• Главная
  • Photosensitive compositions and pattern formation method

Photosensitive compositions and pattern formation method

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Photosensitive composition

Номер патента: US20200392344A1. Автор: Yuki Nara,Takahiro Okawara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Photosensitive composition

Номер патента: US20200393759A1. Автор: Shoichi Nakamura,Yuki Nara,Takahiro Okawara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Photosensitive composition

Номер патента: US11953831B2. Автор: Shoichi Nakamura,Yuki Nara,Takahiro Okawara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Photosensitive composition

Номер патента: US20230083182A1. Автор: Yoshihiro Harada,Yoshifumi Komatsu,Masayoshi Tokuda,Tomohiro Fukuura. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-16.

Photosensitive composition

Номер патента: US20230340289A1. Автор: Yoshihiro Harada,Yoshifumi Komatsu,Masayoshi Tokuda,Tomohiro Fukuura. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Photosensitive composition

Номер патента: EP4227374A3. Автор: Yoshihiro Harada,Yoshifumi Komatsu,Masayoshi Tokuda,Tomohiro Fukuura. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-25.

Photosensitive composition

Номер патента: US20240295813A1. Автор: Shoichi Nakamura,Mitsuji Yoshibayashi,Yuki Nara,Takahiro Okawara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Photosensitive composition, film, color filter, solid-state imaging element, and image display device

Номер патента: US20240310728A1. Автор: Takashi Kawashima,Kazuya Oota. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Low-temperature curable negative type photosensitive composition

Номер патента: WO2021013859A1. Автор: Yung-Cheng Chang,Daishi Yokoyama,Atsuko Noya,Cho-Ying Lin. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2021-01-28.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US11370872B2. Автор: Masafumi Hori,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2022-06-28.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US20190135967A1. Автор: Masafumi Hori,Hiroyuki Komatsu,Tomohiro Oda,Takehiko Naruoka,Hitoshi Osaki. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2019-05-09.

Method of pattern formation and method of producing polysilane resin precursor

Номер патента: US20180181002A1. Автор: Kazuya Someya,Kunihiro Noda,Hiroki Chisaka,Dai Shiota. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Pattern formation methods and photoresist pattern overcoat compositions

Номер патента: US11796916B2. Автор: Cong Liu,Irvinder Kaur,Xisen Hou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2023-10-24.

Pattern formation methods and photoresist pattern overcoat compositions

Номер патента: US20180314155A1. Автор: Cong Liu,Irvinder Kaur,Xisen Hou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2018-11-01.

Self-organization material and pattern formation method

Номер патента: US9859119B2. Автор: Akira Watanabe,Takeshi Okino,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Self-organization material and pattern formation method

Номер патента: US20170062206A1. Автор: Akira Watanabe,Takeshi Okino,Naoko Kihara,Ryosuke Yamamoto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-03-02.

Light control sheet, light control device, photosensitive composition, and method for manufacturing light control sheet

Номер патента: EP4318113A1. Автор: Taisuke ENYA. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Light control sheet, light control device, photosensitive composition, and method for producing light control sheet

Номер патента: US20240027836A1. Автор: Taisuke ENYA. Владелец: Toppan Inc. Дата публикации: 2024-01-25.

Patterning material, patterning composition, and pattern forming method

Номер патента: US20240034930A1. Автор: Yu Zhang,Lei Zhang,Di Wang,Xiaofeng YI. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Polysiloxane composition and method of pattern formation

Номер патента: TW201213444A. Автор: Takashi Mori,Yushi Matsumura,Kazunori Takanashi,Yusuke Anno,Shin-ya MINEGISHI,Satoshi Dei. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2012-04-01.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: US09541831B2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Photosensitive composition, cured film and production process thereof, and electronic part

Номер патента: US09541827B2. Автор: Masaaki Hanamura,Tomohiko Sakurai. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-10.

Pattern formation method, block copolymer, and pattern formation material

Номер патента: US20210040345A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-02-11.

Pattern formation method, block copolymer, and pattern formation material

Номер патента: US20190169461A1. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-06-06.

Pattern formation material and pattern formation method

Номер патента: US20180265616A1. Автор: Koji Asakawa,Naoko Kihara,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2018-09-20.

Photosensitive composition, protective film, and element having the protective film

Номер патента: US09507261B2. Автор: Chun-An Shih,Wei-Jie Huang. Владелец: Chi Mei Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Pattern formation method, block copolymer, and pattern formation material

Номер патента: US11161999B2. Автор: Koji Asakawa,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2021-11-02.

Fluorinated photopolymer composition and waveguide device

Номер патента: EP1227114A2. Автор: Indira S. Pottebaum,Chuck C. Xu,Deepti Pant,Chris E. Osuch,Louay A. Eldada. Владелец: Telephotonics Inc. Дата публикации: 2002-07-31.

Photosensitive composition, imprint method, and interlayer layer

Номер патента: US20160075124A1. Автор: Seiji Morita,Kei Kobayashi,Hiroshi Tokue. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Directed self-assembly composition for pattern formation and pattern-forming method

Номер патента: US09718950B2. Автор: Yuji Namie,Tomoki Nagai,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09534135B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-01-03.

Photosensitive compositions and applications thereof

Номер патента: US20210116807A1. Автор: Brian Knapp,Carolyn Scherger,Cheryl Burns. Владелец: PROMERUS LLC. Дата публикации: 2021-04-22.

Positive tone photosensitive compositions containing amic acid as latent base catalyst

Номер патента: US20200363722A1. Автор: Pramod Kandanarachchi. Владелец: PROMERUS LLC. Дата публикации: 2020-11-19.

Positive photosensitive resin composition and process for pattern formation

Номер патента: CN101218540B. Автор: 冈崎真喜,大西仁志,山下涉. Владелец: Mitsui Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-13.

Composition for forming fine resist pattern and pattern forming method using same

Номер патента: US09448485B2. Автор: Masahiro Ishii,Takashi Sekito,Tetsuo Okayasu. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2016-09-20.

Positive photosensitive composition, thin film transistor, and compound

Номер патента: US09494861B2. Автор: Masahito Ide,Hirofumi Inari,Aki KITAJIMA,Komei TAHARA,Takao Manabe. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Positive photosensitive resin composition and method for forming cured film using the same

Номер патента: US8329380B2. Автор: Satoshi Takita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-12-11.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09599892B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Directed self-assembling composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09684235B2. Автор: Yuji Namie,Takuo Sone,Tomoki Nagai,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-06-20.

Compound, pattern forming substrate, coupling agent, and pattern formation method

Номер патента: US20200148700A1. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2020-05-14.

Photosensitive composition useful in photoelectrophoretic imaging

Номер патента: US4076527A. Автор: Richard H. Nealy. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1978-02-28.

Photosensitive composition comprising azo compounds

Номер патента: US4612271A. Автор: Seiji Horie,Hideo Sato,Naonori Makino. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1986-09-16.

Positive photosensitive compositions

Номер патента: USRE43560E1. Автор: Kunihiko Kodama,Toshiaki Aoai. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-07-31.

Positive photosensitive composition

Номер патента: US20100136479A1. Автор: Tomotaka Tsuchimura,Shuhei Yamaguchi,Yuko Tada. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-06-03.

Treatment liquid and pattern forming method

Номер патента: US20180101100A1. Автор: Hideaki Tsubaki,Toru Tsuchihashi,Wataru Nihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-04-12.

Rinsing liquid and pattern forming method

Номер патента: US20230132693A1. Автор: Satomi Takahashi,Toru Tsuchihashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Conductive pattern formation ink, conductive pattern and wiring substrate

Номер патента: US7972538B2. Автор: Toshiyuki Kobayashi,Sachiko Endo,Naoyuki Toyoda. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2011-07-05.

