元素状ケイ素を含む膜の化学機械平坦化.

元素状ケイ素を含む膜の化学機械平坦化

Номер патента: JP6673954B2
Опубликовано: 01-04-2020
Автор(ы): ジョウホーンジュン, チャンドラカントタンボリドンヤネシュ, チャンドラカントタンボリドンヤネシュ, ピー．ムレッラクリシュナ, マシューヘンリージェイムズ, マシューヘンリージェイムズ
Принадлежит: バーサムマテリアルズユーエス，リミティドライアビリティカンパニー, バーサムマテリアルズユーエス，リミティドライアビリティカンパニー
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Slurry compositions for polishing metal layers, chemical mechanical polishing apparatuses using the same, and methods for fabricating semiconductor devices using the same

Номер патента: US20230193080A1. Автор: Sang Kyun Kim,Byung Keun Hwang,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Chemical mechanical polishing apparatus and method for performing cerium oxide-based chemical mechanical polishing

Номер патента: CN111318955A. Автор: 李善雄. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-06-23.

Chemical Mechanical Planarization Of Films Comprising Elemental Silicon

Номер патента: US20200032108A1. Автор: Hongjun Zhou,Dnyanesh Chandrakant Tamboli,Joseph Rose,Krishna P. Murella,James Matthew Henry. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2020-01-30.

Chemical mechanical planarization of films comprising elemental silicon

Номер патента: KR102118568B1. Автор: 드냐네시 찬드라칸트 탐볼리,크리쉬나 피. 무렐라,제임스 매튜 헨리,조셉 로즈,홍준 주. Владелец: 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨. Дата публикации: 2020-06-03.

Chemical mechanical planarization of films comprising elemental silicon

Номер патента: IL257765B1. Автор: . Владелец: Versum Mat Us Llc. Дата публикации: 2023-12-01.

Chemical mechanical planarization of films comprising elemental silicon

Номер патента: IL257765B2. Автор: . Владелец: Versum Mat Us Llc. Дата публикации: 2024-04-01.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods and apparatuses for making and using such slurries

Номер патента: US6124207A. Автор: Karl M. Robinson,Michael Andreas. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-26.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: AU5783199A. Автор: Karl M. Robinson,Michael Andreas. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-03-21.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: KR100563018B1. Автор: 로빈슨칼엠.,안드레아스마이클. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2006-03-22.

Slurries for mechanical or chemical-mechanical planar polishing of microelectronic device substrate assemblies, and methods and apparatus for making and using such slurries

Номер патента: JP4083386B2. Автор: カールエムロビンソン,マイケルアンドレアス. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-04-30.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: TW201131020A. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Meyers,Xiaobo Shi. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2011-09-16.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: US7915071B2. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2011-03-29.

Method for Chemical Mechanical Planarization of Chalcogenide Materials

Номер патента: US20090057661A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2009-03-05.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: KR101031446B1. Автор: 주나이드 아메드 시디퀴,사이피 유에스마니. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2011-04-26.

Method for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: KR101192742B1. Автор: 지아오보 시,레이첼 다이안느 맥코넬,앤 마리 메이어스. Владелец: 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드. Дата публикации: 2012-10-26.

High oxide film removal rate shallow trench (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing

Номер патента: US12091581B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-17.

High Oxide Removal Rates Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Planarization Compositions

Номер патента: US20240297049A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-05.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical-mechanical polishing composition and chemical-mechanical polishing method using the same

Номер патента: US20240263039A1. Автор: Hiroshi Kitamura,Tsuyoshi Masuda,Yoshiyuki Matsumura,Akihisa NAMIKI. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Neutral to alkaline chemical mechanical polishing compositions and methods for tungsten

Номер патента: US11591495B2. Автор: Yi Guo,Tony Quan Tran. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical-mechanical polishing (cmp) composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors

Номер патента: RU2669598C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Мартин КАЛЛЕР,Михаэль ЛАУТЕР,Андреас КЛИПП. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-10-12.

Tungsten chemical mechanical planarization (CMP) with low dishing and low erosion topography

Номер патента: US11884859B2. Автор: Agnes Derecskei,Matthias Stender,Bradley J. Brennan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical Mechanical Planarization (CMP) For Copper And Through-Silicon Via (TSV)

Номер патента: US20240006189A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical planarization (cmp) for copper and through-silicon via (tsv)

Номер патента: EP4259736A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Rung-Je Yang,Robert Vacassy,Keh-Yeuan LI,Ming Shih Tsai. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-10-18.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: WO2023240260A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: SAINT-GOBAIN CERAMICS & PLASTICS, INC.. Дата публикации: 2023-12-14.

Chemical mechanical planarization slurry and method of polishing a substrate

Номер патента: US20230399543A1. Автор: Lin Fu,Renjie Zhou,Stephen BOTTIGLIERI,Chun-Lung Kuan. Владелец: Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-x Gex MATERIAL IN PRESENCE OF CMP (CHEMICAL MECHANICAL POLISHING) COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND

Номер патента: RU2605941C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Беттина ДРЕШЕР,Кристоф ЖИЛЛО. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing boron silicon compound, chemical mechanical polishing method and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230123263A1. Автор: Ungyu Paik,Hyun Goo Kang,Dong Hyeok Kim,Cheolmin SHIN,Taeseup SONG,Jong Young Cho. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2023-04-20.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing inorganic particles and polymer particles

Номер патента: RU2579597C2. Автор: Южуо ЛИ,Виджай Иммануэль РАМАН,Михаэль ЛАУТЕР,Шиям Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Даниэль Кво-Хунг ШЕН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-04-10.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C9. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-03-16.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing non-ion surfactant and carbonate salt

Номер патента: RU2643541C2. Автор: Южуо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2018-02-02.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp), containing non-ionic surfactant and aromatic compound containing acid group

Номер патента: RU2636511C2. Автор: Южуо ЛИ,Роберт РАЙХАРДТ,Михаэль ЛАУТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-11-23.

Composition for chemical-mechanical polishing containing polyvinyl phosphon acid and derivatives thereof

Номер патента: RU2598046C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН,Виджай Иммануил РАМАН,Южио ЛИ,Кристиан ШАДЕ,Исон Ю-Шен СУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-09-20.

Composition for chemical-mechanical polishing (cmp) containing protein

Номер патента: RU2631875C2. Автор: Бастиан Мартен НОЛЛЕР,Южуо ЛИ,Михаэль ЛАУТЕР,Роланд ЛАНГЕ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2017-09-28.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US11725117B2. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-08-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20240002698A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-01-04.

Chemical mechanical polishing composition containing composite silica particles, method of making the silica composite particles and method of polishing a substrate

Номер патента: US11718769B2. Автор: Yi Guo. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-08-08.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical mechanical polishing slurry composition for polishing multiple films and polishing method using the same

Номер патента: US20210009859A1. Автор: Jae Ik Lee,Jae Woo Lee,Ji Hye Kim,Bo Hyeok Choi. Владелец: KCTech Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-14.

Chemical-mechanical polishing compositions comprising one or more polymers selected from the group consisting of n-vinyl-homopolymers and n-vinyl copolymers

Номер патента: MY177867A. Автор: Yongqing Lan,Peter Przybylski,Zhenyu Bao,Julian Prol?. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-09-23.

Double-sided adhesive tape for adhering polishing pad allowing easy air bubble discharge, and chemical-mechanical polishing apparatus using same

Номер патента: EP4450577A1. Автор: JEONG Yeon Jeong,Seung Geun Kim,Byung Ju Min,Seok Ji HONG,Kang Mun Cho. Владелец: KPX CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Cerium oxide particles, chemical mechanical polishing slurry composition comprising same, and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20230348753A1. Автор: Jeong Ho Lee,Seok Joo Kim. Владелец: Soulbrain Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, containing film based on silicon oxide dielectric and based on polycrystalline silicon

Номер патента: RU2588620C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Исон Юй-Шен СУ,Аренд Йоукэ КИНГМА,Бастиан Мартен НОЛЛЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Cerium oxide chemical mechanical polishing slurry composition that enhanced polishing non-uniformity

Номер патента: KR20060123878A. Автор: 박종대,공현구,이봉상,손정현. Владелец: 주식회사 동진쎄미켐. Дата публикации: 2006-12-05.

Method for chemical-mechanical polish (CMP) planarizing of cooper containing conductor layers

Номер патента: US5780358A. Автор: CHU RON-FU,Mei Sheng Zhou. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1998-07-14.

Method and slurry composition for chemical-mechanical polish (CMP) planarizing of copper containing conductor layers

Номер патента: US5863307A. Автор: Mei Sheng Zhou,Ron-Fu Chu. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 1999-01-26.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Pad-ln-a-bottle chemical mechanical planarization polishing with cost-effective non-porous solid polishing pads

Номер патента: EP4430134A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Stable chemical mechanical planarization polishing compositions and methods for high rate silicon oxide removal

Номер патента: WO2023178003A1. Автор: LU Gan,Maitland GRAHAM,Ramon BERNASCONI,Maxwell WARNEKE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: US20230287242A1. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2023-09-14.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Water polishing composition and method of chemical-mechanical polishing of substrate materials for electric, mechanical and optical devices

Номер патента: RU2577281C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Харви Уэйн ПИНДЕР,ИБРАХИМ Шейк Ансар УСМАН. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-03-10.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates having polysilicon and silicon oxide dielectric films

Номер патента: RU2573672C2. Автор: Шиам Сундар ВЕНКАТАРАМАН,Южуо ЛИ,Джеа-Джу ЧУ,Вей Лан Уиллиам ЧИУ,Харви Уэйн ПИНДЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-01-27.

Stabilized Chemical Mechanical Polishing Composition And Method Of Polishing A Substrate

Номер патента: US20110306211A1. Автор: Yi Guo,Zhendong Liu,Kancharla-Arun Kumar Reddy,Guangyun Zhang. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Chemical mechanical polishing of substrates containing copper and ruthenium

Номер патента: US20230416570A1. Автор: Julian Proelss,Michael Lauter,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Reza M. Golzarian,Te Yu Wei,Wei Lan Chiu. Владелец: BASF Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US20220315800A1. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Method

Номер патента: US20240316608A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Transcene Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Chemical mechanical polishing composition

Номер патента: US11993729B2. Автор: Yongqing Lan,Sheik Ansar Usman Ibrahim,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian Daeschlein,Reza M Golzarian. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-05-28.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Oxide chemical mechanical planarization (cmp) polishing compositions

Номер патента: EP3608379B1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-07-03.

Shallow trench isolation (STI) chemical mechanical planarization (CMP) polishing with low abrasive concentration and a combination of chemical additives

Номер патента: US11326076B2. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Mark Leonard O'Neill,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2022-05-10.

Shallow trench isolation (sti) chemical mechanical planarization (cmp) polishing with low abrasive concentration and a combination of chemical additives

Номер патента: KR102382368B1. Автор: 시아오보 시,조셉 디 로즈,홍쥔 조우,마크 레오날드 오닐,크리슈나 피 뮤렐라. Владелец: 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨. Дата публикации: 2022-04-05.

Shallow trench isolation (sti) chemical mechanical planarization (cmp) polishing with low abrasive concentration and a combination of chemical additives

Номер патента: KR20200092892A. Автор: 시아오보 시,조셉 디 로즈,홍쥔 조우,마크 레오날드 오닐,크리슈나 피 뮤렐라. Владелец: 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨. Дата публикации: 2020-08-04.

Shallow trench isolation (sti) chemical mechanical planarization (cmp) polishing with low abrasive concentration and a combination of chemical additives

Номер патента: IL272143B1. Автор: . Владелец: Versum Mat Us Llc. Дата публикации: 2023-04-01.

Shallow trench isolation (sti) chemical mechanical planarization (cmp) polishing with low abrasive concentration and a combination of chemical additives

Номер патента: IL272143B2. Автор: . Владелец: Versum Mat Us Llc. Дата публикации: 2023-08-01.

Chemical mechanical polishing composition for polishing sapphire surface and methods of using same

Номер патента: RU2661219C2. Автор: Аллен С. БЬЮЛИК,Хидеаки НИСИЗАВА,Казуки МОРИЯМА,Коити ЙОСИДА,Сундзи ЕЗАВА,Селванатхан АРУМУГАМ. Владелец: РОМ ЭНД ХААС ЭЛЕКТРОНИК МАТИРИАЛЗ СиЭмПи ХОЛДИНГЗ, ИНК.. Дата публикации: 2018-07-13.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4408944A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-07.

Chemical Mechanical Planarization of Films Comprising Elemental Silicon

Номер патента: US20180244955A1. Автор: Tamboli Dnyanesh Chandrakant,Murella Krishna P.,Zhou Hongjun,Rose Joseph,Henry James Matthew. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2018-08-30.

Combination, Method, and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Tungsten-Containing Substrate

Номер патента: US20130288479A1. Автор: Rachel Dianne Mcconnell,Ann Marie Hurst. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-10-31.

Chemical-mechanical planarization of substrates containing copper, ruthenium, and tantalum layers

Номер патента: KR101839633B1. Автор: 유주오 리,케 왕. Владелец: 바스프 에스이. Дата публикации: 2018-03-16.

Combination, method, and composition for chemical mechanical planarization of a tungsten-containing substrate

Номер патента: US8506831B2. Автор: Dianne Rachel McConnell,Ann Marie Hurst. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-08-13.

Chemical mechanical planarization of metal substrates

Номер патента: WO2002014014A2. Автор: Craig D. Lack,Wendy B. Goldberg,Glenn C. Mandigo,Ross E. Ii Barker,Ian G. Sullivan. Владелец: Rodel Holdings, Inc.. Дата публикации: 2002-02-21.

Chemical mechanical planarization of metal substrates

Номер патента: US6602436B2. Автор: Craig D. Lack,Wendy B. Goldberg,Glenn C. Mandigo,Ian G. Sullivan,II Ross E. Barker. Владелец: Rodel Holdings Inc. Дата публикации: 2003-08-05.

Chemical mechanical planarization of metal substrates

Номер патента: WO2002014014A3. Автор: Craig D Lack,Glenn C Mandigo,Ross E Ii Barker,Ian G Sullivan,Wendy B Goldberg. Владелец: Rodel Inc. Дата публикации: 2002-05-02.

Method for Chemical Mechanical Planarization of Chalcogenide Materials

Номер патента: US20090057834A1. Автор: James Allen Schlueter,Bentley J. Palmer. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2009-03-05.

Method for chemical mechanical planarization of chalcogenide materials

Номер патента: US7678605B2. Автор: James Allen Schlueter,Bentley J. Palmer. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-03-16.

Chemical-mechanical planarization of substrates containing copper, ruthenium, and tantalum layers

Номер патента: WO2011101755A1. Автор: Yuzhuo Li,Ke Wang. Владелец: Basf (China) Company Limited. Дата публикации: 2011-08-25.

Chemical-mechanical planarization of substrates containing copper, ruthenium, and tantalum layers

Номер патента: EP2539411B1. Автор: Yuzhuo Li,Ke Wang. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2020-08-05.

Chemical-mechanical planarization of substrates containing copper, ruthenium, and tantalum layers

Номер патента: TW201202369A. Автор: Yuzhuo Li,Ke Wang. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2012-01-16.

Chemical-mechanical planarization of substrates containing copper, ruthenium, and tantalum layers

Номер патента: EP2539411A4. Автор: Yuzhuo Li,Ke Wang. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-11-15.

Chemical-mechanical planarization of substrates containing copper, ruthenium, and tantalum layers

Номер патента: EP2539411A1. Автор: Yuzhuo Li,Ke Wang. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2013-01-02.

Phosphonium Based Polymers And Copolymers As Additives For Chemical Mechanical Planarization Slurries

Номер патента: US20240261931A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-08.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Polycationic polymer or copolymer having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2023201189A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-10-19.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Membrane coating compound for chemical mechanical polishing process, membrane including the same, and polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240189960A1. Автор: Sangkyun Kim,Yearin BYUN,Inkwon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-13.

Fabrication of a Polishing Pad for Chemical Mechanical Polishing

Номер патента: US20230347471A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Ming-Shiuan She,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-02.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US20180361525A1. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-12-20.

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Chemical mechanical polishing pad and method of making same

Номер патента: US09776300B2. Автор: Yuhua Tong,Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,Marty W. Degroot,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Fengji Yeh,David Michael Veneziale,Diego Lugo,Andrew Wank,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Method and slurry for tuning low-k versus copper removal rates during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1936674A3. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2010-04-28.

Apparatus and method for supplying chemicals in chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US20030089456A1. Автор: Sue-ryeon Kim,Seung-un Kim,Seung-ki Chae,Je-Gu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-05-15.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A2. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-08-30.

Removal of defects by in-situ etching during chemical-mechanical polishing processing

Номер патента: EP4235751A3. Автор: Scott B. Singer,Joseph C. Boisvert,Daniel C. Law,Christopher M. Fetzer. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2023-11-15.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Chemical mechanical polishing pads for improved removal rate and planarization

Номер патента: US20230294240A1. Автор: Bainian Qian,George C. Jacob,Nan-Rong Chiou,Jonathan G. Weis. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.. Дата публикации: 2023-09-21.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Infrared absorbing thin film containing rutile-type titanium oxide crystal and method for producing the same

Номер патента: US20130040129A1. Автор: Ren-Hua Jin,Pei-Xin Zhu. Владелец: Kawamura Institute of Chemical Research. Дата публикации: 2013-02-14.

Infrared absorbing thin film containing rutile-type titanium oxide crystal and method for producing the same

Номер патента: US8618232B2. Автор: Ren-Hua Jin,Pei-Xin Zhu. Владелец: Kawamura Institute of Chemical Research. Дата публикации: 2013-12-31.

Pad-in-a-bottle (pib) technology for copper and through-silicon via (tsv) chemical-mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP4189026A4. Автор: Xiaobo Shi,Ara Philipossian,Mark O'Neill,Yasa Sampurno,John Langan. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-07-31.

Shallow Trench Isolation (STI) Chemical Mechanical Planarization (CMP) Polishing With Low Abrasive Concentration And A Combination Of Chemical Additives

Номер патента: US20200239735A1. Автор: Shi Xiaobo,"ONeill Mark Leonard",Murella Krishna P.,Rose Joseph D.,Zhou Hongjun. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2020-07-30.

Composition and Method Used for Chemical Mechanical Planarization of Metals

Номер патента: US20170372918A9. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Stephen W. Hymes,Dnyanesh Chandrakant Tamboli. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2017-12-28.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: WO2004063301A1. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Stephen W. Hymes. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2004-07-29.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: US20040175942A1. Автор: Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Song Chang,Stephen Hymes. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2004-09-09.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: KR101366879B1. Автор: 송 와이. 창,마크 에반스,니야네쉬 탬볼리,스티븐 더블류. 하이메스. Владелец: 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드. Дата публикации: 2014-02-24.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: AU2003303677A1. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Stephen W. Hymes. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2004-08-10.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: TWI348492B. Автор: Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Song Y Chang,Stephen W Hymes. Владелец: Air Prod & Chem. Дата публикации: 2011-09-11.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: US20080254629A1. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Stephen W. Hymes. Владелец: Hymes Stephen W. Дата публикации: 2008-10-16.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: US10373842B2. Автор: Song Y. Chang,Mark Evans,Stephen W. Hymes,Dnyanesh Chandrakant Tamboli. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2019-08-06.

