Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad, and polishing method

Номер патента: US10189143B2
Опубликовано: 29-01-2019
Автор(ы): Cheng-Chung Chien, Chi-Hao Huang, Hsuan-Pang LIU, Pinyen Lin, Yuan-Chun SIE
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Polishing pad for cmp, method for polishing substrate using it and method for producing polishing pad for cmp

Номер патента: KR100548085B1. Автор: 마사야 니시야마,마사노부 하비로,야스히또 이와쯔끼,히로까즈 히라오까. Владелец: 신코베덴키 가부시키가이샤. Дата публикации: 2006-02-02.

Polishing pad for CMP, method for polishing substrate using it and method for producing polishing pad for CMP

Номер патента: CN1565048A. Автор: 羽广昌信,西山雅也,岩月保仁,平冈宏一. Владелец: Shin Kobe Electric Machinery Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-12.

Polishing pad for CMP, method for polishing substrate using it and method for producing polishing pad for CMP

Номер патента: US7374474B2. Автор: Masaya Nishiyama,Masanobu Habiro,Hirokazu Hiraoka,Yasuhito Iwatsuki. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2008-05-20.

METHOD FOR MECANO-CHEMICAL POLISHING, CORRESPONDING POLISHING PAD AND METHOD OF PRODUCING THE SAME

Номер патента: FR3043001A1. Автор: Yi Guo,Bainian Qian,Marty W Degroot,George C Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-05-05.

Methods for making reinforced wafer polshing pads and apparatuses implementing the same

Номер патента: EP1345733A1. Автор: Fen Dai,Cangshan Xu,Eugene Y. Zhao. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-09-24.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: US11780057B2. Автор: Sunghoon YUN,Jang Won Seo,Joonsung RYOU,Tae Kyoung Kwon. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Method for polishing a semiconductor wafer on both sides

Номер патента: US20200039020A1. Автор: Vladimir Dutschke. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2020-02-06.

Polishing pad with polishing surface layer having an aperture or opening above a transparent foundation layer

Номер патента: US09597769B2. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse,Leslie M. Charns. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Apparatus for printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09457520B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Polishing pads and systems and methods of making and using the same

Номер патента: EP3359335A1. Автор: David F. Slama,Duy K. LEHUU. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-08-15.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20230278159A1. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Polishing pad, method for producing the same and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20220288743A1. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Sung Hoon Yun. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Polishing pad, process for producing the same and method of polishing therewith

Номер патента: US20060199473A1. Автор: Masato Yoshida,Masao Suzuki,Masaya Nishiyama,Hiroshi Nakagawa,Yasuo Shimamura. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2006-09-07.

Method of forming structured-open-network polishing pads

Номер патента: US9108291B2. Автор: Hamed Lakrout. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-08-18.

Printing a chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US12011801B2. Автор: Rajeev Bajaj,Terrance Y. Lee,Barry Lee Chin. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Silicate Composite Polishing Pad

Номер патента: US20120122381A1. Автор: Joseph K. So,Donna M. Alden,Andrew R. Wank,Mark E. Gazze,Robert Gargione,David Drop,Mai Tieu Banh,Shawn Riley,Colin E. Cameron, JR.. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2012-05-17.

Polishing pad, conditioner and method for polishing the same

Номер патента: MY135978A. Автор: Lee Hyun Woo,KIM Sung Min,Kim Jae Seok,KIM Geon,LEE Jong Myung,Lee Ju Yeol,Park In Ha,Song Eu Gene. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-31.

Polishing pad, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20240189959A1. Автор: Keisuke Namiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US12138738B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Polishing pad, process for preparing the same, and process for preparing a semiconductor device using the same

Номер патента: US11931856B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jang Won Seo. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-19.

Polishing pad, process for preparing the same, and process for preparing a semiconductor device using the same

Номер патента: US20210122006A1. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jang Won Seo. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Printed chemical mechanical polishing pad having particles therein

Номер патента: US11794308B2. Автор: Kasiraman Krishnan,Nag B. Patibandla,Periya Gopalan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

Method for polishing silicon wafer with reduced wear on carrier, and polishing liquid used therein

Номер патента: US20230178376A1. Автор: Eiichiro ISHIMIZU,Hayato Yamaguchi,Yusuke Tanatsugu. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Method for polishing silicon wafer with reduced wear on carrier, and polishing liquid used therein

Номер патента: US11984320B2. Автор: Eiichiro ISHIMIZU,Hayato Yamaguchi,Yusuke Tanatsugu. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Polishing apparatus, method for controlling the same, and method for outputting a dressing condition

Номер патента: US09962804B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-05-08.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Substrate holder, polishing apparatus, polishing method, and retaining ring

Номер патента: US09815171B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-14.

A method for manufacturing chemical mechanical polishing pad polishing layers having reduced gas inclusion defects

Номер патента: TW201043399A. Автор: Michael E Watkins,John Esbenshade,Andrew M Geiger,Paul Libbers,Samuel J November,Paul J Sacchetti,Jonathan Tracy,David Verbaro. Владелец: Rohm & Haas Elect Mat. Дата публикации: 2010-12-16.

Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing and Method

Номер патента: US20230398659A1. Автор: Liang-Guang Chen,Shich-Chang Suen,Chih Hung Chen,Te-Chien Hou,Liang-Che Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Polishing pad, polishing apparatus and a method for polishing silicon wafer

Номер патента: US11471997B2. Автор: Yue Xie,Youhe Sha. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-10-18.

Polishing pad, polishing apparatus and a method for polishing silicon wafer

Номер патента: US20220009051A1. Автор: Yue Xie,Youhe Sha. Владелец: Zing Semiconductor Corp. Дата публикации: 2022-01-13.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: MY159320A. Автор: Kenji Nakamura,Yoshiyuki Nakai,Kazuyuki Ogawa. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2016-12-30.

Polishing pad assembly, apparatus for polishing a wafer including the polishing pad assembly and method for polishing a wafer using the polishing pad assembly

Номер патента: US20050272348A1. Автор: Kyung-hyun Kim,Yong-Sun Ko,Chung-Ki Min. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-12-08.

Substrate holding apparatus, elastic membrane, polishing apparatus, and method for replacing elastic membrane

Номер патента: US11958163B2. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki,Masahiko KISHIMOTO,Tomoko OWADA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Polishing pad, manufacturing method and polishing method of polishing pad

Номер патента: KR20210149837A. Автор: 미츠루 가토,신야 가토,히로후미 기쿠치,지히로 오카모토. Владелец: 주식회사 쿠라레. Дата публикации: 2021-12-09.

Polishing pad conditioning method and polishing apparatus

Номер патента: WO2017056392A1. Автор: 正直 佐々木,辰男 榎本,一将 浅井,太一 安田,拓也 佐々木. Владелец: 信越半導体株式会社. Дата публикации: 2017-04-06.

Polishing pad conditioning method and polishing apparatus

Номер патента: TW201718177A. Автор: Masanao Sasaki,Takuya Sasaki,Tatsuo Enomoto,Taichi Yasuda,Kazumasa Asai. Владелец: Shin-Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-01.

METHOD FOR FORMING OPEN LAMINATED NETWORK POLISHING PADS

Номер патента: FR2980389B1. Автор: Hamed Lakrout. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2016-11-04.

Polishing head for wafer, and method for polishing

Номер патента: EP1268133A1. Автор: Walter Glashauser,David Haggart,Katrin Ebner,Lutz Teichgraeber. Владелец: Semiconductor 300 GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-02.

Laminated polishing pad and method for producing same

Номер патента: US20150079879A1. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-19.

Laminated polishing pad and method for producing same

Номер патента: US09636796B2. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Polishing system, polishing pad and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12042900B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Kang Sik F Myung. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Method and apparatus for dressing polishing pad

Номер патента: US20110312254A1. Автор: Harumichi Koyama. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-12-22.

Polishing method, and polishing apparatus

Номер патента: US20240181594A1. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan,Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-06.

Polishing pad surface shape measuring instrument, method of using polishing pad surface shape measuring instrument, method of measuring apex angle of cone of polishing pad, method of measuring depth of groove of polishing pad, CMP polisher, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US7359069B2. Автор: Atsushi Tanaka,Toshihisa Tanaka,Takeshi Soma. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2008-04-15.

Polishing pad surface shape measuring instrument, method of using polishing pad surface shape measuring instrument, method of measuring apex angle of cone of polishing pad, method of measuring depth of groove of polishing pad, CMP polisher, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20080186511A1. Автор: Atsushi Tanaka,Toshihisa Tanaka,Takeshi Soma. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-08-07.

Polishing pad surface shape measuring instrument, method of using polishing pad surface shape measuring instrument, method of measuring apex angle of cone of polishing pad, method of measuring depth of groove of polishing pad, cmp polisher, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: KR101197826B1. Автор: 아츠시 타나카,토시히사 타나카,타케시 소마. Владелец: 가부시키가이샤 니콘. Дата публикации: 2012-11-05.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Method for forming concave portion of polishing pad and polishing pad

Номер патента: CN109562506B. Автор: 大石邦晴,海野达广. Владелец: Daiki Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-12.

METHOD OF MANUFACTURE INCLUDING POLISHING PAD MONITORING METHOD AND POLISHING APPARATUS INCLUDING POLISHING PAD MONITORING DEVICE

Номер патента: US20220093405A1. Автор: OH Seung-Hun,JANG Young-Seok,Kim Dong-Eog,LEE Eun-Seok,Shin Jin,LEE Nam-hoon,SON Woo-Mok. Владелец: . Дата публикации: 2022-03-24.

METHOD OF MANUFACTURE INCLUDING POLISHING PAD MONITORING METHOD AND POLISHING APPARATUS INCLUDING POLISHING PAD MONITORING DEVICE

Номер патента: US20200152469A1. Автор: OH Seung-Hun,JANG Young-Seok,Kim Dong-Eog,LEE Eun-Seok,Shin Jin,LEE Nam-hoon,SON Woo-Mok. Владелец: . Дата публикации: 2020-05-14.

Method for monitoring polishing surface of polishing pad used in polishing apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: JP6088680B2. Автор: 弘行 篠崎,篠崎　弘行,顕 中村,聴 今村,隆寛 島野. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-03-01.

Wafer cleaning and polishing pad, wafer cleaning and polishing chamber, and method of cleaning and polishing wafer

Номер патента: CN111251174B. Автор: 杨青海,高耀寰,刘黄升. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-12-14.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: CN100365773C. Автор: 涩木俊一. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-01-30.

Chemical Mechanical Polishing Pad and Chemical Mechanical Polishing Method

Номер патента: KR100627202B1. Автор: 노부오 가와하시,고우 하세가와,히로시 시호,유끼오 호사까. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-09-25.

Method of manufacturing polishing apparatus including polishing pad monitoring method and polishing apparatus

Номер патента: CN111230733A. Автор: 吴承勋,申镇,张永锡,孙佑睦,李南勋,金东亿,李恩石. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-05.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: CN1628374A. Автор: 涩木俊一. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Apparatus and method for regulating surface temperature of polishing pad

Номер патента: SG10201701274YA. Автор: Hisanori Matsuo,Mitsunori Komatsu,Toru Maruyama,Yohei Eto,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Polishing pad with offset concentric grooving pattern and method for polishing a substrate therewith

Номер патента: US09687956B2. Автор: Ching-Ming Tsai,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,Feng-Chih Hsu,Craig Kokjohn. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Apparatus for polishing a wafer and method for fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20230170222A1. Автор: Ki Hoon Jang,Bo Un Yoon,Chung Ki Min,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-01.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device

Номер патента: US20240300066A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Chang Gyu Im,Joon Ho An. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240139903A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Semiconductor substrate polishing with polishing pad temperature control

Номер патента: EP4169058A1. Автор: Masaaki Ikeda. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-26.

Polishing pad and method for producing the same

Номер патента: MY153842A. Автор: Kenji Nakamura,Takeshi Fukuda,Akinori Sato,Junji Hirose,Masato Doura. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2015-03-31.

Double-side polishing method and double-side polishing apparatus

Номер патента: US20180361530A1. Автор: Yuki Tanaka,Shiro Amagai. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Polishing pad

Номер патента: US09707663B2. Автор: Satoshi Yanagisawa,Hiroyasu Kato,Masaharu Wada,Yukihiro Matsuzaki,Hajime Nishimura,Kuniyasu Shiro. Владелец: Toray Coatex Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Polishing pad, polishing unit, polishing device, and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20230173637A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-06-08.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2000027585A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-05-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A4. Автор: Anthony Meyer,Michael Labunsky,Andrew J Nagengast,Tac Huynh,Glenn W Travis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Apparatus for polishing and method for polishing

Номер патента: US20200039029A1. Автор: Hiroshi Sotozaki,Tadakazu Sone,Pohan CHEN. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Method of adhering polishing pads and jig for adhering the same

Номер патента: MY138787A. Автор: Yoshio Nakamura,Harumichi Koyama. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2009-07-31.

CMP polishing pad with polishing elements on supports

Номер патента: US11833638B2. Автор: Bryan E. Barton,John R. McCormick. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Holding Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Work polishing method and work polishing apparatus

Номер патента: US20180207768A1. Автор: Kazutaka Shibuya,Yoshio Nakamura,Kenichi Ishikawa,Michio Uneda. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2018-07-26.

Polishing pad and apparatus for polishing a semiconductor wafer

Номер патента: US6077153A. Автор: Takashi Fujita,Yuzo Kozai,Motoyuki Ohara. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-06-20.

Wafer polishing method and wafer polishing device

Номер патента: US20230330809A1. Автор: Yuki Nakano,Hiroki Ota. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: EP1447840A1. Автор: Hisatomo NIHON MICRO COATING CO. LTD. OHNO,Satoru NIHON MICRO COATING CO. LTD. SATO,Kazunari NIHON MICRO COATING CO. LTD. OSAWA. Владелец: Nihon Micro Coating Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-18.

Polishing system and polishing method

Номер патента: US09718164B2. Автор: Shih-Chi Lin,Chih-Jen WU,Chen-Ming Huang,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Chih-Yuan Yang,Min Hao Hong,Chin-Hsiang Chang,Soon-Kang Huang,Kun-Tai Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240342857A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Polishing apparatus and method of determining a time to replace polishing pad

Номер патента: US20230356350A1. Автор: Hiroaki Nishida,Yuta Suzuki,Taro Takahashi,Tsuneo Torikoshi,Hirofumi OTAKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Polishing pad, double-side polishing device, and double-side polishing method for wafer

Номер патента: US20240009799A1. Автор: Junichi Ueno. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230110921A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Polishing pad and polishing method using same

Номер патента: US20190232460A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-01.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US11618123B2. Автор: Tetsuji Togawa,Atsushi Yoshida,Yu Ishii. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-04-04.

Polishing device and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230047113A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Jae In Ahn. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-16.

Method of forming a layered polishing pad

Номер патента: US7132033B2. Автор: Mark J. Boldizar,Robert T. Gamble,Vincent Matthew Hedrick,Jason M. Lawhorn,Alan H. Saikin,Katherine L. Tome. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-11-07.

Fluid dispensing fixed abrasive polishing pad

Номер патента: WO2001024969A2. Автор: Liming Zhang,Andrew Black,Landon Vines. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-04-12.

Polishing pad comprising window similar in hardness to polishing layer

Номер патента: US11964360B2. Автор: Sunghoon YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN,Joonsung RYOU. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Polishing pad

Номер патента: US20230364736A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Yoshihide Kawamura,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Method for polishing semiconductor substrate

Номер патента: US11999027B2. Автор: Chi-Ming Yang,He Hui Peng,James Jeng-Jyi Hwang,Jiann Lih Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-04.

Polishing pad

Номер патента: EP4382250A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Azusa SUNAYAMA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-12.

Polishing pad assembly with glass or crystalline window

Номер патента: US7614933B2. Автор: Dominic J. Benvegnu,Jeffrey Drue David,Bogdan Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2009-11-10.

Temperature regulating apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US12023777B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-07-02.

Polishing pad

Номер патента: MY153331A. Автор: Nakamura Kenji,Fukuda Takeshi,SATO Akinori,Doura Masato,Hirose Junji. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2015-01-29.

Cmp polishing pad with protruding structures having engineered open void space

Номер патента: US20230311269A1. Автор: Bryan E. Barton,John R. McCormick. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Apparatus and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240051085A1. Автор: Jung-Chih Tsao,Jun-Nan Nian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Polishing pads for a semiconductor substrate

Номер патента: AU4982799A. Автор: Frank B. Kaufman,Sriram P. Anjur,Roland K. Sevilla. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-02-01.

Polishing pads for a semiconductor substrate

Номер патента: MY133820A. Автор: Roland K Sevilla,Frank B Kaufman,Sriram P Anjur. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-11-30.

Substrate polishing apparatus, substrate polishing system including the same, and substrate polishing method using the same

Номер патента: US20230131040A1. Автор: Hoyoung Kim,Seungjun LEE,Chae Lyoung Kim,Jaehyug LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-27.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US09782870B2. Автор: Hisanori Matsuo,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20190118334A1. Автор: Hisanori Matsuo,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-04-25.

Soft polishing pad for polishing a semiconductor substrate

Номер патента: MY164313A. Автор: Ping Huang,William Allison,Diane Scott,Robert Kerprich,Richard Frentzel. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-12-15.

Polyurethane, composition for forming polishing layer containing the same, chemical mechanical polishing pad, and chemical mechanical polishing method using the same

Номер патента: JPWO2010146982A1. Автор: 岡本　隆浩,力丸 桑原,隆浩 岡本. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-12-06.

Polishing pads, polishing tools, and polishing methods

Номер патента: JPWO2020054823A1. Автор: 堀田　和利,和利 堀田,恭祐 天▲高▼,翔太 菱田,大祐 安井,英治 長谷. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2021-08-30.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TW201201962A. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-01-16.

Polishing pad sheet, polishing pad, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12138736B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-12.

Method for polishing using polishing pad provided with adsorption layer

Номер патента: US20200147749A1. Автор: Daisuke Ninomiya,Toshiyasu Yajima. Владелец: Maruishi Sangyo Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Polishing pad and method for producing same

Номер патента: EP1622193A4. Автор: Mitsuru Saito,Toshihiro Izumi,Takuya Nagamine,Hisatomo Ohno,Ichiro Kodaka,Claughton Miller. Владелец: Nihon Micro Coating Co Ltd. Дата публикации: 2008-08-20.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US09676076B2. Автор: Hozumi Yasuda,Keisuke Namiki,Shingo Togashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-06-13.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: US09533395B2. Автор: Takahiro SHIMANO,Mutsumi Tanikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Polishing apparatus having temperature regulator for polishing pad

Номер патента: US09475167B2. Автор: Tadakazu Sone,Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Surface treatment method of polishing pad and polishing method of wafer using the same

Номер патента: WO2013069938A1. Автор: Sehun CHOI,Kyeongsoon KIM,Younghee MOON. Владелец: LG Siltron Inc.. Дата публикации: 2013-05-16.

Wafer polishing pad centering apparatus

Номер патента: US20020086632A1. Автор: Terrence Stemm. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841B1. Автор: Nobuo c/o JSR Corporation Kawahashi,Kou c/o Jsr Corporation Hasegawa,Hiroshi c/o JSR Corporation Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2010-04-28.

Method of machining semiconductor wafer-use polishing pad and semiconductor wafer-use polishing pad

Номер патента: EP1447841A4. Автор: Nobuo Kawahashi,Kou Hasegawa,Hiroshi Shiho. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: US09469013B2. Автор: Takahiro SHIMANO,Mutsumi Tanikawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Polishing pad and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20230381913A1. Автор: Boun Yoon,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-30.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing pad cleaning systems employing fluid outlets oriented to direct fluid under spray bodies and towards inlet ports, and related methods

Номер патента: US09687960B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Waviness prediction device, waviness prediction method, processing method for polishing target article, and program

Номер патента: EP4458512A1. Автор: Shimpei TAKEMOTO,Yoshishige OKUNO,Motoyuki Narisawa,Yusuke Togo,Shuki HASHIMOTO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-11-06.

CMP polishing pad having edge exclusion region of offset concentric groove pattern

Номер патента: US09409276B2. Автор: Ching-Ming Tsai,Gregory Gaudet,Sheng-huan LIU,Jia-Cheng Hsu,Shi-Wei CHENG,Kun-Shu YANG,hui-feng Chen. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Method for adaptive feedback controlled polishing

Номер патента: US09573243B2. Автор: Terry Moore,Brant Nease. Владелец: Headway Technologies Inc. Дата публикации: 2017-02-21.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Tank and method for producing polishing pad using tank

Номер патента: MY163432A. Автор: Hiroshi Seyanagi. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-15.

Methods for real-time error detection in CMP processing

Номер патента: US09403254B2. Автор: Chi-Ming Yang,Chin-Hsiang Lin,Bo-I Lee,James Jeng-Jyi Hwang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-02.

Method of regulating a surface temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: US20190308293A1. Автор: Mitsunori Komatsu,Keisuke Kamiki,Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Substrate processing device and method for operating the same

Номер патента: US20240234164A1. Автор: Ki Hoon Jang,Won Keun Cho,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing pad, polishing apparatus and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20150202732A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Chun-Ta Wang,Wei-Te Liu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Wafer polishing method

Номер патента: US20210098316A1. Автор: Yasuyuki Takeishi. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2021-04-01.

Method and apparatus for monitoring a polishing surface of a polishing pad used in polishing apparatus

Номер патента: US09943943B2. Автор: Akira Nakamura,Hiroyuki Shinozaki,Akira Imamura,Takahiro SHIMANO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-04-17.