Solvent composition and method of wire covering

Номер патента: RU2548094C2. Автор: ЛИНЕРТ Клаус-Вильхельм,СОНЧИНИ Джанкарло. Владелец: Элантас Гмбх. Дата публикации: 2015-04-10.

Photosensitizing composition

Номер патента: US20050236036A1. Автор: Fumio Matsui,Kentaro Yano,Hirofumi Mitekura,Hideo Ohtaka. Владелец: Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo KK. Дата публикации: 2005-10-27.

Display element, photosensitive composition and electrowetting display

Номер патента: US09625706B2. Автор: Yoshinori Kinoshita,Toshiharu Araki,Kazunari Kudou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Photosensitive composition, color filter and method for forming the color filter

Номер патента: US20200019055A1. Автор: Hsin-Chieh Yang,Yi-Sheng Wu,Ping-Sung Tsai. Владелец: Echem Solutions Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

Compound, pattern forming substrate, coupling agent, and pattern formation method

Номер патента: US11767327B2. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Paste patterns formation method and transfer film used therein

Номер патента: WO2008063610A2. Автор: Hideki Akimoto. Владелец: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY. Дата публикации: 2008-05-29.

Paste patterns formation method and transfer film used therein

Номер патента: EP2095390A2. Автор: Hideki Akimoto. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2009-09-02.

Upper surface antireflection film formation composition and use its pattern formation method

Номер патента: CN103460136B. Автор: 片山朋英,佐尾高步. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2016-03-23.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: US20170123318A1. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-05-04.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: EP2019334A3. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-07-29.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: EP2019334A2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-01-28.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: EP2020618A2. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-02-04.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: TW201415168A. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-04-16.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: EP1754999B1. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Haruki Inabe. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-06-29.

Positive resist composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: US9835945B2. Автор: Shinichi Kanna,Haruki Inabe,Hiromi Kobayashi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Methods and patterns of electric energy distribution in spd-loads

Номер патента: RU2384928C2. Автор: Алберт П. МАЛВИНО. Владелец: Ресерч Франтиерс Инк.. Дата публикации: 2010-03-20.

Titanocene based compound, photosensitive composition, photosensitive transfer sheet and pattern forming method

Номер патента: US20070212642A1. Автор: Takekatsu Sugiyama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-09-13.

Pattern formation method and pattern formation material

Номер патента: US20190084829A1. Автор: Koji Asakawa,Naoko Kihara,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe,Seekei Lee. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Photosensitive composition for pattern formation, and flexographic plate

Номер патента: EP4394509A1. Автор: Atsushi Nozawa. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2024-07-03.

Photosensitive composition, and cured film

Номер патента: US20240160104A1. Автор: Naoki Watanabe,Hiroaki Imoto,Kensuke Naka,Kimihiro Matsukawa. Владелец: JNC Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Display element, photosensitive composition and electrowetting display

Номер патента: US09753274B2. Автор: Yoshinori Kinoshita,Toshiharu Araki,Kazunari Kudou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-09-05.

Display element, photosensitive composition and electrowetting display

Номер патента: US09784965B2. Автор: Yoshinori Kinoshita,Toshiharu Araki,Kazunari Kudou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Positive photosensitive composition and a pattern-forming method using the same

Номер патента: US20090081581A1. Автор: Kaoru Iwato,Hideaki Tsubaki,Kunihiko Kodama,Norihiko Taguchi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-26.

Method of preserving photosensitive composition

Номер патента: US6531521B2. Автор: Koji Baba,Toshiya Inoue,Shigeo Hozumi. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-11.

Positive photosensitive composition, pattern using same, and method of manufacturing pattern

Номер патента: US20190294044A1. Автор: Taiki Mihara,Naomi Sato,Junya MIYAKE. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Photosensitive composition for interlayer dielectric and method of forming patterned interlayer dielectric

Номер патента: US20050287469A1. Автор: Hideki Matsuo,Tatsuro Nagahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-12-29.

Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate material

Номер патента: US20130022927A1. Автор: Akira Furukawa,Takahiro Hagihara. Владелец: Mitsubishi Paper Mills Ltd. Дата публикации: 2013-01-24.

Photosensitive resin, photosensitive composition and photo-crosslinked structure

Номер патента: US7605191B2. Автор: Toru Shibuya,Kana Miyazaki,Takeshi Ikeya. Владелец: Toyo Gosei Co Ltd. Дата публикации: 2009-10-20.

Photosensitive composition, cured product, and method for producing cured product

Номер патента: US20230056225A1. Автор: Koichi Misumi,Hiroki Chisaka. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Unsaturated cyclic anhydride end capped polyimides and polyamic acids and photosensitive compositions thereof

Номер патента: US20240254284A1. Автор: Pramod Kandanarachchi. Владелец: PROMERUS LLC. Дата публикации: 2024-08-01.

Photoresist compositions and pattern formation methods

Номер патента: US11940730B2. Автор: Mingqi Li,Mitsuru Haga. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US09587065B2. Автор: Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Takehiko Naruoka,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Radiation-sensitive resin composition and pattern formation method

Номер патента: US20230273519A1. Автор: Ken Maruyama. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-08-31.

Photosensitive composition

Номер патента: US20240192593A1. Автор: Hiroki Chisaka,Takuro ASABA,Kazuki URAKAWA,Hideki SAIJYO. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Positive working photosensitive composition

Номер патента: CA1241860A. Автор: John E. Walls,Tulay Duyal. Владелец: Hoechst Celanese Corp. Дата публикации: 1988-09-13.

Photosensitive compositions

Номер патента: US4477553A. Автор: Takeshi Yamamoto,Kiyoshi Goto,Masafumi Uehara. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1984-10-16.

Photochromic compounds and photosensitive composition containing the compounds

Номер патента: CA1207330A. Автор: Hirofumi Kondo,Seiichi Arakawa,Junetsu Seto. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1986-07-08.

Photosensitive compositions and elements and a process of making flexographic printing plate therefrom

Номер патента: US3556791A. Автор: Kenichi Suzuki,Tsunetoshi Kai. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-01-19.

Display element, photosensitive composition and electrowetting display

Номер патента: US20160178893A1. Автор: Yoshinori Kinoshita,Toshiharu Araki,Kazunari Kudou. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-06-23.

Acetal polymers useful in photosensitive compositions

Номер патента: US5534381A. Автор: M. Zaki Ali,Mahfuza B. Ali. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1996-07-09.

Photosensitive composition

Номер патента: US4442196A. Автор: Noriyasu Kita,Akio Iwaki,Hiroyoshi Yamaguchi,Tatsuya Sasazawa. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1984-04-10.

Negative photosensitive composition and method for producing hollow structure

Номер патента: US20240103368A1. Автор: Hirofumi Imai,Ryosuke Nakamura,Kenichi Yamagata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US09921479B2. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Thermally developable photosensitive compositions containing acutance agents

Номер патента: US4271263A. Автор: Edward J. Goettert. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1981-06-02.

Photosensitive compositions

Номер патента: AU1801292A. Автор: Adrian Schulthess,Bettina Steinmann,Max Hunziker. Владелец: Vantico GmbH. Дата публикации: 1992-12-10.

Photopolymerization initiator and photosensitive composition employing the same

Номер патента: US5124235A. Автор: Tetsuro Fukui,Kyo Miura,Yoshio Takasu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1992-06-23.

Photoacid generator, and photosensitive composition using same

Номер патента: US20240027901A1. Автор: Atsushi Shiraishi,Futaba Kawakami. Владелец: San Apro KK. Дата публикации: 2024-01-25.