Composition and method used for chemical mechanical planarization of metals

Номер патента: TW200508373A. Автор: Mark Evans,Dnyanesh Tamboli,Song Y Chang,Stephen W Hymes. Владелец: Air Prod & Chem. Дата публикации: 2005-03-01.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: EP1935954A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-06-25.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: US20080148652A1. Автор: Junaid Ahmed Siddiqui,Rachel Dianne Mcconnell,Saifi Usmani. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2008-06-26.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: KR100956216B1. Автор: 주나이드 아흐메드 시디쿠이,레이첼 다이앤 맥코넬,사이피 우스마니. Владелец: 듀퐁 에어 프로덕츠 나노머티어리얼즈 엘엘씨. Дата публикации: 2010-05-04.

Chemical mechanical planarization of wafers or films using fixed polishing pads and a nanoparticle composition

Номер патента: US20040127045A1. Автор: Suryadevara Babu,Venkata Gorantla. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2004-07-01.

Pad-in-a-bottle and single platen chemical mechanical-planarization for back-end applications

Номер патента: EP4430655A1. Автор: Xiaobo Shi,Mark Leonard O'Neill,Robert Vacassy,John G. LANGAN,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,James A. Schlueter. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-09-18.

Method and apparatus for recovery of water and slurry abrasives used for chemical and mechanical planarization

Номер патента: US5928492A. Автор: Glenn A. Roberson, Jr.,Gary L. Corlett. Владелец: Lucid Treatment Systems Inc. Дата публикации: 1999-07-27.

Tri azole- and/or tri azoli um-based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2023056324A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Matthias Stender,Matthias Hengst,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-04-06.

Modified water-soluble polysaccharides having different cation types for slurries in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024073209A1. Автор: Xiaobo Shi,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20230352310A1. Автор: Sang Kyun Kim,Hyo San LEE,In Kwon Kim,Yearin BYUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-11-02.

Aqueous polishing composition and method for chemical-mechanical polishing of substrates, having structured or unstructured dielectric layers with low dielectric constant

Номер патента: RU2589482C2. Автор: Виджай Иммануэль РАМАН,Франк РИТТИГ,Юйчжо ЛИ,Вей Лан Уильям ЧИУ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2016-07-10.

Chemical mechanical polishing slurry composition and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20240318040A1. Автор: Seungho Park,Sanghyun Park,Boyun KIM,Yearin BYUN,Jeongwon Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-26.

Soft polysiloxane core-shell abrasives for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024191746A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-09-19.

Fixed abrasive chemical-mechanical planarization of titanium nitride

Номер патента: US6419554B2. Автор: Dinesh Chopra,Gundu Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-16.

Chemical-mechanical planarization of metallurgy

Номер патента: SG99289A1. Автор: Lustig Naftali,Rodbell Kenneth,Guthrie William,A Brusic Vlasta,Charles Edelstein Daniel,M Fenney Paul,Jaso Mark,B Kaufman Frank,Roper Peter,B Thompson David. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2003-10-27.

Phosphonium based polymers and copolymers as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: EP4352120A1. Автор: Xiaobo Shi,Matthias Stender,Gregor Larbig,Inbal DAVIDI. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-04-17.

Method of chemical-mechanical polishing of thick layers of cobalt-containing alloys

Номер патента: RU2687649C2. Автор: Валентина Александровна Гайдедей. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "КРОКУС НАНОЭЛЕКТРОНИКА". Дата публикации: 2019-05-15.

Stopper for chemical mechanical planarization, method for manufacturing same, and chemical mechanical planarization method

Номер патента: US20070151951A1. Автор: Norihiko Ikeda,Eiji Hayashi,Mutsuhiko Yoshioka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2007-07-05.

Stopper for chemical mechanical planarization, method for manufacturing same, and chemical mechanical planarization method

Номер патента: TW200420687A. Автор: Norihiko Ikeda,Eiji Hayashi,Mutsuhiko Yoshioka. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2004-10-16.

Method and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Metal

Номер патента: US20130178065A1. Автор: Xiaobo Shi,Bentley J. Palmer,Rebecca A. Sawayda,Fadi Abdallah Coder,Victoria Perez. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-07-11.

Diamond slurry for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US6242351B1. Автор: Yuzhuo Li,David Bruce Cerutti,Donald Joseph Buckley, Jr.,Earl Royce Tyre, Jr.,Jason J. Keleher,Richard J. Uriarte,Ferenc Horkay. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-06-05.

Method and composition for chemical mechanical planarization of a metal

Номер патента: US8414789B2. Автор: Xiaobo Shi,Bentley J. Palmer,Rebecca A. Sawayda,Fadi Abdallah Coder,Victoria Perez. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-04-09.

Chemical Mechanical Planarization Pad Having Polishing Layer with Multi-lobed Embedded Features

Номер патента: US20240009798A1. Автор: Bainian Qian,Donna M. Alden,Sheng-Huan Tseng. Владелец: Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holidngs Inc. Дата публикации: 2024-01-11.

Formulations for chemical mechanical polishing pads and cmp pads made therewith

Номер патента: US20180148537A1. Автор: Michael E. Mills,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2018-05-31.

Recycle method and device for recycle of waste water containing suspension from semiconductor processing process, in particular, chemical-mechanical finishing

Номер патента: RU2520474C2. Автор: Франц БРУММЕР. Владелец: Хигхк-Фэктори Гмбх. Дата публикации: 2014-06-27.

Chemical mechanical polishing pad and preparation thereof

Номер патента: US20230112228A1. Автор: Bainian Qian,Michael E. Mills,Lyla M. El-Sayed,Bradley K. Taylor,Robert M. Blomquist,Kancharla-Arun REDDY,Shijing Xia. Владелец: DuPont Electronics Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Composition for depositing silicon-containing thin film containing bis(aminosilyl)alkylamine compound and method for manufacturing silicon-containing thin using the same

Номер патента: US11749522B2. Автор: Sang Ick Lee,Myong Woon Kim,Sang-Do Lee,Se Jin Jang,Sung Gi Kim,Byeong-Il Yang,Joong Jin Park,Jeong Joo Park,Sam Dong LEE. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

Composition for depositing silicon-containing thin film containing bis(aminosilyl)alkylamine compound and method for manufacturing silicon containing thin film using the same

Номер патента: US20220139704A1. Автор: Sang Ick Lee,Myong Woon Kim,Sang-Do Lee,Se Jin Jang,Sung Gi Kim,Byeong-Il Yang,Joong Jin Park,Jeong Joo Park,Sam Dong LEE. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-05.

Composition for depositing silicon-containing thin film containing bis(aminosilyl)alkylamine compound and method for manufacturing silicon-containing thin film using the same

Номер патента: US20200111664A1. Автор: Sang Ick Lee,Myong Woon Kim,Sang-Do Lee,Se Jin Jang,Sung Gi Kim,Byeong-Il Yang,Joong Jin Park,Jeong Joo Park,Sam Dong LEE. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2020-04-09.

Composition and Method Used for Chemical Mechanical Planarization of Metals

Номер патента: US20160079084A1. Автор: Tamboli Dnyanesh Chandrakant,EVANS MARK,Chang Song Y.,Hymes Stephen W.. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2016-03-17.

Methods for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: EP2256171A1. Автор: S. V. Babu,Sharath Hedge,Sunil Jha,Udaya B. Patri,Youngki Hong. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2010-12-01.

Composition useful to chemical mechanical planarization of metal

Номер патента: US7931714B2. Автор: Songyuan CHANG. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-26.

Slurry and method for chemical-mechanical planarization of copper

Номер патента: US20050026444A1. Автор: Sunil Jha,Youngki Hong,Sharath Hegde,S. Babu,Udaya Patri. Владелец: Climax Engineered Materials LLC. Дата публикации: 2005-02-03.

Methods and compositions for chemical mechanical planarization of ruthenium

Номер патента: US6869336B1. Автор: Vishwas V. Hardikar. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2005-03-22.

Polishing etchant composition for chemical-mechanical polishing of cadmium-zinc telluride

Номер патента: RU2627711C1. Автор: Алексей Сергеевич Кашуба,Медина Рефатовна Лакманова,Анна Владимировна Погожева. Владелец: Акционерное общество "НПО "Орион". Дата публикации: 2017-08-10.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017108748A2. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Te Yu Wei,Christian DÄSCHLEIN,Roelf-Peter BAUMANN. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-06-29.

(re,y)-123 superconducting film containing mixed artificial pinning centers and preparation method thereof

Номер патента: US20220123193A1. Автор: YU Chen,Yue Zhao,Yue Wu,Jiamin Zhu,Guangyu JIANG,Yijun DING,Donghong Wu. Владелец: SHANGHAI SUPERCONDUCTOR TECHNOLOGY CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Electrochemical planarization of metal layers using a bipolar electrode assembly

Номер патента: WO1999065072A1. Автор: John A. Adams,Gerald A. Krulik,Everett D. Smith. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 1999-12-16.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

In situ monitoring technique and apparatus for chemical/mechanical planarization endpoint detection

Номер патента: CA2036102C. Автор: Gabriel Lorimer Miller,Eric Richard Wagner. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1995-04-04.

Method of grooving a chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US8758659B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2014-06-24.

Chemical Mechanical Polishing Apparatus Including a Multi-Zone Platen

Номер патента: US20230364733A1. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Chemical mechanical polishing apparatus including a multi-zone platen

Номер патента: US11772228B2. Автор: Chi-hsiang Shen,Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Ji Cui,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Chih Hung Chen,Tsung Hsien Chang,Fu-Ming HUANG,Hung Yen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Chemical mechanical planarization (cmp) pad conditioner and method of making

Номер патента: EP2652773A2. Автор: Srinivasan Ramanath,Jianhui Wu,Arup K. Khaund,Eric M. Schulz. Владелец: Saint Gobain Abrasifs SA. Дата публикации: 2013-10-23.

Chemical mechanical planarization membrane

Номер патента: US11850702B2. Автор: Chien-Wei Chang,Tzi-Yi Shieh,Ren-Dou Lee,Cheng-Ping Chen,Tsung-Lung Lai,Sheng-Tai Peng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Configurable pressure design for multizone chemical mechanical planarization polishing head

Номер патента: WO2015199815A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Samuel Chu-Chiang Hsu,Gautam Shashank Dandavate. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2015-12-30.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US20220118582A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE,Youg Hee LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-04-21.

Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method and method for fabricating semiconductor device

Номер патента: US11986921B2. Автор: Byoung Ho Kwon,Yong Hee Lee,Myung-Ki Hong,Kun Tack LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-21.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: EP1372907A2. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-01-02.

Apparatus and methods for aligning a surface of an active retainer ring with a wafer surface during chemical-mechanical polishing

Номер патента: EP1372907B1. Автор: Miguel A. Saldana,Damon Vincent Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2006-11-29.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Chemical mechanical polishing system for a workpiece, arithmetic system, and method of producing simulation model for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230043639A1. Автор: Norikazu Suzuki,Yoshihiro Mochizuki,Hozumi Yasuda,Yohei Hashimoto. Владелец: Kanazawa University NUC. Дата публикации: 2023-02-09.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20200070300A1. Автор: Ji Min Lee,Eun Kyung Hong,Sung Hyup Kim,Nam Il Koo,Ji Min CHOI,Ik Seon JEON,Sang Yeon OH. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-03-05.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US11590628B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-02-28.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A2. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US12023853B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: WO2003082522A8. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J Hemker,Damon V Williams. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Apparatus and methods for detecting transitions of wafer surface properties in chemical mechanical polishing for process status and control

Номер патента: EP1487611A1. Автор: Yehiel Gotkis,Bruno Morel,Rodney Kistler,Aleksander Owczarz,David J. Hemker,Damon V. Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-12-22.

Rotary body module and chemical mechanical polishing apparatus having the same

Номер патента: US20210008686A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han,Yungjun Kim,Hyunjoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-01-14.

Chemical mechanical polishing apparatus for controlling polishing uniformity

Номер патента: US20200185231A1. Автор: Seung-Ho Park,Hyo-san Lee,In-Kwon Kim,Sang-Won Bae,Woo-in Lee,Sun-jae Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Compensating chemical mechanical wafer polishing apparatus and method

Номер патента: US20030100196A1. Автор: Wen-Chueh Pan,Yang-Jiann Fann,Yih-Hsing Wang,Chaug-Liang Hsu,Jer-Shyong Lai,Chien-Cheng He. Владелец: National Chung Shan Institute of Science and Technology NCSIST. Дата публикации: 2003-05-29.

Substrate holder to reduce substrate edge stress during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012012056A3. Автор: HUNG Chih Chen,Samuel Chu-Chiang Hsu,Denis M. Koosau,Gautam Shashank. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20240307928A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US20240308020A1. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Optical thickness control during a chemical mechanical polishing process and apparatus for effecting the same

Номер патента: US12059769B2. Автор: Chun-Hsi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Polishing articles and integrated system and methods for manufacturing chemical mechanical polishing articles

Номер патента: US09776361B2. Автор: Rajeev Bajaj,Fred C. Redeker,Kasiraman Krishnan,Mahendra C. Orilall,Daniel REDFIELD,Nag B. Patibandla,Gregory E. Menk,Jason G. Fung,Russell Edward Perry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical mechanical polishing pad composite polishing layer formulation

Номер патента: US09630293B2. Автор: Bainian Qian,Julia KOZHUKH,Tony Quan Tran,George C. Jacob,Teresa Brugarolas Brufau,Jeffrey James Hendron,Diego Lugo,Jeffrey B. Miller,Marc R. Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Improved chemical mechanical polishing pad and methods of making and using same

Номер патента: EP2025454A2. Автор: Richard D. Hreha,Ravichandra V. Palaparthi,Benjamin John Vining. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2009-02-18.

Device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad

Номер патента: US5968841A. Автор: Michael Francis Lofaro,William Francis Landers,Adam Dan Ticknor. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1999-10-19.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of fabricating semiconductor device using the same

Номер патента: US20240145254A1. Автор: Hyo-Jung Kim,Dong Hoon KWON. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-02.

Vertically adjustable chemical mechanical polishing head having a pivot mechanism and method for use thereof

Номер патента: US20040121704A1. Автор: Jun Liu,Huey-Ming Wang,Kunihiko Sakurai,Gerard Moloney,Peter Lao. Владелец: Ebara Technologies Inc. Дата публикации: 2004-06-24.

Chemical-mechanical polishing apparatus, polishing pad and method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20030168169A1. Автор: Kiyoshi Tanaka,Akira Ishikawa,Satoru Ide,Eiichi Yamamoto,Takahiko Mitsui. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2003-09-11.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection and monitoring for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: EP1419853A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Grigory Pyatigorsky,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-05-19.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A3. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-04-12.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Vacuum assembly for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200101580A1. Автор: Shih-Ho Lin,Yu-chen Wei,Chun-Jui Chu,Chih-Yuan Yang,Jen Chieh Lai,Szu-Cheng Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-02.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US11819976B2. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Ekaterina MIKHAYLICHENKO,Erik Rondum,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Spray system for slurry reduction during chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240042571A1. Автор: Christopher Heung-Gyun Lee,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Erik Rondum,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Anand Nilakantan IYER,Tiffany Yu-nung Cheung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical mechanical polishing method, method of manufacturing semiconductor device, and semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20180104792A1. Автор: Hyo-san Lee,Myung-Ki Hong,Joo-Han LEE,Sung-Oh Park,Yung-Jun Kim,Kyu-min Oh,Sun-gyu PARK,Seh-Kwang Lee,Chan-ki Yang. Владелец: EHWA Diamond Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-19.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220388041A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-12-08.

System and method for monitoring chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182257A1. Автор: Chih-Yu Wang,Tien-Wen Wang,In-Tsang Lin,Hsin-Hui Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-15.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20200376523A1. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Endpoint control during chemical mechanical polishing by detecting interface between different layers through selectivity change

Номер патента: WO2012012052A2. Автор: Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Xiaoyuan Hu (Sandra). Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Steam treatment stations for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US12030093B2. Автор: Hui Chen,Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Chih Chung Chou,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Glow discharge deposition of films from disilane or digermane gas

Номер патента: CA1160179A. Автор: Marc H. Brodsky,Bruce A. Scott. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-01-10.

Polishing apparatus, polishing method and method for outputting visualization information of film thickness distribution on substrate

Номер патента: US12083646B2. Автор: Taro Takahashi,Toshiki Miyakawa,Hiroaki Shibue. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Chemical-mechanical processing slurry and methods for processing a nickel substrate surface

Номер патента: MY199592A. Автор: TONG Li,Hon Wu Lau. Владелец: Cmc Mat Llc. Дата публикации: 2023-11-08.

Barrier film-containing format and the use thereof for pre-applied underfill film for 3d tsv packages

Номер патента: EP3329525A1. Автор: Yusuke Horiguchi,Tadashi Takano,Jie Bai,Hung Chau. Владелец: Henkel IP and Holding GmbH. Дата публикации: 2018-06-06.

Conducting polymer films containing nanodispersed catalyst particles: a new type of composite material for technological applications

Номер патента: US5334292A. Автор: Krishnan Rajeshwar,Chalasani S. C. Bose. Владелец: University of Texas System. Дата публикации: 1994-08-02.

Slurry Compositions For Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20230058800A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Chun-Hung LIAO,An-Hsuan Lee,Shen-Nan Lee,Chen-Hao WU,Huang-Lin Chao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Compositions and methods for chemical mechanical planarization of tungsten and titanium

Номер патента: US20050211952A1. Автор: Brian Mueller,Charles Yu,Timothy Mace. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-09-29.

Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US6638326B2. Автор: Robert J. Small,Tuan Truong,Maria Peterson,Melvin Keith Carter,Lily Yao. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2003-10-28.

Method for Chemical Mechanical Planarization of A Metal-containing Substrate

Номер патента: US20090061630A1. Автор: Ann Marie Meyers,Bentley J. Palmer,Ajoy Zutshi,Suresh Shrauti,Guangying Zhang. Владелец: DuPont Air Products NanoMaterials LLC. Дата публикации: 2009-03-05.

Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US7033409B2. Автор: Robert J. Small,Tuan Truong,Maria Peterson,Melvin Keith Carter,Lily Yao. Владелец: DA Nanomaterials LLC. Дата публикации: 2006-04-25.

Composition for chemical mechanical planarization of copper, tantalum and tantalum nitride

Номер патента: US6630433B2. Автор: Fan Zhang,Joseph A. Levert,Daniel L. Towery,Shyama P. Mukherjee. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2003-10-07.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030057185A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-27.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: WO2022177767A9. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Katherine WORTMON-OTTO,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE. Владелец: Araca, Inc.. Дата публикации: 2023-05-19.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US12036636B2. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Mega-sonic vibration assisted chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230219188A1. Автор: Kei-Wei Chen,Chun-Hao Kung,Hui-Chi Huang,Ching-hsiang Tsai,Shang-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Chemical mechanical planarization slurry processing techniques and systems and methods for polishing substrate using the same

Номер патента: EP4272241A1. Автор: Jason Keleher,Ara Philipossian,Yasa Sampurno,Abigail LINHART,Kiana A. CAHUE,Katherine WORTMAN-OTTO. Владелец: Araca Inc. Дата публикации: 2023-11-08.

Atomic-layer-chemical-vapor-deposition of films that contain silicon dioxide

Номер патента: EP1248865A1. Автор: Suvi Haukka,Marko Tuominen,Eva Aro. Владелец: ASM Microchemistry Oy. Дата публикации: 2002-10-16.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for reducing dielectric constant of film using direct plasma of hydrogen

Номер патента: US20130029498A1. Автор: Akinori Nakano. Владелец: ASM Japan KK. Дата публикации: 2013-01-31.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing apparatus and method

Номер патента: US12076831B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing system using the same

Номер патента: US20240051079A1. Автор: Hoyoung Kim,Boun Yoon,Eunkyoung Kim,Kiho BAE,Boumyoung Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-15.

