2002-10-24.

Facilitating identification of compromised devices by network access control (NAC) or unified threat management (UTM) security services by leveraging context from an endpoint detection and response (EDR) agent

Номер патента: US11856008B2. Автор: Roy Katmor,Udi Yavo,Ido Kelson. Владелец: Fortinet Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Method and device for image-based malware detection, and artificial intelligence-based endpoint detection and response system using same

Номер патента: US20230418943A1. Автор: Seung Chul Han,Hyo Seop BANG,Dong Hwan SUN,Kyung Shin KIM. Владелец: NPCORE Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Endpoint detection and tracking of photoresist processes

Номер патента: WO2024123632A2. Автор: Chen Wang,Jason Stevens,Jeremy Todd TUCKER,Richard Wise,Boris VOLOSSKIY,Jerome S. Hubacek,Shambhu KC,Andrew Pratheep LUSHINGTON,Michael Thomas MYERS,Seng ONG,Malcolm ROUX. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-13.

Mouse pad with an integrated system for fingers and arm

Номер патента: WO2014120097A1. Автор: Branko Culig. Владелец: Status D.O.O. Metlika. Дата публикации: 2014-08-07.

Laptop cooling system pad with cooler

Номер патента: US20240028091A1. Автор: Ryan White. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-25.

Laptop cooling system pad with ac unit cooler

Номер патента: US20240045482A1. Автор: Ryan White. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-02-08.

System and method for plasma etching endpoint detection

Номер патента: US5405488A. Автор: Samuel V. Dunton,Calvin T. Gabriel,Dimitrios Dimitrelis. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Endpoint detection system for enhanced spectral data collection

Номер патента: US11965798B2. Автор: Lei Lian,Pengyu Han. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

In-situ endpoint detection for membrane formation

Номер патента: US6061137A. Автор: William J. Dauksher,Pawitterjit S. Mangat. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Multi-factor authentication in endpoint detection and response

Номер патента: US20230421601A1. Автор: Mauro Marzorati,Rosa M. Bolger,Jacobus P. Lodewijkx,Christopher A. Kulakowski. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Etch processing system having reflective endpoint detection

Номер патента: US20180259848A1. Автор: Michael N. Grimbergen,Khiem K. Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-09-13.

Etch processing system having reflective endpoint detection

Номер патента: US20210263408A1. Автор: Michael N. Grimbergen,Khiem K. Nguyen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-08-26.

Pad with improved sound-reflecting surface for woodwind musical instruments and lubricant to prevent pads from sticking

Номер патента: US20030154845A1. Автор: James Schmidt. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-08-21.

Coating composite on basis of metal and corresponding paddings with applied coating

Номер патента: RU2379377C2. Автор: Джеймс Дж. ФИНЛИ,Деннис Дж. О`ШОНЕССИ,Джеймс Дж. ФИНЛИ (US),Деннис Дж. О`ШОНЕССИ (US). Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2010-01-20.

Chip package having die pad with protective layer

Номер патента: US20240096758A1. Автор: Hong-Chi YU,Chun-Jung Lin,Ruei-Ting Gu. Владелец: Walton Advanced Engineering Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Bond pad with micro-protrusions for direct metallic bonding

Номер патента: US12087719B2. Автор: Wei Zhou,Aibin Yu,Zhaohui Ma. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-09-10.

Dual mode plasma etching system and method of plasma endpoint detection

Номер патента: US5242532A. Автор: John L. Cain. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1993-09-07.

Apparatus and method for endpoint detection in non-ionizing gaseous reactor environments

Номер патента: US5986747A. Автор: John C. Moran. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Line-based endpoint detection

Номер патента: US20210407765A1. Автор: Brad Larson,Brian Routh, JR.,Aditee Shrotre,Oleg Sidorov. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2021-12-30.

Analysis of endpoint detect and response data

Номер патента: EP4035038A1. Автор: Alejandro Houspanossian,Agustin Matias MARCH,Raul Osvaldo ROBLEDO,Gabriel INFANTE-LOPEZ. Владелец: McAfee LLC. Дата публикации: 2022-08-03.

System account access manager utilizing an endpoint detection and response system

Номер патента: US20220210199A1. Автор: Paul Lanzi,Timothy Keeler. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-06-30.

Adaptive and retrospective endpoint detection for automated delayering of semiconductor samples

Номер патента: US20240094142A1. Автор: Umesh Adiga,Sophia E. Weeks. Владелец: FEI Co. Дата публикации: 2024-03-21.