Surface property measuring apparatus for polishing pad, surface property measuring method for polishing pad, and surface property judging method for polishing pad

Номер патента: US20240075579A1. Автор: Toshifumi Kimba,Hisanori Matsuo,Nobuyuki Takada,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Apparatus and method for manufacturing semiconductor structure

Номер патента: US20230381914A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Polishing pad

Номер патента: US09737972B2. Автор: Kenji Nakamura. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Polishing pad, method for producing the same and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US11951591B2. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jae In Ahn. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Apparatus and method for shaping polishing pads

Номер патента: MY133665A. Автор: Robert J Walsh. Владелец: Memc Electronic Materials. Дата публикации: 2007-11-30.

Polishing pad

Номер патента: US20240157505A1. Автор: Osamu Kinoshita,Kazuo Shoji. Владелец: Universal Photonics Far East Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Method of creating responsiveness profile of polishing rate of workpiece, polishing method, and computer-readable storage medium storing program

Номер патента: US20240253181A1. Автор: Akira Nakamura,Keita Yagi,Satoru Yamaki,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Method and system for monitoring polishing pad before cmp process

Номер патента: US20180169825A1. Автор: Yen-Chih Chen,Yi-Chang Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

System and method for polishing and planarization of semiconductor wafers using reduced surface area polishing pads

Номер патента: WO2002053322A3. Автор: Yehiel Gotkis,John M Boyd,Rod Kistler. Владелец: Rod Kistler. Дата публикации: 2003-05-01.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: WO2021030295A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Brian J. Brown,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-02-18.

Polishing platen and polishing apparatus

Номер патента: WO2007032517A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Tadakazu Sone,Takuji Kobayashi,Hiroomi Torii,Takashi Tsuzuki,Hideo Aizawa,Masao Umemoto. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2007-03-22.

Method for producing silicon wafer

Номер патента: US09425056B2. Автор: Hiromasa Hashimoto,Takuya Sasaki,Kazuya Sato,Ayumu Sato. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

A preconditioner for a polishing pad and method for using the same

Номер патента: IE960095A1. Автор: James Michael Mullins. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1996-08-07.

Polishing apparatus and polishing pad

Номер патента: EP1395394A1. Автор: Shinro c/o Ebara Corporation OHTA,Kazuo c/o Ebara Corporation SHIMIZU. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2004-03-10.

An edge polishing machine and edge polishing method thereby

Номер патента: MY153952A. Автор: Hiroaki Tanaka,Yoshihisa Ogawa,Akira Yoshida,Yusuke Inoue. Владелец: Speedfam Ipec Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-15.

Method for the double-side polishing of a semiconductor wafer

Номер патента: US9308619B2. Автор: Juergen Schwandner. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2016-04-12.

Polishing method

Номер патента: US20180369984A1. Автор: Kaoru Ishii,Michito Sato,Masaaki Oseki. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-27.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Polishing pad having polishing surface with continuous protrusions

Номер патента: US09649742B2. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Robert Kerprich,Paul Andre Lefevre,Leslie M. Charns,James Richard Rinehart. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

Polishing head and polishing apparatus

Номер патента: US20150017890A1. Автор: Hisashi Masumura. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2015-01-15.

Polishing pad with recessed window

Номер патента: EP1667816A1. Автор: Kyle A. Cabot Microelectronics Corp. TURNER,Jeffrey L. Cabot Microelectronics Corp. BEELER,Kelly J. Cabot Microelectronics Corp. NEWELL. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-06-14.

Substrate holding apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US09550268B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US09333620B2. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Polishing pad and method for manufacturing same

Номер патента: US11883925B2. Автор: Hiroshi Kurihara,Ryuma Matsuoka,Yamato TAKAMIZAWA,Satsuki Narushima. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

Substrate holder, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US09662764B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Apparatuses and methods for polishing semiconductor wafers

Номер патента: US6093085A. Автор: Peter A. Burke,Bradley J. Yellitz. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-07-25.

Apparatuses and methods for polishing semiconductor wafers

Номер патента: EP1126950B1. Автор: Peter A. Burke,Bradley J. Yellitz. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-11-20.

Arrangement and method for conditioning a polishing pad

Номер патента: EP1270148A1. Автор: Walter Glashauser,Benno Utess,Andreas Purath,Peter Faustmann. Владелец: Infineon Technologies SC300 GmbH and Co KG. Дата публикации: 2003-01-02.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Method for the injection of CMP slurry

Номер патента: GB2470246A. Автор: Ara Philipossian,Leonard Borucki,Yasa Sampurno,Sian Theng. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2010-11-17.

A wafer polishing method

Номер патента: GB2335874A. Автор: Mikio Nakamura,Takahiro Kida. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-06.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: US09555518B2. Автор: Ping Huang,William C. Allison,Diane Scott,James P. LaCasse. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-01-31.

Method of regulating a surface temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: SG10201902954VA. Автор: KOMATSU Mitsunori,KAMIKI Keisuke,KABASAWA Masashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: EP1372908A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Polishing pad with adjusted content of chlorine and process for preparing semiconductor device using the same

Номер патента: EP4446057A1. Автор: JANGWON SEO,Eun Gi Min,Jong Wook YUN,Yujin Shin,Suyoung MOON,Min Gyeong JI,Tae Il Hong. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Method of cleaning a polishing pad conditioner and apparatus for performing the same

Номер патента: US20020119613A1. Автор: Min-Gyu Kim,Min-Soo Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-29.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20190168355A1. Автор: Yuta Suzuki,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

Temperature adjusting device and polishing device

Номер патента: US20200164480A1. Автор: Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-05-28.

Integrated abrasive polishing pads and manufacturing methods

Номер патента: US11980992B2. Автор: YAN Zhao,Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashavani Kumar,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mario Dagio CORNEJO,Amritanshu SINHA,Ranga Rao Arnepalli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Adjustable force applying air platen and spindle system, and methods for using the same

Номер патента: US20020142710A1. Автор: Aleksander Owczarz,Miguel Saldana. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Self-healing polishing pad

Номер патента: US20200039022A1. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-02-06.

Self-healing polishing pad

Номер патента: US20230118617A1. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Apparatus and method for distribution of slurry in a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US5709593A. Автор: William L. Guthrie,Norm Shendon,Semyon Spektor,Ivan A. Ocanada. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1998-01-20.

Systems and methods for mechanical and/or chemical-mechanical polishing of microfeature workpieces

Номер патента: EP1633526A2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-03-15.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: WO2012051197A1. Автор: Ping Huang,William C. Allison,Diane Scott,James P. LaCasse. Владелец: NexPlanar Corporation. Дата публикации: 2012-04-19.

Polishing pad with multi-modal distribution of pore diameters

Номер патента: MY167541A. Автор: Ping Huang,Diane Scott,William C Allison,James P Lacasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-09-05.

Wafer polishing pad and method of wafer polishing using the same

Номер патента: US20190193238A1. Автор: SANGHOON Lee,SungHyup KIM,Seok Ryul Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-27.

Double-side polishing method

Номер патента: US9987721B2. Автор: Masanao Sasaki,Kazuaki Aoki,Taketoshi Sato,Taichi Yasuda,Daisuke Furukawa,Kazumasa Asai,Takehiro Yuasa. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Double-side polishing method

Номер патента: US20150217425A1. Автор: Masanao Sasaki,Kazuaki Aoki,Taketoshi Sato,Taichi Yasuda,Daisuke Furukawa,Kazumasa Asai,Takehiro Yuasa. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Laminate polishing pad

Номер патента: SG184115A1. Автор: Atsushi Kazuno. Владелец: Toyo Tire & Rubber Co. Дата публикации: 2012-10-30.

Polishing pad and method for producing polished product

Номер патента: US20240149389A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Ryuma Matsuoka,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Polishing system with annular platen or polishing pad

Номер патента: US11780046B2. Автор: Fred C. Redeker,Paul D. Butterfield,Thomas H. Osterheld,Shou-sung Chang,Steven M. Zuniga,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Polishing pad having a groove arrangement for reducing slurry consumption

Номер патента: US7125318B2. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2006-10-24.

Polishing pad having a groove arrangement for reducing slurry consumption

Номер патента: EP1533076A1. Автор: Gregory P. Muldowney. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-05-25.

Method for cmp temperature control

Номер патента: US20240109163A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Brian J. Brown,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-04.

Devices and methods for optical endpoint detection during semiconductor wafer polishing

Номер патента: US7235154B2. Автор: Alice Madrone Dalrymple,Robert J. Horrell. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2007-06-26.

Substrate polishing method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US7331843B2. Автор: Katsuyuki Ikenouchi,Hideaki Kunitake,Mamoru Kanemoto,Yasunori Fukui. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-19.

Reinforced polishing pad with a shaped or flexible window structure

Номер патента: WO2002078902A1. Автор: KANG Jia,Christian David Frederickson,Herbert Elliot Litvak,Eugene Y. Zhao,Michael David Steiman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2002-10-10.

Polishing head for face-up type polishing apparatus, polishing apparatus including the polishing head, and polishing method using the polishing apparatus

Номер патента: US11440161B2. Автор: Tetsuji Togawa,Kenichi Kobayashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-09-13.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20180147687A1. Автор: Akihiko Ogawa,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-05-31.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20150255357A1. Автор: Yoichi Kobayashi,Keita Yagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: SG10201808877SA. Автор: Takahashi Taro,Kobayashi Yoichi,SUGIYAMA Mitsunori. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-05-30.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US11911867B2. Автор: Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Yoichi Shiokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Aliphatic polyurethane optical endpoint detection windows and cmp polishing pads containing them

Номер патента: US20180304438A1. Автор: George C. Jacob,Mohammad T. Islam,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-10-25.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US9390986B2. Автор: Yoichi Kobayashi,Keita Yagi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-07-12.

Substrate polishing device and polishing method

Номер патента: US20190134776A1. Автор: Kenji Kodera,Masayuki Nakanishi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-05-09.

Production method for semiconductor wafer

Номер патента: EP1632993A1. Автор: K. c/o Sumco Corporation Asakawa. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2006-03-08.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240227118A9. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Metal film polishing pad and method for polishing metal film using the same

Номер патента: US20100035521A1. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Hirofumi Kikuchi. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-11.

Polishing pad, preparation method thereof and method for preparing semiconductor device using same

Номер патента: US11759909B2. Автор: Kyung Hwan Kim,Jang Won Seo,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun,Kang Sik MYUNG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20240308022A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: EP4431237A1. Автор: JANGWON SEO,Jong Wook YUN,Min Gyeong JI. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Polishing pad and method for production thereof, as well as a method of producing a polished article

Номер патента: RU2736460C2. Автор: Шин ТОКУШИГЕ,Кейсуке НАКАСЕ,Хироши КАШИВАДА,Татсуя ЯМАДА,Кеничи КОЙКЕ,Йосуке НАРАДА. Владелец: Фудзибо Холдингс, Инк.. Дата публикации: 2020-11-17.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240131653A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Method for raising polishing pad and polishing method

Номер патента: US20170341204A1. Автор: Takuya Sasaki,Yuki Tanaka. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-30.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20240149390A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Yoshihide Kawamura,Teppei Tateno,Satsuki YAMAGUCHI,Yamato TAKAMIZAWA,Keisuke Ochi,Tetsuaki KAWASAKI. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Polishing pad and manufacturing method therefor

Номер патента: EP2698809A1. Автор: Fumio Miyazawa,Kouki ITOYAMA. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2014-02-19.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Composite polishing layer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09539694B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical mechanical polishing pad with composite polishing layer

Номер патента: US09457449B1. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Teresa Brugarolas Brufau. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Pad-temperature regulating apparatus, method of regulating pad-temperature, polishing apparatus, and polishing system

Номер патента: US11919124B2. Автор: Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Polishing pad, polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor package using the same

Номер патента: US11878388B2. Автор: Ching-Hua Hsieh,Yi-Yang Lei,Kuan-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-23.

Porous polishing pad and process for producing the same all fees

Номер патента: US11772236B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Polishing pad

Номер патента: US09539693B2. Автор: Hiroshi Seyanagi. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Polishing method, method for producing semiconductor substrate, and polishing composition set

Номер патента: EP4317337A1. Автор: Kohsuke Tsuchiya,Taiki ICHITSUBO. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Cmp apparatus and method for estimating film thickness

Номер патента: US20190157170A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Sheng-Chau Chen,Yu-Min Chen,Chin-Wei Liang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20230256560A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Mayu Felicia Yamamura,Ashwin Murugappan Chockalingam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Polishing apparatus for a substrate and polishing method for a substrate using the same

Номер патента: US20230415303A1. Автор: Boun Yoon,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-12-28.

Polishing method and apparatus

Номер патента: US09610673B2. Автор: Tsuneo Torikoshi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20230008720A1. Автор: Masayoshi Ito,Itsuki Kobata. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-01-12.

Polishing pad and method of monitoring a polishing process using the same

Номер патента: US20240227113A1. Автор: JANGWON SEO,Kyung Hwan Kim,Joonho AN,Chang Gyu Im,Yujin Shin. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US09399277B2. Автор: Hiroshi Yoshida,Hozumi Yasuda,Makoto Fukushima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2016-07-26.

Polishing apparatus for substrate and polishing method for substrate using the same

Номер патента: US20230286108A1. Автор: Chungki MIN,Hyojung KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-14.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20220347814A1. Автор: Kenichi Suzuki,Hisanori Matsuo,Yasuyuki Motoshima,Ban ITO,Shuji Uozumi,Shumpei Miura,Seungho Yun. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-11-03.

Polishing device and polishing method

Номер патента: US09550269B2. Автор: Yoichi Kobayashi,Keita Yagi,Yoichi Shiokawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Polish apparatus, polish method, and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09502318B2. Автор: Dai Fukushima,Takashi Watanabe,Jun Takayasu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Pad-temperature regulating apparatus, pad-temperature regulating method, and polishing apparatus

Номер патента: US11826871B2. Автор: Toru Maruyama,Shuji Uozumi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

Wafer edge asymmetry correction using groove in polishing pad

Номер патента: US11951589B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Wafer edge asymmetry correction using groove in polishing pad

Номер патента: US20240075583A1. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20230201991A1. Автор: Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Toshiki Miyakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Conditioning device and method for controlling the conditioning device

Номер патента: US20230339072A1. Автор: Kyung Hwan Kim,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Su Young Moon,Tae Kyoung Kwon. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Polishing head and polishing apparatus

Номер патента: US11752590B2. Автор: Yuichi Kato,Osamu Nabeya. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20220203498A1. Автор: Yuta Suzuki,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2022-06-30.

Polishing apparatus having surface-property measuring device of polishing pad and polishing system

Номер патента: US11958161B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Polishing pad

Номер патента: US20240042573A1. Автор: Takeshi Sato,Norihisa Arifuku. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Apparatus of cleaning a polishing pad and polishing device

Номер патента: US11780050B2. Автор: Ji Hwan CHO. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Dressing apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US11980997B2. Автор: Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Okamoto Machine Tool Works Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20230294241A1. Автор: Ban ITO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method

Номер патента: US11890716B2. Автор: Kenichi Kobayashi,Asagi Matsugu,Akihiro Yazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method

Номер патента: EP3842182A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Asagi Matsugu,Akihiro Yazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-30.

Polishing unit, substrate processing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20210187692A1. Автор: Kenichi Kobayashi,Asagi Matsugu,Akihiro Yazawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-24.

Polishing pads and systems for and methods of using same

Номер патента: US20230211455A1. Автор: Eric C. Coad,Joseph D. Rule,Duy K. LEHUU. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US20210260719A1. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US20190283206A1. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Polishing pad, semiconductor fabricating device and fabricating method of semiconductor device

Номер патента: US11883926B2. Автор: Yukiteru Matsui,Akifumi Gawase,Takahiko Kawasaki. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20240017370A1. Автор: Akihiro Yazawa,Yasuyuki MIYASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: EP4238698A1. Автор: Akihiro Yazawa,Yasuyuki MIYASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-06.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Method for the local polishing of a semiconductor wafer

Номер патента: US09533394B2. Автор: Juergen Schwandner. Владелец: SILTRONIC AG. Дата публикации: 2017-01-03.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: EP4223452A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Keisuke Tanaka,Kenichi Koike,Teppei Tateno,Yoshiki Miyauchi,Yoshie Kiraku. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-08-09.

Polishing pad and method for manufacturing polishing pad

Номер патента: US20230415300A1. Автор: Hiroshi Kurihara,Keisuke Tanaka,Kenichi Koike,Teppei Tateno,Yoshiki Miyauchi,Yoshie Kiraku. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Polishing platens and polishing platen manufacturing methods

Номер патента: US12076877B2. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Bum Jick KIM,Danielle LOI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US10946493B2. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-16.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US10960513B2. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2021-03-30.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US20180304437A1. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Methods and systems for polishing pad control

Номер патента: US20180304436A1. Автор: Ezio Bovio,Emanuele Corsi. Владелец: GlobalWafers Co Ltd. Дата публикации: 2018-10-25.

Porous polyurethane polishing pad and method for manufacturing porous polyurethane polishing pad

Номер патента: JP6688845B2. Автор: ソ・チャンウォン,ハン・ヒョクヒ,ホ・ヘヨン,リュ・ジュンソン,クォン・ヨンピル. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-28.

Polishing pad inspection method and polishing pad inspection apparatus

Номер патента: JP3878460B2. Автор: 忠森 全,桂源 金,裕信 梁,考厚 金. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-02-07.

Fabrication process of semiconductor device and polishing method

Номер патента: US20060219662A1. Автор: Tetsuya Shirasu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-10-05.

Cleaning process of wafer polishing pad and cleaning nozzle

Номер патента: US20230126122A1. Автор: Ching-Wen Teng,Wen Yi Tan,Shih-Jie Lin,Kuo Liang Huang. Владелец: United Semiconductor Xiamen Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Polishing pad with foundation layer and window attached thereto

Номер патента: US09868185B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Jose Arno,Paul Andre Lefevre. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-01-16.

Polishing pad with improved wettability and method for preparing same

Номер патента: US20230330806A1. Автор: JANGWON SEO,Sunghoon YUN,Jong Wook YUN,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing pad with foundation layer and window attached thereto

Номер патента: MY191753A. Автор: Diane Scott,Jose Arno,William C Allison,Paul Andre Lefevre. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2022-07-14.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Polishing compostion for semiconductor process, manufacturing method of polishing composition and method for manufacturing semiconductor device by using the same

Номер патента: US20230332014A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Polishing method

Номер патента: US20200152471A1. Автор: Kazuaki Aoki. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Polishing pad with improved crosslinking density and process for preparing the same

Номер патента: US12076832B2. Автор: Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Polishing pad and preparing method of semiconductor device using the same

Номер патента: US20230111352A1. Автор: Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Jae In Ahn,Sung Hoon Yun. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064846B2. Автор: Michael E. Mills,Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton,Annette M. Crevasse,Vere O. Archibald. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US11759913B2. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-09-19.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20210170544A1. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2021-06-10.

Formulations for chemical mechanical polishing pads with high planarization efficiency and CMP pads made therewith

Номер патента: US12064845B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Heterogeneous fluoropolymer mixture polishing pad

Номер патента: US11897082B2. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Aliphatic uv cured polyurethane optical endpoint detection windows with high uv transparency for cmp polishing pads

Номер патента: US20190144713A1. Автор: Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US12090599B2. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Polyurethane for polishing layers, polishing layer and polishing pad

Номер патента: EP3892418A1. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-13.

Polishing pad with adjusted crosslinking degree and process for preparing the same

Номер патента: US20210129284A1. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG. Владелец: SKC Solmics Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-06.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: US11787894B2. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Polyurethane for polishing layer, polishing layer including polyurethane and modification method of the polishing layer, polishing pad, and polishing method

Номер патента: US20200190247A1. Автор: Minori Takegoshi,Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Shinya Kato,Azusa OSHITA. Владелец: Kurray Co Ltd. Дата публикации: 2020-06-18.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US20230381919A1. Автор: Keita Yagi,Yoichi Shiokawa,Toshimitsu Sasaki,Yuki Watanabe,Nachiketa Chauhan. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US20230381912A1. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Determination of substrate layer thickness with polishing pad wear compensation

Номер патента: US11780047B2. Автор: Kun Xu,Jun Qian,Benjamin Cherian,Kiran Lall Shrestha. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-10.

Optical film-thickness measuring apparatus and polishing apparatus

Номер патента: US11951588B2. Автор: Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Yoichi Shiokawa,Yoshikazu Kato. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Thermal Interface Material, Method For Preparing Thermal Interface Material, Thermally Conductive Pad, And Heat Dissipation System

Номер патента: US20180179429A1. Автор: Mizuhisa Nihei,Xiaosong Zhou,Keishin Ota. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Method for producing polishing composition comprising modified polyvinyl alcohol composition, and polishing composition comprising modified polyvinyl alcohol composition

Номер патента: EP4410887A1. Автор: Kohsuke Tsuchiya,Taiki ICHITSUBO. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-08-07.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20190027358A1. Автор: Kuan-Yu Wang,Yan-Da Chen,Chang-Sheng Hsu,Yuan Sheng Lin,Weng Yi Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2019-01-24.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US10475640B2. Автор: Kuan-Yu Wang,Yan-Da Chen,Chang-Sheng Hsu,Yuan Sheng Lin,Weng Yi Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2019-11-12.

Ceramic polishing pad dresser and method for fabricating the same

Номер патента: US20070049185A1. Автор: Wei Huang,Yu-Tai Chen,Chou-Chih Tseng,Hsiu-Yi Lin. Владелец: Kinik Co. Дата публикации: 2007-03-01.

Polishing pad and wafer notch polishing method

Номер патента: US20240293911A1. Автор: Takashi Ueno,Takatoshi Hattori,Takamasa Goto,Masatoshi Kishimoto,Sari SHOJI. Владелец: Bbs Kinmei Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Polishing apparatus, polishing pad positioning method, and polishing pad

Номер патента: US09919403B2. Автор: Takeshi Sakurai,Suguru Ogura,Kaoru Hamaura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US6159088A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-12-12.