Chemical mechanical polishing method and chemical mechanical polishing device

Номер патента: EP2079106A3. Автор: Masanori Miyata,Kenji Nishihara,Tetsuya Okada,Akinori Suzuki,Tadao Uehara,Koichi Sogawa,Tohru Haruki,Taro Usami,Shisyo Chin,Hiroaki Teratani,Yuuichi Kohno. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-07.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Composition for post chemical-mechanical-polishing cleaning

Номер патента: WO2017211653A1. Автор: Andreas Klipp,Peter Przybylski,Julian Proelss,Michael Lauter,Max SIEBERT,Haci Osman GUEVENC,Leonardus Leunissen,Christian Daeschlein,Ivan GARCIA ROMERO. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2017-12-14.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus including the same, and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20230219191A1. Автор: Byoung Ho Kwon,Ji Su Kim,Sanha Kim,Sukkyung Kang,Ji-hun Jeong,Myung-Ki Hong,Dong Geun Kim,Hyun Jun Ryu,Yeong Bong PARK. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-07-13.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Slurryless Mechanical Planarization for Substrate Reclamation

Номер патента: US20090270017A1. Автор: Eric J. White,Graham M. Bates,David Domina,James L. Hardy, JR.. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-10-29.

Vacuum deposition device and method of film production by vacuum deposition

Номер патента: RU2332523C2. Автор: Нобору САСАКИ,Хироси СУЗУКИ,Фумитаке КОИЗУМИ,Нобухико ИМАЙ,Кунимаса АРАЙ,Хироюки КОНАГАЙ. Владелец: Эпплайд Матириэлс Гмбх Унд Ко.Кг. Дата публикации: 2008-08-27.

Separate injection of reactive species in selective formation of films

Номер патента: EP2231896A2. Автор: Matthias BAUER. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2010-09-29.

Tandem source activation for CVD of films

Номер патента: US09738972B2. Автор: Hu Kang,Adrien Lavoie,Karl Leeser. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Pecvd apparatus for in-situ deposition of film stacks

Номер патента: US20230366094A1. Автор: Dong Niu,Pramod Subramonium,Bart J. van Schravendijk,George Andrew Antonelli,Jennifer L. Petraglia,Joseph L. Womack,Keith Fox,John B. Alexy,Jason Dirk Haverkamp,Patrick G. Breiling,Mandyam A. Sriram. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Method of manufacturing semiconductor device including forming a film containing a first element, a second element and carbon, substrate processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US09978587B2. Автор: Yoshiro Hirose,Satoshi Shimamoto,Ryuji Yamamoto. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2018-05-22.

Method of producing raw material solution, method of film-forming and production lot

Номер патента: US20240124974A1. Автор: Kazuyuki Uno,Takenori Watabe,Hiroshi Hashigami,Takahiro Sakatsume,Marika Ohta. Владелец: WAKAYAMA UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-04-18.

Method for forming a three-component nitride film containing metal and silicon

Номер патента: EP1044288A2. Автор: Kyoung-Soo Yi,Sang-Won Kang,Won-Yong Koh. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2000-10-18.

Viscous protective overlayers for planarization of integrated circuits

Номер патента: US20020096770A1. Автор: Joseph Levert,Shyama Mukherjee,Donald Debear. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2002-07-25.

Viscous protective overlayers for planarization of integrated circuits

Номер патента: US20040192052A1. Автор: Joseph Levert,Shyama Mukherjee,Donald Debear. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-30.

Abrasives and compositions for chemical mechanical planarization of tungsten and titanium

Номер патента: US20050214191A1. Автор: Brian Mueller,Charles Yu. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2005-09-29.

Amino-silyl amine compound and the manufacturing method of dielectric film containing Si—N bond by using atomic layer deposition

Номер патента: US09916974B2. Автор: Sang Ick Lee,JANG Hyeon Seok,Jong Hyun Kim,Myong Woon Kim,Sang Yong Jeon,Sang-Do Lee,Se Jin Jang,Sung Gi Kim,Byeong-Il Yang. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Photoelectric conversion element, imaging element, optical sensor comprising a photoelectric conversion film containing a predetermined compound, and compound

Номер патента: US11171165B2. Автор: Eiji Fukuzaki,Koichi Iwasaki,Tomoaki Yoshioka,Tomoyuki Mashiko. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2021-11-09.

Method and apparatus for sputtering film containing high vapor pressure material

Номер патента: US20110303528A1. Автор: Kun-Ping Huang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-12-15.

Device and method to provide planarity of a wafer during growth

Номер патента: EP3931369A1. Автор: Roger Nilsson,Richard Spengler. Владелец: EPILUVAC AB. Дата публикации: 2022-01-05.

Device and method to provide planarity of a wafer during growth

Номер патента: WO2020209780A1. Автор: Roger Nilsson,Richard Spengler. Владелец: EPILUVAC AB. Дата публикации: 2020-10-15.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Wafer conveying device, chemical mechanical planarization apparatus and wafer conveying method

Номер патента: US20230201995A1. Автор: Zhipeng ZHOU,Yuansi YANG. Владелец: Hangzhou Sizone Electronic Technology Inc. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: US8551887B2. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: Air Products and Chemicals Inc. Дата публикации: 2013-10-08.

Chemical-mechanical planarization of barriers or liners for copper metallurgy

Номер патента: US6375693B1. Автор: Daniel C. Edelstein,Naftali E. Lustig,William J. Cote. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-04-23.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: TW201124517A. Автор: Xiaobo Shi. Владелец: Dupont Air Products Nano Materials Llc. Дата публикации: 2011-07-16.

Method for chemical mechanical planarization of a copper-containing substrate

Номер патента: KR101203599B1. Автор: 시아오보 시. Владелец: 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드. Дата публикации: 2012-11-23.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Apparatus for holding wafer cassettes in a cassette in a cassette tub during a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20030119434A1. Автор: Yao-Hsiang Liang,Kevin Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Adapative endpoint method for pad life effect on chemical mechanical polishing

Номер патента: US20130146224A1. Автор: Hui-Chi Huang,Chu-An Lee,Peng-Chung Jangjian. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Polishing pad for chemical mechanical polishing, chemical mechanical polishing apparatus inluding the same, and method of fabricating semiconductor device using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20230211456A1. Автор: Sang Kyun Kim,Bo Un Yoon,Byung Keun Hwang,Bo yun KIM,Hyo San LEE,Yea Rin Byun,In Kwon Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US11813714B2. Автор: Donghyuk Jang,Taesung Kim,Youngjin Hong,Seokjun HONG,Hojoong Kim,Junyong KIM. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2023-11-14.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Method of manufacturing semiconductor device using single slurry chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20230215926A1. Автор: SEUNGJAE LEE,Ilyoung Yoon,JaEung Koo,Boun Yoon,Joongsuk Oh,Kangchun LEE,Junhwan Yim,Huiteak Hong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US11752589B2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-12.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: US20230356351A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Sequential application of cleaning fluids for improved maintenance of chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850700B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Van H. Nguyen,Jeonghoon Oh,Roger M. Johnson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11806835B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-07.

Slurry distribution device for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11986926B2. Автор: Jianshe Tang,Paul D. Butterfield,Stephen Jew,Shou-sung Chang,Bum Jick KIM,Haosheng Wu,Yen-Chu Yang,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Chemical mechanical polishing temperature scanning apparatus for temperature control

Номер патента: WO2020214706A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-10-22.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Electrolytic Formation of Films of Fe2O3

Номер патента: GB1182614A. Автор: . Владелец: Canadian Patents and Development Ltd. Дата публикации: 1970-02-25.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20050170751A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2005-08-04.

In-situ defect count detection in post chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230298949A1. Автор: Chi-Jen Liu,Liang-Guang Chen,Chun-Hung LIAO,Huang-Lin Chao,Jeng-Chi Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Device for switching low, medium or high voltage containing element with chemical charge

Номер патента: RU2550344C2. Автор: Дитмар ГЕНЧ. Владелец: АББ ТЕКНОЛОДЖИ АГ. Дата публикации: 2015-05-10.

Charge containing element

Номер патента: US20020160164A1. Автор: Dilip Chatterjee,Donn Carlton,Thomas Blanton. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2002-10-31.

Iron oxide magnetic nanoparticle powder and method of producing the same, iron oxide magnetic nanoparticle thin film containing the iron oxide magnetic nanoparticle powder and method of producing the same

Номер патента: US09916922B2. Автор: Takayuki Yoshida,Manabu Tanaka,Shin-ichi Ohkoshi,Marie YOSHIKIYO,Asuka Namai,Hiroko Tokoro,Waka TARORA. Владелец: Dowa Electronics Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.

Chromate film-containing plug metal component and method for producing the same

Номер патента: EP1313188A2. Автор: Hiroaki Nasu,Mitsuru Yoshida,Wataru Matsutani,Makoto Sugimoto. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2003-05-21.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

Carbon and boron implantation for backside chemical mechanical planarization control

Номер патента: US20240266175A1. Автор: Yan Zhang,Jae Young Lee,Naushad Variam,Johannes M. van Meer. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-08.

Chemical mechanical polishing cleaning system with temperature control for defect reduction

Номер патента: US20230326736A1. Автор: Kei-Wei Chen,Gin-Chen Huang,Ying-Tsung Chen,Ya-Ting Tsai,Ssutzu Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Method for chemical-mechanical jet etching of semiconductor structures

Номер патента: US7037854B2. Автор: Robert Z. Bachrach,Jeffrey D. Chinn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Method for tuning stress transitions of films on a substrate

Номер патента: US11990334B2. Автор: Anton J. deVilliers,Daniel Fulford,Jodi Grzeskowiak. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Guanidinium-based polyionic liquids and their use as additives for chemical mechanical planarization slurries

Номер патента: WO2024073211A1. Автор: Xiaobo Shi,Peer Kirsch,Gregor Larbig. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-04-04.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158251A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4305121A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4304984A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-01-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US11787974B2. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Chemical-mechanical polishing particle and polishing slurry composition comprising same

Номер патента: US20210340405A1. Автор: Jae Hyun Kim,Jong Dai Park,Min Gun Lee,Sung Hoon Jin,Jae Hong Yoo,Kyu Soon SHIN,Goo Hwa LEE,Weoun Gyuen MOON,Gyeong Sook CHO. Владелец: Dongjin Semichem Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Negatively charged silica particles, method of producing such particles, compositions comprising such particles, and a method of chemical-mechanical polishing using such particles

Номер патента: WO2023180216A1. Автор: Eric Jacquinot,Frédéric GUILLAUD. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2023-09-28.

Cerium oxide particles, making process thereof and use thereof in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240158250A1. Автор: Lauriane D'ALENCON,Marie PLISSONNEAU,Valerie Buissette,Réka TOTH,Mickaël BOUDOT. Владелец: Rhodia Operations SAS. Дата публикации: 2024-05-16.

Liquid films containing nanostructured materials

Номер патента: WO2008130375A3. Автор: Charles M Lieber,Anyuan Cao,Guiha Yu. Владелец: Guiha Yu. Дата публикации: 2009-04-02.

Large scale film containing quantum dots or dye, and production method therefor

Номер патента: US11024778B2. Автор: DEOK SU Jo,Sung Min Cho,Seunghwan Lee,Ho Kyoon Chung,Hee Yeop Chae,Subin JUNG,Bokyoung Kim,Dae Kyoung Kim. Владелец: Sungkyunkwan University Research and Business Foundation. Дата публикации: 2021-06-01.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US20020072219A1. Автор: Steven Avanzino,Stephen Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2002-06-13.

Methods for reducing scratch defects in chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230377898A1. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Wan-Chun Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240087907A1. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Planarization of a polysilicon layer surface by chemical mechanical polish to improve lithography and silicide formation

Номер патента: US6548336B2. Автор: Steven C. Avanzino,Steven K. Park. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Methods for planarizing a substrate using a combined wet etch and chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US12100598B2. Автор: Shan Hu,Eric Chih-Fang Liu,Henan ZHANG,Sangita Kumari,Peter Delia. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Mechanisms for forming oxide layer over exposed polysilicon during a chemical mechanical polishing (CMP) process

Номер патента: US09711374B2. Автор: William Weilun HONG,Ying-Tsung Chen,Chih-Yu Chang,Che-Hao Tu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Method for etch-based planarization of a substrate

Номер патента: US09991133B2. Автор: Lior HULI,Cheryl Pereira,Nihar Mohanty. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Dummy metal gate structures to reduce dishing during chemical-mechanical polishing

Номер патента: US09601489B2. Автор: Chan-Hong Chern,Chih-Chang Lin,Jacklyn CHANG,Julie Tran. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Alignment method for used in chemical mechanical polishing process

Номер патента: US5933744A. Автор: Tsu Shih,Chung-Long Chang,Jeng-Horng Chen,Jui-Yu Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 1999-08-03.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Chemical mechanical polishing process for forming shallow trench isolation structure

Номер патента: US20080029478A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Hsiao-Ling Lu,Chia-Jung Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-02-07.

Surface conversion in chemical mechanical polishing

Номер патента: US11804378B2. Автор: Chih-Chao Yang,Cornelius Brown Peethala,Donald F Canaperi,Raghuveer R Patlolla,Mary Breton. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-10-31.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Method for improving the planarization of dielectric layer in the fabrication of metallic interconnects

Номер патента: US6010958A. Автор: Bing-Chang Wu,Tung-Po Chen,Hong-Tsz Pan. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Process for planarization of flash memory cell

Номер патента: US20020168861A1. Автор: Chun-Lien Su,Wen-Pin Lu,Hung-Yu Chiu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-14.

Automated process and apparatus for planarization of topographical surfaces

Номер патента: EP1644965A2. Автор: Jeremy W. McCutcheon. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2006-04-12.

Planarization of metal films for multilevel interconnects

Номер патента: US4814578A. Автор: David B. Tuckerman. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1989-03-21.

Anti-fog sealing composition and co-extruded multilayer polyester film containing it

Номер патента: RU2757141C2. Автор: Роберто ФОРЛОНИ,Аида ХАКСХИ. Владелец: Криовак, Ллк. Дата публикации: 2021-10-11.

A method for improving adhesion during production of film

Номер патента: EP3853264A1. Автор: Isabel Knöös,Cecilia LAND HENSDAL. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2021-07-28.

A method for improving adhesion during production of film

Номер патента: WO2020058803A1. Автор: Isabel Knöös,Cecilia LAND HENSDAL. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2020-03-26.

A method for improving adhesion during production of film

Номер патента: SE1851113A1. Автор: Isabel Knöös,Hensdal Cecilia Land. Владелец: STORA ENSO OYJ. Дата публикации: 2020-03-20.

Single- or multi-layer film containing related polyvinyl alcohol

Номер патента: RU2633617C2. Автор: Сергей Владимирович Верин,Борис Владимирович Голянский,Ольга Владимировна Жаворонкова. Владелец: Общество С Ограниченной Ответственностью "Производственно-Коммерческая Фирма "Атлантис-Пак". Дата публикации: 2017-10-16.

Deposition of films onto battery material powders

Номер патента: US20230317919A1. Автор: Donald A. Zehnder,Sourav Roger BASU,Jonathan Tan,Michael D Slater,Matthew A. Kolaczkowski. Владелец: Coreshell Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Structured organic film containing coating for face plates of jet printers

Номер патента: RU2587791C2. Автор: Мэтью А. ХОФТ,Эдриен П. КОТ,Мишель Н. КРЕТИЕН. Владелец: Ксерокс Корпорэйшн. Дата публикации: 2016-06-20.

PADS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION TOOLS, CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION TOOLS, AND RELATED METHODS

Номер патента: US20200246937A1. Автор: Bresson James. Владелец: . Дата публикации: 2020-08-06.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6592443B1. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-15.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7192336B2. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-03-20.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060194523A1. Автор: Michael Joslyn,Stephen Kramer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Method and apparatus for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060194522A1. Автор: Michael Joslyn,Stephen Kramer. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-08-31.

Method for forming and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7223154B2. Автор: Stephen J. Kramer,Michael J. Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-05-29.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-09-05.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2000027585A1. Автор: Andrew J. Nagengast,Anthony Meyer,Michael Labunsky,Glenn W. Travis,Tac Huynh. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2000-05-18.

Method and apparatus for conditioning a polishing pad used in chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1128932A4. Автор: Anthony Meyer,Michael Labunsky,Andrew J Nagengast,Tac Huynh,Glenn W Travis. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2007-01-10.

Methods and apparatus for the chemical mechanical planarization of electronic devices

Номер патента: GB2329601A. Автор: Clinton O Fruitman. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1999-03-31.

Method and apparatus for improving planarity of chemical-mechanical planarization operations

Номер патента: US5232875A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu,Mark E. Tuttle,Angus C. Fox,Hugh E. Stroupe. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1993-08-03.

Chemical mechanical planarization pad, and method of forming and using same

Номер патента: TW201034792A. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Oscar K Hsu,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2010-10-01.

Chemical mechanical planarization system and method therefor

Номер патента: TW383260B. Автор: James F Vanell,Todd W Buley. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2000-03-01.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6354930B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-12.

Method and apparatus for mechanical and chemical mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: JP3774367B2. Автор: スコットイー．モーア，. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-10.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006875A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Moore Scott E.. Дата публикации: 2001-07-05.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6464824B1. Автор: Stephen J. Kramer,Gundu M. Sabde,James J. Hofmann,Michael James Joslyn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-10-15.

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION EQUIPMENT, WAFER TRANSFER METHOD, AND WAFER PLANARIZATION UNIT

Номер патента: US20210260716A1. Автор: LEE EdwardLiCang,GU Jingran. Владелец: HANGZHOU SIZONE ELECTRONIC TECHNOLOGY INC.. Дата публикации: 2021-08-26.

Methods and apparatus for the chemical mechanical planarization of electronic devices

Номер патента: US5769691A. Автор: Clinton O. Fruitman. Владелец: Speedfam Corp. Дата публикации: 1998-06-23.

Method for chemical-mechanical planarization of a substrate on a fixed-abrasive polishing pad

Номер патента: US5972792A. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-10-26.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: US20030141595A1. Автор: Anthony Chiu,Harry Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2003-07-31.

System and method for providing mechanical planarization of a sequential build up substrate for an integrated circuit package

Номер патента: EP1341231A3. Автор: Anthony M. Chiu,Harry Michael Siegel. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2006-07-19.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20070072407A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-03-29.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US7781281B2. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Chemical mechanical polishing for hybrid bonding

Номер патента: US20230268308A1. Автор: Chandrasekhar MANDALAPU,Cyprian Emeka Uzoh,Jeremy Alfred Theil,Gaius Gillman Fountain, Jr.. Владелец: Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Processing method of a plurality of films

Номер патента: US20020001866A1. Автор: Hiroshi Sakamoto,Haruo Murano,Eiji Kido,Masayuki Hisano. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 2002-01-03.

Method and device for calculating equivalent mechanical parameters of film layer etching region

Номер патента: EP3690681A1. Автор: Jian Zhang,Qi Wang,Meng Zhou,Chunchieh Huang,Shouhua LV,Chengfa YANG. Владелец: Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-05.

Method of manufacturing an insulating film containing hafnium

Номер патента: US20090004886A1. Автор: Masaharu Oshima,Haruhiko Takahashi,Kazuto Ikeda,Koji Usuda,Masaki Yoshimaru,Ziyuan Liu,Liu GUO-LIN. Владелец: Semiconductor Technology Academic Research Center. Дата публикации: 2009-01-01.

