Phase shift mask
Номер патента: GB9518316D0
Опубликовано: 08-11-1995
Автор(ы):
Принадлежит: Hyundai Electronics Industries Co Ltd
Опубликовано: 08-11-1995
Автор(ы):
Принадлежит: Hyundai Electronics Industries Co Ltd
Phase-shift photomask for patterning high density features
Номер патента: US6780568B1. Автор: John L. Nistler,Stuart E. Brown. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2004-08-24.