Polishing method for machining an optical surface of an optical lens and polishing tools suitable therefor

Номер патента: US09421660B2. Автор: Roland Mandler,Sebastian Stahringer. Владелец: OptoTech Optikmaschinen GmbH. Дата публикации: 2016-08-23.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09586305B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-03-07.

Polishing pad, pyrolysis oil obtained therefrom, and process for preparing the same

Номер патента: US20240263080A1. Автор: JANGWON SEO,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Polishing pad, pyrolysis oil obtained therefrom, and process for preparing the same

Номер патента: EP4410857A1. Автор: JANGWON SEO,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-07.

Composition and method for polishing memory hard disks exhibiting reduced edge roll-off

Номер патента: MY177709A. Автор: WHITE Michael,Li Tong,Lau Hon-Wu. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2020-09-23.

Porous polyurethane polishing pad and process for producing the same

Номер патента: US11766759B2. Автор: Sunghoon YUN,Hye Young HEO,Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Jaein AHN. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Method for polishing semiconductor wafers having through-silicon via structure and polishing composition for its use

Номер патента: KR101760938B1. Автор: 웬-쳉 리우,이강화. Владелец: 에포크 머티리얼 컴퍼니, 리미티드. Дата публикации: 2017-07-24.

Method for producing abrasive particles, chemical mechanical polishing composition and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR20230029618A. Автор: 유야 야마다,아츠시 바바,타카노리 야나기,펑위 왕,코지 나카니시. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2023-03-03.

Display device, apparatus for manufacturing display device and method for manufacturing display device

Номер патента: US20220350436A1. Автор: Sang Hyuck Yoon,Si Joon SONG,Eui Jeong KANG,Seung Soo Ryu,Jeong Jin Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-11-03.

Display device, apparatus for manufacturing display device and method for manufacturing display device

Номер патента: US20220107697A1. Автор: Sang Hyuck Yoon,Si Joon SONG,Eui Jeong KANG,Seung Soo Ryu,Jeong Jin Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Avalanche photodiode and method for its manufacture

Номер патента: RU2769749C1. Автор: Наталья Александровна Валишева,Татьяна Александровна Левцова,Евгений Александрович Емельянов,Игорь Борисович Чистохин,Михаил Альбертович Путято,Валерий Владимирович Преображенский,Игорь Ильич Рябцев,Михаил Олегович Петрушков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова" (МГУ). Дата публикации: 2022-04-05.

Electronic module with an element which is visible on one surface, and method for manufacturing such a module

Номер патента: RU2316817C2. Автор: Франсуа ДРОЗ. Владелец: Награид Са. Дата публикации: 2008-02-10.

Polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09884400B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Wen-Chieh Wu,Hsin-Ru Song. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Polishing pad with alignment feature

Номер патента: US20150152236A1. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Robert Kerprich. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-04.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Method for production of a laminate polishing pad

Номер патента: US9126303B2. Автор: Junji Hirose,Masato Doura. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-08.

Stone polishing pad making device and polishing pad making method

Номер патента: KR101808123B1. Автор: 민경열. Владелец: 케스트다이아몬드 주식회사. Дата публикации: 2018-01-18.

Ultrasonic welding method for the manufacture of a polishing pad comprising an optically transmissive region

Номер патента: TWI286957B. Автор: Kelly J Newell. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-09-21.

Ultrasonic welding method for the manufacture of a polishing pad comprising an optically transmissive region

Номер патента: US20040259483A1. Автор: Kelly Newell. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2004-12-23.

Method and device for manufacturing of separator for polymer-electrolyte fuel element

Номер патента: RU2516342C2. Автор: Нобухиро ТАДЗОЕ. Владелец: АйЭйчАй КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2014-05-20.

Composition for manufacture of insulation system, electric machine and method for manufacturing an insulation system

Номер патента: RU2756232C1. Автор: Юрген ХУБЕР,Штеффен ЛАНГ,Игор РИТБЕРГ,Нильс МЮЛЛЕР,Маттиас ЮБЛЕР. Владелец: СИМЕНС АКЦИЕНГЕЗЕЛЛЬШАФТ. Дата публикации: 2021-09-28.

Device for manufacturing a laminated core and method of its manufacture

Номер патента: RU2677657C1. Автор: Кунихиро СЕНДА,Ёсихико ОДА,Масанори УЭСАКА,Ёсихидэ КАМИТАНИ,Ясухито СИОЙРИ. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2019-01-18.

Methods for removing contaminants from aluminum-comprising bond pads and integrated circuits therefrom

Номер патента: US20090068847A1. Автор: LIN Li,Stephen Arlon Meisner,Alfred J. Griffin, Jr.,Lisa A. Fritz,Lee Alan Stringer,Neel A. Bhatt,John Paul Campbell,Charles Leighton. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2009-03-12.

Method for creating flip-chip conductive-polymer bumps using photolithography and polishing

Номер патента: US7109107B2. Автор: Dennis W. Prather,Saurabh Lohokare. Владелец: University of Delaware. Дата публикации: 2006-09-19.

Polishing composition for semiconductor processing,method for preparing polishing composition, and method for manufacturing semiconductor element to which polishing composition is applied

Номер патента: US20240043719A1. Автор: Han Teo PARK,Jang Kuk KWON,Seung Chul Hong,Deok Su Han. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Method for controlling polysilicon removal

Номер патента: WO2007041203A1. Автор: Jeffrey Dysard,Timothy Johns,Paul Feeney. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2007-04-12.

Semiconductor stack and method for manufacturing the same

Номер патента: US20210305186A1. Автор: Kwangjin Moon,Hyungjun Jeon,Hakseung LEE,Hyoukyung Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-09-30.

Polishing pad and method for manufacturing same

Номер патента: SG11201407257TA. Автор: Bong-su Ahn,Sang-Mok Lee,Jang-Won SEO,Seung-geun Kim,Hak-Su Kang,Jeong-Seon CHOO,Kee-Cheon Song,Jin-Su Jeong,Young-Jun Jang,Gyoung-Pyo Kong. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2014-12-30.

Polishing pad for wafer polishing device, and apparatus and method for manufacturing same

Номер патента: US20230040654A1. Автор: Jin Woo Ahn,Soo Cheon JANG. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Polishing pads with interconnected pores

Номер патента: WO2022265826A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-22.

Polishing pad, method for manufacturing polishing pad and polishing apparatus

Номер патента: US20230226661A1. Автор: Hsien-Chang Hung,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Lyang-Gung Wang,Hsin-Ru Song,Jeng Yi Wu,Chi Che Huang. Владелец: BESTAC ADVANCED MATERIAL Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-20.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

Polishing pad with grooved foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US09931729B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Porous chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230330805A1. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Sivapackia Ganapathiappan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Method of manufacturing polishing pad having detection window and polishing pad having detection window

Номер патента: US09707662B2. Автор: Kun-Che Pai,Shiuan-Tzung Li,Chao-Chin Wang,Wei-Wen Yang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Polishing pad with foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US09931728B2. Автор: Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Method for manufacturing a polishing sheet and a polishing pad

Номер патента: US20240066661A1. Автор: JANGWON SEO,Kyung Hwan Kim,Jong Wook YUN,Joonho AN,Chang Gyu Im. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Polishing pad with endpoint window

Номер патента: US20240253175A1. Автор: Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US11873399B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Resin composition, polishing pad, and method for producing polishing pad

Номер патента: US20210054192A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Ryujin Ishiuchi. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-02-25.

Split-window CMP polishing pad and preparation method thereof

Номер патента: US20190210184A1. Автор: Siqi Song. Владелец: Chengdu Times Live Science And Technology Co ltd. Дата публикации: 2019-07-11.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Polishing pads with interconnected pores

Номер патента: US11951590B2. Автор: Rajeev Bajaj,Ashwin CHOCKALINGAM,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Jason Garcheung Fung,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Polishing pad, manufacturing method of polishing pad and polishing method

Номер патента: US20190321936A1. Автор: Yu-Piao Wang,I-Ping Chen. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Polishing pad for wafer polishing apparatus and manufacturing method therefor

Номер патента: EP3708299A1. Автор: Jin Woo Ahn. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2020-09-16.

Polishing pad, polishing apparatus, and method for making the polishing pad

Номер патента: US20170297165A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Kun-Cheng Tsai. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Anionic polishing pads formed by printing processes

Номер патента: US11851570B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Sudhakar Madhusoodhanan,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Method of manufacturing a polishing pad using a beam

Номер патента: US20020144985A1. Автор: Frank Miceli,Annette Crevasse,William Easter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-10.

Polishing pad with grooved foundation layer and polishing surface layer

Номер патента: US9067298B2. Автор: William C. Allison,Diane Scott,Paul Andre Lefevre,James P. LaCasse. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2015-06-30.

Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof

Номер патента: WO2006089293A1. Автор: Pradip K. Roy,Manish Deopura,Sudhanshu Misra. Владелец: Neopad Technologies Corporation. Дата публикации: 2006-08-24.

Polishing pad

Номер патента: WO2003054097A1. Автор: Alan E. Wang,Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2003-07-03.

Polishing pad

Номер патента: EP1458830A1. Автор: Alan E. Wang,Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio Inc. Дата публикации: 2004-09-22.

Polishing pads having improved pore structure

Номер патента: WO2022245404A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Sudhakar Madhusoodhanan,Mayu YAMAMURA,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Sebastian David ROZO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-11-24.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and CMP pads made therewith

Номер патента: US11806830B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Two step curing of polishing pad material in additive manufacturing

Номер патента: US20180079147A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Nag B. Patibandla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Polishing pad design

Номер патента: US6887131B2. Автор: Paul Fischer,Sadasivan Shankar,Lei Jiang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-05-03.

Tiltable platform for additive manufacturing of a polishing pad

Номер патента: US20180079152A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Nag B. Patibandla. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-22.

Method of making low specific gravity polishing pads

Номер патента: US20230390970A1. Автор: Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Conditioning wheel for conditioning a semiconductor wafer polishing pad and method of manufacture thereof

Номер патента: US20020106829A1. Автор: Jose Rodriguez,Arun Nanda,Charles Storey,Laurence Schultz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

Non-planar glass polishing pad and method of manufacture

Номер патента: US09440326B2. Автор: James Anderson,Scott B. Daskiewich,Brent MUNCY,George James Wasilczyk. Владелец: JH RHODES CO Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Method of manufacturing a polymer or polymer/composite polishing pad

Номер патента: US20020069591A1. Автор: Paul Yancey. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09669518B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Wen-Chieh Wu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Printing of polishing pads

Номер патента: US20010041511A1. Автор: David James,Craig Lack,Chau Duong. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2001-11-15.

Polishing pads formed using an additive manufacturing process and methods related thereto

Номер патента: WO2020153979A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-07-30.

Polishing pads formed using an additive manufacturing process and methods related thereto

Номер патента: EP3797015A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-03-31.

Polishing pad having a pressure relief channel

Номер патента: US20050281983A1. Автор: Robert Gamble,T. Crkvenac,Jason Lawhorn. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-12-22.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods for making and using such pads and machines

Номер патента: US6361832B1. Автор: Scott G. Meikle,Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US20020098778A1. Автор: Masayuki Takashima,Kazumasa Ueda. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-25.

Polishing Pad and Chemical Mechanical Polishing Method

Номер патента: KR100661444B1. Автор: 노부오 가와하시,고우 하세가와,다까히로 오까모또,히로시 시호. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2006-12-27.

Polishing pad fixing mechanism and polishing machine

Номер патента: CN112828748B. Автор: 赵欣,李劲劲,曹文会. Владелец: National Institute of Metrology. Дата публикации: 2022-03-08.

METHODS FOR FORMING SUBSTRATE TERMINAL PADS, RELATED TERMINAL PADS AND SUBSTRATES, ASSEMBLIES AND ELECTRONIC SYSTEMS INCORPORATING SUCH TERMINAL PADS

Номер патента: US20210193601A1. Автор: Jensen Travis M.. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

A polishing pad and method of producing the same

Номер патента: EP1792330A1. Автор: Alex Cooper,Yevgeny Bederak. Владелец: Universal Photonics Inc. Дата публикации: 2007-06-06.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Sealing shaft and sealing shaft member designed, in particular, for manufacture of woman's hygienic pad, and method for manufacture of pad

Номер патента: RU2255865C2. Автор: Ханс-Вернер ШЕЛЛИНГ. Владелец: Джонсон энд Джонсон ГмбХ. Дата публикации: 2005-07-10.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: EP3658429A1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: Freni Brembo Spa. Дата публикации: 2020-06-03.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: US20210380089A1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: Freni Brembo Spa. Дата публикации: 2021-12-09.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: WO2019021246A1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: FRENI BREMBO S.P.A.. Дата публикации: 2019-01-31.

Polishing pad window

Номер патента: US09475168B2. Автор: Ethan Scott Simon,Bainian Qian,George C. Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Methods of cleaning cmp polishing pads

Номер патента: US20180169830A1. Автор: Charles J. Benedict,Aaron E. Lorin,Ryan Bortner. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-06-21.

Polishing pad with porous interface and solid core, and related apparatus and methods

Номер патента: US09463551B2. Автор: Robert Vacassy,George Fotou. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Retainer ring, polish apparatus, and polish method

Номер патента: US20150183082A1. Автор: Dai Fukushima,Takashi Watanabe,Jun Takayasu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-07-02.

Retainer ring, polish apparatus, and polish method

Номер патента: US09539696B2. Автор: Dai Fukushima,Takashi Watanabe,Jun Takayasu. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for polishing thin plate and a holding plate

Номер патента: MY125181A. Автор: NAKAMURA Mikio,KIDA Takahiro. Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2006-07-31.

POLISHING APPARATUS, POLISHING PAD POSITIONING METHOD, AND POLISHING PAD

Номер патента: US20150004886A1. Автор: Sakurai Takeshi,HAMAURA Kaoru,OGURA Suguru. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-01.

Polishing pad dresser and manufacturing method thereof, polishing pad dressing devcie and polishing system

Номер патента: KR101610438B1. Автор: 지에 판,리준 야오,가즈히코 오이와,도시오 아이하라,수에즈 왕. Владелец: 콘풍 매테리얼스 인터네셔널 컴퍼니 리미티드. Дата публикации: 2016-04-07.

Polishing pad dresser and manufacturing method thereof, polishing pad dressing device and polishing system

Номер патента: TW201446427A. Автор: Jie Pan,Toshio Aihara,Kazuhiko Oiwa,li-jun Yao,xue-ze Wang. Владелец: Konfoong Materials Int Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-16.

Multilayer Polishing Pads Made by the Methods for Centrifugal Casting of Polymer Polish Pads

Номер патента: US20140287663A1. Автор: Nguyen Long,SONG Kevin,West Thomas,Quigley Gary,Galvez Pepito,McKeever Peter,Holani Suli,Richardson Matt,Craik Jorge. Владелец: . Дата публикации: 2014-09-25.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US11965103B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Sudhakar Madhusoodhanan,Uma SRIDHAR,Yingdong Luo,Daihua Zhang,Ashwin Murugappan Chockalingam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US6350180B2. Автор: Scott A. Southwick. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-02-26.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20010044257A1. Автор: Scott Southwick. Владелец: Southwick Scott A.. Дата публикации: 2001-11-22.

A kind of method for manufacturing chemical mechanical polishing pads conditioner discs

Номер патента: CN106944619A. Автор: 王伟东,钱卫,宋健民,杨宗庆,隗海宇. Владелец: Shenzhen Songyang Microelectronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-14.

Polishing pad, polishing device, and polishing method

Номер патента: JPH11277407A. Автор: Hideharu Nakajima,英晴 中嶋. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1999-10-12.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: JP3329644B2. Автор: 佳邦 竪山,泰孝 佐々木,伸夫 早坂,岳 西岡,尚史 金子,錬平 中田,裕 中野. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2002-09-30.

CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING PAD AND CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD

Номер патента: US20130189907A1. Автор: HOSAKA Yukio,OKAMOTO Takahiro,Kubo Kotaro. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-07-25.

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING SAME

Номер патента: US20130316621A1. Автор: NISHIGUCHI Naoki,Shida Hirotaka,OKAMOTO Takahiro,Kubo Kotaro,Kamo Satoshi,Maekawa Ayako. Владелец: JSR Corporation. Дата публикации: 2013-11-28.

POLISHING PAD, POLISHING SYSTEM AND POLISHING METHOD

Номер патента: US20170036319A1. Автор: Chen Ko-Wen,Yu Shih-Ming. Владелец: IV Technologies CO., Ltd.. Дата публикации: 2017-02-09.

Systems and methods for monitoring characteristics of a polishing pad used in polishing micro-device workpieces

Номер патента: US6872132B2. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran,Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-03-29.

Systems and methods for monitoring characteristics of a polishing pad used in polishing micro-device workpieces

Номер патента: US7258596B2. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran,Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-08-21.

Systems and methods for monitoring characteristics of a polishing pad used in polishing micro-device workpieces

Номер патента: US7033246B2. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran,Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-04-25.

Systems and methods for monitoring characteristics of a polishing pad used in polishing micro-device workpieces

Номер патента: US7033248B2. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran,Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-04-25.

Systems and methods for monitoring characteristics of a polishing pad used in polishing micro-device workpieces

Номер патента: US7070478B2. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran,Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-07-04.

Polishing pad, polishing apparatus and polishing method

Номер патента: KR970005529A. Автор: 노부오 하야사카,렘페이 나카타,히사시 가네코,다케시 니시오카,요시쿠니 다케야마,유타카 나카노,야스타카 사사키. Владелец: 니시무로 타이조. Дата публикации: 1997-02-19.

Systems and methods for monitoring characteristics of a polishing pad used in polishing micro-device workpieces

Номер патента: US20050026546A1. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran,Jason Elledge. Владелец: Elledge Jason B.. Дата публикации: 2005-02-03.

Polishing pad and chemico-mechanical polishing method

Номер патента: CN101190507A. Автор: 蒋莉,臧伟,季华,小池正博. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2008-06-04.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method

Номер патента: KR20070070094A. Автор: 히데끼 니시무라,게이스께 구리야마,다까후미 시미즈,쇼에이 츠지. Владелец: 제이에스알 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-07-03.

Polishing pad and chemical mechanical polishing method

Номер патента: TWI513871B. Автор: Mitsuru Kato,Chihiro Okamoto,Kimio Nakayama,Nobuo Takaoka. Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2015-12-21.

Polishing-pad evaluation method and wafer polishing method

Номер патента: CN105531799A. Автор: 小林修一,田中佑宜,佐藤一弥. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2016-04-27.

Polishing pad dressing device and polishing equipment

Номер патента: CN113458972A. Автор: 李伟,刘福强,杨宽,史霄,舒福璋. Владелец: Beijing Semicore Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-01.

APPARATUS AND METHOD FOR REGULATING SURFACE TEMPERATURE OF POLISHING PAD

Номер патента: US20170239778A1. Автор: Maruyama Toru,MATSUO Hisanori,MOTOSHIMA Yasuyuki,ETO Yohei,KOMATSU Mitsunori. Владелец: EBARA CORPORATION. Дата публикации: 2017-08-24.

Polishing method for processing an optical surface of an optical lens and polishing tools suitable for the same

Номер патента: EP2837464B1. Автор: Roland Mandler,Sebastian Stahringer. Владелец: OptoTech Optikmaschinen GmbH. Дата публикации: 2016-11-09.

Polishing method for processing an optical surface of an optical lens and polishing tools suitable for the same

Номер патента: EP2837464A1. Автор: Roland Mandler,Sebastian Stahringer. Владелец: OptoTech Optikmaschinen GmbH. Дата публикации: 2015-02-18.

POLISHING METHOD FOR MACHINING AN OPTICAL SURFACE OF AN OPTICAL LENS AND POLISHING TOOLS SUITABLE THEREFOR

Номер патента: US20150050864A1. Автор: MANDLER Roland,STAHRINGER Sebastian. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-19.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US12068267B2. Автор: Yoshihiro Uozumi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Anti-fuse structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US09520357B1. Автор: Hong He,Chih-Chao Yang,Juntao Li,Junli Wang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Lead frame, method for manufacturing lead frame, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20160189978A1. Автор: Koji Tomita,Masachika Masuda,Atsushi Kurahashi,Kazuyuki Miyano,Masaki Yazaki,Satoshi Shibasaki,Kazuhito UCHIUMI. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2016-06-30.

Lead frame, method for manufacturing lead frame, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20170077011A1. Автор: Koji Tomita,Masachika Masuda,Atsushi Kurahashi,Kazuyuki Miyano,Masaki Yazaki,Satoshi Shibasaki,Kazuhito UCHIUMI. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-03-16.

Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US20200303237A1. Автор: Shogo Shibata,Kosuke Yamaguchi,Maki Hasegawa,Shuhei Yokoyama,Seiya SUGIMACHI. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2020-09-24.

Memory device, semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20210183820A1. Автор: Chih-Wei Chang. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2021-06-17.

Method for manufacturing a semiconductor apparatus

Номер патента: RU2756003C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Асламбек Идрисович Хасанов,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет". Дата публикации: 2021-09-24.

Method for manufacturing a semiconductor apparatus

Номер патента: RU2755175C1. Автор: Гасан Абакарович Мустафаев,Асламбек Идрисович Хасанов,Арслан Гасанович Мустафаев,Абдулла Гасанович Мустафаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Чеченский государственный университет". Дата публикации: 2021-09-13.

Lead frame, method for manufacturing lead frame, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09870983B2. Автор: Koji Tomita,Masachika Masuda,Atsushi Kurahashi,Kazuyuki Miyano,Masaki Yazaki,Satoshi Shibasaki,Kazuhito UCHIUMI. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2018-01-16.

