Method of manufacturing a gate structure for a semiconductor memory device with improved breakdown voltage and leakage rate
Номер патента: US6187633B1
Опубликовано: 13-02-2001
Автор(ы): Anqing Zhang, Joe Hui, Zhong Dong
Принадлежит: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-02-2001
Автор(ы): Anqing Zhang, Joe Hui, Zhong Dong
Принадлежит: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabricating a tunnel oxide layer and a tunnel oxide layer for a semiconductor device
Номер патента: US09875900B2. Автор: Eng Gek Hee,Ka Siong Wisley Ung. Владелец: X Fab Semiconductor Foundries GmbH. Дата публикации: 2018-01-23.