Analysis of endpoint detect and response data

Номер патента: WO2021061902A1. Автор: Alejandro Houspanossian,Agustin Matias MARCH,Raul Osvaldo ROBLEDO,Gabriel INFANTE-LOPEZ. Владелец: McAfee, LLC. Дата публикации: 2021-04-01.

System account access manager utilizing an endpoint detection and response system

Номер патента: US12003545B2. Автор: Paul Lanzi,Timothy Keeler. Владелец: Netwrix Corp. Дата публикации: 2024-06-04.

Method and apparatus employing external light source for endpoint detection

Номер патента: WO1999023472A1. Автор: David R. Johnson,Robert J. Hatfield,Joe Lee Phillips,Tood C. Nielsen. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 1999-05-14.

Endpoint detection algorithm for atomic layer etching (ale)

Номер патента: SG11201901731WA. Автор: Yan Chen,Jason Ferns,Xinkang Tian. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-28.

Heating pad with storage

Номер патента: CA3104493A1. Автор: Lalit Mandal,Jill Walters. Владелец: Sunbeam Products Inc. Дата публикации: 2021-06-30.

Cleaning pad with support body

Номер патента: US09775486B2. Автор: DanLi Wang,Milind B. Sabade,Robert J. Maki,John J. Dyer,Arthur V. Lang,Perry S. Dotterman. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-10-03.

Set of pads with wear indicators for brake pads for car drum brakes

Номер патента: RU2760821C1. Автор: Сергей Евгеньевич Васильев. Владелец: Акционерное общество "Завод тормозных, уплотнительных и теплоизоляционных изделий" (АО "Завод АТИ"). Дата публикации: 2021-11-30.

Absorbing pad with asymmetric absorbing capacity and absorbing article comprising absorbing pad

Номер патента: RU2564587C2. Автор: Петер РЕННБЕРГ,Мэнди Цинь ВАН,Джохвин ЛОХ,Олле КАРЛБАРК. Владелец: Ска Хайджин Продактс Аб. Дата публикации: 2015-10-10.

Sub-rail pad with device for adjusting rail track width

Номер патента: RU2630965C1. Автор: Станислав Валериевич Козлов,Олег Вадимович Краштан. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Пик-полимер". Дата публикации: 2017-09-15.

Sole pad with shock-absorbing and massaging effect

Номер патента: US5896681A. Автор: Chin-Yi Lin. Владелец: Chan Jang Plastics Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-27.

Semiconductor package having die pad with cooling fins

Номер патента: US20220044989A1. Автор: Jefferson Talledo. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2022-02-10.

Semiconductor package having die pad with cooling fins

Номер патента: US11848256B2. Автор: Jefferson Talledo. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2023-12-19.

Adhesive pad with release substrate

Номер патента: RU2734911C2. Автор: Ларс Олав СКЕРТИГЕР. Владелец: Колопласт А/С. Дата публикации: 2020-10-26.

Sanitary pad with a humidity-sensible stabilizing layer

Номер патента: RU2441670C2. Автор: Моррис ЯНГ. Владелец: МакНЕЙЛ-ППС, ИНК.. Дата публикации: 2012-02-10.

Ergonomically optimized self-stabilizing leg mounted mouse pad with integrated mouse storage holster

Номер патента: US10139936B2. Автор: John Timothy Russell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-11-27.

Surgical clamp pad with interdigitating teeth

Номер патента: US6099539A. Автор: Thomas A. Howell,Douglas S. Sutton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-08-08.

Method for fabricating semiconductor component having conductors and bonding pads with wire bondable surfaces and selected thickness

Номер патента: US20070048999A1. Автор: Warren Farnworth. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-01.

Leadframe having die attach pad with delamination and crack-arresting features

Номер патента: US7808089B2. Автор: Luu T. Nguyen,Vijaylaxmi Gumaste. Владелец: National Semiconductor Corp. Дата публикации: 2010-10-05.

Bond pad with micro-protrusions for direct metallic bonding

Номер патента: US10923448B2. Автор: Wei Zhou,Aibin Yu,Zhaohui Ma. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-02-16.

Notebook computer cooling pad with receiving box

Номер патента: US8075073B2. Автор: Cheng Yu Huang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-13.