Microelectronic devices, stacked microelectronic devices, and methods for manufacturing such devices

Номер патента: US09768121B2. Автор: David J. Corisis,Chin Hui Chong,Choon Kuan Lee. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Lead frame, method for manufacturing lead frame, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09543169B2. Автор: Koji Tomita,Masachika Masuda,Atsushi Kurahashi,Kazuyuki Miyano,Masaki Yazaki,Satoshi Shibasaki,Kazuhito UCHIUMI. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for polishing spectacle lens, and method for manufacturing spectacle lens

Номер патента: EP4397436A1. Автор: Masahiko Samukawa,Kazuteru OKUURA. Владелец: Hoya Lens Thailand Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Ultra high void volume polishing pad with closed pore structure

Номер патента: WO2015027026A1. Автор: Robert Vacassy,George Fotou,Achla Khanna. Владелец: Cabot Microelectronics Corporation. Дата публикации: 2015-02-26.

Composite polishing pad and method for making the same

Номер патента: US09682457B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Wen-Chieh Wu. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-20.

Polishing pad with endpoint detection window

Номер патента: US20240253177A1. Автор: Lee Melbourne Cook,Hyunjin Kim,Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Polishing pad and wafer polishing method

Номер патента: US20240293915A1. Автор: Takatoshi Hattori,Takamasa Goto,Masatoshi Kishimoto,Sari SHOJI. Владелец: Bbs Kinmei Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Single surface polishing device, single surface polishing method, and polishing pad

Номер патента: EP4180178A1. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-17.

Single-side polishing apparatus, single-side polishing method, and polishing pad

Номер патента: US20230330804A1. Автор: Junichi Ueno,Kaoru Ishii. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Method and apparatus for supporting a polishing pad during chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006879A1. Автор: Michael Walker,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Polishing pad, and polishing method using same

Номер патента: EP3858546A1. Автор: Shota HISHIDA,Toru Kamada,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2021-08-04.

Polishing pad comprising magnetically sensitive particles and method for the use thereof

Номер патента: EP1915234A2. Автор: Ronald Legal Dept. Cabot Microelec. Corp. MYERS,Abaneshwar Legal Dept. Cabot Microelec. Corp. PRASAD. Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-04-30.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20190099860A1. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-04.

Using sacrificial material in additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20210114172A1. Автор: Daniel REDFIELD,Jason Garcheung Fung,Mayu Felicia Yamamura. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Using sacrificial material in additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US20230256567A1. Автор: Daniel REDFIELD,Jason Garcheung Fung,Mayu Felicia Yamamura. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240253178A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Polishing pad with endpoint window

Номер патента: US20240253176A1. Автор: Hyunjin Kim,Yu-Chung Su. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for producing laminated polishing pad

Номер патента: US09457452B2. Автор: Yoshiyuki Nakai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-10-04.

Composite polishing pad including highly abrasion-resistant thin film coating bound with carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: US20240217056A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Low pressure polishing method and apparatus

Номер патента: US09796067B2. Автор: Simon Palushaj. Владелец: DIAMABRUSH LLC. Дата публикации: 2017-10-24.

Low pressure polishing method and apparatus

Номер патента: US09776305B2. Автор: Simon Palushaj. Владелец: DIAMABRUSH LLC. Дата публикации: 2017-10-03.

Low pressure polishing method and apparatus

Номер патента: US09492909B2. Автор: Simon Palushaj. Владелец: DIAMABRUSH LLC. Дата публикации: 2016-11-15.

Composite polishing pad including highly abrasion-resistant thin film coating bound with carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: EP4431235A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Composite polishing pad including carbon nanotubes, and method for producing same

Номер патента: EP4431236A1. Автор: Min Woo Kang,Seong Jae Kim,Seung Geun Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Jung Hee Choi,Ji Hun Jeong,Hyun Jun Ryu,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Nam Gue OH. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Method for machining a workpiece in the production of an optical element

Номер патента: US20200198086A1. Автор: Franz-Josef Stickel,Robert Fichtl,Manfred Matena,Marc Saitner,Hans-Peter Brust. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2020-06-25.

Polishing pad, method for preparing the same, and chemical and mechanical polishing equipment

Номер патента: US11839945B2. Автор: Sungwoo Cho,Yuxuan Guo. Владелец: Xian Eswin Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Composite polishing pad having layers with different hardness and process for producing the same

Номер патента: US09975214B2. Автор: Chun-Che Tsao,Te-Chao Liao,Wen-Jui Cheng,Tzai-Shing CHEN. Владелец: Nan Ya Plastics Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US09956669B2. Автор: Toshiro Doi,Masataka Takagi,Kiyoshi Seshimo,Hiroshi Kashiwada. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-05-01.

Polishing pad, methods of manufacturing and use

Номер патента: US6090475A. Автор: Karl M. Robinson,Michael A. Walker,John K. Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-18.

Method of adhering polishing pads and jig for adhering the same

Номер патента: MY137884A. Автор: Yoshio Nakamura. Владелец: Fujikoshi Machinery Corp. Дата публикации: 2009-03-31.

Hand-held power tool, axial holding arrangement and polishing pad for such a power tool

Номер патента: EP4450222A1. Автор: Andrea Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-23.

Hand-held power tool, axial holding arrangement and polishing pad for such a power tool

Номер патента: US20240351160A1. Автор: Andrea Valentini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-10-24.

Homogeneous polishing pad for eddy current end-point detection

Номер патента: US09597777B2. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Richard Frentzel. Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030027500A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2003-02-06.

Base pad polishing pad and multi-layer pad comprising the same

Номер патента: EP1715980A1. Автор: Hyun-Woo Lee,Ju-Yeol Lee,Eu-Gene Song,Sung-Min 304-202 Joogong Apt. Gaesin-dong KIM,Jae-Seok 307-1305 Joogong Apt Boonpyung-dong KIM. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-02.

Polishing pad cluster for polishing a semiconductor wafer

Номер патента: US5575707A. Автор: Homayoun Talieh,David E. Weldon. Владелец: Ontrak Systems Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Polishing table and polishing apparatus having the same

Номер патента: US20180345447A1. Автор: Kenichiro Saito,Ryuichi Kosuge. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-12-06.

Polishing pad having micro-grooves on the pad surface

Номер патента: WO2008011535A3. Автор: David Adam Wells,Marc C Jin,Oscar K Hsu,John Erik Aldeborgh. Владелец: John Erik Aldeborgh. Дата публикации: 2008-10-02.

Polishing pad installation tool

Номер патента: US20020081958A1. Автор: Bernard Foster. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-27.

Polishing pad having a tricot mesh faberic as a base

Номер патента: US20110195646A1. Автор: Myung Mook Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-08-11.

Lifetime self-indicated polishing pad

Номер патента: GB2345657B. Автор: Hsueh-Chung Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2001-08-15.

Material for use in carrier and polishing pads

Номер патента: US6607428B2. Автор: Robert D. Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-08-19.

Polishing device, polishing method, and recording medium for recording program for determining supply position of polishing liquid

Номер патента: US11980998B2. Автор: Itsuki Kobata,Tadakazu Sone,Ryuichi Kosuge,Takashi Yamazaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-05-14.

Polishing pad for wafer polishing apparatus

Номер патента: US20200078901A1. Автор: Seung Won Lee. Владелец: SK Siltron Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-12.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US11872671B2. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US11524389B2. Автор: Yu-Piao Wang. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-13.

Polishing pads and methods relating thereto

Номер патента: US6354915B1. Автор: Lee Melbourne Cook,David B. James,Arthur Richard Baker. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-03-12.

Polishing pads and methods relating thereto

Номер патента: US6843712B2. Автор: Lee Melbourne Cook,David B. James,John H. V. Roberts. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-01-18.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: US20240025009A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Formulations for advanced polishing pads

Номер патента: US20230294239A1. Автор: Rajeev Bajaj,Mo Yang,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Boyi FU,Ankit Vora,Mario CORNEJO,Mayu YAMAMURA,Venkat HARIHARAN,Igor ABRAMSON. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: WO2021126470A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-06-24.

Polishing pads having selectively arranged porosity

Номер патента: US11813712B2. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Mayu YAMAMURA,Veera Raghava Reddy KAKIREDDY,Puneet Narendra JAWALI,Aniruddh Jagdish KHANNA,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Joonho AN,Jaeseok Kim. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for assembling rigid probe heads

Номер патента: RU2753495C1. Автор: Алексей Алексеевич Лопухин,Владимир Михайлович Акимов,Илья Владимирович Ефимов,Никита Александрович Иродов. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2021-08-17.

Method for machining a workpiece in the production of an optical element

Номер патента: US11980990B2. Автор: Franz-Josef Stickel,Robert Fichtl,Manfred Matena,Marc Saitner,Hans-Peter Brust. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-05-14.

High removal rate chemical mechanical polishing pads from amine initiated polyol containing curatives

Номер патента: US20190168356A1. Автор: Bainian Qian,Kancharla-Arun K. Reddy,Marty W. Degroot,George C. Jacob. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2019-06-06.

Multi-layer polishing pad for low-pressure polishing

Номер патента: WO2006081286A2. Автор: Wei Lu,Yan Wang,Yongsik Moon,Alain Duboust,Siew Neo,Antoine Manens,Shou-sung Chang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2006-08-03.

Homogeneous polishing pad for eddy current end-point detection

Номер патента: US20120083192A1. Автор: Ping Huang,Alexander William Simpson,William C. Allison,Diane Scott,Richard Frentzel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-04-05.

Polishing pad conditioning apparatus

Номер патента: US20210060727A1. Автор: Shih-Chung Chen,Hung-Lin Chen,Cheng-Ping Chen,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Polishing pad conditioning apparatus

Номер патента: US20230234184A1. Автор: Shih-Chung Chen,Hung-Lin Chen,Cheng-Ping Chen,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-27.

Light-emitting diode module and method for manufacture thereof

Номер патента: RU2510102C1. Автор: Вон Санг ЛИ,Йоунг Кеун КИМ. Владелец: Даевон Инност Ко., Лтд. Дата публикации: 2014-03-20.

Polishing pad for endpoint detection and related methods

Номер патента: US9333621B2. Автор: Manoocher Birang,Boguslaw A. Swedek. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Polishing pad

Номер патента: EP1224060B1. Автор: Stanley E. Eppert, Jr.,Alan H. Saikin,Peter W. Freeman,Marco A. Acevedo. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-23.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing pad, production method for same, and production method for glass substrate

Номер патента: US8979611B2. Автор: Akinori Sato,Nobuyoshi Ishizaka. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2015-03-17.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Polishing pad with controlled abrasion rate

Номер патента: US5297364A. Автор: Mark E. Tuttle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-03-29.

Methods and precursor formulations for forming advanced polishing pads by use of an additive manufacturing process

Номер патента: US20240123568A1. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: EP1210209A4. Автор: John V H Roberts,David B James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2004-06-30.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: WO2001012387A1. Автор: John V. H. Roberts,David B. James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2001-02-22.

Molded polishing pad having integral window

Номер патента: EP1210209A1. Автор: John V. H. Roberts,David B. James,Barry Scott Pinheiro. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2002-06-05.

Method of making cleaning, scouring and/or polishing pads and the improved pad produced thereby

Номер патента: CA1058812A. Автор: Heinz Kalbow. Владелец: Collo GmbH. Дата публикации: 1979-07-24.

Cmp polishing pad

Номер патента: US20240091901A1. Автор: Bainian Qian,Nan-Rong Chiou,Donna M. Alden,Matthew Cimoch,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Conditioning wheel for polishing pads

Номер патента: US20190358771A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Method of producing polishing pad

Номер патента: US20080047205A1. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-28.

Method for manufacturing printed-circuit board

Номер патента: US20090321266A1. Автор: Harufumi Kobayashi,Yoshimi Egawa. Владелец: Oki Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-31.

Semiconductor chip pad structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US8169086B2. Автор: Hui-Heng Wang. Владелец: Arima Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2012-05-01.

Method for manufacturing photovoltaic module and photovoltaic module

Номер патента: US12074245B1. Автор: Jun Feng,Wusong Tao,Heng LUO. Владелец: Jinko Solar Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Semiconductor component and method for manufacturing it

Номер патента: US20010036720A1. Автор: Christian Hauser,Martin Neumayer,Johann Winderl,Martin Reiss,Achim Neu. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2001-11-01.

Chip structure, method for manufacturing chip structure, and electronic device

Номер патента: US20240290706A1. Автор: Yuan HUO. Владелец: Honor Device Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Light-emitting diode and method for manufacturing light-emitting diode

Номер патента: US09780272B2. Автор: Gege Zhou. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Anti-fuse structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US09698098B1. Автор: Hong He,Chih-Chao Yang,Juntao Li,Junli Wang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-07-04.

Light emitting device and method for manufacturing the same

Номер патента: US12148873B2. Автор: Cheng-Yeh Tsai,Cheng-Chieh Chang,Fang-Cheng Yu. Владелец: AUO Corp. Дата публикации: 2024-11-19.

Method for manufacture of integrated circuit package system with protected conductive layers for pads

Номер патента: US20120003830A1. Автор: Qing Zhang,Yaojian Lin,Haijing Cao. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor package and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240234354A1. Автор: Wei Yen,Ho-Ming Tong,Chao-Chun Lu. Владелец: Nd Hi Technologies Lab inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Packaging structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20210368626A1. Автор: Chih-Chieh Fu. Владелец: Hongqisheng Precision Electronics Qin Huangdao Co ltd. Дата публикации: 2021-11-25.

Very small pixel pitch focal plane array and method for manufacturing thereof

Номер патента: US9293497B2. Автор: Pradip Mitra. Владелец: DRS Network and Imaging Systems LLC. Дата публикации: 2016-03-22.

A very small pixel pitch focal plane array and method for manufacturing thereof

Номер патента: WO2010039710A1. Автор: Pradip Mitra. Владелец: DRS Sensors & Targeting Systems, Inc.. Дата публикации: 2010-04-08.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20230307361A1. Автор: Shinya Arai,Keisuke Nakatsuka,Hiroaki ASHIDATE,Yasunori Iwashita. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-09-28.

Method for Manufacturing Image Sensor

Номер патента: US20070148976A1. Автор: Seong Jeong. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Very small pixel pitch focal plane array and method for manufacturing thereof

Номер патента: US20150333097A1. Автор: Pradip Mitra. Владелец: DRS RSTA Inc. Дата публикации: 2015-11-19.

Semiconductor structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20200194665A1. Автор: Jar-Ming Ho. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2020-06-18.

Method for manufacturing a low-profile semiconductor device

Номер патента: US20030098471A1. Автор: I-Ming Chen,Ming-Tung Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-29.

Method for manufacturing semiconductor device, particle, and semiconductor device

Номер патента: US20110201193A1. Автор: Fumihiro Bekku. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2011-08-18.

Display module, method for manufacturing the same, and display device

Номер патента: US20240268025A1. Автор: Xiao Bai,Pengcheng LU,Shengji Yang. Владелец: Yunnan Invensight Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Display Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20230110638A1. Автор: Jaekun Kim,Cheolwoo Na. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-13.

Method for manufacturing a low-profile semiconductor device

Номер патента: US6677180B2. Автор: I-Ming Chen,Ming-Tung Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Method for manufacturing printed wiring board

Номер патента: US09480156B2. Автор: Kotaro Takagi,Toru Furuta,Michio Ido,Fumitaka Takagi. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Stretchable electronic device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20220104343A1. Автор: Chan Woo Park,Seung Youl Kang,Ji-Young Oh,Chi-Sun Hwang,Jae-Eun PI,SuJung Kim,Himchan OH. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2022-03-31.

Method for Manufacturing Semiconductor Device

Номер патента: US20110136337A1. Автор: Shuichi Tanaka,Nobuaki Hashimoto,Yasuo Yamasaki. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-06-09.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US8114788B2. Автор: Shuichi Tanaka,Nobuaki Hashimoto,Yasuo Yamasaki. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2012-02-14.

Bonding pad and method for manufacturing it

Номер патента: US20020149115A1. Автор: Tsung-Ju Yang,Bing-Yue Tsui,Chin Hsia,Tsung Chu. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2002-10-17.

Assembly of light-emitting diode (led) lead-frame unit, led group using this lead-frame and method for manufacturing of led group

Номер патента: RU2488195C2. Автор: Тхе Тран НГУЙЕН. Владелец: Непес Лед Корпорейшн. Дата публикации: 2013-07-20.

Polishing pad with hybrid cloth and foam surface

Номер патента: US09687964B2. Автор: David Givens. Владелец: Showroom Polishing Systems LLC. Дата публикации: 2017-06-27.

Sloped polishing pad with hybrid cloth and foam surface

Номер патента: US09682461B2. Автор: David Givens. Владелец: Showroom Polishing Systems LLC. Дата публикации: 2017-06-20.

Polishing pad compound

Номер патента: US09458280B2. Автор: Bong-su Ahn,Jungsik CHOI,Jin-Su Jeong,Youngjun JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-10-04.

Polishing pad and system

Номер патента: CA2441383C. Автор: Robert Piombini. Владелец: Saint Gobain Abrasives Inc. Дата публикации: 2006-01-24.

Apparatus for cleaning and polishing a surface

Номер патента: US5947807A. Автор: Elmo R. Overseth. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-09-07.

Method for manufacturing polishing pad and polishing pad

Номер патента: US09862071B2. Автор: Chung-Chih Feng,I-Peng Yao,Yung-Chang Hung,Lyang-Gung Wang. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Reinforced polishing pad for linear chemical mechanical polishing and method for forming

Номер патента: US20030013398A1. Автор: Tsu Shih,Wen-Chih Chiou,Ying-Ho Chen,Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-01-16.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240316721A1. Автор: Masamitsu Kimura,Koshiro Suzuki,Hideji HORITA. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: GB9902373D0. Автор: . Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 1999-03-24.

Detection of diamond contamination in polishing pad and reconditioning system therefor

Номер патента: US20060166607A1. Автор: Laertis Economikos,John Fitzsimmons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-07-27.

Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010019937A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Polishing pad, polishing pad tile and method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2009025533A2. Автор: Yang-Soo Park,Won-Joon Kim. Владелец: Kolon Industries, Inc. Дата публикации: 2009-02-26.

Polishing pad, polishing pad tile and method of manufacturing the polishing pad

Номер патента: WO2009025533A3. Автор: Yang-Soo Park,Won-Joon Kim. Владелец: Won-Joon Kim. Дата публикации: 2009-04-30.

Polishing-pad laminated structure, polishing-pad positioning instrument, and method of attaching a polishing pad to a polishing table

Номер патента: US20200023489A1. Автор: Toshikazu Nomura,Nobuyuki Takahashi,Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Suguru Sakugawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-23.

Polishing-pad laminated structure, polishing-pad positioning instrument, and method of attaching a polishing pad to a polishing table

Номер патента: US11642753B2. Автор: Toshikazu Nomura,Nobuyuki Takahashi,Takashi Kishi,Masaki Kinoshita,Suguru Sakugawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-05-09.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method and apparatus for conditioning polishing pad

Номер патента: US09731401B2. Автор: Nobuyuki Takahashi,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Rinse apparatus and method for wafer polisher

Номер патента: US20050124267A1. Автор: Jin Liu,Sadasivan Shankar,Lei Jiang,Thomas Bramblett. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2005-06-09.

Method of monitoring a dressing process and polishing apparatus

Номер патента: US09808908B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Vacuum cleaning systems for polishing pads, and related methods

Номер патента: US09452506B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-09-27.

Device and method for polishing a specimen

Номер патента: FI130973B1. Автор: Teemu Simola,Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2024-06-25.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Polishing method for semiconductor wafer and polishing pad used therein

Номер патента: MY122396A. Автор: Hisashi Masumura,Kiyoshi Suzuki,Teruaki Fukami. Владелец: Shinetsu Handotai Kk. Дата публикации: 2006-04-29.

Polishing pad cleaning with vacuum apparatus

Номер патента: US09498866B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Tianyu YANG,Thomas Ho Fai LI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Polishing pad, and polishing method

Номер патента: EP4282588A1. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240131654A1. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Polishing pad and polishing method

Номер патента: US20240227119A9. Автор: Koji Katayama,Shota HISHIDA,Kyosuke Tenko,Daisuke Yasui,Hideharu HASE. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical-mechanical polishing pad conditioning system

Номер патента: US20110244764A1. Автор: Nannaji Saka,Jung-Hoon Chun,Thor Eusner. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2011-10-06.

Polishing layer of polishing pad and method of forming the same and polishing method

Номер патента: US09969049B2. Автор: Kun-Che Pai,Yu-Hao Pan. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Pad temperature adjustment apparatus for adjusting temperature of polishing pad, and polishing apparatus

Номер патента: US20190193237A1. Автор: Yasuyuki Motoshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-06-27.

Polishing method, polishing agent and cleaning agent for polishing

Номер патента: US20210299814A1. Автор: Yukiteru Matsui,Yumiko Kataoka,Mikiya Sakashita. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

System and method for polishing substrate

Номер патента: US09669514B2. Автор: Jiun-Yu Lai,Wei-Chen Chang,Ying-Hsiu Tsai,Yi-Ching CHIOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Chemical mechanical polishing apparatus and polishing method using the same

Номер патента: US09481069B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Feng-Inn Wu,Yuan-Hsuan Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Apparatus and method for controlling substrate polish edge uniformity

Номер патента: WO2024158525A1. Автор: Wei Lu,Takashi Fujikawa,Jianshe Tang,Thomas H. Osterheld,Huanbo Zhang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Chen-Wei Chang,Haosheng Wu,Taketo Sekine,Priscilla Michelle DIEP. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-02.

Apparatus and method for controlling substrate polish edge uniformity

Номер патента: US20240253183A1. Автор: Wei Lu,Takashi Fujikawa,Jianshe Tang,Thomas H. Osterheld,Huanbo Zhang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Chen-Wei Chang,Haosheng Wu,Taketo Sekine,Priscilla Michelle Diep LAROSA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Web-format planarizing machines and methods for planarizing microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20020016138A1. Автор: Michael Walker,Scott Moore. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-07.