Photoacid generator, and photosensitive composition using same

Номер патента: EP4261214A1. Автор: Atsushi Shiraishi,Futaba Kawakami. Владелец: San Apro KK. Дата публикации: 2023-10-18.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12072627B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Shinya Yamashita,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Resist composition and patterning process

Номер патента: EP3088955A3. Автор: Kenji Yamada,Satoshi Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-14.

Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition

Номер патента: EP1693705B1. Автор: Yasutomo Kawanishi. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2014-01-22.

Patterning material and patterned film

Номер патента: US20230168583A1. Автор: Yu Zhang,Huihui Zhou,Zhixiong Zeng. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Molecular resist composition and patterning process

Номер патента: US11940728B2. Автор: Kazuhiro Katayama,Masaki Ohashi,Masahiro Fukushima,Shun Kikuchi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-26.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20210141306A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Shinya Yamashita,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Photosensitive resin composition, protective layer and method for pattern formation

Номер патента: US20230418160A1. Автор: Kuan-Ming Chen,Chi-Yu Lai. Владелец: Advanced Echem Materials Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Bacterial colony formation method for sensitive and rapid culture of helicobacter pylori and effect evaluation method for same

Номер патента: US20240229099A9. Автор: HaiYing GU. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-11.

Compositions and methods for treatment of malignant tumour

Номер патента: RU2660349C2. Автор: Стюарт Денхэм ШАМВЕЙ. Владелец: Мерк Шарп И Доум Корп.. Дата публикации: 2018-07-05.

Certain chemical compounds, compositions and methods

Номер патента: RU2718876C2. Автор: Сянпин ЦЯНЬ,Йонг-Лян ЧЖУ. Владелец: Ньюфарма, Инк.. Дата публикации: 2020-04-15.

Non-pigmented opaque jet ink compositions and methods of creating opaque indicia

Номер патента: WO1996004335A1. Автор: Ramesh B. Subbaraman,Barry R. Brucker. Владелец: Brucker Barry R. Дата публикации: 1996-02-15.

Pattern formation method and pattern formation apparatus

Номер патента: US20140213058A1. Автор: Eiji Yoneda,Kentaro Matsunaga,Nobuhiro Komine. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2014-07-31.

Pattern formation method and pattern formation apparatus

Номер патента: US9260300B2. Автор: Eiji Yoneda,Kentaro Matsunaga,Nobuhiro Komine. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-02-16.

Self-assembly composition for pattern formation and pattern forming method

Номер патента: US20190211130A1. Автор: Kimiko Hattori,Kazuyo MORITA. Владелец: Oji Holdings Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Pattern formation material, pattern formation method, and exposure mask fabrication method

Номер патента: US20040058279A1. Автор: Masamitsu Itoh,Takehiro Kondoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-03-25.

Positive photosensitive composition

Номер патента: EP2296039A1. Автор: Toru Fujimori. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-03-16.

Pattern formation method and replica template

Номер патента: US20240201582A1. Автор: Ryo Kobayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Pattern formation method and photosensitive hard mask

Номер патента: US20230019943A1. Автор: Kazuki Yamada,Ryuichi Asako,Hajime Nakabayashi,Tomohito Yamaji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-01-19.

Pattern formation method

Номер патента: US09640410B2. Автор: Yuriko Seino. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Halftone phase shift mask blank, halftone phase shift mask, and pattern exposure method

Номер патента: US9927695B2. Автор: Yukio Inazuki,Takuro Kosaka. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Pattern formation method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11521855B2. Автор: Koji Asakawa,Ryosuke Yamamoto,Ayaka SUKO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-12-06.

Pattern-formation methods

Номер патента: US20180188654A1. Автор: Mingqi Li,Cong Liu,Irvinder Kaur,Cheng Bai Xu,Kevin ROWELL,Xisen Hou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2018-07-05.

Pattern formation method, semiconductor device manufacturing method, and imprint apparatus

Номер патента: US20240094624A1. Автор: Masaki Mitsuyasu,Ryo Ogawa,Anupam Mitra. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Pattern formation method and template manufacturing method

Номер патента: US11862430B2. Автор: Ryota SEKI. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Pattern formation method and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20210296117A1. Автор: Koji Asakawa,Ryosuke Yamamoto,Ayaka SUKO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Pattern formation method

Номер патента: US10014182B2. Автор: Yuriko Seino. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2018-07-03.

Pattern formation method and semiconductor device

Номер патента: US20150227045A1. Автор: Takehiro Kondoh. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-08-13.

Binding composition and use thereof in wood composite boards

Номер патента: RU2709364C2. Автор: Андреас ГИР,Норберт КАЛЬВА. Владелец: СВИСС КРОНО Тек АГ. Дата публикации: 2019-12-17.

Polymer-based antimicrobial compositions and a method for use thereof

Номер патента: RU2698182C1. Автор: Мэрион Л. ЧИАТТЕЛЛО,Марк ОМЭН. Владелец: Эксион Лэбс Инк.. Дата публикации: 2019-08-22.

Composition and method for its production

Номер патента: RU2754454C2. Автор: Тимо НИССИНЕН,Яри КУККОНЕН. Владелец: Палонот Ой. Дата публикации: 2021-09-02.

Heat carrier composition and its application

Номер патента: RU2741298C2. Автор: Филип ГРЭЙ. Владелец: Килфрост Груп Плк. Дата публикации: 2021-01-25.

Photosensitive composition and method for pattern formation

Номер патента: KR100295541B1. Автор: 사이또마사오,도모요이찌. Владелец: 이데이 노부유끼. Дата публикации: 2001-09-17.

Positive photosensitive composition and method of pattern formation with the same

Номер патента: US20070031757A1. Автор: Kunihiko Kodama,Kenji Wada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-08.

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF PATTERN FORMATION WITH THE SAME

Номер патента: US20150185609A1. Автор: KANDA Hiromi,KANNA Shinichi,INABE Haruki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2015-07-02.

Positively photosensitive resin composition and method of pattern formation

Номер патента: EP1496396A4. Автор: Tadashi Hatanaka,Takayasu Nihira. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2007-09-05.

Positively photosensitive resin composition and method of pattern formation

Номер патента: WO2003087941A1. Автор: Tadashi Hatanaka,Takayasu Nihira. Владелец: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2003-10-23.

Pattern quality management chart, pattern quality management method, and pattern formation method

Номер патента: US20160195599A1. Автор: Takeichi Tatsuta. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2016-07-07.

Photosensitive composition comprising inorganic particle

Номер патента: US20240280904A1. Автор: Changmin Lee,Soung Yun MUN,Jun Bae,Jin Hyun Kim,Jun Ki Kim,Yun Jong KO,Younghoon KANG. Владелец: DukSan Neolux Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Controlled roughening of a photosensitive composition

Номер патента: CA1247441A. Автор: Allyn N. Bennett. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1988-12-28.

Low-temperature curable photosensitive compositions

Номер патента: EP1659449A3. Автор: KANAKARAJAN Kuppusamy,Thomas E. Dueber,Michael W. J. West,Brian C. Auman. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2008-04-16.

Method and apparatus for automating threat model generation and pattern identification

Номер патента: US09742794B2. Автор: Luis Felipe Cabrera,M. Shannon Lietz,Javier Godinez. Владелец: Intuit Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Substrate for pattern formation

Номер патента: US11898008B2. Автор: Yoshiaki Honda. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Combined Spectroscopic Reflectometry And Pattern Recognition Based Measurements Of Semiconductor Structures

Номер патента: US20240353321A1. Автор: David Y. Wang,Shankar Krishnan. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-10-24.