Transfer Pad with Moisture Control

Номер патента: US20230248582A1. Автор: Travis White,Gregory R. Konkle,Christian Gastaldo. Владелец: EHOB LLC. Дата публикации: 2023-08-10.

Touch pad with antenna

Номер патента: US20140362038A1. Автор: Takahiro Murakami,Hiroaki Takahashi,Takeshi Masaki,Sadakazu Shiga. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-11.

Busbar contact pad with specific curvature for a better connection to metal spray layers

Номер патента: US20120329328A1. Автор: Ralf Deisenhofer,Dietmar Zeidler,Witali Spitzer. Владелец: Kemet Electronics Corp. Дата публикации: 2012-12-27.

Cleansing pad with a scouring portion and a scrubbing portion and production method thereof

Номер патента: US20220167823A1. Автор: David Bachar,Dror Bachar. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-06-02.

Cheek pad with recording function

Номер патента: US20140196197A1. Автор: Chia Hsing Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-07-17.

Cleansing pad with a scouring portion and a scrubbing portion and production method thereof

Номер патента: WO2020161718A1. Автор: David Bachar,Dror Bachar. Владелец: Dror Bachar. Дата публикации: 2020-08-13.

Compression pad with shape memory function and associated manufacturing method

Номер патента: US20240145843A1. Автор: Dominik Grass. Владелец: Dr Ing HCF Porsche AG. Дата публикации: 2024-05-02.

Coating composition containing silicone resin and the padding with applied composition

Номер патента: RU2442801C2. Автор: Норман Р. Маурер,Камлеш Дж. ШЕТ. Владелец: Ппг Индастриз Огайо, Инк.. Дата публикации: 2012-02-20.

Mattress or Mattress Pad With Gel Section

Номер патента: US20100005595A1. Автор: Michael S. Defranks,Richard F. Gladney,Corey Westerman. Владелец: Dreamwell Ltd. Дата публикации: 2010-01-14.

Mattress or mattress pad with gel section

Номер патента: CA2648272C. Автор: Michael S. Defranks,Richard F. Gladney,Corey Westerman. Владелец: Dreamwell Ltd. Дата публикации: 2015-01-20.

Pressure relieving pad with graduated pillars

Номер патента: US5960497A. Автор: Robin L. Castellino,Gregory S. Marino,Dustin E. Gabel. Владелец: KCI RIK Acquisition Corp. Дата публикации: 1999-10-05.

Heating pad with storage

Номер патента: US20240065885A1. Автор: Lalit Mandal,Jill Walters. Владелец: Sunbeam Products Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor structure having conductive pad with protrusion and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240063153A1. Автор: Yi-Jen Lo. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Feminine hygiene pad with foam absorbent and reservoir spacer layer

Номер патента: US20240115436A1. Автор: Amit Kumar KAUSHIK,Digvijay Rawat,Andrea Pfarr Switzer. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 2024-04-11.

Feminine hygiene pad with foam absorbent and reservoir spacer layer

Номер патента: WO2024081525A1. Автор: Amit Kumar KAUSHIK,Andrea Pfarr Switzer,Digvijay RAWAY. Владелец: The Procter & Gamble Company. Дата публикации: 2024-04-18.

Semiconductor device having a landing pad with spacers

Номер патента: US11605559B2. Автор: Chih-Tsung WU. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2023-03-14.

Semiconductor structure having conductive pad with protrusion and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240063151A1. Автор: Yi-Jen Lo. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

Package Substrate Having Die Pad with Outer Raised Portion and Interior Recessed Portion

Номер патента: US20130122654A1. Автор: Eric Hsieh,Chih-Chien Ho,Saihsi Jen. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Semiconductor device having a landing pad with spacers and method for fabricating the same

Номер патента: US20220068711A1. Автор: Chih-Tsung WU. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-03-03.

Semiconductor device having a landing pad with spacers

Номер патента: US20220076998A1. Автор: Chih-Tsung WU. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-03-10.

Brake pad with a type plate

Номер патента: AU2005293845A1. Автор: Johann Iraschko. Владелец: Knorr Bremse Systeme fuer Nutzfahrzeuge GmbH. Дата публикации: 2006-04-20.

Substrate processing apparatus, polishing pad inspecting device, and method for inspecting polishing pad

Номер патента: US20220281051A1. Автор: Tsutomu Fukunaga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

APPARATUS FOR MANUFACTURING POLISHING PAD AND METHOD OF MANUFACTURING POLISHING PAD USING THE SAME

Номер патента: US20140366396A1. Автор: Choi Jungsik,JEONG Jin-su,AHN Bong-Su,JANG Youngjun. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-18.