Method of manufacturing an insulating film containing hafnium

Номер патента: US7838439B2. Автор: Masaharu Oshima,Haruhiko Takahashi,Kazuto Ikeda,Koji Usuda,Masaki Yoshimaru,Ziyuan Liu,Liu GUO-LIN. Владелец: Semiconductor Technology Academic Research Center. Дата публикации: 2010-11-23.

Semiconductor device including oxide semiconductor film containing indium

Номер патента: US09929280B2. Автор: Noriyoshi Suzuki,Kosei Noda. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and System for Wafer-Level Planarization of a Die-to-Wafer System

Номер патента: US20110201209A1. Автор: Gregory Smith,Larry Smith,Sharath Hosali. Владелец: Sematech Inc. Дата публикации: 2011-08-18.

Method and apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6407000B1. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-18.

Method and apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6794289B2. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-09-21.

Apparatuses for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040198195A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-10-07.

Systems for making and using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040229551A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-11-18.

Methods for using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7122475B2. Автор: Guy F. Hudson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-10-17.

Methods for using bi-modal abrasive slurries for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20040198194A1. Автор: Guy Hudson. Владелец: Hudson Guy F.. Дата публикации: 2004-10-07.

Bottom Leads Chemical Mechanical Planarization for TMR Magnetic Sensors

Номер патента: US20210057638A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2021-02-25.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing of carbon hard mask

Номер патента: US20240194732A1. Автор: Sharath Hegde,Gary Ding,Matthew J. Prince,Walid M. Hafez,Inki Kim,Amitesh Shrivastava,Anurag A. Jain,Caitlin M. Kilroy. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

METHOD OF FINISHING CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF InAs PLATES

Номер патента: RU2582904C1. Автор: Екатерина Алексеевна Ковалишина. Владелец: Открытое акционерное общество "Центральный научно-исследовательский институт "Электрон". Дата публикации: 2016-04-27.

Azo-compound and salt thereof and dye-containing polarising film containing said compound or salt thereof

Номер патента: RU2421488C2. Автор: Юити САДАМИЦУ,Такуто НИСИГУТИ,Хироаки ОХНО. Владелец: Полатекно Ко., Лтд.. Дата публикации: 2011-06-20.

Film containing conjugated polymer chains and method of producing the same

Номер патента: US20100308708A1. Автор: Hirokatsu Miyata,Wataru Kubo,Atsushi Komoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2010-12-09.

Photosensitive component of filming camera, filming camera and camera filming camera terminal

Номер патента: RU2686578C1. Автор: Гошен ЛИ. Владелец: Бейджин Сяоми Мобайл Софтвеа Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-04-29.

Film containing conjugated polymer chains and method of producing the same

Номер патента: US8026656B2. Автор: Hirokatsu Miyata,Wataru Kubo,Atsushi Komoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2011-09-27.

A method and equipment for deposition of films of coating materials, in particular superconductive oxides

Номер патента: EP1678341A2. Автор: Alberto Baldini,Sergio Zannella,Andrea Gauzzi. Владелец: Edison SpA. Дата публикации: 2006-07-12.

A method and apparatus for deposition of films of coating materials, in particular of superconductive oxides

Номер патента: WO2005024088A8. Автор: Alberto Baldini,Sergio Zannella,Andrea Gauzzi. Владелец: Outokumpu Copper Superconducto. Дата публикации: 2005-12-01.

Reactive silicon dioxide compound and optical protective film containing the same

Номер патента: US20110088592A1. Автор: Te-Yi Chang,Jia-Ming Liu,Kuo-Tung Huang,Ming-Tzung Wu,Chiunn-Wen Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-04-21.

Reactive silicon dioxide compound and optical protective film containing the same

Номер патента: US8455093B2. Автор: Te-Yi Chang,Jia-Ming Liu,Kuo-Tung Huang,Ming-Tzung Wu,Chiunn-Wen Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-06-04.

Managing thermal resistance and planarity of a display package

Номер патента: WO2021113019A1. Автор: Rajendra D. Pendse. Владелец: Facebook Technologies, LLC. Дата публикации: 2021-06-10.

Photoelectric conversion device with insulating film containing nitrogen

Номер патента: US10490582B2. Автор: Nobuyuki Endo,Masashi Kusukawa,Toshihiro Shoyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2019-11-26.

Polarized light-emitting film containing water-soluble coumarin compound or salt thereof, polarized light-emitting plate, and display device

Номер патента: EP3998502A1. Автор: Ryoutarou Morita,Noriaki Mochizuki. Владелец: Nippon Kayaku Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-18.

Managing thermal resistance and planarity of a display package

Номер патента: US20210167268A1. Автор: Rajendra D. Pendse. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2021-06-03.

Managing thermal resistance and planarity of a display package

Номер патента: EP4070387A1. Автор: Rajendra D. Pendse. Владелец: Facebook Technologies LLC. Дата публикации: 2022-10-12.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US20010024935A1. Автор: Scott Meikle,Dinesh Chopra. Владелец: Meikle Scott G.. Дата публикации: 2001-09-27.

Planarizing solutions, planarizing machines, and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6376381B1. Автор: Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-23.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6402884B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-06-11.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6599836B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-29.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6805615B1. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-10-19.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7276446B2. Автор: Karl M. Robinson,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-10-02.

Planarizing solutions, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20050107010A1. Автор: Scott Meikle,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-05-19.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US6250994B1. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-26.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6652764B1. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-11-25.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6746317B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-06-08.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7037179B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6758735B2. Автор: Guy T. Blalock. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-07-06.

Methods and apparatuses for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies on planarizing pads

Номер патента: US6652364B2. Автор: Dinesh Chopra,Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-11-25.

Methods and apparatuses for making and using planarizing pads for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20020127958A1. Автор: Guy Blalock. Владелец: Blalock Guy T.. Дата публикации: 2002-09-12.

Post chemical mechanical planarization (cmp) cleaning

Номер патента: EP4204529A4. Автор: Dnyanesh Tamboli,Jeong Yun Yu,Hee Min Hwang. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-02.

Pit-less chemical mechanical planarization process and device structures made therefrom

Номер патента: US12131915B2. Автор: Chia-Wei Liu,Jheng-Hong Jiang,Shing-Huang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Pit-less chemical mechanical planarization process and device structures made therefrom

Номер патента: US20240379379A1. Автор: Chia-Wei Liu,Jheng-Hong Jiang,Shing-Huang Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-14.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6492273B1. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-12-10.

Method and apparatus for stopping mechanical and chemical-mechanical planarization of substrates at desired endpoints

Номер патента: US5855804A. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-01-05.

Method and apparatus for stopping mechanical and chemical mechanical planarization of substrates at desired endpoints

Номер патента: US6206769B1. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US7261832B2. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-08-28.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6720266B2. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-04-13.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20030219962A1. Автор: Gundu Sabde,Jim Hofmann,Scott Moore,Stephen Kramer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-27.

Methods and apparatuses for monitoring and controlling mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US7625495B2. Автор: Stephen J. Kramer,Scott E. Moore,Gundu M. Sabde,Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-12-01.

Method of endpoint detection during chemical/mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5036015A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu,Laurence D. Schultz. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1991-07-30.

Methods, apparatuses and substrate assembly structures for fabricating microelectronic components using mechanical and chemical-mechanical planarization processes

Номер патента: US6191037B1. Автор: Karl M. Robinson,Pai Pan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-02-20.

Methods, apparatuses and substrate assembly structures for fabricating microelectronic components using mechanical and chemical-mechanical planarization processes

Номер патента: US20030054651A1. Автор: Pai-Hung Pan,Karl Robinson. Владелец: Robinson Karl M.. Дата публикации: 2003-03-20.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Chemical mechanical planarization pads via vat-based production

Номер патента: US11845157B2. Автор: Lin Fu,Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer,Justin Stewart,Carlos Barros,William Michael SPITZIG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-19.

Method of forming a polyurea polyurethane elastomer containing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: WO2009051895A1. Автор: Robert G. Swisher,William C. Allison. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2009-04-23.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for chemical-mechanical finishing of surface

Номер патента: RU2290291C2. Автор: Марк Д. МИЧОД,Гари СРОКА,Лэйн Уилль м УИНКЕЛМАНН,Лэйн Уилльям УИНКЕЛМАНН. Владелец: Рем Текнолоджиз, Инк.. Дата публикации: 2006-12-27.

Chemical mechanical polishing method, chemical mechanical polishing system, and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20050197046A1. Автор: Hirofumi Tsuchiyama,Shinobu Nakamura,Masahiro Aoyagi,Aki Nakajo. Владелец: Trecenti Technologies Inc. Дата публикации: 2005-09-08.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Chemical mechanical machining and surface finishing

Номер патента: IL157290A. Автор: . Владелец: Rem Technologies. Дата публикации: 2007-06-03.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US11633829B2. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-04-25.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

External heating system for use in chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230294237A1. Автор: Chun-Wei Hsu,Chi-hsiang Shen,Chi-Jen Liu,Yi-Sheng Lin,Yang-chun Cheng,Kei-Wei Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Aqueous polymer latex of film-forming copolymers suitable as binder in waterborne coating compositions

Номер патента: WO2024200202A1. Автор: Andrea Misske,Friederike Fleischhaker,Christoph Fleckenstein,Gunther Zimmermann,Srividhya SUNDARAM,David Martin MAURER. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-10-03.

Systems of film coating for preparations with immediate release, creating enhanced anti-moisture barrier, and substrates with such coating

Номер патента: RU2528095C2. Автор: Томас П. ФАРРЕЛЛ,Джейсон ТЕККОЕ. Владелец: БиПиЭсАй ХОЛДИНГЗ, ЭлЭлСи.. Дата публикации: 2014-09-10.

Roll electrode and device for pretreating the surfaces of film webs by means of electrical corona discharge

Номер патента: US4839517A. Автор: Peter Dinter. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1989-06-13.

Use of fluorinated polyurethanes for the treatment of films or sheets made of cellulose, graphite, mica, kaolin, leather and similar natural materials

Номер патента: US5410010A. Автор: Claudio Tonelli,Giovanni Simeone. Владелец: Ausimont SpA. Дата публикации: 1995-04-25.

Composition for forming coating film containing phosphoric acid group-containing polymer

Номер патента: US20230235141A1. Автор: Hiroyuki Nakajima,Yuki Ueda,Taito Nishino,Yoshiomi Hiroi,Miya HIROI. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2023-07-27.

Aqueous polymer latex of film-forming copolymers suitable as binder in waterborne coating compositions

Номер патента: US20230340290A1. Автор: Andrea Misske,Friederike Fleischhaker,Christoph Fleckenstein,Thomas Wolf,Oliver Wagner,Konrad Roschmann,Bastiaan LOHMEIJER,Sabine EICHHORN,Immanuel Willerich,Martin Robert SCHEUBLE. Владелец: Basd Se. Дата публикации: 2023-10-26.

Hot melt film containing biomass-based thermoplastic polyurethane resin

Номер патента: US20230167253A1. Автор: Heedae Park. Владелец: SAM BU FINE CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Hot melt film containing biomass-based thermoplastic polyurethane resin

Номер патента: US11912839B2. Автор: Heedae Park. Владелец: SAM BU FINE CHEMICAL CO Ltd. Дата публикации: 2024-02-27.

Alkyl-modified vinyl alcohol polymer, and composition, thickener, coating material for paper, coated paper, adhesive and film containing the same

Номер патента: MY160895A. Автор: Masato Nakamae,Shinsuke Nii,Yasutomo Saito,Yuta Taoka. Владелец: Kuraray Co. Дата публикации: 2017-03-31.

A topcoat layer, a lamination film containing the same, and a decorative article decorated by said lamination film

Номер патента: WO2023241882A1. Автор: Takeshi Tsunoda,Hideki Yamashita,Etsumi Ito,Hideki SUETSUGU. Владелец: BASF COATINGS GMBH. Дата публикации: 2023-12-21.

Adhesive composition for semiconductor circuit connection and adhesive film containing the same

Номер патента: US20210292616A1. Автор: You Jin KYUNG,Kwang Joo Lee,Youngsam Kim,Minsu Jeong,Junghak Kim,Ju Hyeon Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2021-09-23.

Adhesive composition for semiconductor circuit connection and adhesive film containing the same

Номер патента: US11993731B2. Автор: You Jin KYUNG,Kwang Joo Lee,Youngsam Kim,Minsu Jeong,Junghak Kim,Ju Hyeon Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: EP1218143A1. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-03.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: TW516988B. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-01-11.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6595833B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-22.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: EP1218143A4. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2008-03-19.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6485356B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-11-26.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: US6589101B2. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-07-08.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: AU7474500A. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-26.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: KR100814267B1. Автор: 사브데군두엠.,마이클스코트. Владелец: 마이크론 테크놀로지 인코포레이티드. Дата публикации: 2008-03-18.

Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: WO2001015855A1. Автор: Scott Meikle,Gundu M. Sabde. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2001-03-08.

Method and device for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with metal compound abrasives

Номер патента: DE10084939T1. Автор: Scott Meikle,Gundu M Sabde. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-29.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20130023639A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2013-01-24.

Elastic film containing renewable starch polymer

Номер патента: RU2584201C2. Автор: Джеймс Х. ВАНГ,Бо ШИ. Владелец: Кимберли-Кларк Ворлдвайд, Инк.. Дата публикации: 2016-05-20.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US20150191578A1. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2015-07-09.

Film containing starch or starch derivatives and polyester urethanes, method for preparing such film and package made of such film

Номер патента: RU2220161C2. Автор: Клаус-Дитер ХАММЕР,Михель АЛЕРС,Герхард ГРОЛИГ,Ханс-Герхард ФРИТЦ,Томас ЗАЙДЕНШТЮККЕР. Владелец: КАЛЛЕ НАЛО ГмбХ унд Ко.КГ. Дата публикации: 2003-12-27.

Method of producing material in form of particles based on urea, containing elemental sulfur

Номер патента: RU2735097C2. Автор: Франсуа ЛЕДУ,Филип КОЛПАЭР. Владелец: Яра Интернейшенл Аса. Дата публикации: 2020-10-28.

Article with flange, method of making said article and method of making product containing element with flange

Номер патента: RU2591867C2. Автор: ДАМ Джереми Дэниел ВАН,Второй Майлз Стэндиш ПЕТЕРСОН,Карен Кеттлер ДИНАЙК,Кируба Сивасубраманиам ХАРАН,Дон Марк ЛИПКИН. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2016-07-20.

Method of film stretching

Номер патента: RU2717530C2. Автор: Людвиг БЁРМАНН,Гюнтер ШРАЙНЕР. Владелец: Ркв Се. Дата публикации: 2020-03-23.

Device of film conveyor and procedure of vacuum sedimentation with feed and reception of reel

Номер патента: RU2434079C2. Автор: Ацуси НАКАЦУКА,Такайоси ХИРОНО,Исао ТАДА. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2011-11-20.

Improved water-soluble film containing mixture of pva polymers and packets made therefrom

Номер патента: RU2528453C2. Автор: Дэвид М. ЛИ,Регина ЛАБЕКЬЮ,Франк Вильям ДЕНОМЕ,Стивен Г. ФРИДРИХ,Джичун ШИ,Эндрю П. ВЕРРАЛЛ,Роксана РОСМАНИХО. Владелец: Дзе Проктер Энд Гэмбл Компани. Дата публикации: 2014-09-20.

Polymer film containing copolyamide made of diamine, dimeric acid and lactam

Номер патента: RU2759905C2. Автор: Рольф МИНКВИТЦ,Вальтер ГЁТЦ,Франк РАЙЛЬ,Флориан РИХТЕР. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2021-11-18.

Film containing propylene-ethylene-1-butene terpolymers

Номер патента: RU2715183C2. Автор: Джампьеро МОРИНИ,Джанни ВИТАЛЕ,Фабрицио ПЬЕМОНТЕСИ,Клаудио КАВАЛЬЕРИ,Каролине КАТЕЛИН,Паола МАЗЗАРИ,Марко КЬЯРАФОНИ,Андреа ФЕЛИСАТИ,Анджело ФЕРРАРО. Владелец: Базелл Полиолефин Италия С.Р.Л.. Дата публикации: 2020-02-25.

Method of manufacturing fibre-containing element and element manufactured thereof

Номер патента: RU2528358C1. Автор: Кенн Кристенсен,Кристиан СКОВГОРД ЙЕРГЕНСЕН,Горм Розенберг. Владелец: РОКВУЛ ИНТЕРНЭШНЛ А/С. Дата публикации: 2014-09-10.

Polymer film containing amorphous polyamide and partially crystalline polyamide

Номер патента: RU2726635C2. Автор: Рольф МИНКВИТЦ,Йоханнес Клаус СПРАФКЕ,Вальтер ГЁТЦ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2020-07-15.

Agricultural film containing copolyamide from diamine, dimeric acid and lactam

Номер патента: RU2754821C2. Автор: Рольф МИНКВИТЦ,Йоханнес Клаус СПРАФКЕ,Мартина ШЕМЕР,Франк РАЙЛЬ. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2021-09-07.

Polymeric film containing a noise dampening layer

Номер патента: RU2654976C2. Автор: Соломон БЕКЕЛЕ. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2018-05-23.

Machine direction oriented films containing a multimodal copolymer of ethylene and at least two alpha-olefin comonomers

Номер патента: RU2770400C2. Автор: Анх Туан ТРАН,Пауло КАВАКАС,Одрей ГЕНСУА. Владелец: Бореалис Аг. Дата публикации: 2022-04-15.

Microfluidic systems containing layers of films

Номер патента: WO2023146870A1. Автор: Donald E. Ingber,Mohamed Yafia Okba SALEM,Adama Marie SESAY,Pawan JOLLY. Владелец: President and Fellows of Harvard College. Дата публикации: 2023-08-03.

Containment element comprising mullite or a polymorph of mullite, assembly comprising same, method of making same and method of using same

Номер патента: EP2694453A1. Автор: Mark Gregory Munday,Charles Stephan Montross. Владелец: Element Six Abrasives SA. Дата публикации: 2014-02-12.

Electrical planarization of carbon nanotube thin films for electronic device applications

Номер патента: US20230397478A1. Автор: BO LIU,Rajib Kumar Das,Andrew Gabriel Rinzler,Max G. LEMAITRE. Владелец: University of Florida Research Foundation Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Polymer films containing platelet particles

Номер патента: US4618528A. Автор: John P. Sibilia,William Sacks,Shu P. Chen,Harold D. Oltmann,Abraham M. Kotliar. Владелец: Allied Corp. Дата публикации: 1986-10-21.

Polymer films containing platelet particles

Номер патента: US4528235A. Автор: John P. Sibilia,William Sacks,Shu P. Chen,Harold D. Oltmann,Abraham M. Kotliar. Владелец: Allied Corp. Дата публикации: 1985-07-09.

Polymer films containing platelet particles

Номер патента: US4728478A. Автор: John P. Sibilia,William Sacks,Shu P. Chen,Abraham M. Kotliar,Harold D. Oltman. Владелец: AlliedSignal Inc. Дата публикации: 1988-03-01.

Multi-layer film containing a layer of crosslinked ethylene/vinyl alcohol copolymer

Номер патента: CA1133370A. Автор: Joseph Z. Sun. Владелец: WR Grace and Co. Дата публикации: 1982-10-12.