Polish pad replacing apparatus

Номер патента: US20230158634A1. Автор: Chih-Chieh Su,Chun-Hsien Su,Ko-Chieh Chao. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-05-25.

Polishing device and polishing method

Номер патента: US09999956B2. Автор: Hozumi Yasuda,Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki,Shintaro Isono. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-06-19.

Dressing apparatus, polishing apparatus having the dressing apparatus, and polishing method

Номер патента: US09855638B2. Автор: Satoshi Nagai,Suguru Ogura,Kaoru Hamaura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate and method for manufacturing magnetic disk

Номер патента: MY183852A. Автор: Hideo Sakai. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-03-17.

Polishing pad for substrate polishing apparatus and substrate polishing apparatus having polishing pad

Номер патента: US20200001424A1. Автор: Toshifumi Kimba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-01-02.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20240208002A1. Автор: Keita Yagi,Masaki Kinoshita. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for CMP pad conditioning

Номер патента: US11679472B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Chunhung Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-20.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US09833876B2. Автор: I-Pin CHAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-12-05.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Apparatus for manufacturing polishing pad and method of manufacturing polishing pad using the same

Номер патента: US20140366396A1. Автор: Bong-su Ahn,Jungsik CHOI,Jin-Su Jeong,Youngjun JANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-12-18.

Method of using polishing pad

Номер патента: US11691243B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-04.

Method of using polishing pad

Номер патента: US12070833B2. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Polishing method

Номер патента: US09573245B2. Автор: Taro Takahashi,Yasumitsu Kawabata. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-02-21.

Method of fabricating a polishing pad having an optical window

Номер патента: US20030084774A1. Автор: KYLE David. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2003-05-08.

Method of fabricating a polishing pad having an optical window

Номер патента: WO2003039812A1. Автор: Kyle W. David. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2003-05-15.

Method and apparatus for forming porous advanced polishing pads using an additive manufacturing process

Номер патента: US11772229B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Jason G. Fung,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Mayu YAMAMURA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Heat exchanger for regulating surface temperature of a polishing pad, polishing apparatus, polishing method, and medium storing computer program

Номер патента: US20180236631A1. Автор: Toru Maruyama,Yohei Eto. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-08-23.

Method and a system for evaluating the physical consumption of a polishing pad of a cmp apparatus, and cmp apparatus

Номер патента: US20210402559A1. Автор: Renato CORETTI,Simone RIZZARDINI,Valentina ROBBIANO. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2021-12-30.

Composition for polishing pad and polishing pad

Номер патента: US12122013B2. Автор: Jong Wook YUN,Jang Won Seo,Eun Sun JOENG,Hyeyoung HEO. Владелец: SK Enpulse Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20200262027A1. Автор: Akira Nakamura. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2020-08-20.

Conductive chemical mechanical planarization polishing pad

Номер патента: US09415479B2. Автор: Hsin-Hsien Lu,Chang-Sheng Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Method for manufacturing glass substrate for information recording medium, method for manufacturing information recording medium, and polishing pad

Номер патента: MY175952A. Автор: Komatsu Takafumi. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-07-16.

A polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: WO2000034008A9. Автор: Robert D Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-03-29.

Broad spectrum, endpoint detection monophase olefin copolymer window with specific composition in multilayer chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US09446497B2. Автор: David B. James,Marty W. Degroot,Mary A. Leugers,Angus Repper. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Method and apparatus for measuring a change in the thickness of polishing pads used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5609718A. Автор: Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

System and method for polishing substrate

Номер патента: US20170246723A1. Автор: Jiun-Yu Lai,Wei-Chen Chang,Ying-Hsiu Tsai,Yi-Ching CHIOU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-31.

Detection of diamond contamination in polishing pad and reconditioning system therefor

Номер патента: US7473159B2. Автор: Laertis Economikos,John Fitzsimmons. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-06.

Polishing pad with a partial adhesive coating

Номер патента: US20010055939A1. Автор: Robert Tolles. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-12-27.

Apparatus and method for sequentially polishing and loading/unloading semiconductor wafers

Номер патента: US20080038992A1. Автор: In Jeong. Владелец: Oriol Inc. Дата публикации: 2008-02-14.

Apparatus and method for sequentially polishing and loading/unloading semiconductor wafers

Номер патента: WO2002085571A1. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2002-10-31.

Cmp pad having isolated pockets of continuous porosity and a method for using such pad

Номер патента: US20030045106A1. Автор: Steve Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Surface property measuring system, surface property measuring method, polishing apparatus, and polishing method

Номер патента: US20240075580A1. Автор: Toshifumi Kimba,Kohei Ota,Kohei Ohshima. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-07.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: US20230415296A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Method for producing substrate, method for producing magnetic disk, and polishing apparatus

Номер патента: WO2020198761A1. Автор: Luong NGUYEN TAI. Владелец: Hoya Glass Disk Vietnam Ltd.. Дата публикации: 2020-10-01.

CMP polishing pad backside modifications for advantageous polishing results

Номер патента: US5913713A. Автор: Matthew J. Rutten,Terrance M. Wright,John E. Cronin,Roger W. Cheek,Douglas P. Nadeau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-06-22.

CMP of a circlet wafer using disc-like brake polish pads

Номер патента: US6099387A. Автор: Mark I. Gardner,Mark C. Gilmer. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-08-08.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: WO2021257136A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-12-23.

Method for estimating life of polishing pad and polishing device

Номер патента: US20230381910A1. Автор: Kenichiro Saito,Seiji Murata,Ban ITO. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Processing system, pad transporting apparatus, liquid-receiving apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: US20240082982A1. Автор: Kenichiro Saito,Makoto Fukushima,Toshiki Miyakawa. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: US11806829B2. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: US20240025010A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Advanced polishing pads and related polishing pad manufacturing methods

Номер патента: EP4168210A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jason G. Fung,Andrew Scott Lawing,Puneet Narendra JAWALI,Adam Wade MANZONIE,Nandan BARADANAHALLI KENCHAPPA,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-04-26.

Method and apparatus for conditioning polishing pad

Номер патента: US20150231760A1. Автор: Nobuyuki Takahashi,Toru Maruyama. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2015-08-20.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad

Номер патента: WO2001049453A1. Автор: Alex Finkelman. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2001-07-12.

Polyurethane polishing pad

Номер патента: US09731398B2. Автор: Benson Lee,Bainian Qian,Raymond L. Lavoie, JR.,Marty W. Degroot. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-15.

Cleaning method for optical surface monitoring device

Номер патента: US11833641B2. Автор: Toshimitsu Sasaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Polishing pad, manufacturing method of polishing pad and polishing method

Номер патента: US11850701B2. Автор: Yu-Piao Wang,Liang-Chi Tu. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Container for drying and storing polishing pads

Номер патента: US20220017262A1. Автор: Jason LAMONT. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-20.

Polyurethanes, polishing articles and polishing systems therefrom and method of use thereof

Номер патента: US20240254273A1. Автор: Joseph D. Rule,Jay M. Jennen,Duy K. LEHUU,David P. SIGLIN,Jaimie E. STOMBERG. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2024-08-01.

Conditioning of grooving in polishing pads

Номер патента: US09486893B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Robert T. Lum,Brian J. Brown,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-08.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad with sonic energy

Номер патента: US20020086620A1. Автор: Michael Lacy. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Apparatus for distributing a fluid through a polishing pad

Номер патента: US20030027506A1. Автор: Stephen Schultz,John Herb. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2003-02-06.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Polishing pads for high temperature processing

Номер патента: US11911870B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Daniel REDFIELD,You Wang,Yingdong Luo,Aniruddh Jagdish KHANNA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-27.

Device and method for moistening a polishing pad

Номер патента: WO2023242481A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2023-12-21.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Pad-temperature regulating apparatus, and polishing apparatus

Номер патента: US11839947B2. Автор: Toru Maruyama,Yasuyuki Motoshima,Keisuke Kamiki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Polishing pad dresser, polishing apparatus and polishing pad dressing method

Номер патента: US09849558B2. Автор: Dai Fukushima,Takayuki Nakayama. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2017-12-26.

Polishing pad and surface polishing method

Номер патента: MY124043A. Автор: Nakamura Koji,ITO Yasushi,Ichino Mitsuyoshi,Ishizawa Yoshiaki,Shimobayashi Takahiro,Ikemori Gosuke,Fujisawa Yuichiro. Владелец: Fuji Electric Co Ltd. Дата публикации: 2006-06-30.

Apparatus and method for CMP temperature control

Номер патента: US11919123B2. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Hari Soundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Device and method for polishing a specimen

Номер патента: US20220395955A1. Автор: Teemu Simola,Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-12-15.

Device and method for polishing a specimen

Номер патента: WO2021099681A1. Автор: Teemu Simola,Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2021-05-27.

Device and method for polishing a specimen

Номер патента: CA3161142A1. Автор: Teemu Simola,Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2021-05-27.

Device and method for polishing a specimen

Номер патента: AU2020385654A1. Автор: Teemu Simola,Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-05-26.

Removable polishing pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20090124176A1. Автор: Leonard J. Borucki. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2009-05-14.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Chemical mechanical polishing pad with window

Номер патента: US09446498B1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: US20210402555A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Hari Soundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-12-30.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Apparatus and method for cmp temperature control

Номер патента: US20240157504A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Hari Soundararajan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Method and apparatus for conditioning a polish pad and for dispensing slurry

Номер патента: WO2001091974A1. Автор: Albert H. Liu,Nelson W. Ii White. Владелец: Philips Semiconductors, Inc.. Дата публикации: 2001-12-06.

Rocker polishing apparatus and method for full-aperture deterministic polishing of a planar part

Номер патента: US11945070B2. Автор: Kai Wang,Lin Wang,Ying Yan,Ping Zhou,Dongming GUO,Zhichao GENG. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2024-04-02.

Apparatus and method for selective material removal during polishing

Номер патента: US20230219189A1. Автор: Daniel REDFIELD,Ashwin CHOCKALINGAM,Joshua Chen,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-07-13.

An optimized grooving structure for a cmp polishing pad

Номер патента: WO2006026271A1. Автор: Peter Renteln. Владелец: J. H. Rhodes, Inc.. Дата публикации: 2006-03-09.

Polishing method and polishing apparatus

Номер патента: US12076830B2. Автор: Masashi KABASAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Apparatus and method for selective material removal during polishing

Номер патента: WO2023133110A1. Автор: Daniel REDFIELD,Ashwin CHOCKALINGAM,Joshua Chen,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-07-13.

Polishing pad

Номер патента: EP1536920B1. Автор: Markus c/o P & M NAUJOK. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2006-07-12.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Polishing method

Номер патента: US09539699B2. Автор: Hiroyuki Shinozaki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Device for cleaning fixed abrasives polishing pad

Номер патента: US09475170B2. Автор: FENG CHEN. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-10-25.

Customized polishing pads for cmp and methods of fabrication and use thereof

Номер патента: IL185099A. Автор: . Владелец: Nexplanar Corp. Дата публикации: 2013-11-28.

Polishing pad for chemical-mechanical polishing of a semiconductor substrate

Номер патента: US5628862A. Автор: Chris C. Yu,Tat-Kwan Yu. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1997-05-13.

Methods and systems for monitoring a parameter of a measurement device during polishing, damage to a specimen during polishing, or a characteristic of a polishing pad or tool

Номер патента: US20030180973A1. Автор: Kurt Lehman,Charles Chen,Robert Shinagawa,Anantha Sethuraman,Thanassis Trikas,Haiguang Chen,Ronald Allen,Christopher Bevis,Ching Meng. Владелец: KLA Tencor Technologies Corp. Дата публикации: 2003-09-25.

Method for producing glass substrate for magnetic disk and method for manufacturing magnetic disk

Номер патента: MY160185A. Автор: TAKIZAWA Toshio,KOSHIMIZU Takumi,MARUMO Yoshinori,KATAGIRI Masahiro. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Device for conditioning polishing pads

Номер патента: US5486131A. Автор: Joseph V. Cesna,Anthony G. Van Woerkom. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1996-01-23.

Polishing pad conditioning system and method of using

Номер патента: US20240009801A1. Автор: Wen Yen Kung. Владелец: TSMC Nanjing Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Cmp composition and methods for polishing rigid disks

Номер патента: MY186924A. Автор: Zhang Ke,WHITE Michael,Li Tong,PALANISAMY CHINNATHAMBI Selvaraj. Владелец: Cmc Mat Inc. Дата публикации: 2021-08-26.

Method of using polishing pad

Номер патента: US20230339068A1. Автор: Sheng-Chen Wang,Jung-Yu Li,Chunhung Chen,Shih-Sian HUANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Optical connector polishing pad

Номер патента: US20220219280A1. Автор: Kenji Aoki,Naoki Sugita,Masaaki Konishi. Владелец: NTT Advanced Technology Corp. Дата публикации: 2022-07-14.

Method of making diagram for use in selection of wavelength of light for polishing endpoint detection, method and apparatus for selecting wavelength of light for polishing endpoint detection, polishing endpoint detection method, polishing endpoint detection apparatus, and polishing monitoring method

Номер патента: US20130149938A1. Автор: Yoichi Kobayashi,Toshifumi Kimba,Masaki Kinoshita,Shinrou Ohta. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2013-06-13.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

CMP polishing pad with enhanced rate

Номер патента: US12138737B2. Автор: Mohammad T. Islam. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Holdings Inc. Дата публикации: 2024-11-12.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: CA2305106C. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2008-07-08.

Polishing pads with improved planarization efficiency

Номер патента: WO2023219783A1. Автор: Ashwin CHOCKALINGAM,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-16.

Polishing pads with improved planarization efficiency

Номер патента: US20230364735A1. Автор: Ashwin CHOCKALINGAM,Shiyan Akalanka Jayanath WEWALA GONNAGAHADENIYAGE. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Window in thin polishing pad

Номер патента: US11826875B2. Автор: Yongqi Hu,Kadthala Ramaya Narendrnath,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Polishing method, polishing agent and cleaning agent for polishing

Номер патента: US11986920B2. Автор: Yukiteru Matsui,Yumiko Kataoka,Mikiya Sakashita. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

Wafer polishing method

Номер патента: US20050118933A1. Автор: Toshiyuki Sakai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-06-02.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: US6656018B1. Автор: David S. Gilbride,Oscar K. Hsu,Jean K. Vangsness,Scott C. Billings. Владелец: Freudenberg Nonwovens LP. Дата публикации: 2003-12-02.

Apparatus and methods for acoustical monitoring and control of through-silicon-via reveal processing

Номер патента: WO2014179241A1. Автор: Rajeev Bajaj,Jianshe Tang,Boguslaw A. Swedek,Uday Mahajan,Xiong Yeu CHEW,Kommisetti SUBRAHMANYAM. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2014-11-06.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: US20220390403A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-12-08.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: WO2021099682A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: TURUN YLIOPISTO. Дата публикации: 2021-05-27.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: EP4062162A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-09-28.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: CA3161145A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2021-05-27.

Moisture sensor, polishing device and method for measuring the moisture in a polishing pad

Номер патента: AU2020387657A1. Автор: Arto PELTOLA,Tatu PELTOLA. Владелец: University of Turku . Дата публикации: 2022-05-26.

Wafer polishing method

Номер патента: US7014536B2. Автор: Toshiyuki Sakai. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2006-03-21.

CMP polishing pad

Номер патента: US6217426B1. Автор: Gopalakrishna B. Prabhu,Steven T. Mear,Robert D. Tolles,Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-17.

Thin polishing pad with window and molding process

Номер патента: WO2008154185A2. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2008-12-18.

Method for a copper CMP endpoint detection system

Номер патента: US6517413B1. Автор: Chen-Fa Lu,Tien-Chen Hu,Jin-Churng Twu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-02-11.

Systems, apparatus, and methods for an improved polishing head gimbal using a spherical ball bearing

Номер патента: WO2016100099A1. Автор: Chih Hung Chen,Jay Gurusamy,Samuel Hsu,Jeonghoon Oh,Gautam Dandavate. Владелец: APPLIED MATERIALS, INC. Дата публикации: 2016-06-23.

Recycled polishing pad

Номер патента: US11541504B2. Автор: Yoon Ho Kim,Seung Taek Oh,Young Jun Yoo,Bong Su Ahn,Pal Kon Kim,Si Hyeong Kim,Jin Ok Moon. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-03.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Polishing apparatus and polishing method

Номер патента: US20240300068A1. Автор: Hiroto Yamada,Taro Takahashi. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Fixed abrasive planarization pad conditioner incorporating chemical vapor deposited polycrystalline diamond and method for making same

Номер патента: US6632127B1. Автор: Jerry W. Zimmer,Todd W. Buley,Albert B. Stubbmann. Владелец: Albert B. Stubbmann. Дата публикации: 2003-10-14.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Recycled polishing pad

Номер патента: US20200238472A1. Автор: Yoon Ho Kim,Seung Taek Oh,Young Jun Yoo,Bong Su Ahn,Pal Kon Kim,Si Hyeong Kim,Jin Ok Moon. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-30.

Carrier for a double-side polishing apparatus, double-side polishing apparatus using this carrier, and double-side polishing method

Номер патента: US09327382B2. Автор: Junichi Ueno,Syuichi Kobayashi,Kazuya Sato. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2016-05-03.

System and method for CMP having multi-pressure zone loading for improved edge and annular zone material removal control

Номер патента: US6966822B2. Автор: Huey-Ming Wang,Jiro Kajiwara,Gerard S. Moloney,David A. Hansen,Alejandro Reyes. Владелец: Multi Planar Tech Inc. Дата публикации: 2005-11-22.

Polishing pad conditioner equipped polishing pad life time detecting device and polishing pad life time detecting method

Номер патента: KR20070028191A. Автор: 이창섭. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2007-03-12.

Apparatus and method for polishing a flat surface using a belted polishing pad

Номер патента: US6059643A. Автор: Burford J. Furman,Albert Hu,Mohamed Abushaban. Владелец: Aplex Inc. Дата публикации: 2000-05-09.

Polishing methods and apparatus

Номер патента: US7201634B1. Автор: Erdem Kaltalioglu,Markus Naujok. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2007-04-10.

Elastic polishing tool and lens polishing method

Номер патента: US7413503B2. Автор: Keiko Kitamura,Yoshinori Tabata. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2008-08-19.

Polishing method and polishing apparatus for workpiece

Номер патента: US20230311267A1. Автор: Toshifumi Kimba. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Intelligent analysis system for measuring signals of polishing pad surface, method and computer readable medium thereof

Номер патента: US20230211451A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-07-06.

Polishing methods and apparatus for semiconductor and integrated circuit manufacture

Номер патента: WO2001091969A3. Автор: Albert H Liu,Nelson W Ii White. Владелец: Philips Semiconductors Inc. Дата публикации: 2002-05-23.

Method and apparatus for improved conditioning of polishing pads

Номер патента: US5941762A. Автор: Yuli Verhovsky,Michael A. Ravkin,Ilya A. Ravkin. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-08-24.

Substrate and method for producing the same

Номер патента: EP4299245A1. Автор: Harunobu Matsui,Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Methods for removing deposits on the surface of a chamber component

Номер патента: US20240017299A1. Автор: Han Wang,Tuochuan Huang,Kenneth Chien,Min Shen,Stayce Parmer,Rynn Wang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-18.

Microreplicated polishing pad including fluorinated polymer window

Номер патента: WO2023126854A1. Автор: QIN Lin,Craig R. Hoff,Matthew J. TRIEMERT,Duy K. LEHUU,David J. MURADIAN,Alexander W. SIMPSON. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2023-07-06.

Substrate and method for producing the same

Номер патента: US20230398655A1. Автор: Harunobu Matsui,Daijitsu Harada,Masaki Takeuchi,Naoki YARITA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Polishing pad

Номер патента: US20140154962A1. Автор: Seiji Fukuda,Shigetaka Kasai,Ryoji Okuda,Nana Takeuchi. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 2014-06-05.

Polyurethanes, Polishing Articles and Polishing Systems Therefrom and Method of Use Thereof

Номер патента: US20230383048A1. Автор: Joseph D. Rule,Jay M. Jennen,Duy K. LEHUU,Jaimie E. STOMBERG. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2023-11-30.

Method of fabricating polishing pad having detection window thereon

Номер патента: US7875335B2. Автор: Wen-Chang Shih,Yung-Chung Chang,Min-Kuei Chu,Lung-Chen Wei. Владелец: Iv Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-25.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Hydrophilic and zeta potential tunable chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11826876B2. Автор: Rajeev Bajaj,Sivapackia Ganapathiappan,Hou T. Ng,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Ashwin CHOCKALINGAM,Boyi FU,Ankit Vora,Sudhakar Madhusoodhanan. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of creating responsive profile of polishing rate of workpiece, polishing method, and polishing apparatus

Номер патента: US20240198480A1. Автор: Akira Nakamura,Keita Yagi,Satoru Yamaki,Kodai SHIRAKAWA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Polishing pad employing polyamine and cyclohexanedimethanol curatives

Номер патента: US11845156B2. Автор: Lin Fu,Rui Ma,Chen-Chih Tsai,Jaeseok Lee,Sarah BROSNAN. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Formulations for high porosity chemical mechanical polishing pads with high hardness and CMP pads made therewith

Номер патента: US11772230B2. Автор: Jing Ren,Bryan E. Barton,Kwadwo Tettey. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Apparatus and method for glass ball lens polishing

Номер патента: US6135867A. Автор: Faisal A. NABULSI,Frederick A. Yeagle,Brian D. Potteiger. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Polishing method, polishing device, glass substrate for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20010055935A1. Автор: Takemi Miyamoto. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2001-12-27.