Polyurethane for polishing layers, polishing layer, polishing pad and method for modifying polishing layer

Номер патента: EP3878897A4. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa SUNAYAMA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-20.

Base pad of polishing pad and multilayer pad using same

Номер патента: KR100545795B1. Автор: 김성민,이주열,송유진,이현우,김재석. Владелец: 에스케이씨 주식회사. Дата публикации: 2006-01-24.

ALIPHATIC UV CURED POLYURETHANE OPTICAL ENDPOINT DETECTION WINDOWS WITH HIGH UV TRANSPARENCY FOR CMP POLISHING PADS

Номер патента: US20190144713A1. Автор: Gadinski Matthew R.. Владелец: . Дата публикации: 2019-05-16.

Endpoint detection device for realizing real-time control of plasma reactor, plasma reactor with endpoint detection device, and endpoint detection method

Номер патента: TWI371065B. Автор: Heeyeop Chae,Kyounghoon Han,Kun Joo Park,Gwang Hoon Han,Kee Hyun Kim,Weon Mook Lee. Владелец: DMS Co Ltd. Дата публикации: 2012-08-21.

Polishing pad material, method for producing polishing pad, method for producing substrate for magnetic disk, and method for producing magnetic disk

Номер патента: CN110253419B. Автор: 山城祐治,久原巧己. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-08-13.

HOT-MELT ADHESIVE SHEET FOR STACKED POLISHING PAD AND ADHESIVE-LAYER-BEARING SUPPORT LAYER FOR STACKED POLISHING PAD

Номер патента: US20140037947A1. Автор: Kazuno Atsushi. Владелец: TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.. Дата публикации: 2014-02-06.

POLYURETHANE FOR POLISHING LAYERS, POLISHING LAYER, POLISHING PAD AND METHOD FOR MODIFYING POLISHING LAYER

Номер патента: US20210380845A1. Автор: Kato Shinya,KATO Mitsuru,OKAMOTO Chihiro,TAKEGOSHI Minori,SUNAYAMA Azusa. Владелец: KURARAY CO., LTD.. Дата публикации: 2021-12-09.

Polishing pad cleaning composition and polishing pad cleaning method

Номер патента: JP4945857B2. Автор: 雅幸 服部,民智明 安藤,信夫 川橋. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

Composition for washing a polishing pad and method for washing a polishing pad

Номер патента: US20030004085A1. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Michiaki Ando. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2003-01-02.

Composition for washing a polishing pad and method for washing a polishing pad

Номер патента: US6740629B2. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Michiaki Ando. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-05-25.

Composition for washing a polishing pad and method for washing a polishing pad

Номер патента: EP1266956A1. Автор: Masayuki c/o JSR Corporation Hattori,Nobuo c/o JSR Corporation Kawahashi,Michiaki c/o JSR Corporation Ando. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2002-12-18.

Composition for washing a polishing pad and method for washing a polishing pad

Номер патента: TWI283706B. Автор: Masayuki Hattori,Nobuo Kawahashi,Michiaki Ando. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-11.

Composition for washing a polishing pad and method for washing a polishing pad

Номер патента: EP1266956B1. Автор: Masayuki c/o JSR Corporation Hattori,Nobuo c/o JSR Corporation Kawahashi,Michiaki c/o JSR Corporation Ando. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-04-19.

Polishing pad and urethane resin composition for polishing pad

Номер патента: JP7259311B2. Автор: 善之 小田,雄一郎 柴. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2023-04-18.

Apparatuses and methods involving a monitor device for use with endpoint devices

Номер патента: US11716269B1. Автор: Bryan R. Martin,Zhishen Liu. Владелец: 8X8 Inc. Дата публикации: 2023-08-01.

Shoe polish pad for spreading shoe polish, polish or other paste

Номер патента: FR1086476A. Автор: Viktor Fritz. Владелец: . Дата публикации: 1955-02-14.

Method of Regenerating a Polishing Pad Using a Polishing Pad Sub Plate

Номер патента: US20120003903A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: Toho Engineering. Дата публикации: 2012-01-05.

Improvements in Polishing Pads for Boots, Shoes and the like.