Method for producing poly(vinyl acetal) resin film containing plasticizer absorbed therein

Номер патента: EP3858901A1. Автор: Koichiro Isoue. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Sheet feeding member having a film containing inorganic powder

Номер патента: US5283116A. Автор: Shoichi Shimura,Masashi Honma,Susumu Kadokura,Yoshiaki Tomari,Yasunori Atarashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1994-02-01.

Oral dissolving films containing microencapsulated vaccines and methods of making same

Номер патента: US20210015909A1. Автор: Martin J. D'souza. Владелец: Mercer University. Дата публикации: 2021-01-21.

METHOD AND COMPOSITION FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION OF A METAL OR A METAL ALLOY

Номер патента: US20130102153A1. Автор: Shi Xiaobo,Palmer Bentley J.,Sawayda Rebecca A.. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2013-04-25.

METHODS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION OF PATTERNED WAFERS

Номер патента: US20130295752A1. Автор: SANCHEZ ERROL ANTONIO C.,HUANG YI-CHIAU,Wood Bingxi,MENK GREGORY. Владелец: . Дата публикации: 2013-11-07.

Chemical composition for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20080135520A1. Автор: Tao Sun. Владелец: Tao Sun. Дата публикации: 2008-06-12.

CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION OF POLYMER FILMS

Номер патента: US20150083689A1. Автор: Pallikkara Kuttiatoor Sudeep,JIA Renhe,Dysard Jeffrey. Владелец: . Дата публикации: 2015-03-26.

Compositions for chemical mechanical planarization of copper

Номер патента: US20030164471A1. Автор: Robert Small,Tuan Truong,Melvin Carter,Maria Peterson,Lily Yao. Владелец: EKC Technology Inc. Дата публикации: 2003-09-04.

Polymer film containing random copolymer of propylene

Номер патента: RU2334766C2. Автор: Маркус ГАХЛЕЙТНЕР,Пирджо ДЖААСКЕЛАЙНЕН,Манфренд КИРЧБЕРГЕР,Пайви ПИТКАНЕН. Владелец: Бореалис Текнолоджи Ой. Дата публикации: 2008-09-27.

Bottom leads chemical mechanical planarization for tmr magnetic sensors

Номер патента: WO2021040806A1. Автор: Ming Jiang,Ronghui ZHOU,Yuankai Zheng,Ming Mao,Chih-Ching Hu,Yung-Hung Wang,Chen-Jung Chien. Владелец: WESTERN DIGITAL TECHNOLOGIES, INC.. Дата публикации: 2021-03-04.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Multilayered film containing an active substance and made of cross-linked hydrophilic polymers

Номер патента: AU6151700A. Автор: Herbert Rupprecht,Stephan Zinzen. Владелец: GRUENENTHAL GmbH. Дата публикации: 2001-01-30.

Multilayered film containing an active substance and made of cross-linked hydrophilic polymers

Номер патента: NZ516955A. Автор: Herbert Rupprecht,Stephan Zinzen. Владелец: Gruenenthal Chemie. Дата публикации: 2003-09-26.

Multilayered film containing an active substance and made of cross-linked hydrophilic polymers

Номер патента: AU769629B2. Автор: Herbert Rupprecht,Stephan Zinzen. Владелец: GRUENENTHAL GmbH. Дата публикации: 2004-01-29.

Brush for cleaning wafers after chemical mechanical polishing (cmp) process

Номер патента: US20240180324A1. Автор: Liqing Wen,Le Lu,Jhih-Fong Lin,Deng-Gao Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

COMPOSITE Al MATERIAL REACTING WITH WATER, Al FILM REACTING WITH WATER, METHOD FOR OBTAINING Al FILM, AND COMPONENT ELEMENT OF FILM-FORMING CHAMBER

Номер патента: RU2466205C2. Автор: Ютака КАДОВАКИ,Томоко САИТОУ,Кэн Вэн ЛИМ,Кацухико МУСИАКЕ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2012-11-10.

Chemical-mechanical starch conversion

Номер патента: CA1117107A. Автор: Thomas L. Small,Richard D. Harvey,Thomas L. Gallaher,Raymond L. Mullikin. Владелец: Grain Processing Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

Biodegradable films containing caseinate and their method of manufacture by irradiation

Номер патента: US6120592A. Автор: Monique Lacroix,Denis Brault,Mohamed Ressouany. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-09-19.

Method for reactivating a residue containing elemental silicon

Номер патента: US4224297A. Автор: Rudolf Riedle,Herbert Straussberger,Willi Streckel. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 1980-09-23.

Method of chemical-mechanical treatment of waste waters from operation of tanneries

Номер патента: WO2010009684A1. Автор: Artur BRODSKΫ,Jan NOVOTNΫ,Vetezslav Mazur,Sosorbaramy Altangerel,Yundendorjiin Enkhbold. Владелец: Eurosound Spol. S.R.O.. Дата публикации: 2010-01-28.

Use of full-size matrix image sensor for measurement of film thickness in real time on film making equipment

Номер патента: RU2717384C2. Автор: Пол С. БОНИНО,Роберт П. ГЕРЛОСКИ,Джейсон М. ЛЕФЕВР. Владелец: Зирокс Корпорейшн. Дата публикации: 2020-03-23.

Method of simulating graininess of film through frequency filtering

Номер патента: RU2342703C2. Автор: Александрос ТОУРАПИС,Джилл МакДональд БОЙС,Хоан ЛАЧ. Владелец: Томсон Лайсенсинг. Дата публикации: 2008-12-27.

Vapor deposition source material used in production of film containing indium and one or more of the other metals, and the method of producing film containing indium and one or more of the other metals

Номер патента: US20240003004A1. Автор: Nobutaka Takahashi,Shintaro Higashi,Fumikazu Mizutani. Владелец: Kojundo Kagaku Kenkyusho KK. Дата публикации: 2024-01-04.

Method for obtaining solution functional ink for the formation of films based on silver

Номер патента: RU2765126C1. Автор: Иван Александрович Волков,Елизавета Петровна Симоненко,Николай Петрович Симоненко,Иван Сергеевич Власов,Татьяна Леонидовна Симоненко,Филипп Юрьевич Горобцов. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет)". Дата публикации: 2022-01-25.

Imitation method of film grain accurate to bit on basis of pre-calculated converted coefficients

Номер патента: RU2372659C2. Автор: Кристина ГОМИЛА,Хоан ЛАЧ,Джеффри Аллен КУПЕР. Владелец: Томсон Лайсенсинг. Дата публикации: 2009-11-10.

Indium tris n, n-diethylcarbamate, method of its production and obtaining of films of indium oxide on its basis

Номер патента: RU2649147C1. Автор: Андрей Сергеевич Левашов,Дмитрий Сергеевич Бурый,Александра Руслановна Латыпова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Кубанский государственный университет" (ФГБОУ ВО "КубГУ"). Дата публикации: 2018-03-30.

Method and system for in-situ determination of a chemical composition of films during growth process

Номер патента: US09651369B1. Автор: Jeonggoo Kim,Steven L. Garrahan,Solomon Kolagani,Mikhail Strikovski. Владелец: NEOCERA LLC. Дата публикации: 2017-05-16.

Polyamide composition useful for the manufacture of film for food packaging

Номер патента: US20240301204A1. Автор: Maho Yasuda. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2024-09-12.

Sputtered magnetron unit for deposition of films of solid solutions tixw1-xo3

Номер патента: RU2699702C1. Автор: Виктор Иванович Шаповалов,Екатерина Андреевна Минжулина,Александр Андреевич Козин. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина). Дата публикации: 2019-09-09.

Method for gas-discharge sputtering of films

Номер патента: RU2607288C2. Автор: Виктор Александрович Панарин,Виктор Федотович Тарасенко,Эдуард Анатольевич Соснин,Михаил Иванович Ломаев,Дмитрий Викторович Белоплотов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН). Дата публикации: 2017-01-10.

Method of easy imitation of film granularity

Номер патента: RU2377651C2. Автор: Кристина ГОМИЛА,Хоан ЛАЧ,Джеффри Аллен КУПЕР. Владелец: Томсон Лайсенсинг. Дата публикации: 2009-12-27.

Films containing numerous polymers

Номер патента: RU2440094C2. Автор: Томас Дж. БОЙД. Владелец: КОЛГЕЙТ-ПАЛМОЛИВ КОМПАНИ. Дата публикации: 2012-01-20.

Swellable fertilizer granules containing elemental sulfur with increased oxidation rates

Номер патента: US12084396B2. Автор: Michael Mclaughlin,Jozefien DEGRYSE,Roslyn BAIRD,Rodrigo Coqui Da Silva. Владелец: Mosaic Co. Дата публикации: 2024-09-10.

Al COMPOSITE MATERIAL REACTING WITH WATER, Al FILM REACTING WITH WATER, METHOD TO PRODUCE THIS Al FILM AND COMPONENT OF FILM-PRODUCING CHAMBER

Номер патента: RU2468117C2. Автор: Ютака КАДОВАКИ,Томоко САИТОУ,Кэн Вэн ЛИМ,Кацухико МУСИАКЕ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2012-11-27.

Al COMPOSITE MATERIAL REACTING WITH WATER, Al FILM REACTING WITH WATER, METHOD TO PRODUCE THIS Al FILM AND COMPONENT OF FILM-PRODUCING CHAMBER

Номер патента: RU2468118C2. Автор: Ютака КАДОВАКИ,Томоко САИТОУ,Кэн Вэн ЛИМ,Кацухико МУСИАКЕ. Владелец: Улвак, Инк.. Дата публикации: 2012-11-27.

Method of transfer of film to video and system therefor

Номер патента: US4901161A. Автор: Wilfred J. Giovanella. Владелец: Tintoretto Inc. Дата публикации: 1990-02-13.

Reduction of film grain patterns

Номер патента: WO2023194598A1. Автор: Edouard Francois,Fabrice Urban,Karam NASER,Philippe DE LAGRANGE. Владелец: Interdigital Ce Patent Holdings, Sas. Дата публикации: 2023-10-12.

Apparatus for wet treatment of films or the like

Номер патента: US3647596A. Автор: Jürgen Müller,Kurt Thate. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1972-03-07.

Use of film-forming organopolysiloxanes for reducing the microfiber release of textiles

Номер патента: US20240328077A1. Автор: Peter Horvath,Christof Brehm. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2024-10-03.

Method of Filming High Dynamic Range Videos

Номер патента: US20150029354A1. Автор: Wen-Chu Yang,Keng-Sheng Lin. Владелец: QUANTA COMPUTER INC. Дата публикации: 2015-01-29.

Polyamide composition useful for the manufacture of film for food packaging

Номер патента: EP4259691A1. Автор: Maho Yasuda. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2023-10-18.

Method of reducing oxygen penetrability of films made from polyethylene terephthalate used for storage of different food products

Номер патента: RU2608027C2. Автор: Юрий Николаевич Макасеев,Андрей Юрьевич Макасеев,Максим Геннадьевич Чепезубов,Артем Константинович Елькин,Александр Александрович Акулинкин,Леонид Леонидович Дяченко,Юрий Петрович Дамм,Александр Сергеевич Буйновский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Рубиус Групп" (ООО "Рубиус Групп"). Дата публикации: 2017-01-12.

Smelting apparatus for making elemental silicon and alloys thereof

Номер патента: US5104096A. Автор: Earl K. Stanley,Curtis W. Goins, Jr.. Владелец: Globe Metallurgical Inc. Дата публикации: 1992-04-14.

Method for manufacturing layer-built material with silicon dioxide film containing organic colorant and the layer-built material manufactured thereby

Номер патента: CA2013660A1. Автор: Hideo Kawahara,Masaki Kitaoka,Kazuo Takemura,Juichi Ino. Владелец: Nippon Sheet Glass Co Ltd. Дата публикации: 1990-12-29.

Reactive diluent for radiation curing of film-forming polymers

Номер патента: US5468820A. Автор: James A. Dougherty,Philip F. Wolf. Владелец: ISP Investments LLC. Дата публикации: 1995-11-21.

Pulse x-ray with pulse field enhancement of film response

Номер патента: US3719824A. Автор: R Mcmaster,M Rhoten. Владелец: Ohio State University. Дата публикации: 1973-03-06.

Swellable fertilizer granules containing elemental sulfur with increased oxidation rates

Номер патента: AU2023270222A1. Автор: McLaughlin Michael,Degryse Jozefien,Baird Roslyn,Coqui Da Silva Rodrigo. Владелец: Mosaic Co. Дата публикации: 2023-12-14.

Swellable fertilizer granules containing elemental sulfur with increased oxidation rates

Номер патента: CA3064573C. Автор: Michael Mclaughlin,Jozefien DEGRYSE,Roslyn BAIRD,Rodrigo Coqui Da Silva. Владелец: Mosaic Co. Дата публикации: 2024-04-16.

Polymer gel film containing liquid crystal droplets for detecting mercuric ions in water and preparation method thereof

Номер патента: US20200079915A1. Автор: Chih-Hsin Chen,Jhih-Wei Huang,Jung-Jung Chang. Владелец: Tamkang University. Дата публикации: 2020-03-12.

Process for the purification of gases containing elemental sulfur

Номер патента: CA1117740A. Автор: Edwin B. Lusk,Douglas C. Riley, Jr.,Joseph P. Creagh, Iii. Владелец: Stauffer Chemical Co. Дата публикации: 1982-02-09.

Compound containing element of group iii of mendeleev's periodic system binding with mono- or dianionic tridentate ligand, method of their synthesis and use as catalysts of polymerization

Номер патента: RU2180664C2. Автор: Жан-Бернар КАЗО,Ги БЕРТРАН,Норберт Эмиг,Режи Ро. Владелец: Сантр Натьональ Де Ля Решерш Сьентифик (С.Н.Р.С.). Дата публикации: 2002-03-20.

Method for reducing the permeability of films or coatings to water vapor

Номер патента: US6727298B2. Автор: Gabriel Skupin,Uwe Witt. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2004-04-27.

Process for the production of film forming synthetic resins for hair fixatives

Номер патента: US4070317A. Автор: Johannes Wollner,Hans-Albrecht Meyer-Stoll,Hans-Heinz Schittek. Владелец: Deutsche Texaco AG. Дата публикации: 1978-01-24.

Process for improving the properties of shaped articles of film-forming polyethylene

Номер патента: GB784923A. Автор: . Владелец: Badische Anilin and Sodafabrik AG. Дата публикации: 1957-10-16.

Biaxially Oriented Polystyrene Film Containing Small Rubber Particles and Low Rubber Particle Gel Content

Номер патента: US20090130383A1. Автор: Ludovic Harelle. Владелец: Ludovic Harelle. Дата публикации: 2009-05-21.

Polymer nanocomposite comprising a melting mixture of virgin PET and recycled PET having clay; method for preparing such nanocomposite; and its use in the manufacture of films or molded articles including packages, containers, fibers among others

Номер патента: US20220315754A1. Автор: Maria Jose GALOTTO LOPEZ,Abel GUARDA MORAGA,Ana Carolina LOPEZ DE DICASTILLO BERGAMO,Eliezer José VELÁSQUEZ VELÁSQUEZ,Luan Ayelen GARRIDO AYALA. Владелец: Universidad de Santiago de Chile. Дата публикации: 2022-10-06.

Wearable containing element for an electronic apparatus

Номер патента: CA2684013A1. Автор: Mauro Rossi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-10-23.

Copper film containing tungsten nitride for improving thermal stability, electrical conductivity and electric leakage properties and a manufacturing method for the copper film

Номер патента: US20050252583A1. Автор: Jinn Chu,Chon-Hsin Lin. Владелец: Jinn P Chu. Дата публикации: 2005-11-17.

Wearable containing element for an electronic apparatus

Номер патента: CA2684013C. Автор: Mauro Rossi. Владелец: EUROTECH SPA. Дата публикации: 2015-11-24.

Method of providing planarity of a photoresist

Номер патента: US6541347B2. Автор: Hui Min Mao,Tzu Ching Tsai,Han Chih Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2003-04-01.

System and Method for using Pulsed Radio Frequency (RF) Signals and a Modulated Scattering Probe (MSP) to Enable Measurements of Distance to and Planarity of a Surface of a Device under Test (DUT)

Номер патента: US20230258702A1. Автор: Minh-Chau Huynh,Christian Volf Olgaard,Morten Damgaard. Владелец: Litepoint Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Polyester film containing fine powder of crosslinked polymer

Номер патента: US4320207A. Автор: Seiji Sakamoto,Masamichi Watanabe. Владелец: Diafoil Co Ltd. Дата публикации: 1982-03-16.

Polyester films containing precipitated silica particles and calcined china clay

Номер патента: CA2117880A1. Автор: Junaid A. Siddiqui,Paul D. A. Mills. Владелец: Paul D. A. Mills. Дата публикации: 1995-04-16.

Aromatic polyester film containing orthophosphate powder

Номер патента: US4981897A. Автор: Kazuya Yonezawa,Hideki Kawai,Junji Takase. Владелец: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 1991-01-01.

Process for preparing essentially colorless polyimide film containing phenoxy-linked diamines

Номер патента: CA1248281A. Автор: Terry L. St. Clair,Anne K. St. Clair. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1989-01-03.

Correction apparatus for correcting the planarity of a metal strip and related correction method

Номер патента: US20230257842A1. Автор: Luciano Vignolo,Gianluca Bazzaro. Владелец: Danieli and C Officine Meccaniche SpA. Дата публикации: 2023-08-17.

System and method for using pulsed radio frequency (RF) signals and a modulated scattering probe (MSP) to enable measurements of distance to and planarity of a surface of a device under test (DUT)

Номер патента: US11835563B2. Автор: Minh-Chau Huynh,Christian Volf Olgaard,Morten Damgaard. Владелец: Litepoint Corp. Дата публикации: 2023-12-05.

Method of improving planarity of a photoresist

Номер патента: US20020048895A1. Автор: Han Lin,Hui Mao,Tzu Tsai. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-04-25.

CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION OF SUBSTRATES CONTAINING COPPER, RUTHENIUM, AND TANTALUM LAYERS

Номер патента: US20160035582A1. Автор: Wang Ke,Li Yuzhuo. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2016-02-04.

Diamond slurry for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US6258721B1. Автор: Yuzhuo Li,David Bruce Cerutti,Donald Joseph Buckley, Jr.,Earl Royce Tyre, Jr.,Jason J. Keleher,Richard J. Uriarte,Ferenc Horkay. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-07-10.

Multi-layered chemical-mechanical planarization pad

Номер патента: US09796063B2. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,John Erik Aldeborgh,Anoop Mathew,Scott Xin Qiao,Oscar K. Hsu,Marc C. Jin. Владелец: FNS Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7479206B2. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-01-20.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030060140A1. Автор: David Carlson. Владелец: Carlson David W.. Дата публикации: 2003-03-27.

System and Method for Online End Point Detection for use in Chemical Mechanical Planarization

Номер патента: US20060100821A1. Автор: ASHOK KUMAR,Arun SIKDER,Tapas Das,Rajesh Ganesan. Владелец: UNIVERSITY OF SOUTH FLORIDA. Дата публикации: 2006-05-11.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6739955B2. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-05-25.

Apparatus and methods for conditioning polishing pads in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6361413B1. Автор: John Skrovan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230271298A1. Автор: Liang-Guang Chen,Kei-Wei Chen,Kao-Feng Liao,Ting-Hsun CHANG,Chun-Chieh Lin,Hsin-ying Ho,Chih Hung Chen,Fu-Ming HUANG,Michael Yen,Chun-Wen Hsiao,Sheng-Chao Chuang,Peng-Chung Jangjian,Ji James Cui. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: EP3793772A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2021-03-24.