Fast search method for vector quantizer communication and pattern recognition systems

Номер патента: US4907276A. Автор: Shabtai Aldersberg. Владелец: DSP Group Israel Ltd. Дата публикации: 1990-03-06.

Metal pattern formation system

Номер патента: US20120060708A1. Автор: Chien-Ho Huang,Shang-Wanq Yeh,Hsiou-Jeng Shy,Li-Jiuan Chen,Ching-Yu Tso. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-15.

Photosensitive compositions and pattern formation method

Номер патента: US20010003633A1. Автор: Masaharu Watanabe,Noriaki Tochizawa,Hirotaka Tagoshi,Tetsuhiko Yamaguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-06-14.

Pattern formation method and pattern formation material

Номер патента: US20190086803A1. Автор: Koji Asakawa,Naoko Kihara,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe,Seekei Lee. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Photosensitive composition and negative working lithographic printing plate

Номер патента: EP1249731B1. Автор: Kazuto Kunita. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2012-04-25.

Photosensitive composition

Номер патента: EP4401983A1. Автор: William Wolf,Kangtai Ren,Jeffrey Klang,Richard PLENDERLEITH,Jonathan Andersson,Ali AHMARI. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2024-07-24.

Negative photosensitive composition and pattern formation method

Номер патента: US20240045330A1. Автор: Takahiro Kondo,Hirofumi Imai,Shota Katayama,Kenichi Yamagata. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Positive resist composition and pattern forming method

Номер патента: EP2140306A1. Автор: Hiromi Kanda,Shinichi Kanna,Toshiaki Fukuhara. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-01-06.

Binder composition and photosensitive composition including the same

Номер патента: US20100148134A1. Автор: Mikyong Yoo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-06-17.

Phenalene-1-one-containing photosensitizer composition, phenalene-1-one compound and the use thereof

Номер патента: US11987557B2. Автор: Andreas Späth,Anja Eichner. Владелец: Trioptotec GmbH. Дата публикации: 2024-05-21.

Photosensitive composition and pattern-forming method using the photosensitive composition

Номер патента: EP2375285A2. Автор: Kunihiko Kodama. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2011-10-12.

Pattern formation material and pattern formation method

Номер патента: US11378885B2. Автор: Koji Asakawa,Naoko Kihara,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe,Seekei Lee. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2022-07-05.

Radiation-sensitive negative-type resist composition for pattern formation and pattern formation method

Номер патента: WO2004023213A1. Автор: Kentaro Tada,Nobuji Sakai. Владелец: TOYO GOSEI CO., LTD.. Дата публикации: 2004-03-18.

Pattern formation material and pattern formation method

Номер патента: US20020037471A1. Автор: Masayuki Endo,Masaru Sasago,Shinji Kishimura,Masamitsu Shirai,Masahiro Tsunooka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-28.

Photosensitive composition for printing plates

Номер патента: AU1783683A. Автор: John R. Worns. Владелец: Uniroyal Inc. Дата публикации: 1984-03-08.

Photosensitive compositions containing phenolic resins and diazoquinone compounds

Номер патента: IE63238B1. Автор: Catherine Jakus,Roland Bruno,Jan Vandendriessche. Владелец: UCB SA. Дата публикации: 1995-04-05.

Photosensitive composition and calcined pattern obtained by use thereof

Номер патента: US6103452A. Автор: Masahisa Kakinuma,Kouichi Takagi,Ooki Tomobe. Владелец: Taiyo Ink Mfg Co Ltd. Дата публикации: 2000-08-15.

Negative type photosensitive composition comprising black colorant

Номер патента: US20220260913A1. Автор: Seishi SHIBAYAMA,Atsuko Noya,Daishi YOKOHAMA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-08-18.

Composition and photosensitive composition

Номер патента: US20240191003A1. Автор: Ryutaro SUGAWARA. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate

Номер патента: CA1311071C. Автор: Kiyoshi Goto,Yoshihiro Maeda,Norihito Suzuki,Shigeki Shimizu. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1992-12-01.

Nanocomposite negative photosensitive composition and use thereof

Номер патента: WO2013064890A8. Автор: Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Stephen Meyer. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2013-12-19.

Photosensitive composition and forming process of structured material using the composition

Номер патента: US20060210929A1. Автор: Kenji Yamada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2006-09-21.

Colored photosensitive composition, color filter, and method for making the color filter

Номер патента: US20080206660A1. Автор: Kazuto Shimada,Hideki Takakuwa,Taeko Nakashima. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-08-28.

Barrier film material and pattern formation method using the same

Номер патента: EP1788440A2. Автор: Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-23.

Free radical photosensitive compositions with improved sensitivity and shelf life stability

Номер патента: US4066459A. Автор: Paul L. Bachman,John J. Moskal. Владелец: Horizons Inc. Дата публикации: 1978-01-03.

Pattern formation material and pattern formation method

Номер патента: US20190086805A1. Автор: Koji Asakawa,Naoko Kihara,Shinobu Sugimura,Norikatsu Sasao,Tomoaki Sawabe,Seekei Lee. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Photosensitive composition and film prepared from the same

Номер патента: US20230229080A1. Автор: Chih-Jen Yang,Yung-Lung Tseng,Yu-Yang Su. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-07-20.

Photosensitive compositions

Номер патента: IE902217L. Автор: . Владелец: Rohm & Haas. Дата публикации: 1990-12-20.

Negative working photosensitive composition and photosensitive element prepared therewith

Номер патента: CA1241862A. Автор: Shuchen Liu. Владелец: Hoechst Celanese Corp. Дата публикации: 1988-09-13.

Positive photosensitive composition

Номер патента: US6517991B1. Автор: Kunihiko Kodama,Kenichiro Sato,Toshiaki Aoai. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2003-02-11.

Photosensitive composition

Номер патента: US4229514A. Автор: Yoshio Kurita,Akio Iwaki. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1980-10-21.

Photosensitive composition and method of making lithographic printing plate

Номер патента: US6423471B1. Автор: Tadahiro Sorori,Yasufumi Murota. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2002-07-23.

Photosensitive composition containing a gelling agent

Номер патента: US4927739A. Автор: Junichi Fujikawa,Masaharu Taniguchi,Chikara Ichijo. Владелец: TORAY INDUSTRIES INC. Дата публикации: 1990-05-22.

Resist top-coat composition and patterning process

Номер патента: US20150234274A1. Автор: Jun Hatakeyama,Hyun-Woo Kim. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-20.

Photosensitive compositions and elements containing substituted hydroxylamine

Номер патента: US4298678A. Автор: Mark R. McKeever. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1981-11-03.

Phosphine activated photosensitive compositions and photopolymer printing plates made therefrom

Номер патента: CA1129704A. Автор: Koichi Kimoto,Sakuo Okai. Владелец: Napp Systems (usa) Inc. Дата публикации: 1982-08-17.

Resist top-coat composition and patterning process

Номер патента: US09507262B2. Автор: Jun Hatakeyama,Hyun-Woo Kim. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Photosensitive composition

Номер патента: US6132931A. Автор: Koichi Kawamura,Noriaki Watanabe. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2000-10-17.

Photosensitive compositions

Номер патента: US4399210A. Автор: Akira Nagashima,Teruo Nagano. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1983-08-16.

Photosensitive composition

Номер патента: GB2172117A. Автор: Takeshi Yamamoto,Nobumasa Sasa,Toru Aoki. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 1986-09-10.

Photosensitive composition containing cadmium iodide and cuprous iodide in a binder

Номер патента: CA1063855A. Автор: Thomas W. Martin. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1979-10-09.