Номер патента: GB190319241A. Автор: . Владелец: S D Page & Sons Ltd. Дата публикации: 1904-07-14.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: MY132791A. Автор: C Billings Scott,K Hsu Oscar,K Vangsness Jean,S Gilbride David. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Method of making optical detection window in monolithic fused silica column

Номер патента: RU2446390C2. Автор: Алексей Юрьевич Шмыков. Владелец: Учреждение Российской академии наук институт аналитического приборостроения Российской академии наук (ИАП РАН). Дата публикации: 2012-03-27.

Rocket fastening at carrier support with help of pad with suction cups

Номер патента: RU2562663C2. Автор: Александр Никанорович Чирков,Евгений Юрьевич Чирков,Станислав Николаевич Горелов,Виктория Станиславовна Иванова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет". Дата публикации: 2015-09-10.

Dual overlap catheter anchor pad with release layers

Номер патента: CA157170S. Автор: . Владелец: Tidi Securement Products LLC. Дата публикации: 2015-03-09.

Brake pad with composite inserts for locomotives and rail motor cars

Номер патента: RU2494901C1. Автор: Валерий Сергеевич Фадеев,Александр Викторович Конаков,Юрий Леонидович Чигрин,Олег Викторович Штанов,Юрий Васильевич Ободовский,Николай Михайлович Паладин,Антонина Владимировна Шакина. Владелец: Закрытое акционерное общество "Современные Тормозные Системы". Дата публикации: 2013-10-10.

Method to produce brake pad with noise protection

Номер патента: RU2523347C1. Автор: Михаил Захарович Левит,Евгений Григорьевич Пивень,Вера Ивановна Изюмова. Владелец: Открытое акционерное общество "Термостойкие изделия и инженерные разработки" (ОАО "ТИИР"). Дата публикации: 2014-07-20.

Rocket fastening at carrier support with help of pad with suction cups

Номер патента: RU2525329C1. Автор: Александр Никанорович Чирков,Евгений Юрьевич Чирков,Станислав Николаевич Горелов,Виктория Станиславовна Иванова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет". Дата публикации: 2014-08-10.

Drawing pad with protective panel

Номер патента: CA178869S. Автор: . Владелец: Chartpak Inc. Дата публикации: 2019-02-08.

Pad with protective panel

Номер патента: AU201810023S. Автор: . Владелец: Chartpak. Дата публикации: 2018-02-06.

Chemical Mechanical Polishing Pad With Light Stable Polymeric Endpoint Detection Window And Method Of Polishing Therewith

Номер патента: US20120077418A1. Автор: . Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2012-03-29.

A New Polishing Pad

Номер патента: GB190212809A. Автор: Thomas Wild,Harry Barton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-05-14.

Improvements in Holders for Polishing Pads and the like.

Номер патента: GB190412316A. Автор: Charles Berry Hammerton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-03-30.

Polishing pad, method for producing polishing pad, method for polishing surface of optical material or semiconductor material, and method for evaluating polishing pad

Номер патента: JP2020157432A. Автор: 哲平 立野,Keisuke Tanaka,啓介 田中,田中　啓介,Teppei Tateno,翔馬 望月,Shoma Mochizuki. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2020-10-01.

Pressure roller for attaching polishing pad in double-side polishing apparatus, and method for attaching polishing pad with pressure roller

Номер патента: JP4584755B2. Автор: 仁志 長山. Владелец: SpeedFam Co Ltd. Дата публикации: 2010-11-24.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, method for polishing surface of optical material or semiconductor material, and method for evaluating polishing pad

Номер патента: JP7137505B2. Автор: 哲平 立野,啓介 田中,翔馬 望月. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2022-09-14.

Semiconductor wafer polishing pad, method for polishing semiconductor wafer, polishing sheet for polishing pad, and foam block for polishing sheet

Номер патента: JP3455208B2. Автор: 雅彦 中森,哲生 下村,孝敏 山田,一幸 小川,毅 木村. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2003-10-14.

TWO-COMPONENT URETHANE RESIN COMPOSITION FOR POLISHING PAD, POLYURETHANE POLISHING PAD, AND METHOD FOR PRODUCING POLYURETHANE POLISHING PAD

Номер патента: US20120202409A1. Автор: Shinchi Tomoaki,Suzaki Hiroshi. Владелец: DIC CORPORATION. Дата публикации: 2012-08-09.