Conditioner for chemical-mechanical-planarization pad and related methods

Номер патента: WO2019222302A1. Автор: Rajesh Tiwari,Patrick Doering,Bruce Arrington,Conrad SURIAGA,Andrew Allan GALPIN. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2019-11-21.

Apparatus and method for conditioning a fixed abrasive polishing pad in a chemical mechanical planarization process

Номер патента: US6361414B1. Автор: Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich,Don E. Anderson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-03-26.

Method for operating chemical mechanical polishing ("CMP") tool for the manufacture of semiconductor devices

Номер патента: US20040171266A1. Автор: Chien Hua Chen,Yuan Hsin Peng,Xiao Hua Li. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2004-09-02.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical Mechanical Planarization Tool

Номер патента: US20230321789A1. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

Slurry supply system disposed above the rotating platen of a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030139117A1. Автор: Jen-Chieh Tung,Kuan-Fu Chang,Sheng-Jan Chang,Yu-Wei Chih. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-24.

Methods to clean chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850704B2. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chih-Chieh Chang,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Detection method and detection apparatus for polishing pad of chemical mechanical polishing device

Номер патента: US20210146501A1. Автор: Hsien-Ming Lee,Chun-Chen Chen,Po-Ching Huang,Ching-Tang Hsueh. Владелец: Ta Liang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-20.

Polishing pad and chemical mechanical polishing apparatus for polishing a workpiece, and method of polishing a workpiece using the chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US09821429B2. Автор: Kenya Ito,Shozo Takahashi,Yu Ishii,Mika Suzuki. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of manufacturing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09770808B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-09-26.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Magnetorheological-elastomer polishing pad for chemical mechanical polishing of semiconductor wafer, preparation method and application thereof

Номер патента: US12083647B1. Автор: Qiang XIONG,Da Hu,Jiabin LU,Haotian Long,Yuhang Jin. Владелец: GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-10.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

System, control method and apparatus for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230390882A1. Автор: Kei-Wei Chen,Shich-Chang Suen,Te-Chien Hou,Wen-Pin Liao,Chen-Chi Tang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Method of chemical mechanical polish operation and chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230256561A1. Автор: Yu-Chu Hsu,Chunhung Chen,Ren-Dou Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Methods of detecting non-conforming substrate processing events during chemical mechanical polishing

Номер патента: US12036635B2. Автор: Jamie Stuart Leighton,Jeonghoon Oh,Ashish BHUSHAN,John Anthony GARCIA,Stephen Thomas CORMIER,Nick Joseph JACKSON,Manoj BALAKUMAR,Nandkishore PATIDAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US20170197290A1. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-07-13.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US11766758B2. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S. P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Active acoustic monitoring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20220281058A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Nicholas A. Wiswell,Sohrab POURMAND. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

A carrier head including a flexible membrane and a compliant backing member for a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: EP1045740A1. Автор: Steven M. Zuniga,Hung Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-25.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240342855A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024215780A2. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Jeonghoon Oh,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Jonathan P. Domin,Sih-Ling Yeh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-17.

Method to shape the surface of chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US09802293B1. Автор: Jeffrey James Hendron,Jeffrey Robert Stack. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Chemical mechanical polishing pad, polishing layer analyzer and method

Номер патента: US09737971B2. Автор: William A. Heeschen,Andrew Wank,Francis V. Acholla,Scott Chang,Jeff Tsai,Mark Gazze,James David Tate,Leo H. Chiang,Swee-Teng Chin. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method and apparatus for using across wafer back pressure differentials to influence the performance of chemical mechanical polishing

Номер патента: US6531397B1. Автор: Ronald J. Nagahara,Dawn M. Lee. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2003-03-11.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Chemical mechanical polishing machine and fabrication processes using the same.

Номер патента: GB2342605A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-04-19.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Method and system for controlling the chemical mechanical polishing of substrates by calculating an overpolishing time and/or a polishing time of a final polishing step

Номер патента: US7268000B2. Автор: Gerd Marxsen,Dirk Wollstein,Jan Raebiger. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2007-09-11.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US20030024582A1. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-02-06.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Valve for a slurry outlet opening of a chemical mechanical polishing device and chemical mechanical polishing device having a valve

Номер патента: US6854484B2. Автор: Andreas Fischer,Stefan Geyer. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2005-02-15.

Removal rate estimating method of a chemical mechanical polishing process under mixed products or mixed layers

Номер патента: US20070145010A1. Автор: Chih-Wei Lai,Ming-Wei Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2007-06-28.

Endpoint detection window, chemical mechanical polishing pad with window and preparation method thereof

Номер патента: US20240009797A1. Автор: Kai Chen,Lijun Yao,Jianguo SHI,Hongqi XIANG. Владелец: Inventech Materials Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-11.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

In-situ real-time monitoring technique and apparatus for endpoint detection of thin films during chemical/mechanical polishing planarization

Номер патента: US7024063B2. Автор: Wallace T. Y. Tang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-04-04.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Method of detecting end point and monitoring uniformity in chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6153116A. Автор: Champion Yi,Ming-Cheng Yang,Cheng-Sung Huang,Feng-Yeu Shau. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-11-28.

Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method

Номер патента: US8277286B2. Автор: Huang Soon Kang,Zin-Chang Wei,Kun-Ku Hung,Chyi-Shyuan Chern. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-10-02.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Conditioning disks for chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2017146678A1. Автор: Alexander Tregub,Kenneth A. DELBRIDGE,Andrew Paul MANSSON,Gunnmeet S. DHILLON,John E. GARLAND. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-08-31.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US20040014395A1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason,Nils Johansson. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-01-22.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Method and apparatus for measuring substrate layer thickness during chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030104761A1. Автор: Boguslaw Swedek,Andreas Wiswesser,Walter Schoenleber. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-06-05.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20230356354A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-09.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230182259A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-06-15.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11833637B2. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: WO1999041038A1. Автор: Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom,Madhayi Chandrachood. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 1999-08-19.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Monitor chemical mechanical polishing process using machine learning based processing of heat images

Номер патента: EP4329981A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-06.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US11964357B2. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-04-23.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Control of steam generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415297A1. Автор: Paul D. Butterfield,Shou-sung Chang,Calvin Lee,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Dmitry Sklyar,Jonathan P. Domin,Shuchivrat DATAR. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Conditioner, chemical mechanical polishing apparatus including the same and method of manufacturing a semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20200346317A1. Автор: Kuntack Lee,Yonghee Lee,Byoungho Kwon,Taemin EARMME,Seungchul Han. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-11-05.

Hot water generation for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4334083A1. Автор: Jianshe Tang,Shou-sung Chang,Hari Soundararajan,Haosheng Wu,Chad POLLARD,Alexander John Fisher. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-13.

Wafer carrier assembly for a chemical mechanical polishing apparatus and a polishing method using the same

Номер патента: US20030234078A1. Автор: Chia-Lin Hsu,Hsueh-Chung Chen,Shih-Hsun Hsu,Art Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2003-12-25.

Compliant inner ring for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: WO2023214985A1. Автор: Steven M. Zuniga,Satish Radhakrishnan,Andrew Nagengast,Jeonghoon Oh,Hari Prasath RAJENDRAN,Ekaterina A. MIKHAYLICHENKO,Eric L. Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-09.

Chemical mechanical polishing apparatus with integrated slurry mixer-dispenser and methods for operating the same

Номер патента: US20230373062A1. Автор: Yu-chen Wei,Feng-Inn Wu,You-Shiang Lin,Jiun Ru Huang,Jyun-Jie Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Chemical mechanical polishing apparatus using a magnetically coupled pad conditioning disk

Номер патента: US20230364731A1. Автор: Wen-Pin HO,Ren-Hao JHENG,S.P. Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2022006012A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-01-06.

Gas entrainment during jetting of fluid for temperature control in chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4171872A1. Автор: Hui Chen,Shou-sung Chang,Surajit Kumar,Chih Chung Chou. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-05-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Polishing pad including an acoustic window for chemical mechanical polishing

Номер патента: EP4366911A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian,Nicholas A. Wiswell,Jason Garcheung Fung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-15.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemical mechanical polishing pad with fluorinated polymer and multimodal groove pattern

Номер патента: US20240207998A1. Автор: Joseph So,Matthew R. Gadinski. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

System and method for chemical mechanical polishing pad replacement

Номер патента: US20230009839A1. Автор: Shih-Chung Chen,Ching-Wen Cheng,Chun Yan Chen,Wei-Kang TU. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-01-12.

Abrasive-containing element for multi-element abrasive tool, abrasive tool, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20200206875A1. Автор: Alex Cooper,Gene Bederak,Richard Nastasi,Panagiotis Orkopulos. Владелец: Universal Photonics Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Method for forming co-planar conductor and insulator features using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO1997048132A1. Автор: Kashmir S. Sahota,Subramanian Venkatkrishnan. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 1997-12-18.

Film capacity for the delivering device and method of manufacture of film capacity

Номер патента: RU2649511C2. Автор: Саша ДИРКЕР,Филип ПОГГЕНДОРФ. Владелец: Хильти Акциенгезельшафт. Дата публикации: 2018-04-03.

Method of copper film-containing nanocomposite materials production for protection of metal products against corrosion

Номер патента: RU2716464C1. Автор: Гульжиан Искаковна Джардималиева,Камиля Асылбековна Кыдралиева,Эльмира Рашатовна Бадамшина,Игорь Владимирович Седов,Сергей Александрович Курочкин,Дмитрий Анатольевич Помогайло. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем химической физики Российской Академии наук (ИПХФ РАН). Дата публикации: 2020-03-11.

Chemical-mechanical process to reduce the contamination caused by gases and products resulting from the combustion of fossil fuels, petroleum and its by-products

Номер патента: CA2397221A1. Автор: Rafael Vidal Fernandez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-02-09.

Method of film making, system for film making and polymer film

Номер патента: RU2699636C1. Автор: Фолькмар ШУЛЬЦЕ,Норберт НИКОЛАЙ,Андре ВУТЦЛЕР,Ханнес БЛОМБЕРГ,Габриэле ТОККИ. Владелец: Адлер Пельцер Холдинг Гмбх. Дата публикации: 2019-09-06.

Method and device for application of film material on gradually fed sheets

Номер патента: RU2458798C2. Автор: Маттиас ЖЮЖИ,Курт Георг НАГЛЕР,Йохан Эмиль АЙТЕЛЬ. Владелец: КБА-НотаСис СА. Дата публикации: 2012-08-20.

Device for feeding single sheets out of a stack of film sheets

Номер патента: US5316284A. Автор: Renato Bolognese,Marco Notini,Gian C. Pastorino. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1994-05-31.

Apparatus to dry/heat treat continuous web stock of film

Номер патента: WO1993020395A1. Автор: Paul T. Louks,Thuan P. Dixit. Владелец: The Dow Chemical Company. Дата публикации: 1993-10-14.

Packaged reel of film and arrangements comprising reels of film for bale applications

Номер патента: EP2872426A1. Автор: Johan RUBBRECHT,Michael J. HUYGHE. Владелец: Combipac Bv. Дата публикации: 2015-05-20.

Method for application of film

Номер патента: RU2357868C2. Автор: Йоханнес Георг ШЕДЕ. Владелец: Кба-Жиори С.А.. Дата публикации: 2009-06-10.

Device to transfer material in form of film applied to tape onto backing

Номер патента: RU2204524C2. Автор: Христоф МАНУШ,Вульф ХЕРМАНСЕН,Вольфганг БАУЭРЗАХС,Хартмут РУДОЛЬФ. Владелец: Притт Продукционсгезельшафт МБХ. Дата публикации: 2003-05-20.

Apparatus to replace a feed reel for feeding a covering film, to lay and cut a segment of film, and relative method

Номер патента: CA2515114A1. Автор: Mario Damo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Apparatus to replace a feed reel for feeding a covering film, to lay and cut a segment of film, and relative method

Номер патента: EP1590281A1. Автор: Mario Damo. Владелец: Gmp SpA. Дата публикации: 2005-11-02.

A method and apparatus for securing a tail of film to a load

Номер патента: WO2004041647A1. Автор: Patrick R. Lancaster, III,Steve Hack. Владелец: Lantech. Com, Llc. Дата публикации: 2004-05-21.

Method for surface treatment of film

Номер патента: US4832772A. Автор: Tsuneo Yamamoto,Yoshiki Takeoka,Takehiko Noguchi. Владелец: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 1989-05-23.

A welding string for forming transverse welding seams in a sheet of film

Номер патента: AU6189499A. Автор: John Buk Jensen,Jens Peder Rasmussen. Владелец: Roll-O-Matic AS. Дата публикации: 2000-05-22.

A welding string for forming transverse welding seams in a sheet of film

Номер патента: EP1121241B1. Автор: John Buk Jensen,Jens Peder Rasmussen. Владелец: Roll-O-Matic AS. Дата публикации: 2003-09-17.

Layered materials made of film based on super-high-molecular weight polyethylene

Номер патента: RU2645570C2. Автор: Томас ТАМ,Марк Бенджамин БУН,Генри Джерард АРДИФФ,Брайан Х. УОРИНГ,Брайан Д. АРВИДСОН. Владелец: Ханивелл Интернешнл Инк.. Дата публикации: 2018-02-21.

Fluorescent items with several layers of film

Номер патента: RU2303622C2. Автор: Гуанг-Ксуе ВЕЙ,Дрю Дж. БУОНИ. Владелец: Эвери Дэннисон Корпорейшн. Дата публикации: 2007-07-27.

Method and plant for application of film on sheets

Номер патента: RU2493967C2. Автор: Йоханн Эмиль АЙТЕЛЬ,Маттиас ЖЮЖИ,Курт Георг НАГЛЕР. Владелец: КБА-НотаСис СА. Дата публикации: 2013-09-27.

Method of and device for transfer of film bags

Номер патента: RU2251521C2. Автор: Ханс-Петер ВИЛЬД,Эберхард КРАФТ. Владелец: Индаг Гезелльшафт Фуэр Индустрибедарф Мбх Унд Ко. Бетрибс Кг. Дата публикации: 2005-05-10.

Vacuum-formed package device and method with use of film fabric

Номер патента: RU2442729C2. Автор: Андреа ГРАНИЛИ,Риккардо ЕВАНГЕЛИСТИ. Владелец: Криовак, Инк.. Дата публикации: 2012-02-20.

Improvements in and relating to the manufacture of films

Номер патента: GB753603A. Автор: Jack Witherington Cornforth. Владелец: Imperial Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1956-07-25.

Positioning unit and attachment unit for container element

Номер патента: EP3630617A1. Автор: Per Hagelqvist,Simon Holka. Владелец: Å&R Carton Lund AB. Дата публикации: 2020-04-08.

Panel using recycled film containers

Номер патента: US20020022095A1. Автор: Ji Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-21.

Method of increasing tearing resistance of film

Номер патента: RU2534237C1. Автор: Джеффри ТАУЛЕР. Владелец: В.Л. Гор Энд Ассошиейтс, Инк.. Дата публикации: 2014-11-27.

Improvements in the production of films or sheets of cellulose derivatives

Номер патента: GB528107A. Автор: . Владелец: Kodak Ltd. Дата публикации: 1940-10-23.

Modified container for consumer products containing element of visible thickness

Номер патента: RU2736521C2. Автор: Тимоте КАЙО,Дэвид ПИТТОН. Владелец: ФИЛИП МОРРИС ПРОДАКТС С.А.. Дата публикации: 2020-11-17.

Method and device for production of film or coating layer with surface structurized from both sides

Номер патента: RU2193968C2. Автор: Фолкер ПРИКС,Райнхольд НЕНТВИХ. Владелец: Эмтек Магнетикс Гмбх. Дата публикации: 2002-12-10.

Packaging for films containing single-dosed active substance and method of its manufacture

Номер патента: RU2633954C2. Автор: Томас ХИЛЛЕ,Габриэль Вауэр,Хелена ГАЛЛИНГЕР. Владелец: Лтс Ломанн Терапи-Системе Аг. Дата публикации: 2017-10-19.

Device for fusing lengths of film over the open ends of cups

Номер патента: CA1059087A. Автор: Richard T. Podvin,Wayne R. Verkins,Karl F. Rist (Iii). Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1979-07-24.

Laying down of large sheets of film

Номер патента: CA1085800A. Автор: Daniel E. Cardinal, Jr.. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-09-16.

Apparatus for sealing a web of film in a packaging machine

Номер патента: CA1315666C. Автор: Michael T. K. Ling,Lecon Woo. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 1993-04-06.

Machine for stretching webs of film and the like longitudinally

Номер патента: GB1013980A. Автор: . Владелец: Marshall and Williams Corp. Дата публикации: 1965-12-22.

Apparatus and method for attaching a fitment to a web of film

Номер патента: US4695337A. Автор: William Christine. Владелец: Baxter Travenol Laboratories Inc. Дата публикации: 1987-09-22.

Method and apparatus for dispensing a predetermined amount of film relative to load girth

Номер патента: CA2758148C. Автор: Patrick R. Lancaster, III. Владелец: Lantech com LLC. Дата публикации: 2015-03-17.

Apparatus and method for attaching a fitment to a web of film

Номер патента: CA1243530A. Автор: William C. Christine. Владелец: Baxter Travenol Laboratories Inc. Дата публикации: 1988-10-25.

Procedural Functional Element of a Stack of Films

Номер патента: US20080248253A1. Автор: Rolf Dahlbeck,Marcel Dierselhuis,Thomas Bieber. Владелец: SYNTICS GmbH. Дата публикации: 2008-10-09.

Manufacture of film from partially crosslinked polyethylene

Номер патента: CA1123560A. Автор: David Alan Harbourne. Владелец: DuPont Canada Inc. Дата публикации: 1982-05-18.

Appratus for sealing and severing a web of film

Номер патента: US4856259A. Автор: Michael T. K. Ling,Lecon Woo. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 1989-08-15.

Improved process for the manufacture of films from aqueous cellulose solutions, particularly viscose

Номер патента: GB290234A. Автор: . Владелец: Feldmuehle Papier und Zellstoffwerke AG. Дата публикации: 1929-06-13.

Process for the preparation of film coatings for the finishing of moulded articles

Номер патента: AU2003218766A1. Автор: Vittorio Bortolon,Tonino Savadori. Владелец: P Group SRL. Дата публикации: 2003-11-11.

Flexible container made of film material and filling method for filling such a container with a fluid substance

Номер патента: CA2377136C. Автор: Patrick Michael Van Baal,Erwin Heesemans,Manfred Hoek,Ronald Marius Johannes Albertus Van Der Klaauw,Cor Kuyvenhoven,Henricus Willibrordus Wilhelmus Mensen,Manon Elisabeth Hendrika Snijders,Piet-Hein Willem Timp. Владелец: Heineken Technical Services Bv. Дата публикации: 2009-11-03.

Apparatus for controlling the tracking of continuous sheets of film

Номер патента: US3587958A. Автор: Monroe F Taylor. Владелец: WR Grace and Co. Дата публикации: 1971-06-28.

An Improved Apparatus for the Production of Films or Bands from Materials Dissolved in Volatile Solutions.

Номер патента: GB191304601A. Автор: Benno Borzykowski. Владелец: Individual. Дата публикации: 1914-02-23.

Process for manufacturing a series of ophthalmic lenses and sheet of film used in such a process

Номер патента: EP2087395A1. Автор: Christian Bovet,Jean-Paul Cano. Владелец: Essilor International Compagnie Generale dOptique SA. Дата публикации: 2009-08-12.