Composition for pattern formation, and pattern-forming method

Номер патента: US20150253671A1. Автор: Yuji Namie,Tomoki Nagai,Hiroyuki Komatsu,Shinya Minegishi. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2015-09-10.

Negative type photosensitive composition

Номер патента: US20240142875A1. Автор: Atsuko Noya,Akira Yamasaki. Владелец: Merck Electronics Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Photosensitive composition

Номер патента: US20240219832A1. Автор: Atsushi Ito,Tomoyuki Matsumoto,Ryuu MATSUMOTO. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310725A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Photosensitive compositions and lithographic printing plates with reduced propensity to blinding

Номер патента: CA2098958C. Автор: John E. Walls. Владелец: Kodak Graphics Holding Inc. Дата публикации: 1998-08-18.

Positive working photosensitive compositions

Номер патента: US5609983A. Автор: Koichi Kawamura,Kenichiro Sato,Shinji Sakaguchi. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1997-03-11.

Photosensitive compositions and lithographic printing plates containing binary acetal polymers

Номер патента: US5262270A. Автор: John E. Walls. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1993-11-16.

Pattern formation method

Номер патента: US9134605B2. Автор: Hironobu Sato. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-09-15.

Photosensitive composition for volume hologram recording

Номер патента: GB2426072A. Автор: Fumio Matsui,Toshio Yoshihara,Hiroyuki Ohtaki,Yoshihito Maeno,Junichiro Ihara. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 2006-11-15.

Nanocomposite photosensitive composition and use thereof

Номер патента: WO2006109121A3. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2007-04-12.

Nanocomposite photosensitive composition and use thereof

Номер патента: EP1877864A2. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: AZ Electronic Materials USA Corp. Дата публикации: 2008-01-16.

Nanocomposite photosensitive composition and use thereof

Номер патента: WO2006109121A2. Автор: Mark Neisser,Ping-Hung Lu,Chunwei Chen,Hong Zhuang. Владелец: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.. Дата публикации: 2006-10-19.

Resist composition and pattern forming process

Номер патента: US20240310727A1. Автор: Jun Hatakeyama. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Photosensitive composition

Номер патента: MY133599A. Автор: TAKAHASHI SHUICHI. Владелец: Az Electronic Mat Japan K K. Дата публикации: 2007-11-30.

Nanocomposite photosensitive composition and use thereof

Номер патента: MY137955A. Автор: LU Ping-Hung,CHEN Chunwei,ZHUANG Hong,Mark Neisser. Владелец: Az Electronic Materials Usa. Дата публикации: 2009-04-30.

Resist pattern formation method and resist composition

Номер патента: US09740105B2. Автор: Shinichi Hidesaka,Yoichi Hori,Takeaki Shiroki. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Two-step photoresist compositions and methods

Номер патента: WO2016086236A2. Автор: Andreas Frommhold,Alex Phillip Graham Robinson,Allen Brown,Tom Lada. Владелец: Tom Lada. Дата публикации: 2016-06-02.

Two-Step Photoresist Compositions and Methods

Номер патента: US20150241773A1. Автор: Alex Philip Graham Robinson,Andreas Frommhold,Thomas Lada,Alan G. Brown. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-08-27.

Photosensitive composition

Номер патента: CA1331243C. Автор: Hideaki Takahashi,Akihiko Ikeda,Hideo Ai,Nobuhiko Suga,Satoshi Ogitani. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1994-08-02.

Photosensitive composition for volume hologram recording

Номер патента: US5702846A. Автор: Masami Kawabata,Akihiko Sato,Iwao Sumiyoshi,Kenzo Mizutani. Владелец: Nippon Paint Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-30.

Infrared-sensitive photosensitive composition

Номер патента: US6902863B2. Автор: Takeshi Serikawa,Ippei Nakamura,Ikuo Kawauchi,Mitsumasa Tsuchiya. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-07.

Liquid photosensitive composition

Номер патента: CA2276104A1. Автор: Kurt Munk. Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-12-10.

Photosensitive composition

Номер патента: US4123276A. Автор: Nobuyuki Kita,Yasuhisa Narutomi. Владелец: National Patent Development Corp. Дата публикации: 1978-10-31.

Image-forming photosensitive composition

Номер патента: US4465761A. Автор: Susumu Suzuka,Yukio Takegawa,Akira Tukada,Nobuyoshi Endo. Владелец: Oriental Photo Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1984-08-14.

Electrophotography photosensitive composition

Номер патента: CA1046265A. Автор: Tetsuo Murayama,Hiroshi Oba,Shigenori Otsuka. Владелец: Mitsubishi Kasei Corp. Дата публикации: 1979-01-16.

Photosensitive composition

Номер патента: CA1041346A. Автор: Nobuyuki Kita,Yasuhisa Narutomi. Владелец: National Patent Development Corp. Дата публикации: 1978-10-31.

Photosensitive composition for electrophotography with chloronaphthoquinones

Номер патента: US4438187A. Автор: Yoshiaki Kato,Akira Fushida. Владелец: Mita Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1984-03-20.

Pattern formation method and exposure apparatus

Номер патента: US09500961B2. Автор: Takashi Sato,Akiko Yamada,Takeshi Suto. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US12050402B2. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Resist developer and resist pattern formation method using same

Номер патента: US20030203316A1. Автор: Kazuyuki Nitta. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2003-10-30.

Pattern formation method

Номер патента: EP1688797A3. Автор: Masayuki Endo,Masaru Sasago. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-16.

Pattern formation method and a method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US8118585B2. Автор: Masayuki Hatano,Suigen Kyoh,Tetsuro Nakasugi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2012-02-21.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443240A2. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443240A3. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemically amplified negative resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337935A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443239A2. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: EP4443239A3. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemically amplified positive resist composition and resist pattern forming process

Номер патента: US20240337939A1. Автор: Masahiro Fukushima. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Method of patterning a lapping plate, and patterned lapping plates

Номер патента: US09522454B2. Автор: Raymond Leroy Moudry,Joel William Hoehn. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2016-12-20.

Composition and process for ultra-fine pattern formation

Номер патента: US4401745A. Автор: Hisashi Nakane,Wataru Kanai,Minoru Tsuda. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1983-08-30.

Synergistic Object Tracking and Pattern Recognition for Event Representation

Номер патента: US20230252651A1. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Synergistic Object Tracking and Pattern Recognition for Event Representation

Номер патента: US20220383519A1. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2022-12-01.

Synergistic object tracking and pattern recognition for event representation

Номер патента: US12125219B2. Автор: Kevin Prince,Keith Comito. Владелец: Disney Enterprises Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Combined pattern holder and pattern position indicator

Номер патента: CA1147142A. Автор: Manny C. Hamburger. Владелец: Individual. Дата публикации: 1983-05-31.

Interpretation of features for signal processing and pattern recognition

Номер патента: WO2002095730A1. Автор: JI Ming,Francis John Smith,Peter Jancovic. Владелец: Queen's University Of Belfast. Дата публикации: 2002-11-28.

Positive photoresist composition and resist pattern formation

Номер патента: WO2005029184A2. Автор: Toshiki Okui,Yasuo Masuda. Владелец: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.. Дата публикации: 2005-03-31.

Resist material and patterning process

Номер патента: US20230296981A1. Автор: Tomohiro Kobayashi,Yutaro OTOMO,Gentaro Hida,Tomonari NOGUCHI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Pattern formation method and magnetic recording medium manufacturing method

Номер патента: US20150099064A1. Автор: Akira Watanabe,Kazutaka Takizawa,Kaori Kimura. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-04-09.

Pattern formation method, control device, and semiconductor device manufacture method

Номер патента: US20160259240A1. Автор: Hideaki Sakurai,Shingo Kanamitsu,Keiko Morishita. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2016-09-08.

Resist pattern formation method

Номер патента: US11796919B2. Автор: Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2023-10-24.

Textile matching using color and pattern recognition and methods of use

Номер патента: US20200057912A1. Автор: Bin Jin,Terrence A. CARROLL,Peter Hussami,András KALECZ-SIMON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-02-20.

Resist pattern formation method

Номер патента: EP3809206A1. Автор: Seiichi Tagawa. Владелец: Osaka University NUC. Дата публикации: 2021-04-21.

Microtransfer molding process and patterned substrate obtainable therefrom

Номер патента: US20200174363A1. Автор: David Grosso,Thomas BOTTEIN. Владелец: Aix Marseille Universite. Дата публикации: 2020-06-04.

Microtransfer molding process and patterned substrate obtainable therefrom

Номер патента: WO2019001934A1. Автор: David Grosso,Thomas BOTTEIN. Владелец: Université D'aix-Marseille. Дата публикации: 2019-01-03.

In vitro biosimulator to induce pattern formation in non-adherent cells

Номер патента: US20170145367A1. Автор: Sunil Thomas. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-05-25.

Systems and methods for color and pattern analysis of images of wearable items

Номер патента: US10528814B1. Автор: Steven Sesshu SHIMOZAKI. Владелец: Caastle Inc. Дата публикации: 2020-01-07.

Resist composition and patterning process

Номер патента: US20220236643A1. Автор: Takayuki Fujiwara,Masaki Ohashi,Kenichi Oikawa,Tomohiro Kobayashi,Teppei Adachi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-28.

Pattern formation with negative type resist

Номер патента: US4442199A. Автор: Teruo Fujimoto,Kimio Shibayama,Kingo Itaya. Владелец: Toyo Soda Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1984-04-10.

System and method for locating color and pattern match regions in a target image

Номер патента: EP1218851A2. Автор: Nicolas Vazquez,Dinesh Nair,Darren Schmidt,Siming Lin. Владелец: National Instruments Corp. Дата публикации: 2002-07-03.

Contextual item discovery and pattern inculcated reminder mechanism

Номер патента: US20240304075A1. Автор: Shikhar KWATRA,Amitava Kundu,Pritesh Patel,Sujatha B. Perepa. Владелец: Kyndryl Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Associative memory processing method for natural language parsing and pattern recognition

Номер патента: US5619718A. Автор: Nelson Correa. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-04-08.

Exposure Method, Exposure Apparatus, Light Converging Pattern Formation Member, Mask, and Device Manufacturing Method

Номер патента: US20120176590A1. Автор: Michio Noboru. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2012-07-12.

Process for resist pattern formation using positive electrodeposition photoresist compositions

Номер патента: US5702872A. Автор: Naozumi Iwasawa,Genji Imai,Tsuguo Yamaoka. Владелец: Kansai Paint Co Ltd. Дата публикации: 1997-12-30.

Structure and method for simultaneously determining an overlay accuracy and pattern placement error

Номер патента: GB2446314A. Автор: Bernd Schulz. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2008-08-06.

Contextual item discovery and pattern inculcated reminder mechanism

Номер патента: US20230306837A1. Автор: Shikhar KWATRA,Amitava Kundu,Pritesh Patel,Sujatha B. Perepa. Владелец: Kyndryl Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

System and methods for streaming string similarity and pattern matching

Номер патента: US20230401246A1. Автор: Anup Rao,Tung Mai,Ryan A. Rossi. Владелец: Adobe Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Contextual item discovery and pattern inculcated reminder mechanism

Номер патента: US12014617B2. Автор: Shikhar KWATRA,Amitava Kundu,Pritesh Patel,Sujatha B. Perepa. Владелец: Kyndryl Inc. Дата публикации: 2024-06-18.

Compositions and methods for treating and preventing infections caused by staphylococcus aureus

Номер патента: RU2764981C1. Автор: Джон СИМАРД. Владелец: ИксБиотеч Инк.. Дата публикации: 2022-01-24.

Compositions and methods of treating colitis

Номер патента: RU2518416C2. Автор: Роберт ШАЛВИЦ,Джозеф Х. ГАРДНЕР. Владелец: Аэрпио Терапьютикс Инк.. Дата публикации: 2014-06-10.

Rubber composition and pneumatic tyre

Номер патента: RU2471826C2. Автор: Тосиюки ОТА. Владелец: Бриджстоун Корпорейшн. Дата публикации: 2013-01-10.

Noise elimination composition and strap with use thereof

Номер патента: RU2726200C1. Автор: Кён Сок ПАК. Владелец: ПЭК, Чон-Ын. Дата публикации: 2020-07-09.

Compositions and methods for modulating activity of at2r

Номер патента: RU2721241C2. Автор: Мадхави П. ГАВИНИ,Раджа Р. СРИНИВАС. Владелец: Новопиксис Инк.. Дата публикации: 2020-05-18.

Synergetic composition and method of inhibiting growth of microorganisms

Номер патента: RU2414432C2. Автор: Берт САЙМОНЗ. Владелец: Налко Компани. Дата публикации: 2011-03-20.

Method of manufacture of rubber composition, rubber composition and tire

Номер патента: RU2668919C1. Автор: Ясуси ЯМАГИСИ. Владелец: Бриджстоун Корпорейшн. Дата публикации: 2018-10-04.

Composition, system and method for making the composition and system and method for using the composition

Номер патента: US20080217253A1. Автор: John Graham. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-09-11.

Memory formatting method, memory controller, and memory storage apparatus

Номер патента: US09389998B2. Автор: Chien-Fu Lee. Владелец: Phison Electronics Corp. Дата публикации: 2016-07-12.

Structure and formation method of semiconductor device structure

Номер патента: US09905633B1. Автор: Chi-Han YANG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-27.

Pattern formation method, manufacturing method of peizoelectric film and manufacturing method of piezoelectric element

Номер патента: US09583694B2. Автор: Xianfeng Chen. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Pattern formation method that includes partially removing line and space pattern

Номер патента: US09502306B2. Автор: Tadashi Arai,Koichiro Tsujita. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Pattern formation method and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US11735431B2. Автор: Yusuke KASAHARA. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-08-22.

Contact hole formation methods

Номер патента: US09455177B1. Автор: Phillip D. Hustad,Jong Keun Park. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials LLC. Дата публикации: 2016-09-27.

Conductive pattern formation method and conductive pattern formation device

Номер патента: US20150371740A1. Автор: Sayaka Morita,Keita Saito,Midori Shimomura,Dai SUWAMA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Pattern formation method

Номер патента: US20150011089A1. Автор: Hiroshi Yamamoto,Mitsuhiro Omura,Hisataka Hayashi,Tsubasa IMAMURA. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-01-08.

Pattern formation method

Номер патента: US20090179004A1. Автор: Seiji Kajiwara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-16.

Pattern formation method

Номер патента: US9040429B2. Автор: Hirokazu Kato,Ayako KAWANISHI. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2015-05-26.

Formation method of semiconductor device structure

Номер патента: US09721805B1. Автор: Yi-Wei Chiu,Tzu-Chan Weng,Chen-Wei Pan,Chia-Hui Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Structure and formation method of package structure with capacitor

Номер патента: US20240339369A1. Автор: Wen-Shiang Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

PATTERNED NAIL VARNISH COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION IN NAIL VARNISH

Номер патента: FR2987261A1. Автор: Olivier Nouguerede,Judith Cam. Владелец: Fiabila SA. Дата публикации: 2013-08-30.

Conductive pattern formation method and conductive pattern formation device

Номер патента: US10440831B2. Автор: Sayaka Morita,Keita Saito,Midori Shimomura,Dai SUWAMA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2019-10-08.

Line pattern formation method

Номер патента: US20100224392A1. Автор: Kazuaki Okamori. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2010-09-09.

Zero-overhead method for sequence reversible and pattern independent orthogonal multiplexing

Номер патента: US20030086365A1. Автор: David Horne. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2003-05-08.

Composition and method for treatment of mrsa

Номер патента: US20120277660A1. Автор: Nicolas Loebel,Cale Street,Lisa Pedigo. Владелец: Ondine International Ltd. Дата публикации: 2012-11-01.

Composition and method for treatment of mrsa

Номер патента: EP2323643A1. Автор: Nicolas Loebel,Cale Street,Lisa Pedigo. Владелец: Ondine International Ltd. Дата публикации: 2011-05-25.

Photodynamic therapy process and photosensitizer compositions

Номер патента: EP2257295A1. Автор: Cale Street,Nicholas Loebel. Владелец: Ondine International Ltd. Дата публикации: 2010-12-08.

Photodynamic therapy process and photosensitizer compositions

Номер патента: WO2009048868A1. Автор: Cale Street,Nicholas Loebel. Владелец: Ondine International Ltd.. Дата публикации: 2009-04-16.

Photosensitive composition and planographic printing plate precursor

Номер патента: US7303857B2. Автор: Takahiro Goto. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-12-04.

Composition and method for treatment of mrsa

Номер патента: CA2732307C. Автор: Nicolas Loebel,Cale Street,Lisa Pedigo. Владелец: Ondine International Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Antimicrobial photosensitizer compositions comprising an inula viscosa extract

Номер патента: CA3067761C. Автор: Irit Itzhaki VAN-HAM. Владелец: Toefx Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Photosensitive composition

Номер патента: US7052822B2. Автор: Takahiro Goto. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2006-05-30.

Method for molding a photosensitive composition

Номер патента: US5028361A. Автор: Takeo Fujimoto. Владелец: Takeo Fujimoto. Дата публикации: 1991-07-02.

Antimicrobial photosensitizer composition and method

Номер патента: AU2019235631B2. Автор: Irit Itzhaki VAN-HAM. Владелец: Toefx Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Line-pattern formation method and line-pattern formation apparatus

Номер патента: SG140557A1. Автор: Naoki Ozawa,Hiroyuki Urabe,Ayano Yamashita,Emiko Nakasato. Владелец: Carl Mfg Co. Дата публикации: 2008-03-28.

Colored and patterned printing technique applied between coated layers forming artificial leather

Номер патента: WO2009110853A1. Автор: Rafet Tukek. Владелец: Flokser Tekstil Sanayi Ve Ticaret A.S.. Дата публикации: 2009-09-11.

Method of making patterned floor covering and patterned floor covering

Номер патента: RU2705353C1. Автор: Марио КРЕГЕР,Дитер РИШЕР. Владелец: Нора Системз Гмбх. Дата публикации: 2019-11-06.

Three-dimensional puzzle and pattern-pasting method

Номер патента: GB2432794A. Автор: Chih-Chung Fang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-06.

Line-pattern formation method and line-pattern formation apparatus

Номер патента: US20080041247A1. Автор: Naoki Ozawa,Hiroyuki Urabe,Ayano Yamashita,Emiko Nakasato. Владелец: CARL Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-21.

Printing Cone for Hand Printing Designs and Patterns

Номер патента: US20240217251A1. Автор: Darin A. Grassman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-04.

Test pattern formation method, landing deviation amount acquisition method, and recording device

Номер патента: US20200079123A1. Автор: Eishin Yoshikawa. Владелец: Seiko Epson Corp. Дата публикации: 2020-03-12.

Methods and apparatus for hand printing designs and patterns

Номер патента: US11993091B2. Автор: Darin A. Grassman. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-05-28.

Pattern-bearing sheet for use in simultaneous injection-molding and pattern-forming method

Номер патента: US5843555A. Автор: Kazuhisa Kobayashi,Hiroyuki Atake. Владелец: DAI NIPPON PRINTING CO LTD. Дата публикации: 1998-12-01.

Elastomer-metal cord composite and tire using same

Номер патента: US20200039295A1. Автор: Kazuki Uemura. Владелец: Bridgestone Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Pattern formation device, liquid ejection device, and electrical fault detection method

Номер патента: US20170305145A1. Автор: Tadashi Kyoso. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2017-10-26.

Nano pattern formation

Номер патента: US20140044933A1. Автор: Kwangyeol Lee. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2014-02-13.

Pattern formation device, liquid ejection device, and electrical fault detection method

Номер патента: US09956764B2. Автор: Tadashi Kyoso. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Gutter debris preclusion device with multiple manipulations and patterns thereof

Номер патента: US09976309B2. Автор: Robert C. Lenney. Владелец: Gutterglove Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Pattern-formation strategy board game

Номер патента: US4645209A. Автор: Victor H. Goulter,Barbara W. Goulter. Владелец: Individual. Дата публикации: 1987-02-24.

Pattern formation board game

Номер патента: US20060145420A1. Автор: Paul Micarelli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-07-06.

Nano pattern formation

Номер патента: WO2011010816A1. Автор: Kwangyeol Lee. Владелец: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION. Дата публикации: 2011-01-27.

Pattern formation board game

Номер патента: WO2006073595A1. Автор: Paul Micarelli. Владелец: 3 Amoebas, Inc.. Дата публикации: 2006-07-13.

New ophthalmic compositions and methods of application thereof

Номер патента: RU2392925C2. Автор: Валид КХАТИБ. Владелец: Лаборатуар Теа. Дата публикации: 2010-06-27.

Biocompatible composite and its application

Номер патента: RU2527340C2. Автор: Тимо ЛЕХТОНЕН,Юкка ТУОМИНЕН. Владелец: Пюрак Биокем Б.В.. Дата публикации: 2014-08-27.

Time-release pharmaceutical composition and use thereof

Номер патента: RU2474416C2. Автор: Андерс МАГНУССОН,Микаэль ТУНЕ. Владелец: Астразенека Аб. Дата публикации: 2013-02-10.

Emulsified liposomal composition and method for its preparation

Номер патента: RU2746414C1. Автор: Юн-Хсыан ЛИН. Владелец: ТиСиАй КО., ЛТД.. Дата публикации: 2021-04-13.

Compositions and methods for mineralization of teeth

Номер патента: RU2697878C2. Автор: Эрик Чарльз РЕЙНОЛЬДС. Владелец: Де Юниверсити Оф Мельбурн. Дата публикации: 2019-08-21.

Fibrous composite and method of its production

Номер патента: RU2518378C2. Автор: Файзаль Х.-Й. КНАППЕ. Владелец: Файзаль Х.-Й. КНАППЕ. Дата публикации: 2014-06-10.

Anti-acne skin care composition and skin care product

Номер патента: RU2396958C2. Автор: Тимм ШМИДТ. Владелец: РЕКИТТ ЭНД КОЛМЭН (ОУВЕРСИЗ) ЛИМИТЕД. Дата публикации: 2010-08-20.

Antimicrobial compositions and methods of using them

Номер патента: RU2519038C2. Автор: Януш СТЕЧКО,Стефен Р. ЭШ. Владелец: Зурекс Фарма, Инк.. Дата публикации: 2014-06-10.

Composition and using it for hair growth-stimulating effect

Номер патента: RU2491914C2. Автор: Альфред ШМИДТ. Владелец: Луколас-М.Д. Лтд. Дата публикации: 2013-09-10.

Dental composition and its production method

Номер патента: RU2771163C2. Автор: Мён-Хван О,Чон-Хо КАН,Юн-Ки КИМ. Владелец: Вериком Ко., Лтд.. Дата публикации: 2022-04-27.

Semi-solid compositions and pharmaceutical products

Номер патента: RU2526803C2. Автор: Грю СТЕНСРУД. Владелец: ФотоКьюэр АСА. Дата публикации: 2014-08-27.

Compositions and methods for immunity enhancement

Номер патента: RU2693022C2. Автор: Хун ВАН. Владелец: Шакли Корпорейшн. Дата публикации: 2019-07-01.

Compositions and products for use in treating fractures and bone defects

Номер патента: RU2697873C2. Автор: Ян Альберт ГОССЕН. Владелец: Остео-Фарма Б.В.. Дата публикации: 2019-08-21.

Compositions and use thereof in bone regeneration

Номер патента: RU2665361C2. Автор: Марк Д. БОРДЕН. Владелец: СИНЕРДЖИ БАЙОМЕДИКАЛ ЭлЭлСи. Дата публикации: 2018-08-29.

Recording medium, image formation method thereby, and production method thereof

Номер патента: US20030021959A1. Автор: Yuji Kondo,Hiroyuki Ogino,Tsuyoshi Santo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-01-30.

Compositions and methods for the treatment and management of bee hives and the bees therein

Номер патента: US20080026674A1. Автор: Ernest C. Cook. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-01-31.

Gel polysaccharide compositions and methods for prolonged drug delivery

Номер патента: RU2472487C2. Автор: Ахмет ТЕЗЕЛ,Майкл Р. РОБИНСОН. Владелец: Аллерган, Инк.. Дата публикации: 2013-01-20.

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF PATTERN FORMATION WITH THE SAME

Номер патента: US20120115085A1. Автор: KANDA Hiromi,KANNA Shinichi,INABE Haruki. Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-05-10.

Positive type composition and method for pattern formation of transparent conductors using the same

Номер патента: KR102293227B1. Автор: 최한영. Владелец: 동우 화인켐 주식회사. Дата публикации: 2021-08-23.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20120003590A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD

Номер патента: US20120003586A1. Автор: . Владелец: FUJIFILM Corporation. Дата публикации: 2012-01-05.

LATERAL VENTRICLE CELL COMPOSITIONS AND USE FOR TREATING NEURAL DEGENERATIVE DISEASES

Номер патента: US20120003190A1. Автор: Yamoah Ebenezer N.,Wei Dongguang. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods to Treat Bone Related Disorders

Номер патента: US20120003219A1. Автор: LU Chris,HU Shou-Ih,KNEISSEL Michaela,HALLEUX Christine. Владелец: NOVARTIS AG. Дата публикации: 2012-01-05.

Photosensitive compositions containing vanadyl phthalocyanine and a phenzine desensitizing dye

Номер патента: CA1103972A. Автор: Bernard Grushkin,Basil Kyriakakis. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1981-06-30.

PHOTORESIST AND PATTERNING PROCESS

Номер патента: US20120003582A1. Автор: Wang Chien-Wei,Huang Chun-Ching. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Composition and method for dust suppression wetting agent

Номер патента: US20120000361A1. Автор: Weatherman Greg,Cash Marcia. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Tricalcium Phosphate Coarse Particle Compositions and Methods for Making the Same

Номер патента: US20120000394A1. Автор: Delaney David C.,Jalota Sahil,Yetkinler Duran N.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HOLE TRANSPORT COMPOSITIONS AND RELATED DEVICES AND METHODS (I)

Номер патента: US20120001127A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SEMICONDUCTIVE COMPOSITION AND THE POWER CABLE USING THE SAME

Номер патента: US20120001128A1. Автор: Kim Yoon-Jin,Kim Ung,Ko Chang-Mo. Владелец: LS Cable & System Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Topical Lightening Composition and Uses Thereof

Номер патента: US20120003168A1. Автор: Lyga John W.,Santhanam Uma,Welsh William J.. Владелец: AVON PRODUCTS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for Treating S. Pneumoniae Infection

Номер патента: US20120003203A1. Автор: Mizrachi-Nebenzahl Yaffa,Dagan Ron. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR MODULATING VASCULAR DEVELOPMENT

Номер патента: US20120003208A1. Автор: Ye Weilan,Parker,Schmidt Maike,Filvaroff Ellen,IV Leon H.,Hongo Jo-Anne S.. Владелец: Genentech, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Novel composition and methods for the treatment of psoriasis

Номер патента: US20120003246A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIRUS LIKE PARTICLE COMPOSITIONS AND METHODS OF USE

Номер патента: US20120003266A1. Автор: . Владелец: The United States of America,as represented by The Secretary, National Institues of Health. Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for the Treatment of Ophthalmic Disease

Номер патента: US20120003275A1. Автор: Donello John E.,Schweighoffer Fabien J.,Rodrigues Gerard A.,McLaughlin Anne P.,Mahé Florence. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

CERAMIC/STRUCTURAL PROTEIN COMPOSITES AND METHOD OF PREPARATION THEREOF

Номер патента: US20120003280A1. Автор: Wei Mei,Qu Haibo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Compositions and Methods for Stimulation MAGP-1 to Improve the Appearance of Skin

Номер патента: US20120003332A1. Автор: Lyga John W.,Zheng Qian,Chen Siming W.,Santhanam Uma. Владелец: AVON PRODUCTS, INC.. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR CONTROLLING BLOOD GLUCOSE LEVELS

Номер патента: US20120003339A1. Автор: MINACAPELLI Pompeo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Insecticidal Composition and Method

Номер патента: US20120003491A1. Автор: . Владелец: ZELAM LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

ORGANIC SOLVENT DISPERSION, RESIN COMPOSITION, AND OPTICAL DEVICE

Номер патента: US20120003502A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS FOR DETECTING MUTATIONS IN JAK2 NUCLEIC ACID

Номер патента: US20120003653A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

DIAGNOSTIC COMPOSITION AND ARTICLE FOR MONITORING INTRAVAGINAL INFECTIONS

Номер патента: US20120003685A1. Автор: Kritzman Amnon,Nachshon Nitsa G.,Behar Yael,Brusilovsky David,Terem Menashe,Brand Adva. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

HYDROXYPROLINE COMPOSITIONS AND USES THEREOF

Номер патента: US20120004157A1. Автор: Aksnes Anders. Владелец: Bergen Teknologioverforing AS. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOSITIONS AND METHODS OF DELIVERY OF PHARMACOLOGICAL AGENTS

Номер патента: US20120004177A1. Автор: Trieu Vuong,Desai Neil P.,Soon-Shiong Patrick. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND METHODS FOR REDUCING LIPID LEVELS

Номер патента: US20120004223A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Ophthalmic Compositions and Methods of Using the Same

Номер патента: US20120004265A1. Автор: Green Kenneth E.,CABALLA Susan,MINNO George E.. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MATERIAL COMPOSITION AND OPTICAL ELEMENTS USING THE SAME

Номер патента: US20120004366A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

ADHESIVE COMPOSITION AND OPTICAL MEMBER USING THE SAME

Номер патента: US20120004369A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Liquid or gas jet formation method and device (variants)

Номер патента: RU2285801C1. Автор: Юрий яковлевич Курлов. Владелец: Юрий яковлевич Курлов. Дата публикации: 2006-10-20.

Stone oil from stone fruits, method for extraction the same, pharmaceutical compositions and uses thereof

Номер патента: RU2285535C2. Автор: Дапенг ЛИ. Владелец: Дапенг ЛИ. Дата публикации: 2006-10-20.