Polishing pad manufacturing method and manufacturing apparatus, polishing pad, and semiconductor device manufacturing method using the polishing pad

Номер патента: JP5087420B2. Автор: 賢治 中村,一幸 小川,淳 数野,毅 木村,良之 中井. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-05.

Chemical mechanical polishing pad with a lifetime self-indicated capability

Номер патента: TW391912B. Автор: Shiue-Jung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-06-01.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: AU2002305109A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-10-15.

ENDPOINT DETECTION DEVICE FOR REALIZING REAL-TIME CONTROL OF PLASMA REACTOR, PLASMA REACTOR WITH ENDPOINT DETECTION DEVICE, AND ENDPOINT DETECTION METHOD

Номер патента: US20120041584A1. Автор: HAN Kwang Hoon,CHAE Heeyeop,HAN KYOUNGHOON,PARK Kun Joo,KIM Kee Hyun,LEE Weon Mook. Владелец: DMS CO. LTD.. Дата публикации: 2012-02-16.

POLISHING PAD AUXILIARY PLATE AND POLISHING DEVICE EQUIPPED WITH POLISHING PAD AUXILIARY PLATE

Номер патента: US20130029566A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: TOHO ENGINEERING KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-31.

POLISHING PAD, POLISHING METHOD AND METHOD OF FORMING POLISHING PAD

Номер патента: US20130040539A1. Автор: Wang Yu-Piao. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2013-02-14.

Polishing pad and plate-like material polishing method using the polishing pad

Номер патента: JP5777383B2. Автор: 成君 李. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2015-09-09.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad capable of realizing more precise polishing

Номер патента: TW201922502A. Автор: 立野哲平,宮坂博仁,松岡立馬,三國匠. Владелец: 日商富士紡控股股份有限公司. Дата публикации: 2019-06-16.

Polish pad base of chemical mechanical polish platform

Номер патента: TW479001B. Автор: Jian-Shing Lai,Huang-Yi Lin,Rung-Nan Tzeng,Huei-Shen Shr. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-03-11.

Replaceable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW422761B. Автор: Shiou-Mei You,Shiue-Jung Chen. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2001-02-21.

A polishing pad for a chemical mechanical polishing process

Номер патента: TW587286B. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsueh-Chung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-05-11.

Polishing pad and method of polishing wafer

Номер патента: TW200510126A. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Shin-Kun Chu,Gene Li. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2005-03-16.

Polishing pad and fabricating method thereof and method for polishing a wafer

Номер патента: TW200512819A. Автор: Wen-Chang Shih,Yung-Chung Chang,Min-Kuei Chu. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2005-04-01.

An Improved Combined Reviving and Polishing Pad for Silk Hats.

Номер патента: GB189809876A. Автор: Frederick John Clark. Владелец: Individual. Дата публикации: 1898-06-04.

Polishing pad fixing tape and polishing pad

Номер патента: JP6372662B2. Автор: 智浩 岩尾. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-08-15.

POLISHING PAD WITH GROOVED FOUNDATION LAYER AND POLISHING SURFACE LAYER

Номер патента: US20130137349A1. Автор: Scott Diane,Allison William C.,Lefevre Paul Andre,LaCasse James P.. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-30.

POLISHING PAD WITH FOUNDATION LAYER AND POLISHING SURFACE LAYER

Номер патента: US20130137350A1. Автор: Scott Diane,Allison William C.,Simpson Alexander William,Lefevre Paul Andre,LaCasse James P.. Владелец: . Дата публикации: 2013-05-30.

POLISHED POLYETHYLENE POLISHING PAD FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING AND POLISHING DEVICE

Номер патента: DE60118963T2. Автор: S. Yaw Orlando OBENG,M. Edward Penbroke Pines YOKLEY. Владелец: psiloQuest Inc. Дата публикации: 2006-12-21.

Polishing pad and multilayer polishing pad

Номер патента: JP3867629B2. Автор: 信夫 川橋,亨 長谷川,知男 河村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Polymer composition for polishing pad and polishing pad using the same

Номер патента: JP3880028B2. Автор: 博之 矢野,俊博 小川,亨 長谷川,文夫 栗原. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-02-14.

Polishing pad and multilayer polishing pad

Номер патента: JP3849582B2. Автор: 信夫 川橋,亨 長谷川,浩司 志保. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-11-22.

Polishing pad and method of manufacturing polishing pad

Номер патента: JP5109409B2. Автор: 和彦 橋阪,憲一 田畑,敦子 福井. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2012-12-26.