Substrate holding apparatus, elastic membrane, polishing apparatus, and method for replacing elastic membrane

Номер патента: US20180117730A1. Автор: Osamu Nabeya,Makoto Fukushima,Keisuke Namiki,Shingo Togashi,Satoru Yamaki,Masahiko KISHIMOTO,Tomoko OWADA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Use of abrasive tape conveying assemblies for conditioning polishing pads

Номер патента: US5944585A. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1999-08-31.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: EP4028440A1. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Srobona SEN,Atul Bhaskar Chaudhari. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-07-20.

Additive manufacturing of polishing pads

Номер патента: US12006442B2. Автор: Sivapackia Ganapathiappan,Srobona SEN,Atul Bhaskar Chaudhari. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Printed circuit boards and methods for manufacturing thereof for RF connectivity between electro-optic phase modulator and digital signal processor

Номер патента: US12087987B2. Автор: Kaisheng Hu,Georges-Andre Chaudron,John David Wice. Владелец: Ciena Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Method for manufacturing a vacuum-tight beryllium outlet window

Номер патента: RU2760320C1. Автор: Михаил Юрьевич Русин,Александр Васильевич Терехин,Николай Ефимович Шер,Валерий Дмитриевич Малыгин. Владелец: Акционерное общество "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" им. А.Г.Ромашина". Дата публикации: 2021-11-23.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: WO2012012730A1. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Woods Marilyn S. Дата публикации: 2012-01-26.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: US20120021187A1. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-26.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: US20150089760A1. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-04-02.

Method for forming matching table of inner pads and outer pads and method for matching inner pads with outer pads using the same

Номер патента: US20080044933A1. Автор: Chih-Chiang Lin. Владелец: Wintek Corp. Дата публикации: 2008-02-21.

Method for forming matching table of inner pads and outer pads and method for matching inner pads with outer pads using the same

Номер патента: US7793246B2. Автор: Chih-Chiang Lin. Владелец: Wintek Corp. Дата публикации: 2010-09-07.

Multilayer pads and methods of manufacture employing thermal bonding

Номер патента: US9051669B2. Автор: Marilyn S. Woods,James M. Woods. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-06-09.

Method for estimating a braking force applicable between pad and brake disc by an electric parking-braking system of a vehicle and electric parking-braking system of a vehicle implementing such method

Номер патента: EP3658429B1. Автор: Sergio Matteo Savaresi,Simone Formentin,Alfonso Tarantini,Gianmarco Rallo,Stefano Dossi,Giulio CALAMAI. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2022-08-24.

Method for manufacturing friction material of brake pad and apparatus thereof

Номер патента: KR100813498B1. Автор: 김용웅. Владелец: 주식회사 한국베랄. Дата публикации: 2008-03-13.

Method for for manufacturing reinforcing fabric for a transmission belt

Номер патента: EP3263947B1. Автор: Toshihiro Nishimura,Taisuke Kimura,Masakuni Yoshida. Владелец: Mitsuboshi Belting Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Treated fabric for padding, method and device for manufacturing thereof

Номер патента: KR101262937B1. Автор: 박동운. Владелец: 주식회사 풍신레포츠. Дата публикации: 2013-05-09.

Method for determining shape of via hole reverse pad and printed circuit board

Номер патента: CN111050493B. Автор: 孙跃. Владелец: ZTE Corp. Дата публикации: 2022-10-11.

METHOD FOR MAKING METAL PATTERNS IN RELIEF ON A VARNISHED AND POLISHED SURFACE

Номер патента: FR2661136A1. Автор: Rousset Michel. Владелец: FRAPORLUX SA. Дата публикации: 1991-10-25.

Diamond polishing pad caddy

Номер патента: US8091705B1. Автор: David L. McCutchen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-01-10.

Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet, polishing member, and surface plate with polishing pad

Номер патента: US20220195258A1. Автор: Tadashi Abe. Владелец: Toyochem Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Method for manufacturing can contianer and manufacturing apparatus

Номер патента: US20240317456A1. Автор: Rio Miyashita,Masahiro Shiotani. Владелец: Daiwa Can Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Protection pad and method for manufacturing the same

Номер патента: WO2009035888A2. Автор: Weilai Jiang. Владелец: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY. Дата публикации: 2009-03-19.

Device for making hollow concrete products, a method for making hollow concrete products and a hollow concrete structure

Номер патента: RU2769634C1. Автор: Виктор Юрьевич Шмаков. Владелец: Виктор Юрьевич Шмаков. Дата публикации: 2022-04-04.

Device and method for manufacturing packages with welded seam along perimeter

Номер патента: RU2763229C2. Автор: Клаус ШУМАНН,Рольф БЁМ,Торстен ГРУНЕНБЕРГ,Бернд ГРЮНЕС,Маркус БЕЕ,Анна ШЛЮТЕР. Владелец: Лтс Ломанн Терапи-Системе Аг. Дата публикации: 2021-12-28.

Method and apparatus for manufacturing a suspension pad and corresponding suspension pad

Номер патента: WO2008095732A1. Автор: Olivier Vanthournout. Владелец: L&P SWISS HOLDING AG. Дата публикации: 2008-08-14.

Method for manufacturing a brake pad preform and a brake pad, and related brake pad

Номер патента: EP4405314A1. Автор: Massimo Rosa,Omar Cividini. Владелец: Brembo SpA. Дата публикации: 2024-07-31.

Apparatus and method for manufacturing of suction layer for prosthesis

Номер патента: RU2263489C2. Автор: Хильмар ЯНУССОН,Фрейгароур ТОРСТЕЙНССОН,Сигуроур А. АСГЕЙРССОН,Пальми ЭЙНАРССОН. Владелец: Оссур, Инк.. Дата публикации: 2005-11-10.

Granular material, method for manufacturing the granular material and method for manufacturing sintered ore

Номер патента: RU2765680C1. Автор: Кэнта ТАКЭХАРА,Тэцуя ЯМАМОТО,Масато КУРОИВА,Наото КОБАЯСИ,Тэцуя ДЗИННО. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2022-02-01.

Device and a method for calibrating the irradiation system of the installation for manufacturing a three-dimensional product

Номер патента: RU2747975C1. Автор: Кристиан ТИЛЬ. Владелец: СЛМ Солюшенз Груп АГ. Дата публикации: 2021-05-18.

Composite piezomaterial and method for its manufacture

Номер патента: RU2751896C1. Автор: Александр Анатольевич Панич,Алексей Анатольевич Нестеров,Евгений Анатольевич Панич,Михаил Игоревич Толстунов,Любовь Александровна Дыкина. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Южный федеральный университет». Дата публикации: 2021-07-19.

Method for manufacturing transparent one-piece watch component

Номер патента: RU2571740C2. Автор: Ксавье ТЕНГЕЛИ,Кристиан ПОФФЕ,Филипп ГЕХТЕР. Владелец: Эта Са Мануфактюр Орложэр Сюис. Дата публикации: 2015-12-20.

Method for manufacture of floor panel from two different wood materials

Номер патента: RU2351722C2. Автор: Мартин ШТАЙНВЕНДЕР,Штефан ПЛЕТЦЕР,Вальтер ШИГЛЬ. Владелец: Е.Ф.П. Флор Продактс Фусбеден Гмбх. Дата публикации: 2009-04-10.

Method and device for manufacturing wearable article

Номер патента: US20240262648A1. Автор: Takashi Arima. Владелец: Zuiko Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Printed circuit board and method for manufacturing the same

Номер патента: US12133329B2. Автор: Su Min SONG. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Device for aseptic storage and method for manufacture and assembly thereof

Номер патента: RU2684373C2. Автор: Роберто Консоларо,Анджело Консоларо,Раджив КАББУР. Владелец: Бреветти Анджела С.Р.Л.. Дата публикации: 2019-04-08.

Method for manufacturing parts of complex shape by hybrid casting-additive method

Номер патента: RU2752359C1. Автор: Виктор Борисович Федоров,Виктор Иванович Гузеев,Антон Дмитриевич Казанский. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)». Дата публикации: 2021-07-26.

Preparation of lenses with elements for manufacturing of ophtalmological lens

Номер патента: RU2630103C2. Автор: Кристофер УАЙЛДСМИТ,Марк П. ПАУЭЛЛ,Майкл УИДМЭН. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2017-09-05.

Method for manufacturing the absorbent component and method for manufacturing the absorbent product

Номер патента: RU2750537C1. Автор: Томоюки МОТЕГИ,Рюдзи МАЦУНАГА,Такуаки ХАРАДА,Юки КАТО,Хироюки ИВАСА. Владелец: КАО КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2021-06-29.

Method for making magnetizable core with winding for electric machine (variants), magnetizable core manufactured using said method, with winding, and also an electric machine with core manufactured by said method, with winding

Номер патента: RU2267215C2. Автор: Клаус ПФЛЮГЕР,Хельмут КРОЙЦЕР,Эберхард РАУ,Адам ВИЛЛЬМОТТ,Алан ФАССИ,Уилль мс НЕЙЛ,Уилльямс НЕЙЛ,Мартин ХЕННЕ. Владелец: Роберт Бош Гмбх. Дата публикации: 2005-12-27.

Method for manufacture of hollow vane for gas-turbine engine

Номер патента: RU2349437C2. Автор: Ален ЛОРЬЕ,Даниель Гастон ЛОММ,Жан-Пьер ФЕРТЕ,Жан-Мишель Патрик Морис ФРАНШЭ. Владелец: Снекма Мотер. Дата публикации: 2009-03-20.

Method for manufacturing high-frequency printed circuit boards

Номер патента: RU2765105C1. Автор: Николай Владимирович Луконин,Сергей Анатольевич Толмачев,Андрей Глебович Масанов,Вадим Юрьевич Изотов,Владимир Сергеевич Катышев. Владелец: Акционерное общество «Информационные спутниковые системы» имени академика М.Ф.Решетнёва». Дата публикации: 2022-01-25.

Counterfeit-proof paper, method and apparatus for manufacturing the same

Номер патента: RU2315832C2. Автор: Тео Бурхард,Михаэль БЁМ,Хорст РАЙГЛЬ. Владелец: Гизеке Унд Девриент Гмбх. Дата публикации: 2008-01-27.

Method for manufacturing joints of connections of hull structures made of polymer composite materials (pcm)

Номер патента: RU2648432C1. Автор: Сергей Дмитриевич Козлов,Антон Владимирович Веденецкий,Николай Николаевич Федонюк,Алексей Владимирович Блинов,Дмитрий Юриевич Соосаар,Марина Владимировна Бирюкова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Крыловский государственный научный центр" (ФГУП "Крыловский государственный научный центр"). Дата публикации: 2018-03-27.

Device and method for manufacturing blanks of thermoplastic bags for vacuum cleaners

Номер патента: RU2659047C1. Автор: Владимир Евгеньевич Зарецкий. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Топ-маркет". Дата публикации: 2018-06-27.

Method for manufacturing metal-plastic tooling and a device for its implementation

Номер патента: RU2759368C1. Автор: Сергей Витальевич Мартыненко,Хакимжан Хамазанович Байков,Виталий Валерьевич Пузанков,Юрий Александрович Гурин,Ольга Владимировна Райкова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственная корпорация "Уралвагонзавод" имени Ф.Э. Дзержинского". Дата публикации: 2021-11-12.

Method for application of coating on strips of metal-roll, production line for applying coating on strips of metal-roll

Номер патента: RU2664065C2. Автор: Дирк ХОЛЬШУМАХЕР,Андреас МЕШЕДЕ. Владелец: Тиссенкрупп Стил Юроп Аг. Дата публикации: 2018-08-14.

Method for manufacturing heat-resistant honeycomb three-layer structure

Номер патента: RU2764476C1. Автор: Валерий Семёнович Волков,Алексей Николаевич Корнейчук,Ирина Вячеславовна Кулагина,Сергей Алексеевич Чугунов. Владелец: Акционерное общество «Обнинское научно-производственное предприятие «Технология» им. А.Г.Ромашина». Дата публикации: 2022-01-17.

Method and device for manufacture of aerated food product and product manufactured with such method and device usage

Номер патента: RU2535260C2. Автор: Мелис АБИЛОВ,Шимон МАЦУРА,Тадеуш КЛАУС,Стефен ПИРСОН,Джули СИМОНСОН. Владелец: Крафт Фудз Ар Энд Ди, Инк.. Дата публикации: 2014-12-10.

Method for creating 3d object from materials with low adhesive strength to each other, and device for its implementation

Номер патента: RU2751442C1. Автор: Рамиль Наилевич Кашапов,Наиль Фаикович Кашапов,Рустам Ринатович Фарахов. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Казанский (Приволжский) федеральный университет" (ФГАОУ ВО КФУ). Дата публикации: 2021-07-13.

Device and method for manufacturing pressed brick workpieces

Номер патента: RU2761452C2. Автор: Лотар БАУЭРЗАХС. Владелец: Лангенштайн И Шеманн Гмбх. Дата публикации: 2021-12-08.

Method for manufacturing of acousto-optic device

Номер патента: RU2762515C1. Автор: Сергей Иванович Чижиков,Владимир Яковлевич Молчанов,Василий Викторович Гуров,Александр Ильич Чижиков. Владелец: Александр Ильич Чижиков. Дата публикации: 2021-12-21.

Method for manufacturing high-pressure vessel and apparatus for impregnating reinforcing material with binding agent for implementation thereof

Номер патента: RU2750827C1. Автор: Олег Станиславович Клюнин. Владелец: Олег Станиславович Клюнин. Дата публикации: 2021-07-05.

Method for manufacturing of shoe sole consisting of wearing part of sole containing vulcanizate, connected to polyurethane substrate, and composition used in this method

Номер патента: RU2318419C2. Автор: Лоренцо ЛОРЕНЦИН. Владелец: Мэйн Груп С.П.А.. Дата публикации: 2008-03-10.

Intermediate product for individual orthopedic insole and method for manufacturing individual orthopedic insole

Номер патента: RU2306118C2. Автор: Виктор Геннадьевич Процко,Эльмар Маисович Султанов,Заур Хамидович Хамоков,Сергей Владимирович Дронь. Владелец: Сергей Владимирович Дронь. Дата публикации: 2007-09-20.

Method for manufacturing pallet for vibrocompression

Номер патента: RU2640241C2. Автор: Валерий Егорович Керат,Полина Евгеньевна Керат. Владелец: Полина Евгеньевна Керат. Дата публикации: 2017-12-27.

Opening device, method for manufacturing such an opening device and packaging material for use in said method

Номер патента: RU2669275C2. Автор: Торбьерн АНДЕРССОН,Пер РЮДБЕРГ,Пер АНДЕРССОН,Пер ОЛЬССОН,Йеран ЙОХАНССОН,Маттиас ЛЕННАРТССОН. Владелец: ТЕТРА ЛАВАЛЬ ХОЛДИНГЗ ЭНД ФАЙНЭНС С.А.. Дата публикации: 2018-10-09.

Method for manufacturing hollow blade for turbine machines

Номер патента: RU2364486C2. Автор: Ален ЛОРЬЕ,Даниель Гастон ЛОММ,Стефан Андре ЛЁВЕК. Владелец: Снекма Мотер. Дата публикации: 2009-08-20.

Method for manufacturing contactless chip-card and chip-card

Номер патента: RU2291484C2. Автор: Петер Штампка,Франк ПЮШНЕР,Райнхард ПРОСКЕ,Андреас МЮЛЛЕР-ХИППЕР. Владелец: Серкл Смарт Кард Аг. Дата публикации: 2007-01-10.

Method for manufacture of bimetallic electrode by electroslag cladding

Номер патента: RU2661322C2. Автор: Николай Васильевич Шепелев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Новосибирский национальный исследовательский государственный университет" (Новосибирский государственный университет, НГУ). Дата публикации: 2018-07-13.

Method for manufacture of mineral fiber panel containing one or more cavities of predetermined shape

Номер патента: RU2265091C2. Автор: Оле Легтольт ПЕДЕРСЕН. Владелец: РОКВУЛ ИНТЕРНЭШНЛ А/С. Дата публикации: 2005-11-27.

Sound absorbing material and method for manufacture thereof

Номер патента: RU2667584C2. Автор: Кеун Йоунг КИМ,Вон Дзин СЕО. Владелец: Хендэ Мотор Компани. Дата публикации: 2018-09-21.

Method for manufacturing package with increased barrier properties

Номер патента: RU2756338C2. Автор: Дмитрий Викторович Савельев. Владелец: Дмитрий Викторович Савельев. Дата публикации: 2021-09-29.

Surgical implant for repairing tissue or muscle wall defects, method for manufacture of raised areas in implant and method for production of implant

Номер патента: RU2670683C9. Автор: Йорг ПРИВЕ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Медикал Гмбх. Дата публикации: 2018-12-13.

Surgical implant for repairing tissue or muscle wall defects, method for manufacture of raised areas in implant and method for production of implant

Номер патента: RU2670683C2. Автор: Йорг ПРИВЕ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Медикал Гмбх. Дата публикации: 2018-10-24.

Steel material for main pipes, method for its production and method for manufacturing the main pipe

Номер патента: RU2747774C1. Автор: Томоюки ЁКОТА,Кёно ЯСУДА,Акихико ТАНИДЗАВА,Рюдзи МУРАОКА,Кадзукуни ХАСЭ. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2021-05-13.

Insulated structure for tank and method for manufacture thereof

Номер патента: RU2676630C2. Автор: Марк ЭЛЬБИНГ,Нильс МОМАЙЕР,Бернд ФРИККЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2019-01-09.

Method for manufacturing brush head using molded bundle holder and support plate, as well as brush head

Номер патента: RU2770726C2. Автор: Флориан КОПЕЙНИГ,Михаэль МАЙДЛЬ,Мартин ВАРХ. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2022-04-21.

Method for manufacturing a handle

Номер патента: RU2676112C2. Автор: Карл-Олоф ХОЛМ,Йоуни РИИКОНЕН. Владелец: Фискарс Финлэнд Ой Аб. Дата публикации: 2018-12-26.

Method for manufacturing thin-film tunnel junctions by the method of separate lithography

Номер патента: RU2757762C1. Автор: Михаил Александрович Тарасов,Артем Михайлович Чекушкин,Александра Анатольевна Гунбина,Михаил Юрьевич Фоминский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова Российской академии наук. Дата публикации: 2021-10-21.

Polishing pad cleaning composition and polishing pad cleaning method

Номер патента: JP4945857B2. Автор: 雅幸 服部,民智明 安藤,信夫 川橋. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-06-06.

Method for manufacturing a high-bulk bio-pad and high-bulk bio-pad manufactured by the same

Номер патента: KR101999929B1. Автор: 김동성,성용주. Владелец: 충남대학교산학협력단. Дата публикации: 2019-07-12.

Method for manufacturing a cellulose or cotton pad and pad obtained by this method

Номер патента: CH613114A5. Автор: Ulrich Hochstrasser. Владелец: Baumgartner Papiers Sa. Дата публикации: 1979-09-14.

Method for manufacturing magnetic-disk substrate, method for manufacturing magnetic disk, raw material for polishing pad, and method for manufacturing substrate

Номер патента: MY182511A. Автор: Yuji YAMASHIRO,Takumi Kuhara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2021-01-25.

Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate

Номер патента: MY178448A. Автор: Ken Tamura,Junpei Fukada. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-13.

Sleeper pad and method for its manufacture, construction of railway sleeper with sleeper pad fixed in it and method for connecting sleeper pad with railway sleeper

Номер патента: RU2756929C1. Автор: Андрей Александрович Смирнов,Александр Владимирович Замуховский,Александр Владимирович Шутько,Никита Александрович Терентьев,Марина Дмитриевна Лимонова. Владелец: Камарян Хачатур Оганесович. Дата публикации: 2021-10-07.

Method for manufacturing magnetic-disk substrate and magnetic-disk substrate

Номер патента: MY178489A. Автор: Yoshihiro Tawara. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2020-10-14.

Method for manufacturing a spectacle-glass for myopes

Номер патента: CA1263013A. Автор: Lars Hellström. Владелец: Optimed Nv. Дата публикации: 1989-11-21.

Joining method for optical part

Номер патента: US20190315646A1. Автор: Yasushi Tanno. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2019-10-17.

Method for manufacturing bristle arrangements, and device for manufacturing bristle arrangements

Номер патента: US20160015162A1. Автор: Ingo Kumpf. Владелец: ZAHORANSKY AG. Дата публикации: 2016-01-21.

Method for manufacturing bristle arrangements, and device for manufacturing bristle arrangements

Номер патента: US09986816B2. Автор: Ingo Kumpf. Владелец: ZAHORANSKY AG. Дата публикации: 2018-06-05.

Keyboard and method for manufacturing the same

Номер патента: US20040159226A1. Автор: Jung-O Koo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Keyboard and method for manufacturing the same

Номер патента: US7034219B2. Автор: Jung-O Koo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-04-25.

Method for manufacturing metal-ceramic dentures

Номер патента: RU2753135C1. Автор: Рамиль Наилевич Кашапов,Наиль Фаикович Кашапов,Ленар Наилевич Кашапов,Гульшат Тауфиковна Салеева,Ринат Ахмедуллович Салеев,Ляйсан Ринатовна Салеева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Казанский Государственный медицинский университет" Министерства здравоохранения Российской Федерации. Дата публикации: 2021-08-11.

Blank for manufacturing test system for express diagnostics of helicobacter pylori infection by urease activity of biopsy material and method for manufacturing test system

Номер патента: RU2630651C9. Автор: Евгений Матвеевич Аксенов,Вадим Сергеевич Дмитриенко,Андрей Игоревич Киреев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ассоциация Медицины и Аналитики" (ООО "АМА"). Дата публикации: 2017-10-30.

Blank for manufacturing test system for express diagnostics of helicobacter pylori infection by urease activity of biopsy material and method for manufacturing test system

Номер патента: RU2630651C1. Автор: Евгений Матвеевич Аксенов,Вадим Сергеевич Дмитриенко,Андрей Игоревич Киреев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Ассоциация Медицины и Аналитики" (ООО "АМА"). Дата публикации: 2017-09-11.