Method for making a containment element and apparatus for heat-sealing a covering film to an annular band of a containment element

Номер патента: US20180105312A1. Автор: Giovanni Mondini. Владелец: Mondini SRL. Дата публикации: 2018-04-19.

Inaccessible for opening by children individual package for transdermal therapeutic systems or dosage forms of film and plate type

Номер патента: RU2503603C2. Автор: Маркус Крумме. Владелец: Лтс Ломанн Терапи-Зюстеме Аг. Дата публикации: 2014-01-10.

Method of additional packing of loads in stretchable film, machine and narrow roll of film for packing

Номер патента: RU2089475C1. Автор: Мартен-Коше Жан-Поль,Жаконелли Жорж. Владелец: Ньютек Интернэшнл. Дата публикации: 1997-09-10.

Apparatus for randomizing thicker and thinner areas in the production of film webs

Номер патента: US3898026A. Автор: Manfred Unger,Günter Haas,Christian Sauer,Norbert Roth,Peter Schwagler. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1975-08-05.

Container element with inclined side walls for dimensionally stable foodstuff container

Номер патента: WO2023168693A1. Автор: Jannis OCHSMANN,Thomas Keck,Remo ZUERCHER. Владелец: Sig Combibloc (Suzhou) Co. Ltd.. Дата публикации: 2023-09-14.

Gripping assembly mountable on machines for packaging products by means of films

Номер патента: WO2022130034A1. Автор: Carlo Alberto ARCHILLI. Владелец: DELTAPAK S.r.l.. Дата публикации: 2022-06-23.

Transfer plate for container element, an attachment unit, anapparatus and a method of attaching a container element to a container body

Номер патента: SE1651001A1. Автор: Larsson Lennart. Владелец: A & R Carton Lund AB. Дата публикации: 2018-01-08.

Attachment unit for attaching a container element, and apparatus for attaching container elements

Номер патента: WO2018009138A1. Автор: Lennart Larsson. Владелец: Å&R Carton Lund Aktiebolag. Дата публикации: 2018-01-11.

Attachment unit for attaching a container element, and apparatus for attaching container elements

Номер патента: EP3481730A1. Автор: Lennart Larsson. Владелец: Å&R Carton Lund AB. Дата публикации: 2019-05-15.

Flexible film container and manufacturing method

Номер патента: CA2948837C. Автор: Thomas Miller,Stuart Michael Ruan Jones,Sandra K. HAND,David Richard Stonehouse,Rolland Lorbach,Sheryl S. Brunken,Anthony D. Gaylor,Philip Russell FAWCUS,Steven Jonathan CLARKE,Adrian MORDUE,Donald Scott PEEBLES,Scott Fedor. Владелец: Hershey Co. Дата публикации: 2019-01-15.

A method and an apparatus for cooling a web of film or a tow of filaments comprising a thermoplastic material and a plasticizer therefor

Номер патента: GB1112891A. Автор: . Владелец: NL EXTRUSIE MIJ NV. Дата публикации: 1968-05-08.

Apparatus and method for positioning a port in an aperture in a web of film

Номер патента: CA2032492C. Автор: Pierre Soubrier,Xavier Denis. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 1996-05-07.

Apparatus for sealing a web of film

Номер патента: CA1297766C. Автор: Josef Schmidt,William C. Christine,Brian Green,Steffen Lyons,George J. Herschman. Владелец: Baxter International Inc. Дата публикации: 1992-03-24.

A transport device for transport a container element for receiving and transferring pharmaceutical articles from a counting machine to internally of continuously advancing containers

Номер патента: EP3434606A1. Автор: Giuseppe Monti. Владелец: Marchesini Group SpA. Дата публикации: 2019-01-30.

Wrap film container and label adapted for use for the container and used for film holding section

Номер патента: US8389091B2. Автор: Yoshikazu Amano,Michihiro Sato. Владелец: Kureha Corp. Дата публикации: 2013-03-05.

Apparatus for forming a web of film into a tubular shape in a form, fill and seal packaging machine

Номер патента: US4603536A. Автор: Roland De La Poype. Владелец: D ETUDE ET D APPLICATION INDUSTRIELLE DE BREVETS Ste. Дата публикации: 1986-08-05.

Bags made of film material and method of manufacturing them

Номер патента: GB1352504A. Автор: . Владелец: John Dickinson and Co Ltd. Дата публикации: 1974-05-08.

Machine for wrapping a load with a device for pleating a width of film

Номер патента: CA2339600C. Автор: Alain Trottet. Владелец: ITW Mima Systems SA. Дата публикации: 2005-05-17.

Transfer plate and attachment unit for container element

Номер патента: EP3481728A1. Автор: Lennart Larsson. Владелец: Å&R Carton Lund AB. Дата публикации: 2019-05-15.

Attachment unit for attaching a container element, and apparatus for attaching container elements

Номер патента: US11186393B2. Автор: Lennart Larsson. Владелец: AR Packaging Systems AB. Дата публикации: 2021-11-30.

Transfer plate and attachment unit for container element

Номер патента: WO2018009135A1. Автор: Lennart Larsson. Владелец: Å&R Carton Lund Aktiebolag. Дата публикации: 2018-01-11.

Positioning unit and attachment unit for container element

Номер патента: WO2018217156A1. Автор: Per Hagelqvist,Simon Holka. Владелец: Å&R Carton Lund Aktiebolag. Дата публикации: 2018-11-29.

Method of manufacturing a flexible film container

Номер патента: US20190002142A1. Автор: Thad H. Fredrickson,Steven M. Lloyd,Mitchell A. Mankosa. Владелец: ILC Dover IP Inc. Дата публикации: 2019-01-03.

Polymeric films containing nanoparticles endowed with photo-thermal effect and application thereof as thermal patches

Номер патента: EP3773891A1. Автор: Piersandro Pallavicini,Giuseppe Chirico,Maddalena COLLINI,Mykola BORZENKOV. Владелец: Universita degli Studi di Milano Bicocca. Дата публикации: 2021-02-17.

Polymeric films containing nanoparticles endowed with photo-thermal effect and application thereof as thermal patches

Номер патента: CA3095405A1. Автор: Piersandro Pallavicini,Giuseppe Chirico,Maddalena COLLINI,Mykola BORZENKOV. Владелец: Universita degli Studi di Milano Bicocca. Дата публикации: 2019-10-03.

Lens array fabrication method, and film containing base plate and film attaching instrument employed in same

Номер патента: US09995856B2. Автор: Makoto Goto,Nobuhiro Hashimoto,Shimpei Morioka,Masahiro Tanazawa. Владелец: Enplas Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Lens array fabrication method, and film containing base plate and film attaching instrument employed in same

Номер патента: US09575281B2. Автор: Makoto Goto,Nobuhiro Hashimoto,Shimpei Morioka,Masahiro Tanazawa. Владелец: Tomoegawa Paper Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Laminates of films having improved resistance to bending in all directions and methods and apparatus for their manufacture

Номер патента: CA2509326C. Автор: Ole-Bendt Rasmussen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-02-17.

Clamping of film-like material for radiant energy welding

Номер патента: CA1071516A. Автор: Richard F. Osborne. Владелец: WR Grace and Co. Дата публикации: 1980-02-12.

Apparatus for depositing sections welded off from a web of film

Номер патента: US4357139A. Автор: Fritz Achelpohl,Richard Feldkamper,Aloys Winnemoller. Владелец: Windmoeller and Hoelscher KG. Дата публикации: 1982-11-02.

Laminates of films and methods and apparatus for their manufacture

Номер патента: NZ529184A. Автор: Ole-Bendt Rasmussen. Владелец: Rasmussen O B. Дата публикации: 2005-09-30.

Process for the preparation of film coatings for the finishing of moulded articles

Номер патента: EP1511611A1. Автор: Vittorio Bortolon,Tonino Savadori. Владелец: P Group SRL. Дата публикации: 2005-03-09.

Process for the preparation of film coatings for the finishing of moulded articles

Номер патента: WO2003095174A1. Автор: Vittorio Bortolon,Tonino Savadori. Владелец: P.Group S.R.L.. Дата публикации: 2003-11-20.

Heat-sensitive recording material with a substrate comprising a foamed polyester resin film containing minute cavities

Номер патента: US5047383A. Автор: Katsuhiko Ishida,Hiroo Hayashi,Toshimitsu Arikawa. Владелец: Kanzaki Paper Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1991-09-10.

Lens array fabrication method, and film containing base plate and film attaching instrument employed in same

Номер патента: US20170131486A1. Автор: Makoto Goto,Nobuhiro Hashimoto,Shimpei Morioka,Masahiro Tanazawa. Владелец: Enplas Corp. Дата публикации: 2017-05-11.

Microcapillary films containing phase change materials

Номер патента: EP2731796A2. Автор: Juergen Hoeppner,Rudolf J. Koopmans,Luis G. Zalamea Bustillo,Colmar WOCKE. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2014-05-21.

Lens array fabrication method, and film containing base plate and film attaching instrument employed in same

Номер патента: US20170131440A1. Автор: Makoto Goto,Nobuhiro Hashimoto,Shimpei Morioka,Masahiro Tanazawa. Владелец: Enplas Corp. Дата публикации: 2017-05-11.

Polymeric films containing nanoparticles endowed with photo-thermal effect and application thereof as thermal patches

Номер патента: WO2019185731A1. Автор: Piersandro Pallavicini,Giuseppe Chirico,Maddalena COLLINI,Mykola BORZENKOV. Владелец: UNIVERSITÀ DEGLI STUDI DI MILANO - BICOCCA. Дата публикации: 2019-10-03.

Method of and apparatus for measuring planarity of strip, especially metal strip

Номер патента: CA2428377C. Автор: Andreas Noé,Rolf Noe. Владелец: BWG Bergwerk und Walzwerk Maschinenbau GmbH. Дата публикации: 2009-03-31.

Apparatus and method of checking the planarity of cold-rolled ferromagnetic strip

Номер патента: GB1460958A. Автор: . Владелец: Alpine Montan AG. Дата публикации: 1977-01-06.

Planarity of reinforced rubber layers during tyre production

Номер патента: EP3576931A1. Автор: Borja FERNANDEZ DE RETANA,Joël MANNE. Владелец: Compagnie Generale des Etablissements Michelin SCA. Дата публикации: 2019-12-11.

Rolling stand for plane products and method to control the planarity of said products

Номер патента: EP1200209A1. Автор: Cesare Galletti,Estore Donini,Paolo Bobig. Владелец: Danieli and C Officine Meccaniche SpA. Дата публикации: 2002-05-02.

Rolling stand for plane products and method to control the planarity of said products

Номер патента: AU5559500A. Автор: Cesare Galletti,Estore Donini,Paolo Bobig. Владелец: Danieli and C Officine Meccaniche SpA. Дата публикации: 2001-02-05.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: WO1999056106A9. Автор: Todd A Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Syst. Дата публикации: 2000-01-27.

Chemical-mechanical-planarization (cmp) slurry quality control process and particle size distribution measuring systems

Номер патента: EP1076814A1. Автор: Todd A. Cerni,Scott Waisanen,Dennis Knowlton. Владелец: Particle Measuring Systems Inc. Дата публикации: 2001-02-21.

Method and apparatus for indicating the exposure status of a non-exposed roll of film contained in a film canister

Номер патента: US6062744A. Автор: William J. Fraleigh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2000-05-16.

Motion picture projector for use with film-containing cassettes

Номер патента: US3702729A. Автор: Alfred Winkler,Fridolin Hennig,Rudolf Kremp. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1972-11-14.

Photographic film container, film assembly and loading method

Номер патента: US20040062544A1. Автор: Yet Chan. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-01.

Film container and automatic developing apparatus

Номер патента: US5311237A. Автор: Tadashi Tanaka,Ken Kawada. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1994-05-10.

Solid dosage form with a film containing an active substance, as well as its method of production

Номер патента: CA2667724C. Автор: Joerg Rosenberg,Joerg Breitenbach,Peter Heilmann,Helmuth Steininger. Владелец: AbbVie Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2015-06-16.

Chemical-mechanical contouring (CMC) method for forming a contoured surface

Номер патента: US5940956A. Автор: Stephen G. Jordan. Владелец: Aiwa Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-24.

Method and apparatus for ascertaining the dimensions and positions of film frames on coherent roll films

Номер патента: US4555632A. Автор: Peter Vockenhuber. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1985-11-26.

Method for production of chemical-mechanical wood mass

Номер патента: RU2401350C2. Автор: Кай Эрик Йоханнес ВИКМАН,Майя ПИТКЯНЕН,Пирита СУОРТАМО,Оле НИКУЛЛ,Аули ЛАУРИЛА-ЛУММЕ. Владелец: М-Риал Ойй. Дата публикации: 2010-10-10.

Measuring method in real time mode of film thickness of coating not containing chrome on surface of strip steel

Номер патента: RU2498215C1. Автор: Чжичен ВАН,Чуньго ЛВ,Юнцян ЛУ. Владелец: Баошань Айрон Энд Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2013-11-10.

Installation for continuous drying of film with covering

Номер патента: RU2594842C2. Автор: Антонио ЧЕРЧЬЕЛЛО. Владелец: Нордмекканика Спа. Дата публикации: 2016-08-20.

Dissolvable films containing high concentrations of nonionic surfactants such as polysorbates to enhance high solid loadings

Номер патента: CA2780264A1. Автор: Melissa Martinetti,Rajan Jabbal. Владелец: Colgate Palmolive Co. Дата публикации: 2011-06-09.

Film counter changeover device for different kinds of film having different frames

Номер патента: US3613540A. Автор: Makoto Nakamura. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1971-10-19.

Method for marking of film and appropriate marking

Номер патента: WO1992022013A1. Автор: Kristina Eriksen. Владелец: Eriksen Kristina. Дата публикации: 1992-12-10.

Method of film data comparison

Номер патента: WO2004057607A1. Автор: John McKay. Владелец: Virtual Katy Development Limited. Дата публикации: 2004-07-08.

Measurement of pressure difference by means of film camera

Номер патента: RU2705752C2. Автор: Зильвио ДЕККЕР,Даниэль ВЕТЦИГ. Владелец: Инфикон Гмбх. Дата публикации: 2019-11-11.

Apparatus for opening and marking the contents of film cassettes

Номер патента: US3715261A. Автор: F Hennig,K Potz,C Gotze,H Kellner. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1973-02-06.

Application of film-forming polymers from group of polyurethanes for hair care and pharmaceutical preparations, which contain these polymers

Номер патента: RU2437680C2. Автор: Патрик ФРАНКЕ,ШРЁДЕР Инес ЦУРДО,Штефан БРАХТ,Клаус-Михаил ЛЕЕР,Ульрих ШЭФЕР. Владелец: Эпинамикс ГмбХ. Дата публикации: 2011-12-27.

An apparatus for the safe-keeping of sheets of film

Номер патента: WO1982000900A1. Автор: B Ericsson,T Bengtsson. Владелец: T Bengtsson. Дата публикации: 1982-03-18.

Improved rototranslation mechanism of a shutter of a containment element

Номер патента: EP2212496A2. Автор: Emilio Terragni. Владелец: TERRAGNI EZIO. Дата публикации: 2010-08-04.

Total immersion transfer of photographic images between sprocket-registered strips of film

Номер патента: US4105329A. Автор: William D. Carter,Martin S. Mueller. Владелец: CARTER EQUIPMENT CO Inc. Дата публикации: 1978-08-08.

Device for the movement and the support of support and containment elements of a furniture

Номер патента: EP3273824A1. Автор: Franco Bonin. Владелец: Vibo SpA. Дата публикации: 2018-01-31.

Film container handling apparatus

Номер патента: US5713054A. Автор: Yasunobu Shimamura,Youji Nishimoto. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 1998-01-27.

Method for determining optical constants of films of chemically active metals or their alloys

Номер патента: RU2659873C1. Автор: Владимир Григорьевич Шевченко,Лев Александрович Акашев,Николай Александрович Попов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии твердого тела Уральского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2018-07-04.

Device for the delivery, one by one, of pieces of film from a stack

Номер патента: US3785637A. Автор: Der Does L Van. Владелец: Optische Industrie de Oude Delft NV. Дата публикации: 1974-01-15.

Device for preventing the reverse movement of film

Номер патента: US3605597A. Автор: Yoshihisa Katsuyama. Владелец: Nippon Kogaku KK. Дата публикации: 1971-09-20.

Improved motion picture apparatus for selectively projecting one of a plurality of films

Номер патента: GB1098925A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1968-01-10.

Photographic apparatus accommodating a plurality of film packs

Номер патента: US4647168A. Автор: Hisashi Kikuchi,Tomoyuki Takahashi,Masashi Katoh. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 1987-03-03.

Photographic apparatus having film container locating structure

Номер патента: US4032936A. Автор: Bruce K. Johnson,Donald H. Hendry. Владелец: Polaroid Corp. Дата публикации: 1977-06-28.

Apparatus, systems and methods for dispensing and laying a sheet of film material

Номер патента: CA3079820A1. Автор: Willie L. Albrecht. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-10-29.

Floating plant for biorecycling of films of oil products from surface of water reservoirs

Номер патента: RU2506370C1. Автор: Дмитрий Павлович Соколов,Александр Юрьевич Винаров,Владимир Наумович Смирнов,Виталий Вячеславович Челноков,Алексей Вячеславович Матасов. Владелец: Есаулов Николай Анатольевич. Дата публикации: 2014-02-10.

Device for the automatic loading of film material on a suction plate

Номер патента: CA1235936A. Автор: Hans Penza,Eckhard Lindemann,Karl-Wilhelm Schmuck,Siegfried Segler,Dietrich Asbach. Владелец: Dr Ing Rudolf Hell GmbH. Дата публикации: 1988-05-03.

Apparatus for determining the light transmissivity of film frames or the like

Номер патента: US4094604A. Автор: Bernd Payrhammer,Helmut Treiber. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1978-06-13.

Device for connecting successive strips of film for processing

Номер патента: US3607575A. Автор: Donald W Byers,Chester H Petry Jr. Владелец: Chester H Petry Jr. Дата публикации: 1971-09-21.

Self sealing X-Ray film container

Номер патента: US20080279338A1. Автор: Raymond Green,Anna Marie Scott. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-11-13.

Arrangements for storing and transporting rolls of film and sound recording materials

Номер патента: GB1332092A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1973-10-03.

Method and apparatus for winding a strip of film and for inserting it in a cassette

Номер патента: US4228579A. Автор: Franz-Heinz Dunkel,Heinz Nebel,Gerd Seibel,Ralf L. Klinkhammer,Siegfried Spanner. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1980-10-21.

Carrier tile consisting of film-like plastic

Номер патента: CA2539321C. Автор: Werner Saathoff,Hermann Hartl. Владелец: INTERPLAST KUNSTSTOFFE GmbH. Дата публикации: 2009-09-22.

Device for the movement and the support of support and containment elements of a furniture

Номер патента: WO2016151532A1. Автор: Franco Bonin. Владелец: Vibo S.P.A.. Дата публикации: 2016-09-29.

Method of making, and the use of cytotoxic agents containing elemental selenium

Номер патента: EP1567144A2. Автор: Fritz Sieber,Raymond J. Bula,Jamal Bousbaa,Wolfgang H. H. Gunther,Jean-Pierre Daziano,Marianne Krieg-Kowald. Владелец: Medical College of Wisconsin Research Foundation Inc. Дата публикации: 2005-08-31.

Method of making, and the use of cytotoxic agents containing elemental selenium

Номер патента: US7205002B2. Автор: Fritz Sieber,Raymond J. Bula,Jamal Bousbaa,Wolfgang H. H. Gunther,Jean-Pierre Daziano,Marianne Krieg-Kowald. Владелец: Medical College of Wisconsin Research Foundation Inc. Дата публикации: 2007-04-17.