Method for producing urethane molded product for polishing pad and urethane molded product for polishing pad

Номер патента: JP3316756B2. Автор: 勝志 木原,吉見 望月. Владелец: 富士紡績株式会社. Дата публикации: 2002-08-19.

Polishing pad and polishing pad manufacturing method

Номер патента: JP6268432B2. Автор: 祐樹 喜樂. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-01-31.

Nonwoven fabric for polishing pad and polishing pad

Номер патента: JP4455161B2. Автор: 英俊 神崎,義幸 田所. Владелец: Asahi Kasei Fibers Corp. Дата публикации: 2010-04-21.

Polishing pad and polishing pad manufacturing method

Номер патента: JP4526778B2. Автор: 拓治 小向,佑典 田中,友子 俵元. Владелец: Nitta Haas Inc. Дата публикации: 2010-08-18.

Polishing pad and multilayer polishing pad

Номер патента: JP3849593B2. Автор: 信夫 川橋,亨 長谷川,弘二 河原. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2006-11-22.

Polishing pad and polishing pad manufacturing method

Номер патента: JP7220130B2. Автор: 知大 岡本,晋哉 加藤,充 加藤. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Polishing device, polishing pad, polishing agent, swelling treatment agent and polishing precess

Номер патента: JP2004179414A. Автор: 栽弘 朴,Saiko Boku. Владелец: Rodel Nitta Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Polishing pad and manufacturing method of polishing pad

Номер патента: JP7088647B2. Автор: 立馬 松岡,浩 栗原,匠 三國,さつき 鳴島. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2022-06-21.

Polishing pad and cushion body for polishing pad

Номер патента: JP5695176B2. Автор: 佑典 田中. Владелец: Nitta Haas Inc. Дата публикации: 2015-04-01.

Polymer composition for polishing pad and polishing pad

Номер патента: JP3918359B2. Автор: 俊博 小川,亨 長谷川,豊 小林,英雄 中西,知男 河村. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-05-23.

Polishing pad manufacturing method and polishing pad

Номер патента: CN102211319A. Автор: 冯崇智,姚伊蓬,王良光,洪永璋. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-12.

POLISHED POLYETHYLENE POLISHING PAD FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING AND POLISHING DEVICE

Номер патента: DE60118963D1. Автор: S Obeng,M Yokley. Владелец: psiloQuest Inc. Дата публикации: 2006-05-24.

Base layer, polishing pad with base layer and polishing method

Номер патента: TW201742884A. Автор: 白昆哲,王昭欽. Владелец: 智勝科技股份有限公司. Дата публикации: 2017-12-16.

Auxiliary plate for polishing pad and method for reworking the polishing pad using the same

Номер патента: TW201143974A. Автор: Eisuke Suzuki,Tatsutoshi Suzuki. Владелец: Toho Engineering Co Ltd. Дата публикации: 2011-12-16.

Crosslinked polyethylene polishing pad for chemical mechnical polishing polishing apparatus and polishing method

Номер патента: CN1484566A. Автор: 亚乌・S・奥本,亚乌·S·奥本,・M・约科利,爱德华·M·约科利. Владелец: psiloQuest Inc. Дата публикации: 2004-03-24.

POLISHING APPARATUS, POLISHING PAD, AND POLISHING INFORMATION MANAGEMENT SYSTEM

Номер патента: US20130052917A1. Автор: Park Jaehong. Владелец: . Дата публикации: 2013-02-28.

METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A POLISHING SURFACE OF A POLISHING PAD USED IN POLISHING APPARATUS

Номер патента: US20120309267A1. Автор: SHINOZAKI Hiroyuki,SHIMANO Takahiro,IMAMURA Akira,NAKAMURA Akira. Владелец: . Дата публикации: 2012-12-06.

Polishing pad for semiconductor wafer, polishing multilayer for semiconductor wafer provided with the same, and method for polishing semiconductor wafer

Номер патента: JP3988611B2. Автор: 信夫 川橋,亨 長谷川,浩司 志保,幸生 保坂. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-10-10.

Method for improving CMP (chemical mechanical polishing) process stability of polishing materials on polishing pad

Номер патента: CN102441839B. Автор: 白英英,黄耀东. Владелец: Shanghai Huali Microelectronics Corp. Дата публикации: 2014-06-04.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.