Method for manufacturing filtering rods from a pla bundle with low resistance to draw for reducing the smoking temperature

Номер патента: RU2761996C1. Автор: Тао ЯН,Цзыган ЯН,Синьлэй ФАНЬ,Ляньлун ЛЭЙ. Владелец: Юньнань Тобэкко Биолоджикал Текнолоджи Ко., Лтд. Дата публикации: 2021-12-14.

Door frame plat band, method for manufacturing door frame plat band, workpiece for implementing the method

Номер патента: RU2749947C1. Автор: Евгений Валерьевич Макаров. Владелец: Евгений Валерьевич Макаров. Дата публикации: 2021-06-21.

Zirconium base alloy and method for manufacturing fuel-assembly element for nuclear reactor from this alloy

Номер патента: RU2261487C2. Автор: Даниель ШАРКЕ,Жан-Поль МАРДОН,Жан СЕНЕВА. Владелец: Фраматом Анп. Дата публикации: 2005-09-27.

Method and system for manufacturing multi-segment tobacco products

Номер патента: RU2748505C2. Автор: Кшиштоф СТОЛЯРСКИ. Владелец: Интернэшнл Тобакко Машинери Поланд Сп. з о.о.. Дата публикации: 2021-05-26.

Composite oral appliances and methods for manufacture

Номер патента: US09668827B2. Автор: Henry D. Cross, Iii,Jon D. Kittelsen,Paul C. Belvedere,Robert C. Molhoek,Paul A. Broadbent,Paul L. Bradshaw,William L. Ballanoff,Mark Roettger. Владелец: Bite Tech Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Touch panel and method for manufacturing the same

Номер патента: US09612694B2. Автор: Teng-Fu Tung. Владелец: AU OPTRONICS CORP. Дата публикации: 2017-04-04.

Method for manufacture of water-repelling catalyst for fuel-cell elements

Номер патента: RU2572106C1. Автор: Владимир Иванович Матренин,Игорь Викторович Щипанов,Анатолий Тихонович Овчинников,Сергей Ильич Хозяшев,Олег Всеволодович Чумаковский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Завод электрохимических преобразователей" (ООО "ЗЭП"). Дата публикации: 2015-12-27.

Method for manufacturing a smoking product

Номер патента: RU2771509C1. Автор: Норио ЯМАМОТО,Риодзи Фудзита,Кадзухико КАТАЯМА,Такеси Синкава. Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2022-05-05.

Smoking product and method for smoking product manufacture

Номер патента: RU2542548C2. Автор: ФИБЕЛКОРН Ричард,КАЛДЖУРА Карл,НАППИ Леонардо. Владелец: Бритиш Америкэн Тобэкко (Инвестментс) Лимитед. Дата публикации: 2015-02-20.

Method for manufacture of tobacco fabric, method for manufacture of cigarettes containing tobacco fabric and cigarette

Номер патента: RU2475168C1. Автор: Мицухару СУГИО,Суити МИЯЗАВА,Таканори ЯГАСИРА. Владелец: Джапан Тобакко Инк.. Дата публикации: 2013-02-20.

Method for manufacturing self-supporting metal mesh structures for selection of electromagnetic emission

Номер патента: RU2764017C1. Автор: Александр Николаевич Генцелев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт Ядерной Физики им. Г.И. Будкера Сибирского отделения (ИЯФ СО РАН). Дата публикации: 2022-01-12.

Netted web of papermaking machine for manufacture of paper with thread-marks and method for manufacture of such a netted web

Номер патента: RU2300596C2. Автор: Карлхайнц МАЙЕР,Виттих КАУЛЕ,Томас ГЕРХАРДТ,Гюнтер ВИЛЬД,Бернд ШТУМБЕКК,Вольфганг ВЕНЗАУЕР,Андреас АИГНЕР,Виттих КАУЛЕ (DE),Карлхайнц МАЙЕР (DE),Бернд ШТУМБЕКК (DE),Вольфганг ВЕНЗАУЕР (DE),Гюнтер ВИЛЬД (DE),Томас ГЕРХАРДТ (DE),Андреас АИГНЕР (DE). Владелец: Гизеке Унд Девриент Гмбх. Дата публикации: 2007-06-10.

METHOD FOR MANUFACTURING OF COMPOSITE SUPERCONDUCTING WIRE BASED ON Nb3Sn COMPOSITION AND PRODUCTION LINE FOR MANUFACTURING OF COMPOSITE SUPERCONDUCTING WIRE BASED ON Nb3Sn COMPOSITION

Номер патента: RU2559803C2. Автор: Александр Константинович Шиков,Дмитрий Константинович Фигуровский,Александра Евгеньевна Воробьёва,Ильдар Мансурович Абдюханов,Елена Александровна Дергунова,Евгений Васильевич Никуленков,Мансур Нурахметович Насибулин,Надежда Викторовна Трактирникова. Владелец: Акционерное общество "Высокотехнологический научно-исследовательский институт неорганических материалов имени академика А.А. Бочвара". Дата публикации: 2015-08-10.

Method for manufacture of products for children alimentation

Номер патента: RU2472399C2. Автор: Франк ВЕБЕР,Мартинас КУСЛЮС,Саймон ХУТШЕНРОЙТЕР,Томас РЕДЛЕР,Хуберт РАЙНЛЬ. Владелец: НЕСТЕК С.А.. Дата публикации: 2013-01-20.

Method for manufacturing confectionery product

Номер патента: RU2670011C1. Автор: Александр Иванович Максимов. Владелец: Александр Иванович Максимов. Дата публикации: 2018-10-17.

Gypsum slurry, hardened gypsum, gypsum-based building material, gypsum board, process for manufacturing gypsum slurry, process for manufacturing hardened gypsum, process for manufacturing gypsum-based building material, and process for manufacturing gypsum board

Номер патента: RU2655722C1. Автор: Кен ВАТАНАБЕ,Юдзи АТАКА. Владелец: Йосино Джипсум Ко., Лтд.. Дата публикации: 2018-05-29.

Component of tobacco industry product and method for manufacturing component of tobacco industry product

Номер патента: RU2764977C1. Автор: Пол ЛЬЮИС,Мэттью ХЕСФОРД,Эндрю БЕРТОН,Ян КИНГ,Сачин ПАТЕЛ,Райан ВЕЛД,Джереми КЛЕМЕНТС. Владелец: Бритиш Америкэн Тобэкко (Инвестментс) Лимитед. Дата публикации: 2022-01-24.

Method and device for manufacture of objects that have optimised response characteristics

Номер патента: RU2343527C2. Автор: ВИЛЛЕ Джеймс А. СТ.. Владелец: ВИЛЛЕ Джеймс А. СТ.. Дата публикации: 2009-01-10.

Heat exchange element, method for its manufacture and device for its implementation

Номер патента: RU2759309C1. Автор: Эдуард Аркадьевич Петровский,Олег Александрович Коленчуков. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский федеральный университет". Дата публикации: 2021-11-11.

Methods and systems for providing training data for manufacturing processes

Номер патента: EP4432024A1. Автор: Murat Samil Aslan. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2024-09-18.

Composite oral appliances and methods for manufacture

Номер патента: US20140026896A1. Автор: Henry D. Cross, Iii,Jon D. Kittelsen,Paul C. Belvedere,Robert C. Molhoek,Paul A. Broadbent,Paul L. Bradshaw,William L. Ballanoff,Mark Roettger. Владелец: Bite Tech Inc. Дата публикации: 2014-01-30.

Production line for manufacture of a food extruded product and a method for production of a food extruded product

Номер патента: RU2723718C1. Автор: Николай Владимирович Семенякин. Владелец: Николай Владимирович Семенякин. Дата публикации: 2020-06-17.

Method for breadboarding large-sized three-dimensional objects from foam plastic

Номер патента: RU2629153C1. Автор: Сергей Магомедович Кадиев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.). Дата публикации: 2017-08-24.

Method for manufacture of toys, puppets, decorative sculptures and other spatial art objects using mechanical and thermoplastic processing of sheets of expanded polyethylene

Номер патента: RU2660780C2. Автор: Николай Федорович Герасимиди. Владелец: Николай Федорович Герасимиди. Дата публикации: 2018-07-09.

Composition for manufacture of paper and method for increasing extent of retention and/or dehydration in the same

Номер патента: RU2317361C2. Автор: Марко ПОЛВЕРАРИ,Джозеф ВУ,Дэвид ЭСТОН. Владелец: Кемира Кэмикалс Кэнеда Инк.. Дата публикации: 2008-02-20.

Semiconductor resistive sensors manufacturing methods for the ozone in the air content measurements

Номер патента: RU2665348C2. Автор: Александр Константинович Аветисов,Марина Петровна Дмитриева,Людмила Алексеевна Обвинцева,Татьяна Борисовна Шарова,Ирина Петровна Сухарева. Владелец: Акционерное общество "Ордена Трудового Красного Знамени Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова" (АО "НИФХИ им. Л.Я. Карпова"). Дата публикации: 2018-08-29.

Method for manufacturing magnesium silicate propant and its composition

Номер патента: RU2742572C1. Автор: Павел Геннадьевич Русинов,Алексей Владимирович Балашов,Валерий Матвеевич Погребенков,Татьяна Викторовна Вакалова,Дмитрий Иванович Баламыгин. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Ника-Петротэк". Дата публикации: 2021-02-08.

Method for manufacturing a bimetallic turbine impeller

Номер патента: RU2766654C1. Автор: Александр Сергеевич Никитин,Любовь Александровна Магеррамова,Евгений Павлович Кратт,Валентин Васильевич Ясинский,Георгий Борисович Ремпель. Владелец: Акционерное общество "Объединенная двигателестроительная корпорация" (АО "ОДК"). Дата публикации: 2022-03-15.

Method for manufacturing osteosynthesis devices, osteosynthesis devices and implants made of semi-synthetic hybrid material obtained by structural modification of components of a natural marine biomaterial

Номер патента: RU2669926C2. Автор: Жорж КАМПРАС,Серж КАМПРАС. Владелец: Мбп (Моришес) Лтд. Дата публикации: 2018-10-17.

Method for manufacturing fraud-proof paper (versions) and fraud-proof paper (versions)

Номер патента: RU2344219C1. Автор: Андрей Борисович Курятников,Аркадий Владимирович Трачук,Александр Георгиевич Писарев,Елена Самуиловна Туркина,тников Андрей Борисович Кур,Борис Петрович Борисов,Игорь Михайлович Петров,пушкин Петр Александрович Стр,Петр Александрович Стряпушкин,Сергей Иванович Чернышов,Валерий Анатольевич Витвинин,Станислав Глебович Ермаков,Михаил Анатольевич Остреров,Олег Станиславович Бусырев. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак"). Дата публикации: 2009-01-20.

Method for manufacturing a flexible humidity sensor

Номер патента: RU2764380C1. Автор: Петр Петрович Шарин,Светлана Афанасьевна Смагулова,Захар Иванович Евсеев,Данил Валериевич Николаев. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Северо-Восточный федеральный университет имени М.К.Аммосова". Дата публикации: 2022-01-17.

Method and device for manufacturing pelletized fuel for fuel elements (alternatives)

Номер патента: RU2293379C2. Автор: Константин Юрьевич Вергазов,Евгений Александрович Филиппов,Игорь Геннадьевич Чапаев,Александр Михайлович Лузин,Владимир Дмитриевич Бачурин. Владелец: Открытое акционерное общество "Новосибирский завод химконцентратов". Дата публикации: 2007-02-10.

Device and method for manufacturing and/or improving quality of treatment of fibrous linen

Номер патента: RU2364672C2. Автор: Райнер КЛОИБХОФЕР,Кристоф ХААЗЕ,Томас ГРУБЕР-НАДЛИНГЕР,Херберт БОДЕН,Эрих РОЛЛЕНИТЦ,Манфред ГЛОЗЕР. Владелец: ФОЙТ ПАТЕНТ ГМБХ. Дата публикации: 2009-08-20.

Method for manufacturing a stretching element from composite material and a device for manufacturing

Номер патента: RU2744421C2. Автор: Кендзи Кобаяси,Ацуси ИВАСАКИ. Владелец: КАО КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2021-03-09.

Method for manufacturing anisotropic single-mode fiber-optic guides

Номер патента: RU2764240C1. Автор: Михаил Артемьевич Ероньян,Александр Алексеевич Унтилов,Александр Александрович Реуцкий. Владелец: Акционерное общество "Концерн "Центральный научно-исследовательский институт "Электроприбор". Дата публикации: 2022-01-14.

Ball valve of composite materials and method for its manufacture

Номер патента: RU2628827C1. Автор: Александр Алексеевич Кульков,Николай Степанович Норкин,Аркадий Витальевич Пашутов,Анатолий Николаевич Базарко. Владелец: Открытое акционерное общество Центральный научно-исследовательский институт специального машиностроения. Дата публикации: 2017-08-22.

Method for manufacturing dry mixture for children nutrition

Номер патента: RU2272536C2. Автор: Олег Иванович Квасенков,Владимир Дмитриевич Надыкта,Муслимат Юнусовна Яхутль,Кирилл Викторович Чередниченко,Людмила Владимировна Донченко,Людмила Яковлевна Родионова. Владелец: Кубанский государственный аграрный университет. Дата публикации: 2006-03-27.

Method for manufacturing a container for explosives

Номер патента: RU2744060C1. Автор: Василий Степанович Бессмертный,Наталья Михайловна Здоренко,Дмитрий Владимирович Кочурин,Олег Владимирович Пучка,Марина Алексеевна Бондаренко,Андрей Викторович Черкасов,Екатерина Михайловна Бурьянова. Владелец: Автономная некоммерческая организация высшего образования "Белгородский университет кооперации, экономики и права". Дата публикации: 2021-03-02.

Method for manufacturing dry mixture for children nutrition

Номер патента: RU2272537C2. Автор: Олег Иванович Квасенков,Владимир Дмитриевич Надыкта,Муслимат Юнусовна Яхутль,Кирилл Викторович Чередниченко,Людмила Владимировна Донченко,Людмила Яковлевна Родионова. Владелец: Кубанский государственный аграрный университет. Дата публикации: 2006-03-27.

Methods for introducing flavoring substances into collagen shells

Номер патента: RU2769984C2. Автор: Юджин ГОЛДФЭРБ,Дэвид Мэтьюз,Стивен ХЭТЧ,Масанори КИСИМОТО. Владелец: ВИСКОФЭН КОЛЛАГЕН ЮЭсЭЭй ИНК.. Дата публикации: 2022-04-12.

High-strength steel having excellent low-temperature viscosity and excellent viscosity in thermally affected zone of welding joint (options), method for manufacturing such steel, method for manufacturing sheet from indicated steel, high-strength steel tube (option), and a method for manufacturing high-strength steel tube

Номер патента: RU2258762C2. Автор: Такуя ХАРА,Хитоси АСАХИ,Таку ХАРА (JP),Хитоси АСАХИ (JP). Владелец: Ниппон Стил Корпорейшн. Дата публикации: 2005-08-20.

Method for manufacturing the surfaces of the assembly body of the coffin, the surface manufactured by the described method, and the body of the coffin with the group of the specified surfaces

Номер патента: RU2746455C2. Автор: Кристос МИКАЛАКОС,Фотиос КУТРОПУЛОС,Каралабос МИКАЛАКОС. Владелец: Каралабос МИКАЛАКОС. Дата публикации: 2021-04-14.

Method of Regenerating a Polishing Pad Using a Polishing Pad Sub Plate

Номер патента: US20120003903A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: Toho Engineering. Дата публикации: 2012-01-05.

High-rate cmp polishing method

Номер патента: MY201106A. Автор: John Vu Nguyen Mr,Tony Quan Tran Mr,Jeffrey James Hendron Mr,Jeffrey Robert Stack Mr. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2024-02-06.

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Номер патента: US20120003823A1. Автор: Sasaki Makoto,NISHIGUCHI Taro,HARADA Shin,Okita Kyoko,Namikawa Yasuo. Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

POLISHING PAD AUXILIARY PLATE AND POLISHING DEVICE EQUIPPED WITH POLISHING PAD AUXILIARY PLATE

Номер патента: US20130029566A1. Автор: SUZUKI Eisuke,SUZUKI Tatsutoshi. Владелец: TOHO ENGINEERING KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2013-01-31.

Detection device and method for surface structure of a polishing pad dresser

Номер патента: TW200826173A. Автор: Chien-Min Sung,Ying-Yung Chen,Choung-Lii Chao. Владелец: Choung-Lii Chao. Дата публикации: 2008-06-16.

Polishing pad fixing tape and polishing pad

Номер патента: JP6372662B2. Автор: 智浩 岩尾. Владелец: Fujibo Holdins Inc. Дата публикации: 2018-08-15.

Polishing pad manufacturing method and polishing pad

Номер патента: CN102211319A. Автор: 冯崇智,姚伊蓬,王良光,洪永璋. Владелец: San Fang Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-10-12.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP4697399B2. Автор: 浩司 志保,隆浩 岡本,裕之 宮内. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-06-08.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing method

Номер патента: JP4645825B2. Автор: 浩司 志保,秀樹 西村,幸生 保坂,裕之 田野. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2011-03-09.

Polishing pad and semiconductor wafer polishing method

Номер патента: JP4606733B2. Автор: 雅彦 中森,哲生 下村,孝敏 山田,一幸 小川,公浩 渡邉,淳 数野. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2011-01-05.

Chemical mechanical polishing device and polishing pad thereof and method for planarization

Номер патента: TW200713440A. Автор: Wen-Shan Lin,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Chin-Yung Liu,Chien-Fu Chu,Chia Yuan Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2007-04-01.

Polishing pad for CMP and polishing apparatus using the same

Номер патента: JP3229986B2. Автор: 彰 石川. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2001-11-19.

Polishing pad for CMP and polishing method using the same

Номер патента: JP4563025B2. Автор: 雅彦 中森,哲生 下村,孝敏 山田,一幸 小川,淳 数野,毅 木村. Владелец: Toyo Tire and Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2010-10-13.

Polishing pad arranging device and polishing device

Номер патента: CN203426856U. Автор: 唐强,张溢钢. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Beijing Corp. Дата публикации: 2014-02-12.

Method for production of triticale grain groats (similar to pearl barley)

Номер патента: RU2537528C2. Автор: Станислав Олегович Смирнов,Сергей Александрович Урубков. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт зерна и продуктов его переработки Россельхозакадемии (ГНУ ВНИИЗ Россельхозакадемии). Дата публикации: 2015-01-10.

Method for manufacturing silicon carbide blade material for grinding and polishing sapphire and special grading device

Номер патента: CN102530944B. Автор: 杨东平. Владелец: HENAN XINGSHI HIGH&NEW TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-04.

Controlled residence cmp polishing method

Номер патента: MY202290A. Автор: John Vu Nguyen Mr,Tony Quan Tran Mr,Jeffrey James Hendron Mr,Jeffrey Robert Stack Mr. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2024-04-22.

Polishing method, polishing apparatus and GaN wafer

Номер патента: US20120001193A1. Автор: YAMAUCHI Kazuto,Sano Yasuhisa,MURATA Junji,YAGI Keita,Sadakuni Shun. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Uniform cmp polishing method

Номер патента: MY201367A. Автор: John Vu Nguyen Mr,Tony Quan Tran Mr,Jeffrey James Hendron Mr,Jeffrey Robert Stack Mr. Владелец: Rohm & Haas Elect Materials Cmp Holdings Inc. Дата публикации: 2024-02-20.

Improvements in Holders for Polishing Pads and the like.

Номер патента: GB190412316A. Автор: Charles Berry Hammerton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1905-03-30.

Improvements in Knife Cleaning and Polishing Machines.

Номер патента: GB190204785A. Автор: Henry Allen Pryor,Herbert Lawson. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-02-25.

A New Polishing Pad

Номер патента: GB190212809A. Автор: Thomas Wild,Harry Barton. Владелец: Individual. Дата публикации: 1903-05-14.

Improvements in Polishing Pads for Boots, Shoes and the like.

Номер патента: GB190319241A. Автор: . Владелец: S D Page & Sons Ltd. Дата публикации: 1904-07-14.

METHOD, SYSTEM AND MOLDING TOOL FOR MANUFACTURING COMPONENTS FROM COMPOSITE FIBER MATERIALS

Номер патента: US20120003480A1. Автор: BECHTOLD Michael,JUNG Manuel. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SENSOR AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME

Номер патента: US20120003776A1. Автор: Park Sang Hyuk. Владелец: Intellectual Ventures II LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Systems and Methods for Prevention of Open Loop Damage During or Immediately After Manufacturing

Номер патента: US20120000515A1. Автор: Kikinis Dan,Hadar Ron,Arditi Shmuel. Владелец: TIGO ENERGY, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Polishing pads useful in chemical mechanical polishing of substrates in the presence of a slurry containing abrasive particles

Номер патента: MY132791A. Автор: C Billings Scott,K Hsu Oscar,K Vangsness Jean,S Gilbride David. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2007-10-31.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001324A1. Автор: Watabe Hiroshi,AOKI Hideo,MUKAIDA Hideko,Fukuda Masatoshi,Koshio Yasuhiro. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

METHOD FOR MANUFACTURING A DROPLET DISCHARGE HEAD

Номер патента: US20120000595A1. Автор: Mase Atsushi,Shimizu Hideki,TANAKA Hidehiko. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

NANOPOROUS FILMS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000845A1. Автор: Park Han Oh,Kim Jae Ha,JIN Myung Kuk. Владелец: BIONEER CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

FLEXIBLE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001173A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING OF SAME

Номер патента: US20120001321A1. Автор: IMAMURA Tomomi,Natsuda Tetsuo,Nishijo Yoshinosuke. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING POWER STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003139A1. Автор: Kawakami Takahiro,Miwa Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

FLAME-RETARDANT POLY LACTIC ACID-CONTAINING FILM OR SHEET, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF

Номер патента: US20120003459A1. Автор: . Владелец: NITTO DENKO CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING ULTRA SMALL PARTICLE, POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL OF SECOND BATTERY USING THE METHOD FOR MANUFACTURING ULTRA SMALL PARTICLE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SECONDARY BATTERY USING THE POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003539A1. Автор: MIKAMI Mayumi,Nara Koji. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE

Номер патента: US20120003811A1. Автор: . Владелец: Sumitomo Electric Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING A DROPLET DISCHARGE HEAD

Номер патента: US20120003902A1. Автор: Mase Atsushi,Shimizu Hideki,TANAKA Hidehiko. Владелец: NGK Insulators, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING PASTE-TYPE ELECTRODE OF LEAD-ACID BATTERY AND APPARATUS THEREFOR

Номер патента: US20120000070A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method and Device for Manufacturing a Three-Layer Cord of the Type Rubberized in Situ

Номер патента: US20120000174A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING AMINO ACID LIQUID FERTILIZER USING LIVESTOCK BLOOD AND AMINO ACID LIQUID FERTILIZER MANUFACTURED THEREBY

Номер патента: US20120000260A1. Автор: Oh Jin Yeol. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITE GEAR BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120000307A1. Автор: Oolderink Rob,Nizzoli Ermanno,Vandenbruaene Hendrik. Владелец: QUADRANT EPP AG. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING NATURAL FIBER STRIPE-QUILTED FABRIC HAVING PROTRUDED WRINKLE PATTERNS ON ITS SURFACE

Номер патента: US20120000406A1. Автор: RYU Kwang Yeol. Владелец: DONG JIN BEDDING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Solar Cell And Method For Manufacturing Solar Cell

Номер патента: US20120000512A1. Автор: HASHIMOTO Masanori,SAITO Kazuya,SHIMIZU Miho. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods for Manufacturing a Vacuum Chamber and Components Thereof, and Improved Vacuum Chambers and Components Thereof

Номер патента: US20120000811A1. Автор: . Владелец: Kurt J. Lesker Company. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE WIRE FOR WIRE ELECTRICAL DISCHARGE MACHINING, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR ELECTRICAL DISCHARGE MACHINING USING THE SAME

Номер патента: US20120000889A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CONNECTING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING MATERIAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000965A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001180A1. Автор: Yoshizumi Kensuke,YOKOI Tomokazu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

LAYER HAVING FUNCTIONALITY, METHOD FOR FORMING FLEXIBLE SUBSTRATE HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120001181A1. Автор: AOKI Tomoyuki,Tsurume Takuya. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing thin film capacitor and thin film capacitor obtained by the same

Номер патента: US20120001298A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120001331A1. Автор: . Владелец: KABUSHI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SPARK PLUGS

Номер патента: US20120001532A1. Автор: Kyuno Jiro,Kure Keisuke. Владелец: NGK SPARK PLUG CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

DUST CORE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120001719A1. Автор: Oshima Yasuo,Handa Susumu,Akaiwa Kota. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRONIC DEVICE CASE HAVING ANTENNA PATTERN EMBEDDED THEREIN, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, MOLD FOR MANUFACTURING ANTENNA PATTERN FRAME, AND ELECTRONIC DEVICE

Номер патента: US20120001807A1. Автор: HONG Ha Ryong,Lee Dae Kyu,An Chan Gwang,Chang Ki Won,Cho Sung Eun,SUNG Jae Suk. Владелец: SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL PANEL, METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL PANEL, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT, AND TELEVISION RECEIVER

Номер патента: US20120001838A1. Автор: Tsubata Toshihide. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

Nozzle plate and method for manufacturing the nozzle plate, and inkjet printer head with the nozzle plate

Номер патента: US20120001986A1. Автор: Kim Young Jae. Владелец: SAMSUNG ELECTRO-MECHANICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLOGRAM RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HOLOGRAM REPRODUCTION APPARATUS, AND HOLOGRAM REPRODUCTION METHOD

Номер патента: US20120002257A1. Автор: Shirakura Akira,Baba Shigeyuki,Arai Toshiyuki,Higashihara Teruaki. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120002285A1. Автор: Matsuda Manabu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUSPENSION SUBSTRATE, SUSPENSION, HEAD SUSPENSION, HARD DISK DRIVE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUSPENSION

Номер патента: US20120002366A1. Автор: OHNUKI Masao,YAMAZAKI Tsuyoshi. Владелец: Dai Nippon Printing Co., Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

DECORATION FILM, DECORATION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION DEVICE

Номер патента: US20120003441A1. Автор: CHEN CHIA-FU. Владелец: SIPIX CHEMICAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

HOLLOW MEMBER AND AN APPARATUS AND METHOD FOR ITS MANUFACTURE

Номер патента: US20120003496A1. Автор: Tomizawa Atsushi,Kubota Hiroaki. Владелец: Sumitomo Metal Industries, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

ENERGY STORAGE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003535A1. Автор: Yamazaki Shunpei. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, CAPACITOR, BATTERY, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120003544A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE HAVING POROUS COATING LAYER, ELECTRODE MANUFACTURED THEREFROM, AND ELECTROCHEMICAL DEVICE COMPRISING THE SAME

Номер патента: US20120003545A1. Автор: Kim Jong-Hun,LEE Joo Sung,Hong Jang-Hyuk,Yoon Su-Jin,PARK Pil-kyu,Shin Byoung-Jin,Cho Byeong-Gyu,Jin Sun-Mi,Kim In-Chul. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING GALLIUM NITRIDE WAFER

Номер патента: US20120003824A1. Автор: Lee Ho-jun,KIM Yong-Jin,Lee Dong-Kun,Kim Doo-Soo,Lee Kye-Jin. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING SILICON OXIDE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120003842A1. Автор: Tanaka Yoshinobu,Ueda Hirokazu,Ohsawa Yusuke. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

MAGNESIUM DIBORIDE SUPERCONDUCTING WIRE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120004110A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Ink-pad and method for its manufacture

Номер патента: RU2172260C2. Автор: А.К. Козлов. Владелец: Открытое акционерное общество "Мастер штамп". Дата публикации: 2001-08-20.

METHOD FOR MANUFACTURING SCANDIUM ALUMINUM NITRIDE FILM

Номер патента: US20120000766A1. Автор: Kano Kazuhiko,Nishikubo Keiko,TESHIGAHARA Akihiko,AKIYAMA Morito,Tabaru Tatsuo. Владелец: Denso Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE SENSOR AND METHOD FOR MANUFACTURING AN IMAGE SENSOR

Номер патента: US20120001287A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, ANTIGLARE FILM, POLARIZER WITH OPTICAL LAYER, AND DISPLAY APPARATUS

Номер патента: US20120002282A1. Автор: Suzuki Ryo,Haga Yumi,Nagahama Tsutomu,Matsumura Shinichi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

DECORATION FILM, DECORATION DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DECORATION DEVICE

Номер патента: US20120003433A1. Автор: . Владелец: SIPIX CHEMICAL INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Apparatus for Manufacturing Thin Film Photovoltaic Devices

Номер патента: US20120003789A1. Автор: . Владелец: Stion Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING EMBEDDED SUBSTRATE

Номер патента: US20120003793A1. Автор: HWANG Sun-Uk,Cho Young-Woong,Yoon Kyoung-Ro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR REGION AND METHOD FOR MANUFACTURING POWER STORAGE DEVICE

Номер патента: US20120003807A1. Автор: SHIMAZU Takashi,FURUNO Makoto. Владелец: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

MEANS AND METHODS FOR MANUFACTURING HIGHLY PURE NEUROTOXIN

Номер патента: US20120004179A1. Автор: Taylor Harold Victor,Eisele Karl-Heinz,PFEIL Michael,Friedrich Josef,Brünn Cornelia. Владелец: Merz Pharma GmbH & Co. KGaA. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120000517A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Lead Frame and Method For Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001307A1. Автор: . Владелец: LG INNOTEK CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

FILLET WELD JOINT AND METHOD FOR GAS SHIELDED ARC WELDING

Номер патента: US20120003035A1. Автор: Suzuki Reiichi,Kinefuchi Masao,KASAI RYU. Владелец: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.). Дата публикации: 2012-01-05.

CASTING METHOD FOR MANUFACTURING A WORK PIECE

Номер патента: US20120003101A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003193A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003279A1. Автор: Burgess James E.,Smith Jason,Campbell Phil G.,Weiss Lee E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR INDUCING AN IMMUNE RESPONSE

Номер патента: US20120003298A1. Автор: Maj Roberto,Pattarino Franco,Mura Emanuela,Barberis Alcide. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Methods and Apparatus for Manufacturing Plasma Based Plastics and Bioplastics Produced Therefrom

Номер патента: US20120003324A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SQUARE-CELL BATTERY AND MANUFACTURING METHOD FOR SAME

Номер патента: US20120003528A1. Автор: Tani Yuji,Maeda Hitoshi,Fujiwara Masayuki,Shinyashiki Yoshitaka,Kusukawa Masao,Funahashi Atsuhiro. Владелец: SANYO ELECTRIC CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTICAL MODULATOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

Номер патента: US20120003767A1. Автор: . Владелец: NEC Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003781A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING METAL GATE STACK STRUCTURE IN GATE-FIRST PROCESS

Номер патента: US20120003827A1. Автор: Xu Qiuxia,Li Yongliang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacture of heat exchanging device, method of device heat exchanging unit manufacture (versions), method for manufacture of intermediate and/or upper heat exchanging unit of device, method for manufacture of lower heat exchanging unit of device, method for manufacture of device heat exchanging unit air supply or exhaust headers, technological complex of equipment for manufacture of device heat exchanging units, berth for assembly of device heat exchanging unit (versions) and device for vertical storage of mostly four-leg bend pipes of device (versions)

Номер патента: RU2344916C2. Автор: Николай Павлович Селиванов,Николай Павлович Селиванов (RU). Владелец: Николай Павлович Селиванов. Дата публикации: 2009-01-27.

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRIC WIRE WITH TERMINAL

Номер патента: US20120000069A1. Автор: Hirai Hiroki,Tanaka Tetsuji,Ono Junichi,Otsuka Takuji,Shimoda Hiroki,HAGI Masahiro. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FIBER PREFORM

Номер патента: US20120000249A1. Автор: HAMADA Takahiro. Владелец: FUJIKURA LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING PLASTIC LABELS WITH SELF-ADHESIVE PATTERN, AND ATTACHING SUCH LABELS TO A TIN

Номер патента: US20120000598A1. Автор: . Владелец: REYNDERS ETIKETTEN, NAAMLOZE VENNOOTSCHAP. Дата публикации: 2012-01-05.

Semiconductor Light Emitting Device and Method for Manufacturing the Same

Номер патента: US20120001202A1. Автор: Horng Ray-Hua. Владелец: NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR PRODUCING ANISOPTROPIC BULK MATERIALS

Номер патента: US20120001368A1. Автор: Filippov Andrey V.,Milia Charlotte Diane. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DISPLAY DEVICE FOR A VEHICLE AND METHOD FOR PRODUCING THE DISPLAY DEVICE

Номер патента: US20120002442A1. Автор: . Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR MANUFACTURING CAPSULE SERIES, AND RELATED CAPSULE SERIES

Номер патента: US20120003285A1. Автор: Bibette Jérôme,Chu Liang-yin,Santanach Carreras Enric,Royere Audrey,Bremond Nicolas. Владелец: CAPSUM. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for Preparing Small Volume Reaction Containers

Номер патента: US20120003675A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20120003801A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

DEVICES AND METHODS FOR CUTTING AND EVACUATING TISSUE

Номер патента: US20120004595A1. Автор: DUBOIS Brian R.,NIELSEN James T.,GORDON Alexander. Владелец: LAURIMED, LLC. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD FOR AUTOMATICALLY SHIFTING A BASE LINE

Номер патента: US20120004890A1. Автор: Chen Po-Tsang. Владелец: INOTERA MEMORIES, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing dry mixture for children nutrition

Номер патента: RU2272535C2. Автор: Олег Иванович Квасенков,Владимир Дмитриевич Надыкта,Муслимат Юнусовна Яхутль,Кирилл Викторович Чередниченко,Людмила Владимировна Донченко,Людмила Яковлевна Родионова. Владелец: Кубанский государственный аграрный университет. Дата публикации: 2006-03-27.

Raw mix and a method for manufacturing granulated heat-insulating material

Номер патента: RU2295508C1. Автор: Александр Иванович Кудяков,ков Александр Иванович Куд,Тать на Николаевна Радина,Татьяна Николаевна Радина,Михаил Юрьевич Иванов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Братский государственный университет". Дата публикации: 2007-03-20.

Method for manufacture of multi-electrode composite electric heater

Номер патента: RU2476033C1. Автор: Михаил Васильевич Халин,Татьяна Михайловна Халина,Александр Борисович Дорош. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "ЭнергоЭффектТехнология". Дата публикации: 2013-02-20.

Switchable 3-Dimensional Conversion Device, Method for Manufacturing the Same and Stereoscopic Image Display Device Using the Same

Номер патента: US20120001890A1. Автор: Im Hee-Jin,Kim Chul-Ho,KOOK Yun-Ho,Yoo Soon-Sung. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for obtaining by-product paste and method for obtaining cooked sausage due to applying the obtained by-product paste

Номер патента: RU2311805C2. Автор: Иосиф Александрович Рогов,Евгений Иванович Титов,Натали Германовна Кроха,Наталия Германовна Кроха,Ольга Сергеевна Базилева,Виолетта Теофиловна Дианова. Владелец: Московский Государственный Университет Прикладной Биотехнологии (МГУПБ). Дата публикации: 2007-12-10.

Raw mix for granulated heat-insulation material and a method for manufacture thereof

Номер патента: RU2274620C1. Автор: Александр Иванович Кудяков,ков Александр Иванович Куд,Тать на Николаевна Радина,Татьяна Николаевна Радина,Михаил Юрьевич Иванов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Братский государственный технический университет". Дата публикации: 2006-04-20.

Method for production of multiple application impregnating composition and mica-paper capacitors manufacture method

Номер патента: RU2455719C1. Автор: Евгений Викторович Распопов,Александр Федорович Супицкий,Игорь Васильевич Ефимов. Владелец: Открытое акционерное общество "Уфимское научно-производственное предприятие "Молния". Дата публикации: 2012-07-10.

Method for manufacturing of large-size polymer accessory

Номер патента: RU2375185C1. Автор: Михаил Михайлович Смирнов,Алексей Сергеевич Малюгин,Николай Васильевич Давыдкин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Московское машиностроительное производственное предприятие "Салют". Дата публикации: 2009-12-10.

Method for manufacturing canned food "sapso po-koreiski" of special indication (variants)

Номер патента: RU2301606C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-06-27.

Method for manufacturing nano-moulds for contact press-lithography (variants)

Номер патента: RU2308552C1. Автор: Елена Дмитриевна Мишина,Наталия Эдуардовна Шерстюк,Александр Александрович Зайцев,Андрей Анатольевич Федянин,Галина Александровна Цирлина,Вадим Олегович Вальднер,Татьяна Викторовна Долгова,Натали Эдуардовна Шерстюк,нин Андрей Анатольевич Фед,Тать на Викторовна Долгова,Антон Игоревич Майдыковский. Владелец: "Общество с ограниченной ответственностью "НаноИмпринт". Дата публикации: 2007-10-20.

Method for manufacturing paper being resistant to contamination

Номер патента: RU2318943C1. Автор: Александр Николаевич Агафонов,Андрей Борисович Курятников,Аркадий Владимирович Трачук,Андрей Валерьевич Чеглаков,Александр Георгиевич Писарев,Елена Владимировна Куркова,Владимир Васильевич Павлов,Сергей Юрьевич Вязалов,Александр Васильевич Курочкин,Евгений Михайлович Метельский,Виктор Сергеевич Солдатченков,Вячеслав Николаевич Миловидов,Игорь Олегович Говязин,Людмила Ивановна Никулина. Владелец: Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак"). Дата публикации: 2008-03-10.

Method for manufacturing spiral-shaped clamp

Номер патента: RU2259621C1. Автор: Н.А. Карасев,М.С. Агафонов. Владелец: Закрытое Акционерное Общество "Мзва". Дата публикации: 2005-08-27.

Method for manufacturing viral antirabic vaccine for oral immunization i wild carnivores

Номер патента: RU2250781C2. Автор: Т.Ф. Горшкова,В.И. Жестерев,Е.М. Хрипунов,С.Д. Евсеева,Д.О. Баньковский,С.А. Пархомцев. Владелец: ВНИИ ветеринарной вирусологии и микробиологии. Дата публикации: 2005-04-27.

Tubes of zirconium-based alloys and a method for manufacture thereof

Номер патента: RU2298042C2. Автор: Владимир Иванович Белов,Сергей Юрьевич Заводчиков,Янг Сук КИМ,Сунг Соо Ким,Владимир Андреевич Маркелов,Павел Васильевич Шебалдов,Тать на Николаевна Желтковска,Татьяна Николаевна Желтковская,Елена Николаевна Актуганова,Кьюнг Соо ИМ,Ионг Моо ЧЕОНГ. Владелец: Корейский исследовательский институт атомной энергии (КАЕРИ). Дата публикации: 2007-04-27.

Method for manufacturing collapsible magnetic duct for frontal electric machine

Номер патента: RU2269857C1. Автор: Владимир Иванович Загрядцкий,дцкий Владимир Иванович Загр,Артур Иванович Савескул. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Орловский государственный технический университет" (ОрелГТУ). Дата публикации: 2006-02-10.

Disinfectant aldiecoseptimol and method for preparing thereof

Номер патента: RU2456289C1. Автор: Елена Михайловна Фролова. Владелец: Елена Михайловна Фролова. Дата публикации: 2012-07-20.

METHOD FOR MANUFACTURING GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL WITH SINGLE COLD ROLLING

Номер патента: US20120000262A1. Автор: Jin Weizhong,Shen Kanyi,Li Guobao,Zhang Pijun,Yang Yongjie,Hu Zhuochao,Wu Peiwen,Jiang Quanli. Владелец: BAOSHAN IRON & STEEL CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Method for manufacturing meat-plant canned food of special indication (variants)

Номер патента: RU2321279C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-10.

Method for manufacturing fish-vegetable canned food out of trout of special indication (variants)

Номер патента: RU2299633C2. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-05-27.

Method for manufacturing canned food "fish soup with beet leaves"

Номер патента: RU2322143C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-20.

Method for manufacturing canned food "fish soup with nettle" of special indication (variants)

Номер патента: RU2321310C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-10.

Method for manufacturing canned food "duck with red cabbage" of special indication (variants)

Номер патента: RU2302765C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-07-20.

Method for manufacturing canned food "poultry with cabbage and steam sauce" of special indication (variants)

Номер патента: RU2300955C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-06-20.

Method for manufacturing canned food "mussels-saute with garlic and herbs" of special indication (variants)

Номер патента: RU2320226C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-03-27.

Method for manufacturing canned food "potato soup with leek" of special indication (variants)

Номер патента: RU2313994C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-01-10.

Method for manufacturing meat-plant canned food of special indication

Номер патента: RU2321291C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-10.

Method for manufacture of rubber shock mounting

Номер патента: RU2261380C2. Автор: А.С. Дудукин,Э.Л. Журомский,В.П. Семененко,А.П. Шальнев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Государственный ракетный центр "КБ им. акад. В.П. Макеева". Дата публикации: 2005-09-27.

Method for manufacturing canned food "poultry chakhokhbili"

Номер патента: RU2315503C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-01-27.

Method for manufacturing canned food "cabbage soup po-shotlandski" of special indication

Номер патента: RU2301003C1. Автор: Олег Иванович Квасенков,Елена Анатольевна Юшина. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-06-20.

Method for manufacture of sauces on fermented yoghurt dairy base

Номер патента: RU2569478C2. Автор: Наталья Сергеевна Родионова,Татьяна Васильевна Алексеева,Михаил Иванович Корыстин,Александр Анатольевич Родионов,Максим Михайлович Зяблов,Юлия Олеговна Калгина,Елена Ивановна Кривенко. Владелец: Елена Ивановна Кривенко. Дата публикации: 2015-11-27.

Method for manufacturing canned food "noodle with sauce"

Номер патента: RU2303929C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-08-10.

Method for manufacturing canned food "crabs-and-eggs ragout" of special indication (variants)

Номер патента: RU2322137C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-20.

Method for manufacturing quartz-crystal components

Номер патента: RU2292640C2. Автор: Наталья Ильинична Алексеева,Роман Юрьевич Гошл,Роман Юрьевич Гошля,Евгений Анатольевич Гарманов,Наталь Ильинична Алексеева,Василий Антонович Парыгин. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие Омский научно-исследовательский институт приборостроения. Дата публикации: 2007-01-27.

Method for manufacturing canned food " beef fore shank in horseradish sauce" of special indication

Номер патента: RU2322115C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-20.

Method for manufacturing canned product "chop suey" of special indication (variants)

Номер патента: RU2302755C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2007-07-20.

Method for manufacturing canned food "fish soup with beet leaves" of special indication (variants)

Номер патента: RU2321307C1. Автор: Олег Иванович Квасенков. Владелец: Олег Иванович Квасенков. Дата публикации: 2008-04-10.

Method for manufacturing panel with stiffening ribs of polymer composite materials

Номер патента: RU2399491C2. Автор: Игорь Сергеевич Карпейкин,Александр Иванович Нестеров,Михаил Владимирович Глинкин,Мария Владимировна Трофимова,Валерий Борисович Литвинов,Алексей Михайлович Куликов,Александр Константинович Калашников,Александр Александрович Горячев,Александр Васильевич Бактенков,Олег Викторович Скиба. Владелец: Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" (ОАО НИАТ). Дата публикации: 2010-09-20.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.