Water-soluble films containing low-viscosity alginates

Номер патента: RU2445977C2. Автор: Челль СТЕНБЕРГ,Фредрик ХЮБИНЕТТЕ. Владелец: Упсалагрупен Медикал Аб. Дата публикации: 2012-03-27.

Motion picture projector with magazine for film-containing cassettes

Номер патента: US3702727A. Автор: Fridolin Hennig,Rudolf Kremp. Владелец: Agfa Gevaert AG. Дата публикации: 1972-11-14.

Method and composition for making an oral soluble film, containing at least one active agent

Номер патента: US09901545B1. Автор: Richard C. Fuisz,Joseph M. Fuisz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-27.

Use of film-forming hair-care polymers from the group of polyurethanes and pharmaceutical preparations and plasters containing said polymers

Номер патента: CA2633599C. Автор: Stefan Bracht,Ulrich Schaefer,Claus-Michael Lehr,Patrick Franke,Ines Zurdo Schroeder. Владелец: EPINAMICS GMBH. Дата публикации: 2015-02-10.

Film container

Номер патента: US4860892A. Автор: Keith Roberts,Thomas A. McConnell. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-08-29.

Cassette-like device for advancing and withdrawing a predetermined length of film to and from a camera

Номер патента: CA1075063A. Автор: Robert H. Powers. Владелец: Itek Corp. Дата публикации: 1980-04-08.

Containing element, structure of reinforced ground, process of making said structure of reinforced ground

Номер патента: EP3265614A1. Автор: Cesare Beretta,Luca MOTTADELLI. Владелец: TENAX GROUP SA. Дата публикации: 2018-01-10.

Inhalation device cartridge comprising a chamber formed of film or sheet material holding a wick

Номер патента: WO2024052657A1. Автор: Charles William Owen Smith. Владелец: Inlab Ventures Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Test apparatus and method of measuring mar resistance of film or coating

Номер патента: EP1092142A1. Автор: Li Lin. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2001-04-18.

Surgical staples containing elements for improved tissue stapling

Номер патента: RU2725594C2. Автор: IV Фредерик Э. ШЕЛТОН,III Честер О. БАКСТЕР,Кеннет Д. БЭЛЛАРД. Владелец: ЭТИКОН ЭлЭлСи. Дата публикации: 2020-07-02.

Voided polymer film containing layered particulates

Номер патента: US20040066556A1. Автор: Cheryl Kaminsky,Robert Bourdelais,Narasimharao Dontula,Debasis Majumdar,Thomas Laney,Michael Brickey. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 2004-04-08.

Method for achieving the planarity of an active face for a magnetic recording/reading head

Номер патента: CA1325328C. Автор: Jean-Marc Coutellier,Paul-Louis Meunier,Alain Jacobelli,Henriette Magna. Владелец: Compagnie Europeenne de Composants Electroniques LCC CICE. Дата публикации: 1993-12-21.

Non-chemical, mechanical procedure for the devulcanization of scrap rubber and/or elastomers and apparatus therefor

Номер патента: US09926426B2. Автор: Harald Rust. Владелец: Entex Rust and Mitschke GmbH. Дата публикации: 2018-03-27.

Method and Composition for Chemical Mechanical Planarization of a Metal-Containing Substrate

Номер патента: US20130153820A1. Автор: Shi Xiaobo. Владелец: AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.. Дата публикации: 2013-06-20.

Method and apparatus for supporting and cleaning a polishing pad for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010019937A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Method and apparatus for supporting a polishing pad during chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20010006879A1. Автор: Michael Walker,Karl Robinson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-05.

Method for planarizing workpieces in a chemical-mechanical planarization process, method for chemical-mechanical planarization of a substrate, and apparatus for planarizing a surface on a workpiece

Номер патента: TW422754B. Автор: Jeremy K Stephens. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2001-02-21.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods for making and using such pads and machines

Номер патента: US6361832B1. Автор: Scott G. Meikle,Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US20060240745A1. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2006-10-26.

Method for analyzing effective polishing frequency and effective polishing times for chemical mechanical planarization polishing wafers with different polishing pad profiles

Номер патента: US7299107B2. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: National Taiwan University of Science and Technology NTUST. Дата публикации: 2007-11-20.

Planarizing pads, planarizing machines and methods for making and using planarizing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic device substrate assemblies

Номер патента: US6498101B1. Автор: Dapeng Wang. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-12-24.

Method and apparatus for measuring a change in the thickness of polishing pads used in chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers

Номер патента: US5609718A. Автор: Scott G. Meikle. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Apparatus and method for conditioning and monitoring media used for chemical-mechanical planarization

Номер патента: EP1222056A1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-07-17.

Planarizing pads, planarizing machines, and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6428386B1. Автор: Aaron T. Bartlett. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-06.

Method and apparatus for improved chemical mechanical planarization

Номер патента: EP1799402A1. Автор: Rajeev Bajaj. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-27.

Method for Manufacturing Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad and Conditioner for Chemical Mechanical Planarization Pad

Номер патента: KR100889288B1. Автор: 이주한,윤소영,방준석. Владелец: 이화다이아몬드공업 주식회사. Дата публикации: 2009-03-17.

Chemical mechanical planarization process control utilizing in-situ conditioning process

Номер патента: IL177027A. Автор: . Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2010-06-16.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6206754B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-03-27.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same

Номер патента: US6213845B1. Автор: Jason B. Elledge. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-10.

Planarizing machines and alignment systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6447369B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-09-10.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of micro electronic substrates

Номер патента: US6609947B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-08-26.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-substrate assemblies

Номер патента: US6364746B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-04-02.

Endpoint detection apparatus, planarizing machines with endpointing apparatus, and endpointing methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US6234878B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-05-22.

Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6833046B2. Автор: David Q. Wright. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-21.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6922253B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-07-26.

Apparatuses for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6986700B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-01-17.

Apparatuses and methods for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US7229338B2. Автор: Vishnu K. Agarwal. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-06-12.

Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20020069967A1. Автор: David Wright. Владелец: Wright David Q.. Дата публикации: 2002-06-13.

Polishing pads and planarizing machines for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrate assemblies

Номер патента: US20010029157A1. Автор: Dinesh Chopra. Владелец: Dinesh Chopra. Дата публикации: 2001-10-11.

Method and apparatus for releasably attaching polishing pads to planarizing machines in mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6439970B1. Автор: Michael A. Walker. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-08-27.

Carrier heads, planarizing machines and methods for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US20050266778A1. Автор: Daniel Custer,Aaron Ward. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-12-01.

Planarizing machines and control systems for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20040012795A1. Автор: Scott Moore. Владелец: Moore Scott E.. Дата публикации: 2004-01-22.

Apparatus for in-situ optical endpointing on web-format planarizing machines in mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies and methods for making and using same

Номер патента: US20010044261A1. Автор: Jason Elledge. Владелец: Elledge Jason B.. Дата публикации: 2001-11-22.

Polishing pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20030027500A1. Автор: David James,Peter Burke,Arun Vishwanathan,David Shidner,Lee Cook. Владелец: David Shidner. Дата публикации: 2003-02-06.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US6350180B2. Автор: Scott A. Southwick. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-02-26.

Methods for predicting polishing parameters of polishing pads, and methods and machines for planarizing microelectronic substrate assemblies in mechanical or chemical-mechanical planarization

Номер патента: US20010044257A1. Автор: Scott Southwick. Владелец: Southwick Scott A.. Дата публикации: 2001-11-22.

Method and apparatus for chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates with selected planarizing liquids

Номер патента: US6533893B2. Автор: Whonchee Lee,Gundu M. Sabde,Michael J. Joslyn,James J. Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-03-18.

Method for analyzing effective polishing frequency and times for chemical mechanical planarization polishing wafer with different polishing pad profile

Номер патента: TW200638477A. Автор: Zone-Ching Lin,Chein-Chung Chen. Владелец: Univ Nat Taiwan Science Tech. Дата публикации: 2006-11-01.

Devices and methods for in-situ control of mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies

Номер патента: US6290572B1. Автор: Jim Hofmann. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-09-18.

Method and apparatus for endpointing mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6046111A. Автор: Karl M. Robinson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-04-04.

Web-format polishing pads and methods for manufacturing and using web-format polishing pads in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6210257B1. Автор: David W. Carlson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2001-04-03.

Chemical-mechanical planarization machine and method for uniformly planarizing semiconductor wafers

Номер патента: US5868896A. Автор: Chris Chang Yu,Karl M. Robinson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-02-09.

Chemical-mechanical planarization machine and method for uniformly planarizing semiconductor wafers

Номер патента: US6143123A. Автор: Chris Chang Yu,Karl M. Robinson. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-11-07.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6520834B1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2003-02-18.

Apparatus and method for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of micro-device workpieces

Номер патента: US7115016B2. Автор: Nagasubramaniyan Chandrasekaran. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-10-03.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US6974364B2. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-12-13.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20060160470A1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2006-07-20.

Methods for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US7182668B2. Автор: Brian Marshall. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2007-02-27.

Methods and apparatuses for analyzing and controlling performance parameters in mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates

Номер патента: US20030096559A1. Автор: Brian Marshall. Владелец: Brian Marshall. Дата публикации: 2003-05-22.

ENDPOINT CONTROL DURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING BY DETECTING INTERFACE BETWEEN DIFFERENT LAYERS THROUGH SELECTIVITY CHANGE

Номер патента: US20120003759A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Chemical - mechanical polishing method

Номер патента: RU2305621C1. Автор: Владимир Николаевич Хмелёв,Андрей Викторович Шалунов,Роман Владиславович Барсуков,Сергей Николаевич Цыганок,Алексей Николаевич Сливин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Алтайский государственный технический университет им. И.И. Ползунова" (АлтГТУ). Дата публикации: 2007-09-10.

Collagen film with plurality of openings, method for perforating of film, method for wrapping and placing into netted bag of food products (versions) and product coated with collagen film

Номер патента: RU2289257C2. Автор: Франц МАЗЕР,Оливер ТЮРК. Владелец: Натурин Гмбх Унд Ко. Дата публикации: 2006-12-20.

Slurry composition for use in chemical mechanical polishing of metal wiring

Номер патента: MY140033A. Автор: Hyun Soo Roh,Kil Sung Lee,Jae Seok Lee,Chang Ki Hong,Bo Un Yoon,Won Joong Do,Jong Won Lee,Sang Rok Hah,Joon Sang Park. Владелец: Cheil Ind Inc. Дата публикации: 2009-11-30.

Automatic facility of film manufacture for items stacking

Номер патента: RU2355611C2. Автор: Александр Васильевич Антохин,Александр Владимирович Каманов,Федор Иванович Селин,Михаил Михайлович Грядунов. Владелец: Закрытое акционерное общество "СТЕКЛОПАК" (ЗАО "СТЕКЛОПАК"). Дата публикации: 2009-05-20.

Formation method of films of photonic crystals (pc) on conducting substrates

Номер патента: RU2371525C2. Автор: Наталья Анатольевна Григорьева,Кирилл Сергеевич Напольский,Андрей Анатольевич Елисеев,Алексей Викторович Лукашин,Юрий Дмитриевич Третьяков,Сергей Валентинович Григорьев,Нина Александровна Саполетова. Владелец: Петербургский институт ядерной физики им. Б.П. Константинова РАН. Дата публикации: 2009-10-27.

Method of production of films on base of simple or complex oxides or their solid solutions

Номер патента: RU2309892C2. Автор: Виктор Георгиевич Васильев,Елена Владимировна Владимирова,Александр Павлович Носов,Виктор Леонидович Кожевников. Владелец: Государственное учреждение "Институт химии твердого тела" Уральского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2007-11-10.

Method of measuring coefficient of thermal expansion of film specimens

Номер патента: RU2392611C1. Автор: Владимир Сергеевич Сысоев,Антон Алексеевич Зуев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие федеральный научно-производственный центр "Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова". Дата публикации: 2010-06-20.

Method for lift-off lithography of film-type island structures

Номер патента: RU2400790C1. Автор: Дмитрий Владимирович Чесноков. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Сибирская государственная геодезическая академия" (ГОУ ВПО "СГГА"). Дата публикации: 2010-09-27.

Method of determining plastic characteristics of films of multicomponent amorphous-nanocrystalline metal alloys

Номер патента: RU2494039C1. Автор: Иван Владимирович Ушаков,Иван Сергеевич Сафронов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный горный университет (МГГУ). Дата публикации: 2013-09-27.

Method to determine adhesion of film to substrate

Номер патента: RU2572673C1. Автор: Самат Нухович Якупов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт механики и машиностроения Казанского научного центра Российской академии наук (ФГБУН ИММ КазНЦ РАН). Дата публикации: 2016-01-20.

Method of production of film adhesives and glue prepregs with a thermoreactive polymeric binding agent and a device for its realization

Номер патента: RU2254172C1. Автор: Л.И. Аниховска,Л.И. Аниховская,Д.В. Батизат,Л.А. Дементьева,А.А. Сереженков,Р.Х. Хайретдинов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью научно-производственная фирма "Техполиком" (ООО "Техполиком"). Дата публикации: 2005-06-20.

Номер патента: RU2477540C2. Автор: Андрей Александрович Рычков,Владимир Федорович Дергачев,Дмитрий Андреевич Рычков,Алексей Евгеньевич Кузнецов. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский государственный педагогический университет им. А.И. Герцена". Дата публикации: 2013-03-10.

Method of film electret production

Номер патента: RU2523337C1. Автор: Андрей Александрович Рычков,Дмитрий Андреевич Рычков,Анатолий Алексеевич Малыгин,Вадим Александрович Иванов,Алексей Евгеньевич Кузнецов,Никита Юрьевич Ефимов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Российский государственный педагогический университет им. А.И. Герцена". Дата публикации: 2014-07-20.

Magnetooptical converter, process of film growing, method of visualization of inhomogeneous magnetic field (versions) and device for its embodiment

Номер патента: RU2168193C2. Автор: М.Ю. Гусев,Ю.Ф. Козлов,В.В. Рандошкин,Н.С. Неустроев. Владелец: Закрытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт материаловедения". Дата публикации: 2001-05-27.

Номер патента: RU2032277C1. Автор: Леонид Михайлович Лыньков,Степан Петрович Грицай,Юрий Кириллович Карелин,Наталья Анатольевна Мочальник,Станислава Ивановна Власова,Елена Викторовна Яруничева. Владелец: Минский радиотехнический институт. Дата публикации: 1995-03-27.

Method and system for interactive creation of film products "burime"

Номер патента: RU2536381C2. Автор: Николай Николаевич Бабич,Сергей Иванович Корженевич. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Фэт-Фри Групп". Дата публикации: 2014-12-20.

Preparation method of film-forming solutions for formation of ferroelectric films of barium-strontium titanate

Номер патента: RU2490370C2. Автор: Алексей Сергеевич Вишневский,Константин Анатольевич Воротилов,Нина Михайловна Котова,Александр Сергеевич Сигов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный технический университет радиотехники, электроники и автоматики". Дата публикации: 2013-08-20.

Film-forming device of film apparatus tubular adapter

Номер патента: RU2510287C1. Автор: Виктор Владимирович Лобанов,Сергей Сергеевич Журавлев,Мурад Ильясович Умаханов. Владелец: Мурад Ильясович Умаханов. Дата публикации: 2014-03-27.

Shrinkable labels made from directed polystyrene film, containing fine rubber particles, low content of gel of rubber particles and block-copolymers

Номер патента: RU2415162C2. Автор: Роберт Л. МАКГИ,Стефен Дж. СКАПИК III. Владелец: Дау Глобал Текнолоджиз Инк.. Дата публикации: 2011-03-27.

Номер патента: RU2478214C1. Автор: Борис Дзамболатович Хасцаев,Виктор Адыгеевич Созаев,Марат Борисович Хасцаев. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Северо-Кавказский горно-металлургический институт (государственный технологический университет) (СКГМИ (ГТУ). Дата публикации: 2013-03-27.

Sealing device of film-lubrication bearing

Номер патента: RU2505367C1. Автор: Илья Александрович Тодер,Дмитрий Игоревич Казакевич,Геннадий Борисович Фокин,Валерий Алексеевич Толстых,Александр Владимирович Морозов,Евгений Николаевич Седых. Владелец: Открытое акционерное общество Акционерная холдинговая компания "Всероссийский научно-исследовательский и проектно-конструкторский институт металлургического машиностроения имени академика Целикова" (ОАО АХК "ВНИИМЕТМАШ"). Дата публикации: 2014-01-27.

Composition of film coating for temporary anticorrosion protection

Номер патента: RU2034885C1. Автор: Наталья Васильевна Васильева,Виктор Владимирович Попов,Юрий Георгиевич Скрыпник. Владелец: Институт физико-органической химии и углехимии АН Украины. Дата публикации: 1995-05-10.

Method for increasing wear resistance of parts by application of film of lubricating composition based on molybdenum disulphide on friction surface

Номер патента: RU2479670C2. Автор: Иван Иванович Маликов,Екатерина Андреевна Селедкина. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Вологодский государственный технический университет" (ВоГТУ). Дата публикации: 2013-04-20.

Improvements in or relating to the Arrangement of Films and Filters for Three-colour Photography.

Номер патента: GB190420954A. Автор: Hans Schmidt. Владелец: Individual. Дата публикации: 1904-11-03.

Electrical-sheet steel with oriented grains possessing high adhesion of film and method of making such steel

Номер патента: RU2298592C2. Автор: Суити НАКАМУРА,Хотака ХОНМА,Юдзи КУБО,Ёсиаки ХИРОТА,Ясумицу КОНДО,Такехиде СЕНУМА,Хотака ХОНМА (JP),Ёсиаки ХИРОТА (JP),Ясумицу КОНДО (JP),Юдзи КУБО (JP),Такехиде СЕНУМА (JP),Суити НАКАМУРА (JP). Владелец: Ниппон Стил Корпорейшн. Дата публикации: 2007-05-10.

Method for measuring thickness of film on substrate

Номер патента: RU2207501C2. Автор: М.Л. Белов,В.А. Городничев,В.И. Козинцев,С.В. Березин,Б.В. Стрелков. Владелец: Научно-исследовательский институт радиоэлектроники и лазерной техники Московского государственного технического университета им. Н.Э.Баумана. Дата публикации: 2003-06-27.

Method of application of film coating on surface-porous and rough implants

Номер патента: RU2414870C1. Автор: Игорь Владимирович Родионов,Константин Георгиевич Бутовский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Саратовский государственный технический университет (СГТУ). Дата публикации: 2011-03-27.

Method of placement of film samples for measurement of temperature dependence of electric resistance

Номер патента: RU2572133C2. Автор: Владимир Викторович Черниченко,Олег Владимирович Стогней,Юрий Егорович Калинин,Александр Викторович Ситников. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Воронежский государственный технический университет". Дата публикации: 2015-12-27.

Tubular head of film evaporator

Номер патента: RU2335322C1. Автор: Максим Валерьевич Мальцев,Виктор Николаевич Чуркин. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Воронежская государственная технологическая академия. Дата публикации: 2008-10-10.

Shrink labels of oriented polystyrene film containing small rubber particles and low rubber particle gel content and block copolymers

Номер патента: MY140609A. Автор: Robert L Mcgee,Stephen J Skapik Iii. Владелец: DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2009-12-31.

元素状ケイ素を含む膜の化学機械平坦化

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты