Light assisted platelet formation facilitating layer transfer from a semiconductor donor substrate
Номер патента: US20190329542A1
Опубликовано: 31-10-2019
Автор(ы): Charles Lottes, Gang Wang
Принадлежит: GlobalWafers Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-10-2019
Автор(ы): Charles Lottes, Gang Wang
Принадлежит: GlobalWafers Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method for Manufacturing a Semiconductor Device by Thermal Treatment with Hydrogen
Номер патента: US20150056784A1. Автор: Anton Mauder,Hans-Joachim Schulze,Francisco Javier Santos Rodriguez,Carsten Ahrens,Johannes Baumgartl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2015-02-26.