Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Metal halide gas generator for chemical vapor deposition apparatus, has O-ring seal provided between flange region of housing and base of generator

Metal halide gas generator for chemical vapor deposition apparatus, has O-ring seal provided between flange region of housing and base of generator

Номер патента: FR2829508A1
Опубликовано: 14-03-2003
Автор(ы): Andrew L Purvis, Bruce M Warnes, Daniel L Near
Принадлежит: Howmet Research Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Halide gas generator; chemical vapour deposition

Номер патента: GB2380493A. Автор: Bruce M Warnes,Andrew L Purvis,Daniel L Near. Владелец: Howmet Research Corp. Дата публикации: 2003-04-09.

개시제를 이용한 화학 기상 증착법(iCVD, initiated chemical vapor deposition)을 통해 전자 부품에 고분자 박막을 형성하는 장치 및 그 제조 방법

Номер патента: KR20220168089A. Автор: 김하영,김호연,김용호,김창재,김광순,이다미. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-12-22.

Method for chemical infiltration or vapor deposition

Номер патента: RU2738718C2. Автор: Стефан ГУЖАР,Адриен ДЕЛЬКАМ,Седрик ДЕСКАМ. Владелец: Сафран Серамикс. Дата публикации: 2020-12-15.

In Situ Generation of Gaseous Precursors For Chemical Vapor Deposition of a Chalcogenide

Номер патента: US20190338416A1. Автор: Jing Kong,Zhenfei Gao,Qingqing Ji. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2019-11-07.

Processing system and method for chemical vapor deposition

Номер патента: EP1100980A2. Автор: Joseph T. Hillman. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2001-05-23.

Apparatus for chemical vapor deposition (CVD) with showerhead

Номер патента: US8298370B2. Автор: Chul Soo Byun. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2012-10-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US6110283A. Автор: Takaaki Kawahara,Mikio Yamamuka,Tsuyoshi Horikawa,Masayoshi Tarutani. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2000-08-29.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: EP4395800A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-07-10.

Defined dosing atmospheric temperature and pressure vapor deposition system

Номер патента: US09562288B2. Автор: Adam Zax,Russell C. SLAYBAUGH,Michael Stephen METCALFE,Guillermo SETA. Владелец: Diamon Fusion International Inc. Дата публикации: 2017-02-07.

Chemical vapor deposition apparatus and method for forming parylene film

Номер патента: US20110151121A1. Автор: Chun-Hao Chang,Chuan-Sheng Zhuang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2011-06-23.

Species controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US20170327950A1. Автор: Keith Daniel Humfeld,De'Andre James Cherry. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-16.

Auxiliary gasline-heating unit in chemical vapor deposition

Номер патента: US20010042930A1. Автор: Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Peng-Yih Peng,Fu-Yang Yu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-22.

Process and apparatus for supplying zinc vapor continuously to a chemical vapor deposition process from a continuous supply of solid zinc

Номер патента: US5383969A. Автор: Michael A. Pickering,Jeffery L. Kirsch,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods

Номер патента: US20230072705A1. Автор: Prerna Goradia. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-03-09.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US10556799B2. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2020-02-11.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20170096345A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2017-04-06.

Method and apparatus for the combustion chemical vapor deposition of films and coatings

Номер патента: CA2158568C. Автор: Andrew T. Hunt,Joe K. Cochran,William Brent Carter. Владелец: Georgia Tech Research Corp. Дата публикации: 2001-12-04.

Parylene deposition apparatus including a heated and cooled support platen and an electrostatic clamping device

Номер патента: US5536322A. Автор: John Wary,William F. Beach,Roger A. Olson. Владелец: Specialty Coating Systems Inc. Дата публикации: 1996-07-16.

Tritertbutyl aluminum reactants for vapor deposition

Номер патента: US20180339907A1. Автор: Mohith E. Verghese,Eric J. Shero. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2018-11-29.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20140322849A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2014-10-30.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US9543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Aerosol-assisted chemical vapor deposition of nickel sulfide nanowires for electrochemical water oxidation

Номер патента: US20230407497A1. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-12-21.

Vapor deposition apparatus, deposition method using the same, and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US09543518B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Myung-Soo Huh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4107352A. Автор: Mohammad Javid Hakim. Владелец: Westinghouse Canada Inc. Дата публикации: 1978-08-15.

Chemical vapor deposition method of growing oxide films with giant magnetoresistance

Номер патента: US5487356A. Автор: Jiming Zhang,Yi-Oun Li. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1996-01-30.

Compressible tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: US20230115177A1. Автор: Jacob Thomas,Chase Parker,Bryan C. Hendrix,John N. Gregg,Scott L. Battle,Donn K. Naito,James Schindler,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-04-13.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2023-04-13.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: WO2023059827A9. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-02-15.

Modular tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413177A1. Автор: Jacob Thomas,John N. Gregg,Scott L. Battle,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

Compressible tray for solid chemical vaporizing chamber

Номер патента: EP4413176A1. Автор: Jacob Thomas,Chase Parker,Bryan C. Hendrix,John N. Gregg,Scott L. Battle,Donn K. Naito,James Schindler,Benjamin H. OLSON. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-08-14.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: US20240060178A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: Raytheon Technologies Corp. Дата публикации: 2024-02-22.

In-situ solid chemical vapor deposition precursor delivery

Номер патента: EP4328351A1. Автор: Ying She,Olivier H. Sudre,Jun NABLE. Владелец: RTX Corp. Дата публикации: 2024-02-28.

Shell connection device and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: LU505605B1. Автор: Haibo Huo. Владелец: Univ Zhengzhou Aeronautics. Дата публикации: 2024-05-24.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20200040447A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10975467B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-04-13.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US20190085446A1. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Vapor deposition processes

Номер патента: US12065739B2. Автор: Mikko Ritala,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-08-20.

Vapor Deposition Processes

Номер патента: US20240368763A1. Автор: Mikko Ritala,Timo Hatanpää,Anton Vihervaara. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-11-07.

Solid source and method for the synthesis of silicon-containing precursors for chemical vapor deposition

Номер патента: US09944532B2. Автор: Mihai Scarlete,Cetin Aktik. Владелец: SOCPRA Sciences et Genie SEC. Дата публикации: 2018-04-17.

Low-pressure chemical vapor deposition apparatus and thin-film deposition method thereof

Номер патента: US09478440B2. Автор: XIAO Wu,Xunhui Wang,Qijun Guo,Jianchao Fan. Владелец: University of Utah Research Foundation UURF. Дата публикации: 2016-10-25.

Exhaust system for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4608063A. Автор: Takashi Kurokawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1986-08-26.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US09663855B2. Автор: Jung-Sik Lee,Seok-won JUNG,Myung-Su Heo. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Chamber for reducing contamination during chemical vapor deposition

Номер патента: US6114227A. Автор: Joseph P. Ellul,Stephen M. Campbell,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato,David Leksell,Ming Xi Chan,Jeanne L. Luce,David T. Ryan,Iqbal A. Shareef. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

System for chemical vapor deposition at ambient temperature using electron cyclotron resonance and method for depositing metal composite film using the same

Номер патента: US20030000827A1. Автор: Byung-Won Cho,Joong-Kee Lee,Dal-Keun Park,Joo-Man Woo,Bup-Ju Jeon. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2003-01-02.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689048A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim,Moonkap Lee. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US8298338B2. Автор: Ji Hye Shim,Changsung Sean KIM,Sang Duk Yoo,Jong Pa HONG,Won Shin LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-10-30.

Method of manufacturing an injector for chemical vapor deposition processing

Номер патента: US5935647A. Автор: Jay B. DeDontney,Nicholas M. Gralenski,Adam Q. Miller. Владелец: WJ Semiconductor Equipment Group Inc. Дата публикации: 1999-08-10.

Gas distribution for chemical vapor deposition/infiltration

Номер патента: US10480065B2. Автор: Ying She,Zissis A. Dardas,Xiaodan Cai,Thomas P. Filburn,Naveen G. Menon. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2019-11-19.

Apparatus and method for chemical vapor deposition control

Номер патента: EP2580368A1. Автор: Eric J. Strang,Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-04-17.

Laser-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230203660A1. Автор: Rodney S. Harris,Stephen G. Topping. Владелец: River Electro Optics LLC. Дата публикации: 2023-06-29.

Method for preventing vacuum pump pipeline from blockage, and chemical vapor deposition machine

Номер патента: US20200208262A1. Автор: Jianfeng SHAN. Владелец: HKC Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus for solar cell

Номер патента: US20160225933A1. Автор: Heonmin Lee,Dongjoo YOU,Wonki Yoon. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2016-08-04.

Metal organic chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240167159A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Method of operating filament assisted chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2012112334A2. Автор: Jacques Faguet,Eric M. Lee. Владелец: Tokyo Electron America, Inc.. Дата публикации: 2012-08-23.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: US20220372201A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-11-24.

Initiated chemical vapor deposition and structuration of polyoxymethylene

Номер патента: WO2021163025A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN. Владелец: Drexel Uniiversity. Дата публикации: 2021-08-19.

Chemical vapor deposition of thick inorganic coating on a polarizer

Номер патента: US11746418B2. Автор: Brian Johnson,Matthew R. Linford,Anubhav Diwan. Владелец: Moxtek Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP1204782A1. Автор: Robert J. Bailey,Thomas E. Kane,Lisa H. Michael. Владелец: Silicon Valley Group Thermal Systems LLC. Дата публикации: 2002-05-15.

Chemical vapor deposition device capable of reciprocating rotation and lifting

Номер патента: US20240327986A1. Автор: Xueqin Pan,Xiaoliang Jin,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Continuous chemical vapor deposition reactor

Номер патента: CA1068582A. Автор: Roger N. Anderson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1979-12-25.

Triangular deposition chamber for a vapor deposition system

Номер патента: CA2120092C. Автор: Jitendra S. Goela,Lee E. Burns,James C. Macdonald,Alexander Teverovsky. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1997-05-20.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4539933A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-09-10.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1531189A1. Автор: Dennis R. Christensen. Владелец: Specialty Coating Systems Inc. Дата публикации: 2005-05-18.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US20160115587A1. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-04-28.

Chemical vapor deposition film profile uniformity control

Номер патента: US20130149871A1. Автор: Chin-Hsiang Lin,Chia-Ho Chen,Chih-Tsung Lee,You-Hua Chou,Ming-Chin Tsai,Ming-Shiou Kuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-06-13.

Method of producing near-net shape free standing articles by chemical vapor deposition

Номер патента: US20010048171A1. Автор: Jitendra Goela,Michael Pickering,Zlatko Salihbegovic,Mitch Boudreaux. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2001-12-06.

Chemical vapor deposition furnace with a cleaning gas system to provide a cleaning gas

Номер патента: US12077854B2. Автор: Herbert Terhorst,Bert Jongbloed,Dieter Pierreux,Theodorus G. M. Oosterlaken,Lucian JDIRA. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-09-03.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US09994956B2. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2018-06-12.

Metal-organic (MO) chemical vapor deposition method and MO chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US6180541B1. Автор: Jae-Hyun Joo. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2001-01-30.

Vertical chemical vapor deposition apparatus having nozzle for spraying reaction gas toward wafers

Номер патента: US20090159004A1. Автор: Takahiro Yoshioka. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2009-06-25.

Gachemical vapor deposition apparatus with cleaning gas flow guiding member

Номер патента: US20230098570A1. Автор: Tung-Ching Tseng,Tsung-Lin Lee,Yi-Ming Lin,Sheng-chun YANG,Chih-Hung Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-30.

Cold thermal chemical vapor deposition

Номер патента: US20240117495A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,Jesse BISCHOF,James B. Mattzela,Gary A. Barone,Geoffrey K. WHITE,Nicholas P. DESKEVICH,Pierre A. LECLAIR. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-04-11.

Chemical vapor deposition apparatus and methods of using the apparatus

Номер патента: SG153849A1. Автор: Michael Howard Rucker,Scott Andrew Weaver,George Theodore Dalakos,Daniel Joseph Lewis,Matthew David Saylor,Victor Lienkong Lou. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2009-07-29.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: EP1230420A1. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 2002-08-14.

Vapor deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display apparatus

Номер патента: US20150191822A1. Автор: Sang-Joon SEO,Jae-eung Oh. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-09.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09670581B2. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: CA1216419A. Автор: Dale R. DuBois,Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller,Ralph F. Manriquez. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-01-13.

Apparatus for in situ deposition of multilayer structures via atomic layer deposition and ultra-high vacuum physical or chemical vapor deposition

Номер патента: US20160040288A1. Автор: Rongtao Lu,Judy Z. Wu,Allen Hase,Alan Elliot. Владелец: University of Kansas. Дата публикации: 2016-02-11.

Method for improving film uniformity in plasma enhanced chemical vapor deposition system

Номер патента: US20050025906A1. Автор: Hui-Chu Lin,Wen-Cheng Lu. Владелец: Toppoly Optoelectronics Corp. Дата публикации: 2005-02-03.

Method of chemical vapor deposition of metal films

Номер патента: EP1021589A1. Автор: Chantal Arena,Joseph T. Hillman,Emmanuel Guidotti,Ronald T. Bertram. Владелец: Tokyo Electron Arizona Inc. Дата публикации: 2000-07-26.

Production method of epitaxial silicon wafer and vapor deposition apparatus

Номер патента: US20160083836A1. Автор: Hitoshi Takamiya,Kan Yoshitake,Motoki GOTO,Yusuke Kurozumi. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2016-03-24.

Chemical vapor deposition tool and operating method thereof

Номер патента: US20170032940A1. Автор: Chien-Ta Lee,Pen-Li HUNG,Yu-Shan SHIH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-02-02.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: MY174019A. Автор: Wenjun Qin,Aaron D Rhodes,Chad Fero,Jeffrey C Gum. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-04.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: WO2014100401A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron D. RHODES. Владелец: GTAT CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-26.

Methods and Systems for Stabilizing Filaments in a Chemical Vapor Deposition Reactor

Номер патента: US20140170337A1. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2014-06-19.

Method for preparing multi-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition with an atomization system

Номер патента: US9878912B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2018-01-30.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US20190169747A1. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-06.

Multifunctional wafer pretreatment chamber and chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240337011A1. Автор: Yongjun Feng,Dongping Zhou,Weicong SONG. Владелец: Betone Technology Shanghai Inc. Дата публикации: 2024-10-10.

Method for preparing multi-wall carbon nanotubes using chemical vapor deposition with an atomization system

Номер патента: US09878912B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2018-01-30.

Methods and systems for stabilizing filaments in a chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US09701541B2. Автор: Jeffrey C. Gum,Wenjun Qin,Chad Fero,Aaron Dean Rhodes. Владелец: OCI Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Deposition metalizing bulk material by chemical vapor

Номер патента: US4606941A. Автор: William C. Jenkin. Владелец: Jenkin William C. Дата публикации: 1986-08-19.

Apparatus for low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US5441570A. Автор: Chul-Ju Hwang. Владелец: Jein Technics Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-15.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: EP3377671A1. Автор: Daniel J. DESROSIER,Chad R. FERO. Владелец: GTAT Corp. Дата публикации: 2018-09-26.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: EP4208583A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2023-07-12.

Additive chemical vapor deposition methods and systems

Номер патента: CA3193161A1. Автор: Dmitri S. Terekhov. Владелец: Tcm Research Ltd. Дата публикации: 2022-03-10.

Abatement of effluent from chemical vapor deposition processes using ligand exchange resistant metal-organic precursor solutions

Номер патента: WO2001029281A9. Автор: Jose Arno,Mark Holst,Ray Dubois,Rebecca Faller. Владелец: Advanced Tech Materials. Дата публикации: 2001-09-27.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US12065735B2. Автор: Jae-Hyun Kim,Sung-Chul Kim,Seung-Yong Song,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Jin-Kwang Kim,Choel-Min JANG. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Process for the elaboration of powders uniformly coated with ultrafine silicon-base particles using chemical vapor decomposition in the presence of core powders

Номер патента: US5298296A. Автор: Jean-Marie Friedt,Masahiko Matsukata,Toshinori Kojima,Eiichi Ozawa. Владелец: LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude. Дата публикации: 1994-03-29.

Chemical vapor deposition system cleaner

Номер патента: US5109562A. Автор: John W. Albrecht. Владелец: C V D System Cleaners Corp. Дата публикации: 1992-05-05.

Single ended ultra-high vacuum chemical vapor deposition (uhv/cvd) reactor

Номер патента: US5181964A. Автор: Bernard S. Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1993-01-26.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: SE2250842A1. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Choolakkal Arun Haridas. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-05.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A2. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-01-11.

A method for operating a chemical vapor deposition process

Номер патента: WO2024008472A3. Автор: Henrik Pedersen,Jens Birch,Arun HARIDAS CHOOLAKKAL. Владелец: CANATU OY. Дата публикации: 2024-02-29.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: WO2024118468A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: WO2024118472A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2024-06-06.

Multi-disc chemical vapor deposition system with cross flow gas injection

Номер патента: US20240175133A1. Автор: Johannes Kaeppeler,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Multi-disc chemical vapor deposition system

Номер патента: US20240175132A1. Автор: Bojan Mitrovic,Ajit Paranjpe,Alexander Gurary. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Vapor deposition apparatus

Номер патента: US5264039A. Автор: Raymond W. Gobush,Bryan J. Lovejoy. Владелец: Union Carbide Chemicals and Plastics Technology LLC. Дата публикации: 1993-11-23.

Chemical vapor deposition system arrangement

Номер патента: US20160053375A1. Автор: William David Grove,Nicholas Peter Deskevich. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-02-25.

Metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20240175135A1. Автор: Sung-Chul Choi,Kwang-Il Cho. Владелец: Tes Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US09915001B2. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Device and methods for chemical vapor deposition

Номер патента: US20230257882A1. Автор: Chyi-Tsong Ni,Chih-Tsung Lee,Kuang-Wei Cheng,Yung-Tsun LIU,Sung-Ju Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film

Номер патента: US5209182A. Автор: Tomohiro Ohta,Eiichi Kondoh,Kenichi Otsuka,Tohru Mitomo,Hiroshi Sekihashi. Владелец: Kawasaki Steel Corp. Дата публикации: 1993-05-11.

Precursor for chemical vapor deposition and thin film formation process using the same

Номер патента: US20040086643A1. Автор: Hiroki Sato,Kazuhisa Onozawa. Владелец: Asahi Denka Kogyo KK. Дата публикации: 2004-05-06.

Chemical vapor deposition process for depositing a titanium oxide coating

Номер патента: US09938619B2. Автор: Jun Ni,Srikanth Varanasi,Douglas M. Nelson. Владелец: Pilkington Group Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Chemical vapor deposition process and coated article

Номер патента: US20160060763A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Continuous-feed chemical vapor deposition system

Номер патента: US20230002906A1. Автор: Yaakov Gridish,Elad Mentovich,Yaniv Rotem,Doron NAVEH,Chen STERN,Yosi BEN-NAIM,Ariel Ismach,Tal KAUFMAN,Eran BAR-RABI. Владелец: Simtal Nano Coatings Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Process for the deposition of thin layers by chemical vapor deposition

Номер патента: US20020127338A1. Автор: Annette Saenger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-09-12.

Prevention of low pressure chemical vapor deposition silicon dioxide undercutting and flaking

Номер патента: CA1166129A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5803974A. Автор: Tadahiro Ohmi,Nobumasa Suzuki,Nobuo Mikoshiba,Kazuo Tsubouchi,Kazuya Masu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1998-09-08.

Antimicrobial nanolaminates using vapor deposited methods such as atomic layer deposition

Номер патента: WO2023031951A1. Автор: Prerna Goradia,Neil Amit GORADIA. Владелец: Prerna Goradia. Дата публикации: 2023-03-09.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus, and manufacturing method of nano-structured particles

Номер патента: KR100779082B1. Автор: 정우석,백문철,유용구. Владелец: 한국전자통신연구원. Дата публикации: 2007-11-27.

Organometallic chemical vapor deposition of films utilizing organic heterocyclic compounds

Номер патента: US4509997A. Автор: Peter J. Wright,Brian Cockayne,Richard J. M. Griffiths. Владелец: UK Secretary of State for Defence. Дата публикации: 1985-04-09.

Novel group IV metal precursors and a method of chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20020058843A1. Автор: Dae Kim,Young Cho,Wan Lee,Ik Lee,Yo Min,Sun Lim,Bo Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2002-05-16.

Chemical vapor deposition method of silicon dioxide film

Номер патента: US5360646A. Автор: Katsumi Morita. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1994-11-01.

Precursor compound for atomic layer deposition(ald), chemical vapor deposition(cvd) and ald/cvd deposition using the same

Номер патента: KR20210093011A. Автор: 박정우,석장현,문기영,염규현,이현경. Владелец: 주식회사 한솔케미칼. Дата публикации: 2021-07-27.

Low pressure chemical vapor deposition of silicon dioxide with oxygen enhancement of the chlorosilane- nitrous oxide reaction

Номер патента: CA1166128A. Автор: Bernard M. Kemlage. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1984-04-24.

Chemical vapor deposition system and method

Номер патента: WO2006116776A3. Автор: Eunsung Park,Kevin Casey,Catherine E Talor. Владелец: Catherine E Talor. Дата публикации: 2007-05-03.

Metal compound, material for chemical vapor phase growth, and process for forming metal-containing thin film

Номер патента: US20100247765A1. Автор: Naoki Yamada,Senji Wada,Atsuya Yoshinaka. Владелец: Adeka Corp. Дата публикации: 2010-09-30.

Compounds for forming alumina films using chemical vapor deposition method and process for preparing the compound

Номер патента: US20030010256A1. Автор: Hyun-koock Shin. Владелец: Shipley Co LLC. Дата публикации: 2003-01-16.

Chemical vapor deposition using N,O polydentate ligand complexes of metals

Номер патента: US09528182B2. Автор: Gary S. Silverman,Roman Y. Korotkov,Martin E. Bluhm. Владелец: Arkema Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Chemical vapor deposition of mullite coatings and powders

Номер патента: AU4963496A. Автор: Rao Mulpuri,Vinod Sarin. Владелец: Boston University. Дата публикации: 1996-07-24.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US4547404A. Автор: Bryant A. Campbell,Nicholas E. Miller. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1985-10-15.

Method for isolating a susceptor heating element from a chemical vapor deposition environment

Номер патента: US5897380A. Автор: Joseph T. Hillman,Carl White,Jon R. MacErnie. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-04-27.

Thin film vapor deposition method and thin film vapor deposition apparatus

Номер патента: US09506146B2. Автор: Ju-Hwan Park,Byung-Chul Cho,In-Hwan Yi. Владелец: Wonik Ips Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Method and a device for epitaxial growth of objects by chemical vapor deposition

Номер патента: US6093253A. Автор: Yujing Liu,Christer Hallin,Peter Lofgren,Chun Yuan Gu. Владелец: ABB Research Ltd Switzerland. Дата публикации: 2000-07-25.

Chemical vapor deposition method and coatings produced therefrom

Номер патента: CA2393531C. Автор: William J. Dalzell, Jr.,Miodrag Oljaca,Andrew T. Hunt,Subramaniam Shanmugham,Girish Deshpande,Shara S. Shoup,Jan Tzyy-Jiuan Hwang,Nii Sowa Laye,Trifon Tomov,Aimee Poda,Michelle Hendrick. Владелец: Microcoating Technologies Inc. Дата публикации: 2011-02-15.

Photochemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4516527A. Автор: Shinji Sugioka. Владелец: Ushio Denki KK. Дата публикации: 1985-05-14.

Photochemical vapor deposition apparatus and method

Номер патента: CA1181719A. Автор: John W. Peters,Frank L. Gebhart. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1985-01-29.

Gas shower device, chemical vapor deposition device and method

Номер патента: US09945031B2. Автор: Yong Jiang,Zhiyou Du. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2018-04-17.

Microwave plasma chemical vapor deposition apparatus comprising an inclined rotating substrate holder

Номер патента: US5234502A. Автор: Osamu Mochizuki,Toshiharu Hoshi,Hiroaki Itoh. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Gas injection system for chemical vapor deposition using sequenced valves

Номер патента: WO2012082225A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: VEECO INSTRUMENTS INC.. Дата публикации: 2012-06-21.

Gas Injection System For Chemical Vapor Deposition Using Sequenced Valves

Номер патента: US20160168710A1. Автор: William E. Quinn,Eric A. Armour. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2016-06-16.

Apparatus of chemical vapor deposition with a showerhead regulating injection velocity of reactive gases positively and method thereof

Номер патента: US09476121B2. Автор: Chul Soo Byun,Man Cheol Han. Владелец: Piezonics Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: CA1268688A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-05-08.

Apparatus and method for chemical vapor deposition using an axially symmetric gas flow

Номер патента: GB2181460A. Автор: Mcdonald Robinson,Klavs F Jensen,Wayne L Johnson,Wiebe B Deboer,Gary W Read. Владелец: Epsilon LP. Дата публикации: 1987-04-23.

Compact head and compact system for vapor deposition

Номер патента: US12043894B2. Автор: David MUNOZ-ROJAS. Владелец: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS. Дата публикации: 2024-07-23.

Method for testing susceptor of chemical vapor deposition apparatus and method for manufacturing organic light emitting display apparatus by using the same

Номер патента: US09508613B2. Автор: Jin-Woo Yang. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Silicon-nitride-containing thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20170167015A1. Автор: David A. Smith,Min YUAN,James B. Mattzela. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-06-15.

Fluoro-containing thermal chemical vapor deposition process and article

Номер патента: US20180163308A1. Автор: David A. Smith. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-06-14.

Radiation heated reactor for chemical vapor deposition on substrates

Номер патента: US4263872A. Автор: Vladimir S. Ban. Владелец: RCA Corp. Дата публикации: 1981-04-28.

Gas delivering apparatus for chemical vapor deposition

Номер патента: US6123776A. Автор: Kuen-Jian Chen,Horng-Bor Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-09-26.

Method for chemical vapor deposition of titanium nitride films at low temperatures

Номер патента: US5378501A. Автор: Robert F. Foster,Joseph T. Hillman. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1995-01-03.

Chemical vapor deposition apparatus and blocker plate

Номер патента: US20200131640A1. Автор: Chao-chun WANG,Keith Kuang-Kuo Koai,Chih-Yu Wu,Huan-Chieh CHEN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

High density plasma chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20020112666A1. Автор: Pei-Ren Jeng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

Wafer carrier and metal organic chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20220064791A1. Автор: Yen-Lin LAI,Jyun-De Wu,Shen-Jie Wang,Chien-Chih Yen. Владелец: PlayNitride Display Co Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US10151033B2. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2018-12-11.

Plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20160376707A1. Автор: Yuji Takano,Hiromichi Nakata,Yoji Sato,Takayasu Sato,Kazutaka Tachibana,Osamu Ariyada,Ryo TSURUMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Shower head unit and chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09493875B2. Автор: Pyung-Yong Um. Владелец: Eugene Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-15.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US09410247B2. Автор: Jung Hyun Lee,Jong Hyun Lee,Young Sun Kim,Ki Sung Kim,Suk Ho Yoon,Hyun Seok Ryu. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-08-09.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1251100A. Автор: Guy Brien,Richard Cloutier,Laszlo Szolgyemy,Edward C.D. Darwall. Владелец: Edward C.D. Darwall. Дата публикации: 1989-03-14.

Atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4834020A. Автор: Lawrence D. Bartholomew,Nicholas M. Gralenski,Michael A. Richie,Michael L. Hersh. Владелец: Watkins Johnson Co. Дата публикации: 1989-05-30.

Wafter carrier for chemical vapor deposition systems

Номер патента: US10316412B2. Автор: Yuliy Rashkovsky,Sandeep Krishnan,Alexander I. Gurary,Lukas Urban,Jeffrey Scott Montgomery. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2019-06-11.

Thermal chemical vapor deposition coating

Номер патента: US20180258529A1. Автор: James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone,Thomas F. Vezza,William David Grove. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-09-13.

Methods of vapor deposition of metal halides

Номер патента: US20230386759A1. Автор: Roy G. Gordon,Luke M. DAVIS,Eliza Kate SPEAR. Владелец: Harvard College. Дата публикации: 2023-11-30.

Chemical vapor deposition apparatus having a gas diffusing nozzle designed to diffuse gas equally at all levels

Номер патента: US6146461A. Автор: Tae-Chul Kim,Chang-Zip Yang,Jae-Hyuck An. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-11-14.

Systems and methods for production of graphene by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20140255621A1. Автор: Peter V. Bedworth,Steven W. Sinton. Владелец: Lockheed Martin Corp. Дата публикации: 2014-09-11.

Selective area chemical vapor deposition

Номер патента: CA2028438C. Автор: Michael A. Pickering,Raymond L. Taylor,Joseph T. Keeley,Jitendra Singh Goela. Владелец: CVD Inc. Дата публикации: 1993-11-30.

Chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US4638762A. Автор: Montri Viriyayuthakorn,Myung K. Kim. Владелец: AT&T Technologies Inc. Дата публикации: 1987-01-27.

Process and aparatus for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2009073292A1. Автор: Robert P. Haley,Mark G.C. Vreys,Christina A. Rhoton,Alphonsus J.P. De Rijcke. Владелец: Dow Global Technologies Inc.. Дата публикации: 2009-06-11.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09614155B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Yoshiyuki Isomura,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Chemical vapor deposition manifold

Номер патента: US6024799A. Автор: Karl Anthony Littau,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-02-15.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US7217326B2. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-15.

Inverted diffusion stagnation point flow reactor for vapor deposition of thin films

Номер патента: CA2016970A1. Автор: Prasad N. Gadgil. Владелец: SIMON FRASER UNIVERSITY. Дата публикации: 1991-11-16.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20040200413A1. Автор: Ho Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2004-10-14.

Chemical vapor deposition method for the thin film of semiconductor

Номер патента: US4705700A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1987-11-10.

Method of forming a film on a substrate by chemical vapor deposition

Номер патента: US11885022B2. Автор: Waichi Yamamura,Chikara MORI. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230105104A1. Автор: Jinsan Moon,Wonbae Park. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-04-06.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: US20230407463A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-12-21.

Seal plates for chemical vapor infiltration and deposition chambers

Номер патента: US11788186B2. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Technique for high efficiency metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US20030049932A1. Автор: Sam Yang,Weimin Li. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-13.

Seal plates for chemical vapor infiltration & deposition chambers

Номер патента: EP3882373A1. Автор: Christopher T. Kirkpatrick. Владелец: Goodrich Corp. Дата публикации: 2021-09-22.

Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method for controlling the same

Номер патента: EP2689049A2. Автор: Kwangho Lee,Jinhyouk Shin,Jangwoo Lee,Junggeun Oh,Jeonggyu Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2014-01-29.

Chemical vapor deposition chamber having an adjustable flow flange

Номер патента: US6080241A. Автор: Tingkai Li,Dane C. Scott,Brian Wyckoff. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2000-06-27.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: CA1234972A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1988-04-12.

Apparatus for producing diamonds by chemical vapor deposition and articles produced therefrom

Номер патента: US5204145A. Автор: Steven M. Gasworth. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5576071A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1996-11-19.

Chemical vapor deposition apparatus for flat display

Номер патента: CN101016622A. Автор: 金南珍,金俊洙. Владелец: SFA Engineering Corp. Дата публикации: 2007-08-15.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: US20220275509A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition coating system

Номер патента: EP4298665A1. Автор: Attila Nagy,Benjamin Lawrence,Ludmil Zambov,Daniel Pulsipher,Pravin Chaubey,John Winterroth. Владелец: HZO Inc. Дата публикации: 2024-01-03.

Synthesis and use of precursors for vapor deposition of tungsten containing thin films

Номер патента: US20190300468A1. Автор: Mikko Ritala,Markku Leskelä,Miika Mattinen,Timo Hatanpää. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2019-10-03.

Chemical vapor deposition reactor to grow diamond film by microwave plasma chemical vapor deposition

Номер патента: US11214871B2. Автор: Elgin E. Eissler,David SABENS,Charles D. Tanner. Владелец: II VI Delaware Inc. Дата публикации: 2022-01-04.

Dispenser system for atomic beam assisted metal organic chemical vapor deposition (MOCVD)

Номер патента: US20080026575A1. Автор: Supratik Guha,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-01-31.

Methods of depositing aluminum nitride templating layers using thermal pulsed chemical vapor deposition for the enhancement of aluminum nitride thick films and related films

Номер патента: US20240052493A1. Автор: Andrew Kummel,Aaron McLeod,Scott UEDA. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2024-02-15.

Metal organic chemical vapor deposition method and apparatus

Номер патента: US20130095658A1. Автор: Chien-Chih Chen,Ching-Chiun Wang,Chih-Yung Huang,Szu-Hao Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2013-04-18.

Novel coating method of complex 3d structures using low pressure chemical vapor deposition

Номер патента: US20240102167A1. Автор: William C. West,Matthew R. Dickie,Harold Frank GREER,Billy Chun-Yip Li,Su C. Chi. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2024-03-28.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method and method of manufacturing organic light emitting display apparatus

Номер патента: US09481929B2. Автор: In-Kyo Kim,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Choel-Min JANG,Sung-Hun KEY. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Thin film deposition apparatus

Номер патента: KR20110054829A. Автор: 한창희,이기훈,조병철. Владелец: 주식회사 아토. Дата публикации: 2011-05-25.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US5871586A. Автор: John A. Crawley,Victor J. Saywell. Владелец: Thomas Swan and Co Ltd. Дата публикации: 1999-02-16.

Chemical vapor deposition reactor

Номер патента: US8778079B2. Автор: Michael J. Begarney,Frank J. Campanale. Владелец: Valence Process Equipment Inc. Дата публикации: 2014-07-15.

Method of chemical vapor deposition in a continuous treatment line

Номер патента: US5352490A. Автор: Masahiro Abe,Kazuhisa Okada,Shuzo Fukuda. Владелец: NKK Corp. Дата публикации: 1994-10-04.

Thin film deposition apparatus

Номер патента: KR101635085B1. Автор: 한창희,이기훈,조병철. Владелец: 주식회사 원익아이피에스. Дата публикации: 2016-07-01.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process, system, and coated vessels

Номер патента: US20230340670A1. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SIO2 Medical Products Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A3. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-04-14.

Chemical vapor deposition of silicon nitride using a remote plasma

Номер патента: WO2024102586A1. Автор: Andrew J. McKerrow,Shane Tang,Gopinath Bhimarasetti. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-05-16.

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition process and system

Номер патента: WO2022036147A4. Автор: Robert Abrams,Matthew Wills,Ahmad Taha. Владелец: SiO2 Medical Products, Inc.. Дата публикации: 2022-06-23.

Unitary wafer plasma enhanced chemical vapor deposition holding device

Номер патента: US5478399A. Автор: Calvin K. Willard. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1995-12-26.

Methods of vapor deposition of ruthenium using an oxygen-free co-reactant

Номер патента: US11976352B2. Автор: Jacob Woodruff,Guo Liu,Ravindra Kanjolia. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2024-05-07.

Chemical vapor deposition wafer boat

Номер патента: US4694778A. Автор: Arthur J. Learn,Dale R. DuBois. Владелец: Anicon Inc. Дата публикации: 1987-09-22.

RF powered plasma enhanced chemical vapor deposition reactor and methods

Номер патента: US6112697A. Автор: Paul Smith,Sujit Sharan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2000-09-05.

Multiple Chamber System for Plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond and Related Materials

Номер патента: US20230392255A1. Автор: William Holber. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2023-12-07.

High density plasma chemical vapor deposition chamber and method of using

Номер патента: US20210125811A1. Автор: Ding-I Liu,Wen-Long Lee,Wei-Ching Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-04-29.

Wafer carrier for metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: EP3907308A1. Автор: Yuxi Wan,Zetao PENG. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-10.

A vapor deposition apparatus

Номер патента: US20170037508A1. Автор: Peng Zhang,Lifei Ma. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Chemical vapor deposition process for producing diamond

Номер патента: US11905594B2. Автор: Neil Fox,Hugo DOMINGUEZ ANDRADE,Thomas B SCOTT,Edward JD MAHONEY,Alexander CROOT. Владелец: University of Bristol. Дата публикации: 2024-02-20.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: US20240209498A1. Автор: Paul Connolly Quayle. Владелец: Great Lakes Crystal Technologies Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Variable-temperature vapor deposition process

Номер патента: WO2024138229A1. Автор: . Владелец: Great Lakes Crystal Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-06-27.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: WO2002086189A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: SHARP KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2002-10-31.

Substituted cycloalkene new copper precursors for chemical vapor deposition of copper metal thin films

Номер патента: EP1387898A1. Автор: David R. Evans,Sheng Teng Hsu,Tue Nguyen,Wei-Wei Zhuang,Lawrence J. Charneski. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2004-02-11.

Platinum source compositions for chemical vapor deposition of platinum

Номер патента: US5783716A. Автор: Thomas H. Baum,Peter S. Kirlin,Sofia Pombrik. Владелец: Advanced Technology Materials Inc. Дата публикации: 1998-07-21.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: US5071677A. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,John L. Margrave,C. Judith Chu. Владелец: Houston Advanced Research Center HARC. Дата публикации: 1991-12-10.

Halogen-assisted chemical vapor deposition of diamond

Номер патента: WO1992019791A1. Автор: Donald E. Patterson,Robert H. Hauge,Judith C. Chu,John L. Margrave. Владелец: Houston Advanced Research Center. Дата публикации: 1992-11-12.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US11851763B2. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2023-12-26.

Chemical vapor deposition during additive manufacturing

Номер патента: US20240076779A1. Автор: Scott Alan Gold. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2024-03-07.

Multi-zone plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and methods for operating the same

Номер патента: US20210351059A1. Автор: Shigehiro Fujino,Shoichi Murakami,Yusuke Osawa,Masaaki Higashitani,Syo FUKATA,Shigeru NAKATSUKA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-11-11.

Tungsten and molybdenum compounds and their use for chemical vapour deposition (cvd)

Номер патента: IL180362A0. Автор: . Владелец: Starck H C Gmbh Co Kg. Дата публикации: 2007-07-04.

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CuInXGa1- X(SeyS1-y)2 THIN FILMS AND USES THEREOF

Номер патента: WO2008151067A3. Автор: Tim Anderson,W K Kim. Владелец: W K Kim. Дата публикации: 2009-02-19.

Single-unit reactor design for combined oxidative, initiated, and plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09957618B2. Автор: Karen K. Gleason,Miles C. Barr,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2018-05-01.

High speed chemical vapor deposition process utilizing a reactor having a fiber coating liquid seal and a gas sea;

Номер патента: US4863760A. Автор: Christopher A. Schantz,Ronald Hiskes. Владелец: Hewlett Packard Co. Дата публикации: 1989-09-05.

Chemical vapor deposition

Номер патента: CA1087040A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: Vale Canada Ltd. Дата публикации: 1980-10-07.

Chemical vapor deposition

Номер патента: US4250210A. Автор: Jeffrey N. Crosby,Robert S. Hanley. Владелец: International Nickel Co Inc. Дата публикации: 1981-02-10.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20020051847A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-02.

Method to reduce plasma charge damage from high density plasma chemical vapor deposition (hdp-cvd) process

Номер патента: US20080146039A1. Автор: Daewon Yang,Jeffery B. Maxson,Ann N. McDonald. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-06-19.

Growth of silicon and boron nitride nanomaterials on carbon fibers by chemical vapor deposition

Номер патента: US09676627B2. Автор: Lingchuan Li. Владелец: University of Dayton. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A2. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2010-03-25.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20230349046A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Centrotherm International AG. Дата публикации: 2023-11-02.

Method for efficiently eliminating graphene wrinkles formed by chemical vapor deposition

Номер патента: US12116281B2. Автор: Jie Xu,Libo GAO,Guowen Yuan. Владелец: NANJING UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-10-15.

Directing plasma distribution in plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09543125B2. Автор: Hsiang-Wei Lin,Chia-Ho Chen,Bo-Hung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for producing articles by chemical vapor deposition and the articles produced therefrom

Номер патента: CA2068152A1. Автор: Thomas R. Anthony,Robert H. Ettinger,Charles D. Iacovangelo,William L. Mowrey,Sidney P. Young,David W. Woodruff. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-12-13.

Reductive elimination chemical vapor deposition processes utilizing organometallic precursor compounds in semiconductor wafer processing

Номер патента: US5384289A. Автор: Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1995-01-24.

Plasma enhanced chemical vapour deposition apparatus; producing carbon nanotubes

Номер патента: GB2380494A. Автор: Jin Pyo Hong,Chae Ok Kim,Ho Suck Kang,Hyoung Joo Yoon. Владелец: Hanyang Hak Won Co Ltd. Дата публикации: 2003-04-09.

Chemical vapor deposition raw material containing organic nickel compound, and chemical vapor deposition method using the chemical vapor deposition raw material

Номер патента: US9447495B2. Автор: Masayuki Saito,Satoshi Miyazaki,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Systems and methods for depositing materials on either side of a freestanding film using laser-assisted chemical vapor deposition (LA-CVD), and structures formed using same

Номер патента: US09583354B2. Автор: David P. Taylor,Margaret H. Abraham. Владелец: Aerospace Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Chemical vapor deposition coatings on titanium

Номер патента: US3787223A. Автор: C Reedy. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1974-01-22.

Chemical vapor deposition apparatus of in-line type

Номер патента: US5288329A. Автор: Kazuyuki Ito,Masanori Hashimoto,Michio Ishikawa,Yoshifumi Ota,Kyuzo Nakamura,Noriaki Tani. Владелец: Nihon Shinku Gijutsu KK. Дата публикации: 1994-02-22.

Method of producing tungsten rhenium alloys by chemical vapor deposition

Номер патента: US3637374A. Автор: Frederick A Glaski,Robert A Holzi,James R Humphrey. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1972-01-25.

Chemical vapor deposition process for depositing titanium nitride films from an organo-metallic compound

Номер патента: US20030165619A1. Автор: Salman Akram. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-04.

Plasma source and methods for depositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US09478401B2. Автор: Peter Maschwitz. Владелец: AGC Flat Glass North America Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Fixed abrasive planarization pad conditioner incorporating chemical vapor deposited polycrystalline diamond and method for making same

Номер патента: US6632127B1. Автор: Jerry W. Zimmer,Todd W. Buley,Albert B. Stubbmann. Владелец: Albert B. Stubbmann. Дата публикации: 2003-10-14.

Organometallic antimony compounds useful in chemical vapor deposition processes

Номер патента: US4960916A. Автор: John C. Pazik. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-02.

Method for depositing amorphous silicon thin film by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2010032978A3. Автор: Chang Auck Choi,Byoung Gon Yu,Woo Seok Yang,Sang Hoon Cheon,Seong Mok Cho,Ho Jun Ryu. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute. Дата публикации: 2013-01-03.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11702749B2. Автор: Jing Lu,Jes Asmussen,Yajun Gu,Shreya Nad. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-07-18.

Methods and apparatus for microwave plasma assisted chemical vapor deposition reactors

Номер патента: US11854775B2. Автор: Timothy A. Grotjohn,Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 2023-12-26.

Microwave plasma chemical vapor deposition device

Номер патента: US20240158910A1. Автор: Zhiwen Kang,Bingfeng CAI,Kangfu GUO. Владелец: Wuhan Youmeike Automation Co ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Device, system and method for plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA3192596A1. Автор: Jens-Uwe FUCHS,Ralf Reize,Mirko Tröller,Roland Leichtle. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-03-24.

Mask for vapor deposition apparatus, vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for producing organic electroluminescence element

Номер патента: US09845530B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato,Kazuki Matsunaga. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Method for producing nickel thin film on a Si substrate by chemical vapor deposition method, and method for producing Ni silicide thin film on Si substrate

Номер патента: US09805936B2. Автор: Takayuki Sone,Ryosuke Harada,Kazuharu Suzuki,Shunichi Nabeya,Michihiro YOKOO. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2017-10-31.

Deposition of silicon nitride by plasma-enchanced chemical vapor deposition

Номер патента: US5508067A. Автор: Atsushi Tabata,Tatsuya Sato,Naoaki Kobayashi. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1996-04-16.

Chemical vapor deposition method

Номер патента: US3565676A. Автор: Robert A Holzl. Владелец: Fansteel Inc. Дата публикации: 1971-02-23.

Method for low temperature chemical vapor deposition of aluminides containing easily oxidized metals

Номер патента: US5503874A. Автор: John F. Ackerman,William R. Stowell,John H. Wood,Adrian M. Beltran. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1996-04-02.

Method for the production of highly pure copper thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US5441766A. Автор: Hyung S. Choi,Young S. Cho,Chong J. Lim,Soon T. Hwang. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 1995-08-15.

Metal organic vapor deposition procedure for preparing group III--V compounds on a heated substrate

Номер патента: US4436769A. Автор: Rodney H. Moss,Marc M. Faktor. Владелец: British Telecommunications plc. Дата публикации: 1984-03-13.

Method of producing articles by chemical vapor deposition and the support mandrels used therein

Номер патента: US5869133A. Автор: Thomas Richard Anthony,Robert Helmut Ettinger,James Fulton Fleischer. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1999-02-09.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20220119953A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Hardmasks and processes for forming hardmasks by plasma- enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022086708A1. Автор: Pramit MANNA,Karthik Janakiraman,Krishna Nittala,Jui-Yuan Hsu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

METHOD FOR PREPARING THICKNESS-CONTROLLED GRAPHENE USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND Cu-Ni THIN FILM LAMINATE CATALYST

Номер патента: KR101999564B1. Автор: 조길원,이효찬,유민석. Владелец: 재단법인 나노기반소프트일렉트로닉스연구단. Дата публикации: 2019-07-12.

Chemical vapor deposition of polycrystalline diamond with orientation and growth facets

Номер патента: US5437891A. Автор: Thomas R. Anthony,James F. Fleischer,David E. Slutz. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1995-08-01.

Cooled mirror construction by chemical vapor deposition

Номер патента: US4378626A. Автор: Frederick G. Eitel. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

Chemical vapor deposition of aluminum films using dimethylethylamine alane

Номер патента: US5191099A. Автор: Everett C. Phillips,Wayne L. Gladfelter. Владелец: University of Minnesota. Дата публикации: 1993-03-02.

Diamond manufacturing system and method via chemical vapor deposition assisted with laser initiated plasma fed with microwave energy

Номер патента: EP3291279A1. Автор: Elena PALACIOS ZAMBRANO,Pedro Julián MARTÍN VELASCO,Vasily LENNIKOV,Susana Maria LUACES OROBITG. Владелец: Nano Coatings SL. Дата публикации: 2018-03-07.

Chemical vapor deposition of perovskite thin films

Номер патента: US20190074439A1. Автор: Xiao Chen,Parag Banerjee,Peifu Cheng,Yoon Myung. Владелец: Washington University in St Louis WUSTL. Дата публикации: 2019-03-07.

Cleaning apparatus of a high density plasma chemical vapor deposition chamber and cleaning thereof

Номер патента: US20050211279A1. Автор: Sung Hwang,Kyoung Chin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-09-29.

Selenophene-Based Low Band Gap Active Layers by Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20130089659A1. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-04-11.

Method for growing halide perovskite nanocrystals through in-situ chemical vapor deposition

Номер патента: US20240035194A1. Автор: Chao FAN,Haiping He,Xingliang DAI. Владелец: Wenzhou Xinxin Taijing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A3. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-08-22.

Selenophene-based low band gap active layers by chemical vapor deposition

Номер патента: WO2013095733A2. Автор: Karen K. Gleason,Dhiman Bhattacharyya. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2013-06-27.

Composition for chemical silvering

Номер патента: RU2689340C1. Автор: Евгений Александрович Павлов,Руслан Фаатович Мулагалеев,Анастасия Евгеньевна Афанасьева. Владелец: Открытое акционерное общество "Красноярский завод цветных металлов имени В.Н. Гулидова". Дата публикации: 2019-05-27.

Exclusion guard and gas-based substrate protection for chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US5843233A. Автор: Barry L. Chin,Eliot K. Broadbent,Jeffrey C. Benzing,Christopher W. Burkhart,Edward J. McInerney,Everhardus P. van de Ven,Lawrence C. Lane. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 1998-12-01.

Vapor deposition processes and a deposition assembly

Номер патента: US20230245899A1. Автор: Mikko Ritala,Alexander Weiss,Georgi Popov,Marianna Kemell. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-08-03.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US4503807A. Автор: Satoshi Nakayama,Shigeru Takeda,Masuo Suzuki,Hideaki Takeuchi,Harushige Kurokawa,Junichi Murota,Tatuhiko Hurukado,Humihide Ikeda. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1985-03-12.

Method of forming a crystalline or polycrystalline layer of an organic-inorganic metal halide perovskite

Номер патента: EP3857622A1. Автор: Laura Miranda PEREZ,Alice Elizabeth TAYLOR. Владелец: Oxford Photovoltaics Ltd. Дата публикации: 2021-08-04.

Chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: WO2023160793A1. Автор: Hristo Strakov,Vasileios PAPAGEORGIOU,Manfred Pfitzner,Anja BÄUMCHEN. Владелец: Ihi Bernex Ag. Дата публикации: 2023-08-31.

Temperature-controlled purge gate valve for chemical vapor deposition chamber

Номер патента: US20090205563A1. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2009-08-20.

Neutral beam-assisted atomic layer chemical vapor deposition apparatus and method of processing substrate using the same

Номер патента: US7799706B2. Автор: Sung-Woo Kim,Geun-Young Yeom,Byoung-Jae Park,Jong-Tae Lim. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2010-09-21.

Electroless deposition apparatus and method

Номер патента: WO2003065423A3. Автор: Dmitry Lubomirsky,Yeuk-Fai Edwin Mok,Joseph J Stevens,Ian Pancham,Donald J Olgado,Howard E Grunes. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-11-06.

Chemical vapor deposition apparatus and method for manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US09899210B2. Автор: Ren-Hua GUO,Ju-Ru HSIEH,Jen-Hao Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Equipment for chemical vapor deposition

Номер патента: KR20070002277A. Автор: 나민재. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2007-01-05.

Composition control of chemical vapor deposition nitrogen doped germanium antimony tellurium

Номер патента: US20190345607A1. Автор: Takeshi Masuda,Robert Bruce,Matthew J. BrightSky,Norma Edith Sosa,Fabio Carta,Gloria W.Y. Fraczak. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2019-11-14.

Method for recycling organic ruthenium compound for chemical vapor deposition

Номер патента: US20150087851A1. Автор: Masayuki Saito,Ryosuke Harada,Toshiyuki Shigetomi,Shunichi Nabeya. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2015-03-26.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US20240209502A1. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-06-27.

Thin film deposition apparatus with mask roll including multiple mask patterns and method of making organic light emitting device using the apparatus

Номер патента: US09708705B2. Автор: Ki-Hyun Kim. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials

Номер патента: CA2595761A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-10.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US20200115800A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-04-16.

Oxide/organic polymer multilayer thin films deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: WO1999057330A9. Автор: Seshu B Desu,John J Senkevich. Владелец: Seshu B Desu. Дата публикации: 2000-02-10.

Corrosion-resistant coated article and thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US12036765B2. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

A method for producing a semiconducting film of organic-inorganic metal-halide compound with perovskite-like structure

Номер патента: AU2020294400A1. Автор: Nikolai Andreevich BELICH,Andrey Andreevich PETROV,Alexey Borisovich TARASOV,Sergei Anatolyevich FATEEV,Aleksey Iurievich GRISHKO,Natalia Nikolaevna SHLENSKAIA,Eugene Alekseevich GOODILIN. Владелец: Eurosibenergo Jsc. Дата публикации: 2022-01-20.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20130341513A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Boston University. Дата публикации: 2013-12-26.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: EP2906738A1. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2015-08-19.

Embedded wire chemical vapor deposition (ewcvd)

Номер патента: EP4363630A1. Автор: Joseph Pegna,Kirk L. Williams,Shay L. Harrison. Владелец: Free Form Fibers LLC. Дата публикации: 2024-05-08.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20030170982A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-09-11.

Plasma enhanced chemical vapor deposition method of forming titanium silicide comprising layers

Номер патента: US20060172087A1. Автор: Gurtej Sandhu,Cem Basceri,Ammar Derraa,Philip Campbell,Irina Vasilyeva. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-08-03.

Thermal chemical vapor deposition coating process

Номер патента: US20240359430A1. Автор: Min YUAN. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Precursor and process design for photo-assisted metal atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09932671B2. Автор: Florian Gstrein,James M. Blackwell,Robert L. Bristol,Paul A. Zimmerman,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Harsono S. Simka,Grant M. Kloster. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Methods for area-selective deposition of polymer films using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019842A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: US11842883B2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-12.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A3. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt

Номер патента: US11804375B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Seobong CHANG,Sangbum Han,JaeEon Park. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Haloalkynyl dicobalt hexacarbonyl precursors for chemical vapor deposition of cobalt

Номер патента: US20240096631A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Seobong CHANG,Sangbum Han,JaeEon Park. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-03-21.

Chemical vapor deposition apparatus and method of manufacturing display apparatus using the same

Номер патента: EP4243052A2. Автор: Jong-Hoon Park,Sukwon Jung,Hyunwoo Joo,Jaihyuk Choi,Kyungjoo Min,Wonwoong Park. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-13.

Plasma chemical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11956884B2. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2024-04-09.

Plasma Chemical Vapor Deposition Apparatus

Номер патента: US20220377871A1. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2022-11-24.

A chemical vapor deposition chamber article

Номер патента: WO2020242292A8. Автор: Marcus Gerardus Van Munster,Guiming SONG. Владелец: Schunk Xycarb Technology B.V.. Дата публикации: 2021-01-28.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A4. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-10-30.

Chemical vapor deposition of silicon oxide films using alkylsiloxane oligomers with ozone

Номер патента: EP1204987A1. Автор: ZHENG Yuan,Sanjeev Jain. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2002-05-15.

Synthesis of advanced scintillators via vapor deposition techniques

Номер патента: US20100200757A1. Автор: Vinod K. Sarin,Stephen Gibson Topping. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-08-12.

Chemical vapor deposition of wear resistant coatings onto piston ring running face, side face, and inner diameter in one coating run

Номер патента: US09909210B2. Автор: Robert Aharonov,Haron GEKONDE. Владелец: Federal Mogul LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: US09534285B2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electroluminescent element

Номер патента: US09493872B2. Автор: Satoshi Inoue,Takashi Ochi,Masahiro Ichihara,Eiichi Matsumoto,Katsuhiro Kikuchi,Yuhki Kobayashi,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of reducing carbon incorporation into films produced by chemical vapor deposition involving organic precursor compounds

Номер патента: US5661115A. Автор: Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1997-08-26.

Method and system for inline chemical vapor deposition

Номер патента: WO2012170166A3. Автор: Piero Sferlazzo,Thomas Michael Lampros. Владелец: AVENTA TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2013-04-25.

Feedback control of sub-atmospheric chemical vapor deposition processes

Номер патента: US20030049376A1. Автор: Arulkumar Shanmugasundram,Manuel Hernandez,Rong Pan,Alexander Schwarm,Amna Mohammad. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-03-13.

Vapor deposition apparatus and method for producing organic electronic device

Номер патента: EP3822388A1. Автор: Shinichiro Kobayashi,HIROSHI Miyazaki,Hiroshi Fujimoto. Владелец: Fukuoka Industry Science and Technology Foundation. Дата публикации: 2021-05-19.

Initiated chemical vapor deposition of vinyl polymers for the encapsulation of particles

Номер патента: US09492805B2. Автор: Karen K. Gleason,Kenneth K. S. Lau. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2016-11-15.

Deposition systems and processes for transport polymerization and chemical vapor deposition

Номер патента: US6086679A. Автор: HUI Wang,Chung J. Lee,Giovanni Antonio Foggiato. Владелец: Quester Technology Inc. Дата публикации: 2000-07-11.

Method of ensuring adhesion of chemically vapor deposited oxide to gold integrated circuit interconnect lines

Номер патента: US4716071A. Автор: Dyer A. Matlock,Bruce E. Roberts,Jimmy C. Black. Владелец: HARRIS CORP. Дата публикации: 1987-12-29.

Method and apparatus for low temperature, low pressure chemical vapor deposition of epitaxial silicon layers

Номер патента: CA1328796C. Автор: Bernard Steele Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-04-26.

Method for tungsten chemical vapor deposition on a semiconductor substrate

Номер патента: EP1219725A1. Автор: Joris Baele,Hans Vercammen. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2002-07-03.

Method for the selective deposition of bismuth based ferroelectric thin films by chemical vapor deposition

Номер патента: US6120846A. Автор: Thomas H. Baum,Frank Hintermaier,Bryan Hendrix,Peter Van Buskirk,Jeff Roeder. Владелец: Infineon Technologies North America Corp. Дата публикации: 2000-09-19.

Photo-chemical vapor deposition of silicon nitride film

Номер патента: US4588610A. Автор: Shunpei Yamazaki. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1986-05-13.

Very low pressure chemical vapor deposition process for deposition of titanium silicide films

Номер патента: US4957777A. Автор: Vida Ilderem,L. Rafael Reif,Prabha K. Tedrow. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1990-09-18.

Low thermal budget chemical vapor deposition processing

Номер патента: US20080119059A1. Автор: Yuji Maeda,R. Suryanarayanan Iyer,Jacob W. Smith. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-05-22.

High pressure spatial chemical vapor deposition system and related process

Номер патента: US11885018B2. Автор: Siddha Pimputkar. Владелец: Lehigh University. Дата публикации: 2024-01-30.

Metalorganic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: US11661655B2. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2023-05-30.

Metal organic chemical vapor deposition system and method

Номер патента: EP3652358A1. Автор: Kazuhiro Ohkawa. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2020-05-20.

Chemical vapor deposition of chalcogenide materials via alternating layers

Номер патента: US20090022883A1. Автор: Stanford R. Ovshinsky,Smuruthi Kamepalli. Владелец: Ovonyx Inc. Дата публикации: 2009-01-22.

Apparatus and concept for minimizing parasitic chemical vapor deposition during atomic layer deposition

Номер патента: EP1238421A4. Автор: Ofer Sneh,Carl Galewski. Владелец: Genus Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: EP3551780A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-10-16.

Carbon film deposition method and deposition apparatus

Номер патента: US20220246429A1. Автор: Yosuke Watanabe,Shota CHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Methods for depositing polymer layer for sensor applications via hot wire chemical vapor deposition

Номер патента: WO2018106886A1. Автор: Pravin K. Narwankar,Yuriy Melnik,Colin NEIKIRK. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2018-06-14.

Method of controlling contamination of vapor deposition apparatus and method of producing epitaxial wafer

Номер патента: US20200392618A1. Автор: Shota Kinose. Владелец: Sumco Corp. Дата публикации: 2020-12-17.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and processes

Номер патента: EP1939924A3. Автор: Richard S. Mullin,Igor V. Belousov,Yurity M. Barabash,Yurity G. Kononenko. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-12.

Vacuum vapor deposition apparatus

Номер патента: US20110005460A1. Автор: Yuji Yanagi,Tatsuya Hirano,Nobuyuki Shigeoka. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2011-01-13.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: EP2839055A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: Furukawa Co Ltd. Дата публикации: 2015-02-25.

Vapor deposition apparatus and method associated

Номер патента: WO2013157057A1. Автор: Masashi Mizuta. Владелец: FURUKAWA CO., LTD.. Дата публикации: 2013-10-24.

Method for producing a semiconducting film of organic-inorganic metal-halide compound with perovskite-like structure

Номер патента: US12048233B2. Автор: Nikolai Andreevich BELICH,Andrey Andreevich PETROV,Alexey Borisovich TARASOV,Sergei Anatolyevich FATEEV,Aleksey Iurievich GRISHKO,Natalia Nikolaevna SHLENSKAIA,Eugene Alekseevich GOODILIN. Владелец: Krasnoyarsk Hydropower Plant JSC. Дата публикации: 2024-07-23.

A method for producing a semiconducting film of organic-inorganic metal-halide compound with perovskite-like structure

Номер патента: CA3140165A1. Автор: Nikolai Andreevich BELICH,Andrey Andreevich PETROV,Alexey Borisovich TARASOV,Sergei Anatolyevich FATEEV,Aleksey Iurievich GRISHKO,Natalia Nikolaevna SHLENSKAIA,Eugene Alekseevich GOODILIN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-12-24.

Vapor deposition apparatus and process for continuous deposition of a doped thin film layer on a substrate

Номер патента: MY161000A. Автор: Scott Daniel Feldman-Peabody,Mark Jeffrey Pavol. Владелец: First Solar Malaysia Sdn Bhd. Дата публикации: 2017-03-31.

Vapor Deposition Apparatus and Process for Continuous Indirect Deposition of a Thin Film Layer on a Substrate

Номер патента: US20130122630A1. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: Primestar Solar Inc. Дата публикации: 2013-05-16.

Chemical Vapor Deposition Diamond (CVDD) Wires for Thermal Transport

Номер патента: US20210143080A1. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microsemi Semiconductor Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1121475A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Rudolfo Viguie,David Vincent Rigney,Antonio Frank Maricocchi,William Seth Willen,John Douglas Evans, Sr.. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-08-08.

Physical vapor deposition apparatus and physical vapor deposition method

Номер патента: US09447494B2. Автор: Atsushi Yumoto,Fujio Hiroki,Naotake Niwa,Takashisa Yamamoto. Владелец: Tanaka Kikinzoku Kogyo KK. Дата публикации: 2016-09-20.

Vapor deposition apparatus and process for continuous indirect deposition of a thin film layer on a substrate

Номер патента: US09412892B2. Автор: Stacy Ann Black. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma-activated chemical vapor deposition of fluoridated cyclic siloxanes

Номер патента: US5230929A. Автор: Gerardo Caporiccio,Riccardo D'agostino,Pietro Favia. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1993-07-27.

Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films

Номер патента: US6054206A. Автор: Thomas Weller Mountsier. Владелец: Novellus Systems Inc. Дата публикации: 2000-04-25.

Precursor compositions for atomic layer deposition and chemical vapor deposition of titanate, lanthanate, and tantalate dielectric films

Номер патента: WO2007106788A2. Автор: Thomas H. Baum,Jeffrey F. Roeder,Tianniu Chen,Chongying Xu,Thomas M. Cameron. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2007-09-20.

Atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition process

Номер патента: US20100323127A1. Автор: John Matthew Warakomski,Christina Ann Rhoton. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-12-23.

Rapid hybrid chemical vapor deposition for perovskite solar modules

Номер патента: WO2021250499A1. Автор: Yabing Qi,Luis Katsuya ONO,Longbin Qiu,Sisi He. Владелец: OKINAWA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY SCHOOL CORPORATION. Дата публикации: 2021-12-16.

Plasma Chemical Vapor Deposition Process

Номер патента: US20230312392A1. Автор: Igor Milicevic,Mattheus Jacobus Nicolaas Van Stralen,Gertjan KRABSHUIS,Antonius Henricus Elisabeth Breuls. Владелец: Draka Comteq BV. Дата публикации: 2023-10-05.

Rapid hybrid chemical vapor deposition for perovskite solar modules

Номер патента: EP4143363A1. Автор: Yabing Qi,Luis Katsuya ONO,Longbin Qiu,Sisi He. Владелец: Okinawa Institute of Science and Technology School Corp. Дата публикации: 2023-03-08.

Electron beam physical vapor deposition apparatus and control panel therefor

Номер патента: WO2001011103A3. Автор: Robert William Bruce,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans Sr. Владелец: Gen Electric. Дата публикации: 2001-08-16.

Electron beam physical vapor deposition apparatus

Номер патента: EP1117853A1. Автор: Robert William Bruce,David John Wortman,Keith H. Betscher,Antonio Frank Maricocchi,John Douglas Evans, Sr.,William Allen Bowlin,Harold Phillips Ii Dillon. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2001-07-25.

Methods for depositing amorphous silicon layers or silicon oxycarbide layers via physical vapor deposition

Номер патента: US20180142343A1. Автор: Yong Cao,Huixiong Dai,Khoi Phan,Xianmin Tang,Christopher Ngai,Rongjun Wang,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-24.

Physical vapor deposition chamber and physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US11732346B2. Автор: Bing Li,Qiwei Huang,Hongrui GUO. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Physical vapor deposition apparatus

Номер патента: US20230175113A1. Автор: Sangwook Park,Kyuhee Han,Jaesuk KIM,Gukrok YUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-08.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus

Номер патента: US09458532B2. Автор: Nobuhiro Hayashi,Tohru Sonoda,Shinichi Kawato. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2016-10-04.

Method for etching and controlled chemical vapor deposition

Номер патента: US4468283A. Автор: Irfan Ahmed. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-08-28.

Inverted positive vertical flow chemical vapor deposition chamber

Номер патента: CA1209330A. Автор: James D. Parsons. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1986-08-12.

Vapor deposition apparatus, vapor deposition method, and method for manufacturing organic el display apparatus

Номер патента: US20220220600A1. Автор: Katsuhiko Kishimoto,Kozo Yano,Susumu Sakio,Koshi Nishida. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-14.

Migration and plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: CA2756994C. Автор: Kenneth Scott Alexander Butcher. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-07.

Method for manufacturing cigs light absorption layer for solar cell through chemical vapor deposition

Номер патента: EP4340047A1. Автор: Seung Hyun Lee,Hyuk Kyoo Jang,Gyu Hyun LEE,Hea Yong KWON,Tae Yeop Jeon,Tae Woo Eom. Владелец: Mecaroenergy Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-20.

Methods for the photo-initiated chemical vapor deposition (picvd) of coatings and coatings produced by these methods

Номер патента: EP2989229A1. Автор: Christopher Alex DORVAL DION,Jason Robert TAVARES. Владелец: Polyvalor LP. Дата публикации: 2016-03-02.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof for suppressing background carbon incorporation

Номер патента: US11846024B2. Автор: Hongping Zhao,Yuxuan ZHANG,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2023-12-19.

Thermal chemical vapor deposition system and operating method thereof

Номер патента: US20170107619A1. Автор: Ding-I Liu,Si-Wen Liao,Po-Hsiung Leu,Kai-Shiung Hsu,Jui-Fu Hsu,Cheng-Tsung WU,Yi-Fang Lai,Yen-Chan LO,Jheng-Uei HSIEH,Shian-Huei LIN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-20.

Method for Fabricating Solar Cell Using Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition

Номер патента: US20120077306A1. Автор: Jong Ho Lee,Ho-Sung Kim,Chaehwan JEONG,Seongjae Boo. Владелец: Korea Institute of Industrial Technology KITECH. Дата публикации: 2012-03-29.

Apparatus for plasma chemical vapor deposition and method for fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20080194104A1. Автор: Sang-Tae Ahn,Dong-Sun Sheen,Seok-Pyo Song. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-08-14.

Apparatus for plasma chemical vapor deposition and method for fabricating semiconductor device by using the same

Номер патента: US20060094218A1. Автор: Sang-Tae Ahn,Dong-Sun Sheen,Seok-Pyo Song. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-05-04.

Laser-assisted metal-organic chemical vapor deposition devices and methods of use thereof

Номер патента: US20210355581A1. Автор: Hongping Zhao,Zhaoying Chen. Владелец: Ohio State Innovation Foundation. Дата публикации: 2021-11-18.

Vacuum vapor-deposition apparatus

Номер патента: US20090314212A1. Автор: Chung-Pei Wang. Владелец: Hon Hai Precision Industry Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-24.

Vapor deposition method and vapor deposition apparatus for forming organic thin films

Номер патента: US20030131796A1. Автор: Toshitaka Kawashima. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-17.

Vacuum vapor deposition method

Номер патента: US09863034B2. Автор: Yuji Yanagi. Владелец: Mitsubishi Heavy Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Wafer support, chemical vapor phase growth device, epitaxial wafer and manufacturing method thereof

Номер патента: US10208398B2. Автор: Daisuke Muto,Jun NORIMATSU. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2019-02-19.

Physical vapor deposition target constructions

Номер патента: WO2005074640A2. Автор: Stephane Ferrasse,Werner H. Hort,Jaeyeon Kim,Susan D. Strothers,Frank Alford,Michael D. Payton,Susanne I. Grabmeier,Andrew N. A. Wragg,Robert M. Prater. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2005-08-18.

Crystal growth chamber with O-ring seal for Czochralski growth station

Номер патента: US09809900B2. Автор: Mark S. Andreaco,Troy Marlar,Brant Quinton. Владелец: Siemens Medical Solutions USA Inc. Дата публикации: 2017-11-07.

O-ring seal for rock bit bearings

Номер патента: US5323863A. Автор: Robert Denton. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 1994-06-28.

O-ring seal for rock bit bearings

Номер патента: CA2096300C. Автор: Robert Denton. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Method for performing metallo-organic chemical vapor deposition of titanium nitride at reduced temperature

Номер патента: US20020001928A1. Автор: Mei Chang,Ming Xi,Keith K. Koai,Shulin Wang,Huan LUO,Russell C. Ellwanger. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-01-03.

Process for chemical vapor deposition of materials with via filling capability and structure formed thereby

Номер патента: US20080164579A1. Автор: Alejandro G. Schrott,Fenton R. McFeely,John J. Yurkas. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2008-07-10.

Magnetically enhanced high density plasma-chemical vapor deposition plasma source for depositing diamond and diamond-like films

Номер патента: US09951414B2. Автор: Roman Chistyakov,Bassam Hanna Abraham. Владелец: IonQuest Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Selective area deposition of metal films by atomic layer deposition (ALD) and chemical vapor deposition (CVD)

Номер патента: US09583389B2. Автор: Florian Gstrein,Scott B. Clendenning,Patricio E. Romero,Jeanette M. Roberts. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Chemical vapor deposition methods and methods of etching a contact opening over a node location on a semiconductor substrate

Номер патента: US20020123221A1. Автор: Chris Hill,Mark Jost. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-05.

Plasma enhanced chemical vapor deposition of graphene on optical fibers

Номер патента: US20230212743A1. Автор: Nai-Chang Yeh,Deepan Kishore Kumar. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2023-07-06.

Chemical vapor deposition coating, article, and method

Номер патента: US09777368B2. Автор: David A. Smith,James B. Mattzela,Paul H. Silvis,Gary A. Barone. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Chemical-vapor-deposition silicon carbide bulk having improved etching characteristic

Номер патента: US11859309B2. Автор: Kang Suk Kim,Young Ju Kim,Hak Jun AHN,Youn Woong JUNG,Jun Baek SONG,Won Geun SON. Владелец: DS TECHNO Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20220025515A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2022-01-27.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and method of forming lithium-based film by using the same

Номер патента: US20180010245A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Changseung LEE,Sungjin Lim,Junsik Hwang,Wooyoung Yang,Sanghoon Song. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: WO2020096976A1. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S.H. Chen. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2020-05-14.

Method and apparatus for low temperature, low pressure chemical vapor deposition of epitaxial silicon layers

Номер патента: US5298452A. Автор: Bernard S. Meyerson. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1994-03-29.

Aerosol assisted chemical vapor deposition methods useful for making dye-sensitized solar cells with platinum dialkyldithiocarbamate complexes

Номер патента: US11742151B2. Автор: Muhammad Ali Ehsan,Abdul REHMAN,Abbas Saeed Hakeem. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2023-08-29.

Process-specific wafer carrier correction to improve thermal uniformity in chemical vapor deposition systems and processes

Номер патента: US20170053049A1. Автор: Sandeep Krishnan,Lukas Urban. Владелец: Veeco Instruments Inc. Дата публикации: 2017-02-23.

Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

Номер патента: US11987878B2. Автор: Thomas H. Baum,Bryan C. Hendrix,Philip S. H. Chen. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: WO2009131842A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: Lumenz, Inc.. Дата публикации: 2009-10-29.

Metalorganic chemical vapor deposition of zinc oxide

Номер патента: EP2279284A1. Автор: Bunmi T. Adekore,Jonathan Pierce. Владелец: LUMENZ Inc. Дата публикации: 2011-02-02.

Method of making primary current detector using plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US4851367A. Автор: David J. Wolf. Владелец: Eastman Kodak Co. Дата публикации: 1989-07-25.

Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method of forming vanadium oxide films and vanadium oxide thin-films prepared thereby

Номер патента: US6156395A. Автор: Ping Liu,David K. Benson,C. Edwin Tracy,Ji-Guang Zhang,John A. Turner. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-12-05.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US6903462B2. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-06-07.

Chemical vapor deposition of titanium

Номер патента: US20090039517A1. Автор: Gurtej Singh Sandhu,Donald L. Westmoreland. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Pyrolytic chemical vapor deposition of silicone films

Номер патента: US6045877A. Автор: Karen K. Gleason,Michael C. Kwan. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2000-04-04.

Method and system for producing graphene on a copper substrate by modified chemical vapor deposition (AP-CVD)

Номер патента: US11624114B2. Автор: Patricio HÄBERLE TAPIA,Christian ORELLANA GÓMEZ. Владелец: Universidad Tecnica Federico Santa Maria USM. Дата публикации: 2023-04-11.

Swelling metal for non-elastomeric o-rings, sealing bags and sealing gaskets

Номер патента: RU2740723C1. Автор: Майкл Л. ФРИПП,Стивен М. ГРЕСИ,Закари У. УОЛТОН. Владелец: Халлибертон Энерджи Сервисез, Инк.. Дата публикации: 2021-01-20.

Hand tool for storing and applying O-ring seals

Номер патента: US4843668A. Автор: Jerry Bondar. Владелец: Individual. Дата публикации: 1989-07-04.

O-Ring sealing arrangements for ultra-high vacuum systems

Номер патента: US4281841A. Автор: Robert Flaherty,Chang-Kyo Kim. Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1981-08-04.

Faucet valve with diagonal o-ring seal

Номер патента: CA1162903A. Автор: Dennis J. Hayman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-02-28.

O-ring seal for rock bit bearings

Номер патента: CA2144363C. Автор: Madapusi K. Keshavan,Wayne C. Quantz,Michael E. Hooper,Mark J. Hommel. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 1998-06-16.

Hydraulic fitting with O-ring seal end stop

Номер патента: US5076616A. Автор: Nigel D. L. Williamson. Владелец: NWD International Inc. Дата публикации: 1991-12-31.

O-ring seal with lubricant additives for rock bit bearings

Номер патента: CA2217751C. Автор: Zhigang Fang,Robert Denton,Steven W. Peterson. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 2004-06-29.

O-ring seal for rock bit bearings

Номер патента: CA2144116C. Автор: Robert Denton,Madapusi K. Keshavan,Steven W. Peterson. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 1998-07-14.

O-ring seals for fluid sensing

Номер патента: US11837513B2. Автор: Sebastian Meier,Bernhard Peter Lange. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

O-ring seals for fluid sensing

Номер патента: US20240128137A1. Автор: Sebastian Meier,Bernhard Peter Lange. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

Hydraulic hose adapter with o-ring seal

Номер патента: CA1251237A. Автор: Nigel D.L. Williamson. Владелец: NWD International Inc. Дата публикации: 1989-03-14.

Crystal Growth Chamber With O-Ring Seal For Czochralski Growth Station

Номер патента: US20150114285A1. Автор: Andreaco Mark S.,Quinton Brant,Marlar Troy. Владелец: . Дата публикации: 2015-04-30.

O-ring seal for rock bit bearings

Номер патента: CA2096300A1. Автор: Robert Denton. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 1993-11-16.

A kind of manufacture method and equipment of silicon rubber O-ring seal

Номер патента: CN107099149A. Автор: 孙仁亮. Владелец: Anhui Hancai Sealing Element Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

O-ring seal for rock drill bit bearings

Номер патента: DE69127325T2. Автор: Robert Nmi Denton,James J Sinclair. Владелец: Smith International Inc. Дата публикации: 1998-04-02.

2-way collar and O-ring seal assembly

Номер патента: US6209582B1. Автор: Gregory R. Ashley,Thomas M. Huber. Владелец: Honeywell Commercial Vehicle Systems Co. Дата публикации: 2001-04-03.

Process for treating metal halides and organo substituted metal halides with metal recovery

Номер патента: US4612176A. Автор: Carroll E. Stone. Владелец: Individual. Дата публикации: 1986-09-16.

System and method based on low-pressure chemical vapor deposition for fabricating perovskite film

Номер патента: EP3183376A1. Автор: Yabing Qi,Matthew Ryan LEYDEN. Владелец: Okinawa Inst Science & Tech School Corp. Дата публикации: 2017-06-28.

System and method based on low-pressure chemical vapor deposition for fabricating perovskite film

Номер патента: AU2015304774A1. Автор: Yabing Qi,Matthew Ryan LEYDEN. Владелец: Okinawa Inst Science & Tech School Corp. Дата публикации: 2017-03-09.

X-ray scintillators, metal halide hybrids, devices, and methods

Номер патента: WO2021183855A1. Автор: Biwu Ma,Qingquan He,Liang-jin XU. Владелец: The Florida State University Research Foundation, Inc.. Дата публикации: 2021-09-16.

X-Ray Scintillators, Metal Halide Hybrids, Devices, and Methods

Номер патента: US20240345268A1. Автор: Biwu Ma,Qingquan He,Liang-jin XU. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Ternary metal halide scintillators

Номер патента: US09695356B1. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2017-07-04.

Ternary metal halide scintillators

Номер патента: US09624429B2. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2017-04-18.

Method for producing metal halide perovskite nanocrystal layers, nanometric-film nanocomposite formed by perovskite nanocrystals, metal halide perovskite nanocrystal layers, and uses of said layers

Номер патента: EP4375237A1. Автор: Rafael Abargues Lopez,Jaume NOGUERA GOMEZ,Pablo Perez Boix. Владелец: UNIVERSITAT DE VALENCIA. Дата публикации: 2024-05-29.

Metal Halide Crystals Having a Nanotube Structure and Methods

Номер патента: US20190106325A1. Автор: Biwu Ma,Haoran Lin. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2019-04-11.

Passivation of Metal Halide Scintillators

Номер патента: US20180355245A1. Автор: Mark S. Andreaco,Peter Carl Cohen,Alexander Andrew Carey. Владелец: Siemens Medical Solutions USA Inc. Дата публикации: 2018-12-13.

Ternary metal halide scintillators

Номер патента: US20160168458A1. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2016-06-16.

Metal-halide composite, articles comprising a metal-halide composite and method of making and using same

Номер патента: US20230174434A1. Автор: Timothy J. Haugan,Christopher J. Kovacs. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 2023-06-08.

Apparatus for growing epitaxial layers on wafers by chemical vapor deposition

Номер патента: US6547876B2. Автор: Michael Spencer,Ian Ferguson,Alexander Gurary. Владелец: Emcore Corp. Дата публикации: 2003-04-15.

Luminescent Metal Halide Perovskites and Methods

Номер патента: US20200190124A1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2020-06-18.

Luminescent Metal Halide Perovskites and Methods

Номер патента: US20210115072A1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Luminescent metal halide perovskites and methods

Номер патента: US11578089B2. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2023-02-14.

Luminescent metal halide perovskites and methods

Номер патента: US11312735B2. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2022-04-26.

Luminescent metal halide perovskites and methods

Номер патента: US10611784B2. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2020-04-07.

Luminescent Metal Halide Perovskites and Methods

Номер патента: US20170166596A1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2017-06-15.

Method of hydrolyzing metal halides

Номер патента: US5080880A. Автор: John R. Peterson. Владелец: Teledyne Industries Inc. Дата публикации: 1992-01-14.

Ternary metal halide scintillators

Номер патента: US20180155620A1. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2018-06-07.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US09975143B2. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2018-05-22.

Chemical vapor deposition tool and process for fabrication of photovoltaic structures

Номер патента: US09972740B2. Автор: Jianming Fu,Yongkee Chae. Владелец: Tesla Inc. Дата публикации: 2018-05-15.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09958425B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Luminescent metal halide perovskites and methods

Номер патента: US09908906B2. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Metal halide perovskites, methods, and devices

Номер патента: US09896462B1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma,Chenkun Zhou. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2018-02-20.

Quantum dot—polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09599564B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2017-03-21.

Gas injectors including a funnel- or wedge-shaped channel for chemical vapor deposition (CVD) systems and CVD systems with the same

Номер патента: US9481944B2. Автор: Chantal Arena,Christiaan Werkhoven,Ed Lindow,Ronald Thomas Bertram, JR.. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2016-11-01.

Mechanical method for direct production of hydrogen and oxygen from liquid from hydrogen gas generator therefor

Номер патента: RU2554432C2. Автор: Василий Иванович Рева. Владелец: Василий Иванович Рева. Дата публикации: 2015-06-27.

Method For Making Catalyst Compositions Of Alkali Metal Halide-Doped Bivalent Metal Fluorides And A Process For Making Fluorinated Olefins

Номер патента: US20110282111A1. Автор: Haiyou Wang,Hsueh Sung Tung. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2011-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: AU2003232015A1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2003-11-17.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1502292B1. Автор: Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2010-08-25.

Manufacture of metal halide particles

Номер патента: US4201739A. Автор: Scott Anderson. Владелец: Scott Anderson. Дата публикации: 1980-05-06.

X-ray scintillators, metal halide hybrids, devices, and methods

Номер патента: EP4118460A1. Автор: Biwu Ma,Qingquan He,Liang-jin XU. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2023-01-18.

X-Ray Scintillators, Metal Halide Hybrids, Devices, and Methods

Номер патента: US20230132026A1. Автор: Biwu Ma,Qingquan He,Liang-jin XU. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2023-04-27.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: EP4329948A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn LLC. Дата публикации: 2024-03-06.

Preparation method of photo catalyst by transition metal halide molten salt and use thereof

Номер патента: US20230264971A1. Автор: Jiajia Wang,Zunfu Hu,Shanmin GAO. Владелец: Linyi University. Дата публикации: 2023-08-24.

Ceramic matrix composites enable through metal halide assisted sintering

Номер патента: WO2021150670A3. Автор: Lance Snead,Jason Trelewicz,David SPROUSTER. Владелец: The Research Foundation for The State University of New York. Дата публикации: 2021-10-21.

Method for producing metal halide compound

Номер патента: WO2024130481A1. Автор: Wei Zhao,MENG Li,Takuo Hayashi,Jianjun Yuan,Xiao-han HAO. Владелец: DIC CORPORATION. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of hydrolyzing metal halides

Номер патента: WO1990015775A1. Автор: John R. Peterson. Владелец: Teledyne Industries, Inc.. Дата публикации: 1990-12-27.

Element of an engine compartment of a motor vehicle and method of protecting the element against chemical attacks from a metal halide

Номер патента: US20160311386A1. Автор: Nicolas Garois,Matthieu Vatan,Baptiste Voillequin,Katerina Kirkorian. Владелец: HUTCHINSON SA. Дата публикации: 2016-10-27.

Gas generator operating on lump coal and coal dust, and method for gasification of lump coal and coal dust

Номер патента: RU2685647C1. Автор: Миньянь ФУ,Луюн ДИН. Владелец: Сюнцзюнь Янь. Дата публикации: 2019-04-22.

Antiflocculating agents for metal halide solutions

Номер патента: US4753740A. Автор: Everett M. Marlett,Bonnie G. Mckinnie,Warren B. Kirsch. Владелец: Ethyl Corp. Дата публикации: 1988-06-28.

Preparation of ultra-pure metal halides

Номер патента: US4965055A. Автор: Paul E. R. Nordquist, Jr.,Arnold H. Singer. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1990-10-23.

Ternary metal halide scintillators

Номер патента: US20170190969A1. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2017-07-06.

Ternary metal halide scintillator

Номер патента: WO2015010055A4. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2015-03-19.

Ternary metal halide scintillators

Номер патента: US20180105745A1. Автор: Luis Stand,Charles L. Melcher,Mariya Zhuravleva. Владелец: UNIVERSITY OF TENNESSEE RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2018-04-19.

A metal organic framework (mof) glass composite comprising metal halide perovskite

Номер патента: EP4397156A1. Автор: Peng Chen,Lianzhou Wang,Thomas D. Bennett,Vicki Chen,Jingwei HOU. Владелец: University of Cambridge. Дата публикации: 2024-07-10.

A metal organic framework (mof) glass composite comprising metal halide perovskite

Номер патента: WO2023028644A1. Автор: Lianzhou Wang,Vicki Chen,Jingwei HOU. Владелец: The University of Queensland. Дата публикации: 2023-03-09.

Metal halide colloidal nanoparticles and method for producing the same

Номер патента: US20220220378A1. Автор: Min Ji Lee,Tae Jong Paik. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Chung Ang University. Дата публикации: 2022-07-14.

Cleaning industrial plant components to remove metal halides

Номер патента: US09994802B2. Автор: Andreas Bockholt,Javad MOHSSENI,Konrad Mautner,Christian Kaltenmarkner,Peter Nuernberg,Klaus Kaeppler. Владелец: Wacker Chemie AG. Дата публикации: 2018-06-12.

Quantum dot-polymer nanocomposite sensor array for chemical vapor sensing

Номер патента: US09970939B1. Автор: Sichu Li. Владелец: Mitre Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Method for producing hydrocarbon fuels from heavy polynuclear hydrocarbons by use of molten metal halide catalyst

Номер патента: CA1123358A. Автор: Everett Gorin. Владелец: Continental Oil Co. Дата публикации: 1982-05-11.

Scale-free process for purifying concentrated alkali metal halide brines containing sulfate ions as an impurity

Номер патента: US4747917A. Автор: Don E. Reynolds,Paul W. Breaux, deceased,Emily J. Reed. Владелец: Olin Corp. Дата публикации: 1988-05-31.

Process for the recovery of group i-b metal halides from bimetallic salt complexes

Номер патента: US3845188A. Автор: D Walker,D Haase. Владелец: Tenneco Chemicals Inc. Дата публикации: 1974-10-29.

Chemical vapor deposition apparatus for obtaining high quality epitaxial layer with uniform film thickness

Номер патента: US4992301A. Автор: Masao Mikami,Fumitoshi Toyokawa,Seiichi Shishiguchi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1991-02-12.

Vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1274429A. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1990-09-25.

Method for recovering hydrocarbons from molten metal halides

Номер патента: CA1123357A. Автор: Melvyn B. Pell. Владелец: Continental Oil Co. Дата публикации: 1982-05-11.

Metalorganic chemical vapor depositing growth of group ii-vi semiconductor materials having improved compositional uniformity

Номер патента: CA1319587C. Автор: William Hoke,Lindley Specht. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1993-06-29.

Chemical vapor deposition method for the gaas thin film

Номер патента: CA1305910C. Автор: Seiji Kojima,Hiroshi Kikuchi,Masakiyo Ikeda,Yuzo Kashiwayanagi. Владелец: Furukawa Electric Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-04.

Process for the recovery of group 1-b metal halides from bimetallic salt complexes

Номер патента: CA1040837A. Автор: David G. Walker,Donald J. Haase. Владелец: Tenneco Chemicals Inc. Дата публикации: 1978-10-24.

Method for preparing perovskite solar cell absorbing layer by means of chemical vapor deposition

Номер патента: US20220230813A1. Автор: Hyuk Kyoo Jang,Gyu Hyun LEE,So Yeon Lee. Владелец: Mecaroenergy Co Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Metal Halide Perovskites, Light-Emitting Diodes, and Methods

Номер патента: US20210347792A1. Автор: Yu Tian,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2021-11-11.

Methods of making metal halide perovskites

Номер патента: US11466040B2. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma,Chenkun Zhou. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2022-10-11.

Chemical vapor deposition functionalization

Номер патента: US20160059260A1. Автор: David A. Smith,Paul H. Silvis. Владелец: Silcotek Corp. Дата публикации: 2016-03-03.

Organic metal-halide perovskite precursor, process for production and use thereof

Номер патента: US20210388009A1. Автор: Nripan Mathews,Subodh Gautam Mhaisalkar,Prem Jyoti Singh Rana,Teck Ming KOH,Benny Febriansyah. Владелец: NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-12-16.

Luminescent Metal Halide Perovskites and Methods

Номер патента: US20180134736A1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2018-05-17.

Methods of Making Metal Halide Perovskites

Номер патента: US20210032273A1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma,Chenkun Zhou. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2021-02-04.

Lithium metal halide-based solid electrolyte for all-solid-state battery having new crystal structure

Номер патента: US20240222692A1. Автор: Ji Hoon Kim,Sun Ho Choi,Yong Gu Kim,Yong Jun Jang,Sang Uck Lee,Seong Hyeon Choi,Sung Man CHO,Byeong Sun Jun. Владелец: Kia Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Manufacturing of diffractive pigments by fluidized bed chemical vapor deposition

Номер патента: US09732228B2. Автор: Alberto Argoitia. Владелец: VIAVI SOLUTIONS INC. Дата публикации: 2017-08-15.

Cathode for electrolysis of aqueous solution of alkali metal halide

Номер патента: US4230543A. Автор: Keiji Kawasaki,Itsuaki Matsuda. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 1980-10-28.

Apparatus of metal organic chemical vapor deposition for growing epitaxial layer of compound semiconductor

Номер патента: US4883020A. Автор: JUNJI Komeno,Hitoshi Tanaka,Kazumi Kasai,Hiromi Itoh,Tatsuya Oh-hori. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1989-11-28.

Recovery of hydrocarbons from molten metal halides

Номер патента: GB2034348A. Автор: . Владелец: Conoco Inc. Дата публикации: 1980-06-04.

Method of stabilizing metal-silica complexes in alkali metal halide brines

Номер патента: CA1274801A. Автор: David L. Fair,David D. Justice,Pilar P. Kelly. Владелец: Olin Corp. Дата публикации: 1990-10-02.

Combination gas curtains for continuous chemical vapor deposition production of silicon bodies

Номер патента: CA1178179A. Автор: Henry W. Gutsche. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1984-11-20.

Metal halide lamps

Номер патента: GB1516101A. Автор: . Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1978-06-28.

Method for preparing metal halide nanocomposites

Номер патента: US20230272270A1. Автор: Liberato Manna,Sungwook Park,Lutfan SINATRA,Luca De Trizio,Marat LUTFULLIN,Mai Ngoc An,Osman Mohammed Bakr. Владелец: Quantum Advanced Solutions Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Metal organic chemical vapor depostion (mocvd) tunnel junction growth in iii-nitride devices

Номер патента: US20220029049A1. Автор: Steven P. DenBaars,James S. Speck,Ahmed Alyamani,Abdulrahman Albadri,Abdullah Ibrahim Alhassan. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2022-01-27.

Localized atmospheric laser chemical vapor deposition

Номер патента: EP2842156A1. Автор: Selim Elhadj,Manyalibo Joseph Matthews. Владелец: Lawrence Livermore National Security LLC. Дата публикации: 2015-03-04.

Metal organic chemical vapor depostion (mocvd) tunnel junction growth in iii-nitride devices

Номер патента: US20190245112A1. Автор: Steven P. DenBaars,James S. Speck,Abdullah Ibrahim Alhassan. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2019-08-08.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: WO2022232583A8. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn, Llc. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for producing a metal halide adduct of s4n4, and method and apparatus for visualising a print on an object

Номер патента: EP3596008A2. Автор: Roberto Stefano Pasquale KING,Paul Francis KELLY,Steven Geoffrey THORNGATE. Владелец: UK Secretary of State for Defence. Дата публикации: 2020-01-22.

Chemical vapor deposition reactor in polysilicon production process

Номер патента: US20240084480A1. Автор: David Keck,Chad Fero. Владелец: Advanced Material Solutions. Дата публикации: 2024-03-14.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US20240209567A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Soliyarn Inc. Дата публикации: 2024-06-27.

Chemical vapor deposition of dense and transparent zirconia films

Номер патента: US5145720A. Автор: Toshio Hirai,Hisanori Yamane. Владелец: SUMITOMO METAL MINING CO LTD. Дата публикации: 1992-09-08.

Single-crystal diamond, method for manufacturing single-crystal diamond, and chemical vapor deposition device used in same

Номер патента: US20190031515A1. Автор: Yutaka Kobayashi,Yoshiki Nishibayashi,Natsuo Tatsumi,Hitoshi Sumiya,Akihiko Ueda,Takuya NOHARA. Владелец: SUMITOMO ELECTRIC HARDMETAL CORP. Дата публикации: 2019-01-31.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: WO2024168346A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-08-15.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (CVD) in liquid crystals

Номер патента: US10907038B2. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2021-02-02.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition reactors and associated methods

Номер патента: US20240282546A1. Автор: W. Shannan O'Shaughnessy,Andrew Grant,Sergio Fernandez,Lucas BLACK. Владелец: Kayaku Advanced Materials Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Organic metal halide hybrids, electrically driven light emitting diodes, and methods

Номер патента: US20240188435A1. Автор: He Liu,Biwu Ma. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2024-06-06.

Method of manufacturing self-healing polymer that can control physical character according to composition using initiated chemical vapor deposition

Номер патента: US11680124B2. Автор: Yujin Lee,SungGap IM,Moon Jin KWAK,Kihoon JEONG,Youson KIM. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2023-06-20.

Method for forming aluminum oxide/carbon nanotubes by ultrasonic atomization and chemical vapor deposition

Номер патента: US09834444B2. Автор: Muataz Ali Atieh,Fahad Ali RABBANI,Zuhair Omar MALAIBARI. Владелец: KING FAHD UNIVERSITY OF PETROLEUM AND MINERALS. Дата публикации: 2017-12-05.

Reactor and method for production of silicon by chemical vapor deposition

Номер патента: US09793116B2. Автор: Werner O. Filtvedt,Josef Filtvedt. Владелец: Dynatec Engineering AS. Дата публикации: 2017-10-17.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: US09617156B2. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Carbonx BV. Дата публикации: 2017-04-11.

Synthesis of ordered microporous carbons by chemical vapor deposition

Номер патента: US09604194B2. Автор: Cemal Ercan,Minkee Choi,Rashid M. Othman,Yuguo Wang,Seokin Choi. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2017-03-28.

Demulsifying petroleum emulsions with polyalkylene oxide resins and alkali metal halides

Номер патента: CA1102728A. Автор: Brian W. Allan. Владелец: Texaco Canada Inc. Дата публикации: 1981-06-09.

Micro-organism reduction in liquid by use of a metal halide ultraviolet lamp

Номер патента: US20080206095A1. Автор: Robert E. Duthie. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-08-28.

Previous diaphragms for cells for the electrolysis of aqueous solutions of alkali metal halides

Номер патента: US4125450A. Автор: Edgard Nicolas,Louis Degueldre. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 1978-11-14.

Low-dimensional perovskite-structured metal halide, preparation method therefor, and application thereof

Номер патента: EP4170002A1. Автор: Jian Shi,Qian Wang,Yuntao Wu,Shuangliang CHENG,Huanying LI,Guohao REN. Владелец: Shanghai Institute of Ceramics of CAS. Дата публикации: 2023-04-26.

Method for enhancing growth of semipolar (Al,In,Ga,B)N via metalorganic chemical vapor deposition

Номер патента: US8405128B2. Автор: Hitoshi Sato,Shuji Nakamura,Steven P. DenBaars,Benjamin A. Haskell,John F. Kaeding,Michael Iza,Troy J. Baker. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2013-03-26.

Chemical vapor deposition graphene foam electrodes for pseudo-capacitors

Номер патента: US9263196B2. Автор: Thomas A. Yager. Владелец: EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC. Дата публикации: 2016-02-16.

Internal coating of a glass tube by plasma pulse-induced chemical vapor deposition

Номер патента: US5059231A. Автор: Volker Paquet,Ulrich Ackermann,Hartmut Bauch. Владелец: Schott Glaswerke AG. Дата публикации: 1991-10-22.

Vapor phase epitaxial growth method by organometallic chemical vapor deposition

Номер патента: CA1242623A. Автор: Yoshinobu Matsuda,Akio Sasaki,Shigeo Fujita. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-04.

Method for producing alkali metal halide and method for producing halide

Номер патента: EP4306488A1. Автор: Naohisa Yanagihara. Владелец: TEIKYO UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-01-17.

Chemical vapor deposition reactor having ceramic lining for production of polysilicon

Номер патента: US20140235041A1. Автор: Anatoly Alexandrovich Goncharov,Yury Dmitrievich Kalashnikov. Владелец: Ecolive Technologies Ltd. Дата публикации: 2014-08-21.

Structure having metal halide layer, radiation detection element, radiation detector, and method for manufacturing the structure

Номер патента: WO2015083838A1. Автор: Tatsuya Saito,Toru Den,Tatsuya Iwasaki,Ryoko Ueyama. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2015-06-11.

Structure having metal halide layer, radiation detection element, radiation detector, and method for manufacturing the structure

Номер патента: US20160291173A1. Автор: Tatsuya Saito,Toru Den,Tatsuya Iwasaki,Ryoko Ueyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-10-06.

Novel combination catalysts based on iron for the substantial synthesis of multi-walled carbon nanotubes by chemical vapor deposition

Номер патента: US20120177545A1. Автор: Abdulaziz A. Bagabas,Mohammed Abdullah Bahattab,Ibrahim M. Al-Najjar. Владелец: King Abdulaziz City for Science and Technology KACST. Дата публикации: 2012-07-12.

Process for preparing contact lens with film by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US20190310494A1. Автор: Wen-Pin Lin,Meng-Jiy WANG. Владелец: Brighten Optix Corp. Дата публикации: 2019-10-10.

Process for the synthesis of optoelectronically active metal halide-based nanoparticles and nanoparticles obtained thereby

Номер патента: EP4301828A1. Автор: Muhammad Imran,Liberato Manna,Teresa Pellegrino,Thanh Binh MAI,Francesco Di Stasio. Владелец: FONDAZIONE ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA. Дата публикации: 2024-01-10.

High pressure metal halide lamp

Номер патента: EP1711957A1. Автор: Rene J. Hendriks,Volker D. Hildenbrand,Henriette J. Talen-Van Der Mheen. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2006-10-18.

A metal organic framework (mof) glass composite comprising metal halide perovskite

Номер патента: AU2022335914A1. Автор: Peng Chen,Lianzhou Wang,Thomas D. Bennett,Vicki Chen,Jingwei HOU. Владелец: University of Cambridge. Дата публикации: 2024-03-14.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: US20160329456A1. Автор: Moon Chun. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-11-10.

High throughput chemical vapor deposition electrode

Номер патента: WO2016182824A1. Автор: Moon Chun. Владелец: SunPower Corporation. Дата публикации: 2016-11-17.

Process for the synthesis of optoelectronically active metal halide-based nanoparticles and nanoparticles obtained thereby

Номер патента: US20240166943A1. Автор: Muhammad Imran,Liberato Manna,Teresa Pellegrino,Thanh Binh MAI,Francesco Di Stasio. Владелец: FONDAZIONE ISTITUTO ITALIANO DI TECNOLOGIA. Дата публикации: 2024-05-23.

A metal organic framework (mof) glass composite comprising metal halide perovskite

Номер патента: AU2022335914B2. Автор: Peng Chen,Lianzhou Wang,Thomas D. Bennett,Vicki Chen,Jingwei HOU. Владелец: University of Cambridge. Дата публикации: 2024-05-02.

Oxidized electrodes as oxygen dispensers in metal halide lamps

Номер патента: WO2015168270A1. Автор: Peter Horvath,Laszlo Ugrosdy,Akos PETER,Agostan BOROCZKI,Sandor SEBOK. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMAPNY. Дата публикации: 2015-11-05.

Methods of Making Metal Halide Perovskites

Номер патента: US20180127443A1. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma,Chenkun Zhou. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2018-05-10.

Methods of making metal halide perovskites

Номер патента: US10844083B2. Автор: Zhao Yuan,Biwu Ma,Chenkun Zhou. Владелец: Florida State University Research Foundation Inc. Дата публикации: 2020-11-24.

Glass for chemical strengthening and chemical strengthened glass, and manufacturing method of glass for chemical strengthening

Номер патента: US09963378B2. Автор: Hiroyuki Yamamoto. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition.

Номер патента: NL2005365C2. Автор: Rutger Alexander David Raalten,Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi. Владелец: Univ Delft Tech. Дата публикации: 2012-03-20.

Composite cation exchange membrane and use thereof in electrolysis of an alkali metal halide

Номер патента: US3909378A. Автор: Peter Newton Walmsley. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1975-09-30.

Method of growing metal halide and chalcogenide crystals for use as infrared windows

Номер патента: US4251315A. Автор: Antonio C. Pastor. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1981-02-17.

Growth of non-polar m-plane iii-nitride film using metalorganic chemical vapor deposition (mocvd)

Номер патента: US20080026502A1. Автор: James Speck,Steven DenBaars,Bilge Imer. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2008-01-31.

Process for removing aluminum and silica from alkali metal halide brine solutions

Номер патента: US4450057A. Автор: Pilar P. Kelly. Владелец: Olin Corp. Дата публикации: 1984-05-22.

Composite cation exchange membrane and use thereof in electrolysis of an alkali metal halide

Номер патента: CA1052322A. Автор: Peter N. Walmsley. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1979-04-10.

Mercury diaphragm chlor-alkali cell and process for decomposing alkali metal halides

Номер патента: US3775272A. Автор: P Danna. Владелец: Olin Corp. Дата публикации: 1973-11-27.

Compounds for use as chemical vapor deposition precursors, thermochromic materials light-emitting diodes, and molecular charge-transfer salts and methods of making these compounds

Номер патента: US6103459A. Автор: Bruce Diel. Владелец: Midwest Research Institute. Дата публикации: 2000-08-15.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2812166A1. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Delft Enterprises BV. Дата публикации: 2012-03-22.

Carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2812166C. Автор: Gerardus Joseph Maria Koper,Krishna Narayan Kumar Kowlgi,Rutger Alexander David Van Raalten. Владелец: Carbonx BV. Дата публикации: 2021-04-06.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: US20060008594A1. Автор: Sung Kang,Woo Bae. Владелец: JAPAN ASIA INVESTMENT Co Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Methods and devices for graphene formation on flexible substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US11823895B2. Автор: Chyi-Ming Leu,Chih-Cheng Lin,Nai-Chang Yeh,Chi-Fu Tseng,Chen-Hsuan LU. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-11-21.

Alkali metal halide production method, and sulfide solid electrolyte production method

Номер патента: US20200168944A1. Автор: Takeshi Makino. Владелец: Idemitsu Kosan Co Ltd. Дата публикации: 2020-05-28.

Plasma enhanced chemical vapor deposition system for forming carbon nanotubes

Номер патента: WO2006017340A2. Автор: Sung Gu Kang,Woo Kyung Bae. Владелец: Cdream Corporation. Дата публикации: 2006-02-16.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: US20070003696A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2007-01-04.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: US20190136033A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2019-05-09.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: WO2017181108A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN. Дата публикации: 2017-10-19.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: EP1608799A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zurich ETHZ. Дата публикации: 2005-12-28.

Chemical vapor deposition method for fabricating two-dimensional materials

Номер патента: EP3443138A1. Автор: Nigel Pickett,Ombretta Masala,Nicky Prabhudas SAVJANI. Владелец: Nanoco Technologies Ltd. Дата публикации: 2019-02-20.

Method of selective growth of van der waals heterostructures on a graphene substrate by chemical vapor deposition using electron-beam irradiation and a heterostructure manufactured by this method

Номер патента: WO2024058678A1. Автор: Jakub SITEK,Karolina CZERNIAK-ŁOSIEWICZ. Владелец: Politechnika Warszawska. Дата публикации: 2024-03-21.

Formation of thin semiconductor layers by low-energy plasma enhanced chemical vapor deposition and semiconductor heterostructure devices

Номер патента: WO2004085717A1. Автор: Hans Von Kaenel. Владелец: Eidgenoessische Technische Hochschule Zuerich. Дата публикации: 2004-10-07.

Templated synthesis of shape-controlled polymeric nanofibers by chemical vapor deposition (cvd) in liquid crystals

Номер патента: EP3442901A1. Автор: Joerg Lahann,Nicholas L. Abbott,Kenneth Cheng,Marco A. BEDOLLA PANTOJA. Владелец: University of Michigan. Дата публикации: 2019-02-20.

Systems and methods for electrochemical generation of acid and base

Номер патента: WO2024155380A1. Автор: Lauren Greenlee,Daniel Vincent Esposito. Владелец: Shyp Bv Pbc. Дата публикации: 2024-07-25.

Hydrocracking processes using a homogenous catalysis system comprising a metal halide Lewis acid, a Bronsted acid and an alkane

Номер патента: US5593569A. Автор: Larry G. Sherman. Владелец: Kerr McGee Corp. Дата публикации: 1997-01-14.

Gas-generator for fuel conversion to oxygen-depleted gas and/or to hydrogen-enriched gas, its application and method of fuel conversion to oxygen-depleted gas and/or to hydrogen-enriched gas (versions)

Номер патента: RU2539561C2. Автор: Хассан МОДАРРЕСИ. Владелец: Топсеэ Фюэль Селл А/С. Дата публикации: 2015-01-20.

Ammonia gas generator and method for producing ammonia in order to reduce nitrogen oxides in exhaust gases

Номер патента: RU2598467C2. Автор: Пламен ТОШЕВ,Христиан ГЕРХАРТ,Томас ЗАТТЕЛЬМАЙЕР. Владелец: Альцхем Аг. Дата публикации: 2016-09-27.

Process for purifying aqueous solution of alkali metal halide for electrolysis

Номер патента: CA1156599A. Автор: Kenzo Yamaguchi,Shigeaki Fuseya. Владелец: Chlorine Engineers Corp Ltd. Дата публикации: 1983-11-08.

Method and apparatus for electrolysis of alkali or alkaline earth metal halide

Номер патента: US4113585A. Автор: Paul Raphael Resnick,Walther Gustav Grot. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1978-09-12.

Metal halide complexes of 4-cyano-2,2-dimethylbutyraldoxime-n-methylcarbamate

Номер патента: CA1044244A. Автор: William A. Henderson (Jr.). Владелец: American Cyanamid Co. Дата публикации: 1978-12-12.

Metal halide scintillators with reduced hygroscopicity and method of making the same

Номер патента: US20180223186A1. Автор: Matthias J. Schmand,Mark S. Andreaco,Peter Carl Cohen,Alexander Andrew Carey. Владелец: Siemens Medical Solutions USA Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Sealing arrangement for corrugated pipe has O-ring seal of elastic material fitted in corrugation in pipe and with flanks of corrugation having offset for forming of shoulders to support fitted sealing ring in corrugation

Номер патента: DE20306441U1. Автор: . Владелец: Bode GmbH. Дата публикации: 2003-06-18.

Elastic seal for downpipes and comparable systems has O-ring which on upper side is rigidly connected to segmented elastic plastic or rubber plate which in outside diameter corresponds to outside diameter of O-ring

Номер патента: DE202005012979U1. Автор: . Владелец: UGN-UMWELTTECHNIK GmbH. Дата публикации: 2005-11-03.

Tap for drawing pressurised beer - has O=ring seals expanded by pressure of fluid in pipe secured by threaded ring nut

Номер патента: FR2376349A1. Автор: . Владелец: Gruffy Georges. Дата публикации: 1978-07-28.

Mixer swivel tap pipe mounting - has O-ring seal in lower groove and upper ring abutting bevelled edge of split collar

Номер патента: FR2324974A1. Автор: . Владелец: Pont a Mousson SA. Дата публикации: 1977-04-15.

Protection device, particularly for hoses with outer wire meshing, has O-ring that is provided in area of connection elements for encasing connection element, where O-ring is compressed against connection element by shrinking of shrink hose

Номер патента: DE102011056799A1. Автор: Boris Schmidt. Владелец: Dr Ing HCF Porsche AG. Дата публикации: 2013-06-27.

Telescopic joint for pipes - has O=ring seal and is retained by radial screws with cupped tips

Номер патента: FR2430562A1. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-02-01.

Hydraulic clamp for frame-saw blade - has O=ring seal running against piston in cylinder inner walling

Номер патента: DE2734632A1. Автор: Joerg Dipl Ing Felde. Владелец: FELDE RICHARD FA. Дата публикации: 1979-02-15.

Servo piston for pneumatic stapler - has rigid flange core with resilient outer sleeve and O=ring seal between flange and sleeve

Номер патента: DE2925053A1. Автор: Umberto Monacelli. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-01-10.

Self-aligning plain journal bearing - has O=rings between inner ring and housing to accommodate tolerances and reduce noise

Номер патента: FR2433129A1. Автор: . Владелец: Elges Helmut. Дата публикации: 1980-03-07.

Straight through valve with spherical plug - has O-ring behind seal ring in each screwed in end fitting to seal spherical plug

Номер патента: FR2300947A1. Автор: . Владелец: Boisserand Raymond. Дата публикации: 1976-09-10.

A FLOW CREATION MACHINE, A SLIDING O-RING SEAL FOR IT, A PART OF A HOUSING FOR A SLIDING O-RING SEAL AND A METHOD OF ATTACHING A SLIDING RING SEAL TO A SLIDING MACHINE

Номер патента: RU2006114634A. Автор: Хейкки МАННИНЕН,Хейкки МАННИНЕН (FI). Владелец: Зульцер Пумпен Аг (Ch). Дата публикации: 2007-11-10.

Petrol tank filler tube sealing cap - has O-ring compressed by relative rotation of inner and outer cylinders

Номер патента: FR2312416A1. Автор: . Владелец: GUEMEZ JEAN. Дата публикации: 1976-12-24.

Remotely operated fluid valve - has O=rings to seal piston and sleeve housed in cylinder with discharge port at side

Номер патента: FR2367230A1. Автор: Maurice De Cachard,Maurice Dumon. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1978-05-05.

Distributor for hydraulic fluid - has O=ring vibration damper on extension to outlet spool

Номер патента: FR2520837A1. Автор: Heinz Flaschar. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 1983-08-05.

Gas valve with axially moving plunger - tapered end of plunger has O-rings controlling flow through plunger restriction

Номер патента: FR2303213A1. Автор: . Владелец: Ewarts Ltd. Дата публикации: 1976-10-01.

Self aligning, self lubricating bearing - has O=ring between bearing and spherical housing for carbon bush

Номер патента: FR2500548A1. Автор: Pierre Raymond Tardieu. Владелец: Artus SAS. Дата публикации: 1982-08-27.

Gas valve with axially moving plunger - tapered end of plunger has O-rings controlling flow through plunger restriction

Номер патента: NL7502851A. Автор: . Владелец: Ewarts Limited. Дата публикации: 1976-09-14.

Gaseous liquid regulating device, has O-ring joint on which inner surface of tube is supported when high pressure in regulation chamber is higher than threshold value to completely or partially close gas passage across safety valve and tube

Номер патента: FR2891633A1. Автор: Francois Berte. Владелец: Francel SAS. Дата публикации: 2007-04-06.

O-ring sealing using triangular gland geometry

Номер патента: WO2024064487A1. Автор: John P. Blomberg,Cole J. BOHNERT. Владелец: PARKER-HANNIFIN CORPORATION. Дата публикации: 2024-03-28.

Temperature controlled purge valve with washer/O-ring seal stack

Номер патента: US09822886B2. Автор: Robert Dulin. Владелец: BAKER PRODUCTS Ltd. Дата публикации: 2017-11-21.

Watertight connector for absorption air-conditioning of e.g. motor vehicle, has lower o-ring seal arranged by being axially spaced from upper o-ring seal, and liquid filling closed annular chamber defined in cylindrical bore between seals

Номер патента: FR2924193A1. Автор: Lievre Armel Le. Владелец: PEUGEOT CITROEN AUTOMOBILES SA. Дата публикации: 2009-05-29.

Single support frame for double glazed greenhouses - has light metal extrusions with flanged ribs and base and O:ring seals between panes

Номер патента: FR2382181A1. Автор: . Владелец: Blaison Michel. Дата публикации: 1978-09-29.

Crankcase`s cavity closing device for motor vehicle, has flat seal with insert extending inside seal, and O-ring seal fixed inside plate and having two parts placed opposite to edge of flat seal and against crankcase side, respectively

Номер патента: FR2865425A1. Автор: Antoine Tuzi. Владелец: EURALTECH SA. Дата публикации: 2005-07-29.

System center/inner tube with o-ring seal

Номер патента: US20220056977A1. Автор: Klaus Schmidt,Christoph Steger. Владелец: THYSSENKRUPP BILSTEIN GMBH. Дата публикации: 2022-02-24.

Metal O-ring seal

Номер патента: US11754185B1. Автор: Jean-Francois Juliaa,Christophe Darles,Florent Ledrappier,Mark S. Whitlow,James S. Hicks. Владелец: Technetics Group LLC. Дата публикации: 2023-09-12.

PERMANENTLY ENGRAVING A MARKING ON A SEALING SURFACE OF AN O-RING SEAL

Номер патента: US20140001708A1. Автор: Ewing Daniel H.,Severson Dana B.,Banks Eric J.. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-02.

PERMANENTLY ENGRAVING A MARKING ON A SEALING SURFACE OF AN O-RING SEAL

Номер патента: US20150151483A1. Автор: Ewing Daniel H.,Severson Dana B.,Banks Eric J.. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-04.

TURBINE AND O-RING SEAL

Номер патента: RU2010153509A. Автор: Вишвоз Кумар ПАНДЕЙ,Прашант Прабхакар САНКОЛЛИ,Шон Аллен СМИТ,Джеймс Питер АНДЕРСОН,Шон Аллен СМИТ (US),Джеймс Питер АНДЕРСОН (US),Вишвоз Кумар ПАНДЕЙ (IN),Прашант Прабхакар САНКОЛЛИ (IN). Владелец: Дженерал Электрик Компани (US). Дата публикации: 2012-07-10.

CROSS BALL HINGE WITH O-RING SEAL FOR THE END OF THE CROSS BUSH

Номер патента: RU2008121972A. Автор: Маркус ФИШЕР,Эрик ХОЛМЗ,Франк ФЕРЕ,Маркус ФИШЕР (US),Эрик ХОЛМЗ (US),Франк ФЕРЕ (DE). Владелец: ЦФ Фридрихсхафен АГ (DE). Дата публикации: 2009-12-10.

O-RING SEAL FITTING WITH A FLAT SURFACE

Номер патента: RU2003131179A. Автор: Майкл А. КОТТРЕЛЛ,Рональд Д. ДИФРАНСИЯ,Майкл А. КОТТРЕЛЛ (US),Рональд Д. ДИФРАНСИЯ (US). Владелец: Дзе Гейтс Корпорейшн (Us). Дата публикации: 2005-01-10.

Water tap valve with reduced seal wear - has dual sliding pistons with O-ring seals mounted in perforated sleeve in body

Номер патента: FR2341801A1. Автор: . Владелец: PRANDELLI SpA EPB. Дата публикации: 1977-09-16.

Pneumatic valve for brake control device of vehicle, has trim valve unit with groove in which O-ring seal is fitted and cooperating with another trim valve unit, where seal is deformable between resting and deformed configurations

Номер патента: FR2855134A1. Автор: Jean Charles Maligne,Stephane Lacroix. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2004-11-26.

O-ring seal and fluid connection for a fluid transfer circuit comprising such a seal.

Номер патента: FR3127798A1. Автор: Jan Olofsson,Cécilia LOFGREN. Владелец: Akwel Sweden AB. Дата публикации: 2023-04-07.

Watertight battery compartment cover with latch actuated o-ring seal

Номер патента: CA2335238C. Автор: Michael W. Lawless,Peter A. Soberon,Robert A. Hermann. Владелец: Hospira Inc. Дата публикации: 2008-03-25.

Method of testing mounting position of O-ring seal on rotationally symmetrical component, involves mounting identifying position of seal as incorrect if applied force of test element is above and below threshold

Номер патента: DE102010051934A1. Автор: Volker Zipter,Dipl.-Ing. Klumpp Willi,Dipl.-Ing. Reichenbach Matthias,Dipl.-Ing. Schreiber Matthias,Dr. Zürn Michael. Владелец: DAIMLER AG. Дата публикации: 2012-05-24.

SLIDING O-RING SEAL WITH ROTATING CONTROL RING WITH EXACTLY DEFINED CLAMP

Номер патента: RU2012149915A. Автор: Томас КЕЛЛЕР,Мартин КИРХХОФ,Армин Лаксандер,Гюнтер Ледерер. Владелец: Карл Фройденберг Кг. Дата публикации: 2014-05-27.

Seal for pressurised container - has retaining ring locked between container and housing with O=ring seal

Номер патента: FR2488968A1. Автор: Kurt Herzog,Ingolf Grauel,Klaus-Jurgen Jenner. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 1982-02-26.

Flowswitch with O-ring seal

Номер патента: US20080258088A1. Автор: John C. Garvey. Владелец: ITT Manufacturing Enterprises LLC. Дата публикации: 2008-10-23.

One piece seat ring with o-ring seal

Номер патента: CA1110288A. Автор: Marvin G. Combes. Владелец: Grove Valve and Regulator Co. Дата публикации: 1981-10-06.

Headed fastener with precisely calculated groove under head to accomodate o'ring sealing member as a self-sealing assembly

Номер патента: US6283691B1. Автор: Larry J. Bogatz,Diana S. Bogatz. Владелец: B and B Hardware Inc. Дата публикации: 2001-09-04.

Plastics valve spindle with O:ring seal - has integral cover sleeve for protection of O:seal when valve is installed in its working position

Номер патента: DE2552813A1. Автор: Helmut Antlinger. Владелец: WITEG WISSENSCHAFTLICH TECH GL. Дата публикации: 1977-05-26.

Metallic snap-on seal ring for flanged O-ring seals for bypass air duct joints

Номер патента: RU2019117743A. Автор: Юрий Николаевич Левченко,Владимир Васильевич Обрезчиков,Владимир Тимофеевич Дрофа. Владелец: Акционерное Общество "Государственное Машиностроительное Конструкторское Бюро "Радуга" Имени А.Я. Березняка". Дата публикации: 2020-12-07.

Device for fitting of seal to screw to prevent oil seepage along the thread of the screw when used for the bolting up parts of an engine - includes recess defined between body edges and screw head,this recess having O-ring seal to prevent seepage of oil up towards screw threads

Номер патента: FR2693774A1. Автор: Desportes Dominique. Владелец: Automobiles Citroen SA. Дата публикации: 1994-01-21.

Hydraulic coupling with hollow metal o-ring seal

Номер патента: GB9405722D0. Автор: . Владелец: National Coupling Co Inc. Дата публикации: 1994-05-11.

Face type o-ring seal groove and method of producing same

Номер патента: CA971996A. Автор: Hiralal V. Patel,Arthur E. Liggett. Владелец: Weatherhead Co. Дата публикации: 1975-07-29.

Faucet valve with diagonal o-ring seal

Номер патента: GB2084300B. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1984-01-11.

O-RING SEALS FOR FLUID SENSING

Номер патента: US20210020528A1. Автор: MEIER Sebastian,LANGE Bernhard Peter. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-21.

SYSTEM CENTER/INNER TUBE WITH O-RING SEAL

Номер патента: US20220056977A1. Автор: Steger Christoph,Schmidt Klaus. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-24.

Pump Having Edge Mounted O-Ring Seal

Номер патента: US20180058464A1. Автор: Colby Douglas D.. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-01.

TEMPERATURE CONTROLLED PURGE VALVE WITH WASHER/O-RING SEAL STACK

Номер патента: US20160109029A1. Автор: Dulin Robert. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-21.

TEMPERATURE CONTROLLED PURGE VALVE WITH WASHER/O-RING SEAL STACK

Номер патента: US20170167625A1. Автор: Dulin Robert. Владелец: . Дата публикации: 2017-06-15.

SWELLABLE METAL FOR NON-ELASTOMERIC O-RINGS, SEAL STACKS, AND GASKETS

Номер патента: US20200240235A1. Автор: FRIPP Michael L.,Greci Stephen Michael,WALTON Zachary William. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-30.

O-RING SEAL SYSTEM FOR METAL, THERMOPLASTIC AND FIBER REINFORCED PLASTIC FLANGES

Номер патента: US20170363234A1. Автор: JR. WILLIAM F.,Britt. Владелец: . Дата публикации: 2017-12-21.

O-RING SEAL SYSTEM FOR METAL, THERMOPLASTIC AND FIBER REINFORCED PLASTIC FLANGES

Номер патента: US20200408340A1. Автор: Britt William F.. Владелец: . Дата публикации: 2020-12-31.

New o-ring seal, and delivery mechanism and portable infusion pump system related thereto

Номер патента: EP2932994A1. Автор: Sean Saint,Michael Michaud,Geoffrey A. Kruse,Mike Rosinko,Phil Lamb,Mark Williamson,William Trevaskis,David Brown,Dan KINCADE,John NADWORNY,Brian Bureson,Paul Diperna,Chris Dabrow,Jason Farnan,Stuart Sundem,Tom Ulrich,Erik Verhoef,Kathryn Reiger. Владелец: Tandem Diabetes Care Inc. Дата публикации: 2015-10-21.

O-ring seal

Номер патента: SU1620728A1. Автор: Женис Оразханович Кульсеитов,Валерий Яковлевич Штро,Яков Валерьевич Штро. Владелец: Усть-Каменогорский Строительно-Дорожный Институт. Дата публикации: 1991-01-15.

Plug-in pipe connector - has elastic O=ring seals accommodated in rib at each end

Номер патента: DE2758341A1. Автор: Kurt Kropf. Владелец: LAUTERBACHER BLECHHWAREN FABRI. Дата публикации: 1979-06-28.

Swellable metal for non-elastomeric o-rings, seal stacks, and gaskets

Номер патента: WO2019094044A1. Автор: Zachary W. Walton,Michael L. Fripp,Stephen M. GRECI. Владелец: Halliburton Energy Services, Inc.. Дата публикации: 2019-05-16.

Piston-pumping system having o-ring seal properties

Номер патента: US7284474B2. Автор: Johannes Geser,Jutta Eigemann. Владелец: BOEHRINGER INGELHEIM INTERNATIONAL GMBH. Дата публикации: 2007-10-23.

Dispensing head comprising nozzle insert with o-ring seal on a nozzle extension

Номер патента: EP1180064B1. Автор: Michael A. Reighard,David M. Selestak. Владелец: Nordson Corp. Дата публикации: 2003-05-14.

Pipe coupling for flexible metal pipes - has double O=ring seal to permit relative rotation between pipes

Номер патента: FR2361592A1. Автор: . Владелец: JONCHERE MANUFAC METALLURG. Дата публикации: 1978-03-10.

Installation system for central heating radiator - uses telescopic pipe joints and O-ring seals

Номер патента: FR2258602A1. Автор: . Владелец: FILLIOS JEAN PIERRE FR. Дата публикации: 1975-08-18.

Screwed connector sleeve with O=ring seal for fluid distribution between valves

Номер патента: FR2730549A1. Автор: Luigi Serio,Andre Conteau,Frederic Ciba. Владелец: CAHOUET. Дата публикации: 1996-08-14.

O-ring seal

Номер патента: FR82269E. Автор: . Владелец: Joint Francais SNC. Дата публикации: 1964-01-17.

Hot and cold water mixing tap - utilises water pressure to prevent pinching of O-ring seals

Номер патента: FR2245233A5. Автор: . Владелец: Watts Ltd H & D. Дата публикации: 1975-04-18.

Improvements to O-ring seals

Номер патента: FR1240659A. Автор: Jacques Bourgeois. Владелец: REDAM. Дата публикации: 1960-09-09.

T-junction valve for the food industry - has axially sliding cylindrical valve member with O-ring seals

Номер патента: FR2250929A1. Автор: . Владелец: DEFONTAINE FRERES FILS. Дата публикации: 1975-06-06.

Rolling O-ring sealing and guiding device

Номер патента: FR1166700A. Автор: Francois-Joseph Grillet. Владелец: . Дата публикации: 1958-11-13.

Spherical plug valve - has purge orifice in plug with discharge port and O=ring seals

Номер патента: FR2522385A1. Автор: Christianne Lenoir. Владелец: BELLES ONDES FORGES. Дата публикации: 1983-09-02.

Powder-type fire extinguisher - has cap with O=ring seal held in position by ribbed half rings

Номер патента: FR2406765A1. Автор: . Владелец: Desautel SAS. Дата публикации: 1979-05-18.

Direct Liquid Cooling With O-Ring Sealing

Номер патента: US20230037380A1. Автор: YUAN Li,Madhusudan K. Iyengar,Jorge Padilla,Connor Burgess,Padam Jain,Feini Zhang. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2023-02-09.

Pressure relief valve cartridge with piston O-ring seal

Номер патента: DE1750834A1. Автор: Walter Weirich. Владелец: Gewerkschaft Eisenhutte Westfalia GmbH. Дата публикации: 1971-04-29.

O-ring seal

Номер патента: FR1339675A. Автор: Robert Herry. Владелец: Joint Francais SNC. Дата публикации: 1963-10-11.

Tap for domestic water supply - has brass body housing plug with O-ring seal and plastic cover

Номер патента: FR2328150A1. Автор: . Владелец: METAALWARENFABRIEK VENLO BV. Дата публикации: 1977-05-13.

O-ring seal

Номер патента: FR1267218A. Автор: Jean Benoit. Владелец: Joint Francais SNC. Дата публикации: 1961-07-21.

Compression fitting for assembling PVC pipes, has protection ring interpolated between clamping ring and o-ring seal, and having groove with detent unit complimentary to detent unit set at latter ring in contact with former ring

Номер патента: FR2852659A1. Автор: Henri Drogue,Martin Goibier,Salvatore Augeri. Владелец: GIRPI. Дата публикации: 2004-09-24.

Valve with O-ring seal

Номер патента: DE1247788B. Автор: Dipl-Phys Guenther Ernst,Dipl-Ing Heinz Dreier. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1967-08-17.

Plastic case with connection and o-ring seal

Номер патента: US3530724A. Автор: Philip W Harland,Ralph D Waite. Владелец: Ametek Inc. Дата публикации: 1970-09-29.

Captive O-Ring Seal, and Method of Making Same

Номер патента: KR960702084A. Автор: 히랄랄 브이. 파텔,에드워드 엠. 페르난데스. Владелец: 제임스 에이. 베이커. Дата публикации: 1996-03-28.

Method for installing O-ring seals

Номер патента: US5062194A. Автор: Joseph F. Mercurio,Salvador Cantio. Владелец: Motors Liquidation Co. Дата публикации: 1991-11-05.

Variable angle fluid jet delivery pipe - is typically for water jet for fire extinguisher and has rotatable bearing and O-ring seal for jet pipe

Номер патента: DE2647564A1. Автор: Abram Jacobus Holleman. Владелец: Individual. Дата публикации: 1977-10-20.

Ring or O-ring seal, for low and medium pressures at metal/plastics pipes or pipe flanges, has outer layers of unsintered and expanded polytetrafluoroethlyene and an inner layer between them of sintered polytetrafluoroethlyene

Номер патента: DE202005019572U1. Автор: . Владелец: KWO DICHTUNGSTECHNIK-GMBH. Дата публикации: 2006-03-23.

Portable O-ring seal (annular gasket) holder for sub-aqua (SCUBA) diving in a self-contained suit

Номер патента: FR2686056A1. Автор: Heraud Daniel. Владелец: GIRAU GUYARD. Дата публикации: 1993-07-16.

One-piece gate valve seat ring with o-ring seal

Номер патента: GB2039001A. Автор: . Владелец: Grove Valve and Regulator Co. Дата публикации: 1980-07-30.

O-ring seal flat face fitting

Номер патента: US6619327B2. Автор: Michael A. Cottrell,Ronald D. DiFrancia. Владелец: Gates Corp. Дата публикации: 2003-09-16.

O-ring seals automatic assembling device

Номер патента: CN107363529B. Автор: 朱伟,武建伟,李圣荣,许方富,郑宣. Владелец: Taizhou Yun Cheng Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2019-03-05.

O-ring sealed bakable trays

Номер патента: WO2001096200A1. Автор: Donald L. Lambert. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2001-12-20.

Fluid heat exchanger has a stack of plates forming flow paths and having inset O ring seals

Номер патента: DE102006009791A1. Автор: Matthias Dr.-Ing. Reitz,Knut Dipl.-Ing. Böminghaus. Владелец: Schnabel & Co KG Dr GmbH. Дата публикации: 2007-09-06.

INFLATABLE METAL FOR O-RINGS, SEALING BATTERIES AND NON-ELASTOMERIC RINGS

Номер патента: FR3073549A1. Автор: Zachary W. Walton,Michael L. Fripp,Stephen M. GRECI. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2019-05-17.

O-ring seal flat face fitting

Номер патента: CZ20032565A3. Автор: Michael A. Cottrell,Ronald D. DiFrancia. Владелец: THE GATES CORPORATION. Дата публикации: 2004-03-17.

Maneuvering and carrying device for O-ring seals in a reactor pressure vessel with a cap

Номер патента: AT312751B. Автор: . Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1974-01-25.

A kind of O-ring seal

Номер патента: CN108799494A. Автор: 徐英木. Владелец: Ningguo Sino British Rubber Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-13.

Swellable metal for non-elastomeric O-rings, seal stacks, and gaskets

Номер патента: AU2017439376A1. Автор: Zachary W. Walton,Michael L. Fripp,Stephen M. GRECI. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2020-01-30.

Sample cooler for high temperature and pressure fluid flows has cover plate with spring and O ring seals compressed by tension rod

Номер патента: DE20317194U1. Автор: . Владелец: Heinrich Wosthoff Messtechnik GmbH. Дата публикации: 2004-02-12.

Flowswitch with o-ring seal

Номер патента: WO2008130765A2. Автор: John C. Garvey. Владелец: ITT Manufacturing Enterprises, Inc.. Дата публикации: 2008-10-30.

O-RING SEAL FOR A GEARED MOTOR

Номер патента: DE4201373A1. Автор: Hiroshi Kitamura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1992-08-06.

Tap jumper with o-ring seal

Номер патента: NZ199032A. Автор: A M Bennett. Владелец: Zyzeba Bennett Ltd. Дата публикации: 1985-02-28.

Gate valve having O-ring seal

Номер патента: US3937442A. Автор: Charles H. Martin,Steven V. Brewer. Владелец: Dillingham Corp. Дата публикации: 1976-02-10.

Mold shot riser element with O-ring sealing

Номер патента: AU727773B2. Автор: Richard Gady. Владелец: Perfection Corp. Дата публикации: 2000-12-21.

Pressure actuated o-ring seal

Номер патента: GB8824388D0. Автор: . Владелец: General Connectors Corp. Дата публикации: 1988-11-23.

Swellable metal for non-elastomeric O-rings, seal stacks, and gaskets

Номер патента: AU2017439376B2. Автор: Zachary W. Walton,Michael L. Fripp,Stephen M. GRECI. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2023-06-01.

O-ring seal slightly wider than receiving recess

Номер патента: DE19848563A1. Автор: Yutaka Masuda,Shigemi Hashizawa. Владелец: Yazaki Corp. Дата публикации: 1999-06-02.

Swellable metal for non-elastomeric o-rings, seal stacks, and gaskets

Номер патента: CA3070929A1. Автор: Zachary W. Walton,Michael L. Fripp,Stephen M. GRECI. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2019-05-16.

Fluid valve port optimized for robustness with standard O-ring seal

Номер патента: US8794264B2. Автор: Pablo Valencia, Jr.,Brian K. Bartnick,Corry W Johnson,Bill F Tompkins. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2014-08-05.

Watertight battery compartment cover with latch actuated o-ring seal

Номер патента: CA2335238A1. Автор: Michael W. Lawless,Peter A. Soberon,Robert A. Hermann. Владелец: Robert A. Hermann. Дата публикации: 1999-12-23.

Seating for `O'-ring seal between piston and cylinder in hydraulic circuit e.g. brake circuits in motor vehicles or aircrafts

Номер патента: FR2735202A1. Автор: Alain Bourdillat. Владелец: Joint Francais SNC. Дата публикации: 1996-12-13.

A kind of O-ring seals fast design method based on Finite Element Simulation Analysis

Номер патента: CN107292056A. Автор: 刘鹏,高金龙,宋文杰,胡军锋,李新娟,蒋庆林,贺江,温京亚. Владелец: Oceanographic Instrumentation Research Institute Shandong Academy of Sciences. Дата публикации: 2017-10-24.

Scale removing tool for use by dentist has handle connected to tube with swivel joint, flexibly supported in mounting with three O-ring seals

Номер патента: DE10334467A1. Автор: Gerald Helfenbein,Sepp Spitzauer,Gunther Teufelsberger,Roman Gratzer,Walter Schmied,Gregor Rehrl. Владелец: W&H DENTALWERK BUERMOOS GMBH. Дата публикации: 2004-03-04.

Moulding process, fused salt core model and the mold of hollow O-ring seal fused salt core model

Номер патента: CN108340523A. Автор: 林青,王冬明,范德波,程石之. Владелец: Chengdu Shengbang Seals Co ltd. Дата публикации: 2018-07-31.

DRILLING HOPPER COMPRISING A BASIC BLOCKING RING WITH O-RING SEAL RING

Номер патента: FR2510652A1. Автор: Edward M Galle,Frank C Ratcliff. Владелец: Hughes Tool Co. Дата публикации: 1983-02-04.

Direct liquid cooling with O-ring sealing

Номер патента: US11488890B2. Автор: YUAN Li,Madhusudan K. Iyengar,Jorge Padilla,Connor Burgess,Padam Jain,Feini Zhang. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2022-11-01.

Glow plug with O-ring seal

Номер патента: US7329836B2. Автор: Hiroyuki Suzuki. Владелец: NGK Spark Plug Co Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Pressure fluid-carrying valve arrangement with O-ring seal

Номер патента: DE102017010041A1. Автор: Dániel Koleszár,Dávid Jakab. Владелец: Knorr Bremse Systeme fuer Nutzfahrzeuge GmbH. Дата публикации: 2019-05-02.

Piston O-ring seal with reduced stiction

Номер патента: US11512780B2. Автор: Roger J. Gregoire. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-29.

Boot with O-ring seal

Номер патента: US20040164500A1. Автор: Richard Devers. Владелец: Delphi Technologies Inc. Дата публикации: 2004-08-26.

Cylindrical, radial flow filter cartridge, e.g. for diesel engine fuel, includes end closure discs and collars forming internal groove for O-ring seal

Номер патента: DE202004006545U1. Автор: . Владелец: Mann and Hummel GmbH. Дата публикации: 2004-08-19.

Rotating union for water sprinkler has double O-ring seal

Номер патента: DE20202258U1. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-06-18.

Temperature controlled purge valve with washer/O-ring seal stack

Номер патента: US10107408B2. Автор: Robert Dulin. Владелец: BAKER PRODUCTS Ltd. Дата публикации: 2018-10-23.

Hydraulic coupling with hollow metal o-ring seal

Номер патента: GB2277357B. Автор: Iii Robert E Smith. Владелец: National Coupling Co Inc. Дата публикации: 1996-04-24.

Conical o-ring seal

Номер патента: GB8400607D0. Автор: . Владелец: US Department of Energy. Дата публикации: 1984-02-15.

Rotary "o" ring seal for roll-necks

Номер патента: US2571035A. Автор: Shirrel A Hastings. Владелец: Crane Packing Co. Дата публикации: 1951-10-09.

Photovoltaic device comprising a metal halide perovskite and a passivating agent

Номер патента: US11799039B2. Автор: Antonio Abate,Henry J. Snaith,Nakita K. Noel. Владелец: Oxford University Innovation Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Lead-free metallic halide memristor and electronic element comprising the same

Номер патента: US12082514B2. Автор: Hao-Wu Lin,Cheng-Yueh CHEN,Wei-Kai Cheng,Tsung-Kai Su. Владелец: National Tsing Hua University NTHU. Дата публикации: 2024-09-03.

Nanostructure-containing organic-metal halide perovskites

Номер патента: US10586657B2. Автор: Kai Zhu,Mengjin Yang,Rachelle Rosemarie IHLY,Jeffrey Lee Blackburn,Anne-Marie DOWGIALLO. Владелец: Alliance for Sustainable Energy LLC. Дата публикации: 2020-03-10.

Metal halide lamp

Номер патента: US20060226784A1. Автор: Andreas Genz. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 2006-10-12.

Metal halide lamp and luminaire using the same

Номер патента: EP1704580A2. Автор: Hiroshi Nohara,Atsushi Utsubo,Shunsuke Kakisaka,Yukiya Kanazawa,Yoshiharu Nishiura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-09-27.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2002062593A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2002-08-15.

Concurrent cationic and anionic metal halide perovskite defect passivation method and device

Номер патента: WO2022113038A1. Автор: Stefaan DE WOLF,Furkan Halis ISIKGOR. Владелец: KING ABDULLAH UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2022-06-02.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1397260A1. Автор: Ram Sabnis,Douglas J. Guerrero. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-03-17.

Metal halide lamp and luminaire using the same

Номер патента: WO2005062342A2. Автор: Hiroshi Nohara,Atsushi Utsubo,Shunsuke Kakisaka,Yukiya Kanazawa,Yoshiharu Nishiura. Владелец: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.. Дата публикации: 2005-07-07.

Metal Halide Lamp, Metal Halide Lamp Lighting Device, and Headlight

Номер патента: US20080278078A1. Автор: Kozo Uemura,Hiromichi Kawashima,Keisuke Nakazato. Владелец: Harison Toshiba Lighting Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Metal halide lamp and metal halide lamp lighting device

Номер патента: US20050134182A1. Автор: Mikio Matsuda,Toshihiko Ishigami,Toshio Hiruta. Владелец: Harison Toshiba Lighting Corp. Дата публикации: 2005-06-23.

Concurrent cationic and anionic metal halide perovskite defect passivation method and device

Номер патента: US20230403870A1. Автор: Stefaan DE WOLF,Furkan Halis ISIKGOR. Владелец: King Abdullah University of Science and Technology KAUST. Дата публикации: 2023-12-14.

Dimmable ceramic metal halide lamp

Номер патента: WO2011121492A3. Автор: Joris Hubertus Antonius Hagelaar,Piet Antonis,Marinus Cornelis Raas,Anna Wilhelmina Maria Wondergem-De Best,Peter Arend Seinen,Wilhelmus Johannes Jacobus Welters. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2011-12-29.

Solid electrolyte containing composite metal halide containing magnesium, alkaline-earth metal, gallium, and halogen, and secondary battery including the same

Номер патента: US20190296391A1. Автор: Norihito Fujinoki. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Metal halide battery, acomposition, energy storage device, and related processes

Номер патента: WO2012087495A1. Автор: Michael Alan Vallance,Richard Louis Hart,David Charles Bogdan Jr.. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2012-06-28.

Metal halide lamps with fast run-up and methods of operating the same

Номер патента: WO2013006227A1. Автор: Nancy H. Chen,James A. Avallon,Edgar G. ESTUPINAN. Владелец: OSRAM SYLVANIA INC.. Дата публикации: 2013-01-10.

Anode-free metal halide battery

Номер патента: WO2023155639A1. Автор: Young-Hye Na,Yumi Kim,Anthony Bock Fong. Владелец: Ibm (China) Co., Limited. Дата публикации: 2023-08-24.

Metal halide high pressure discharge lamp

Номер патента: US20060273727A1. Автор: Hans-Werner Gölling. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 2006-12-07.

Mercury-free metal halide lamp

Номер патента: US20020021067A1. Автор: Masato Yoshida,Kiyoshi Takahashi,Yuriko Kaneko,Hideaki Kiryu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-21.

Multi-zone plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus and methods for operating the same

Номер патента: US20210351058A1. Автор: Shigehiro Fujino,Shoichi Murakami,Yusuke Osawa,Masaaki Higashitani,Syo FUKATA,Shigeru NAKATSUKA. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-11-11.

Porous absorbent for sodium metal halide cells

Номер патента: US09692045B2. Автор: Robert Christie Galloway,Edward James Balaschak,Raymond R. COLE,Manikandan Ramani,Jonathan Adam Bielik. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2017-06-27.

Electrical/electronic flush-mounted installation unit of house and building control or front communication technology

Номер патента: RU2597238C2. Автор: Манфред ЭВЕРС,Манфред ЛАНГЕ,Рихард ЛЕРКЕ,Штефан КОХАУПТ,Ортвин ШРАГЕ. Владелец: Абб Аг. Дата публикации: 2016-09-10.

Ceramic metal halide lamp

Номер патента: US20130200787A1. Автор: Yasushi SASAI. Владелец: Iwasaki Denki KK. Дата публикации: 2013-08-08.

Rechargeable metal halide battery with intercalation anode

Номер патента: WO2022013634A1. Автор: Jangwoo Kim,Andy Theodora Tek. Владелец: Ibm Israel Science And Technology Ltd.. Дата публикации: 2022-01-20.

Mercury-free ceramic metal halide lamp with improved lumen run-up

Номер патента: US20120161623A1. Автор: Istvan Maros,Tamas Panyik,Istvan Csanyi,József Gábeli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-28.

Metal halide lamp

Номер патента: EP2115766A2. Автор: Peter J. Vrugt,Changlong Ning. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2009-11-11.

Metal halide lamp and manufacturing method thereof

Номер патента: US10861691B2. Автор: Changzheng Zhang,Niangen FENG. Владелец: Junwa Lighting Technology Corp. Дата публикации: 2020-12-08.

Rechargeable metal halide battery with intercalation anode

Номер патента: GB2612510A. Автор: Kim Jangwoo,Theodora Tek Andy. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-05-03.

Saw for cutting silicon into seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2731770A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2014-05-21.

Time relay used for metal halide lamp loads

Номер патента: TN2016000071A1. Автор: MIN Su,Xuefeng Yu,Guangshu Zheng. Владелец: Zhejiang Chint Electrics Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-05.

Mercury-free ceramic metal halide lamp with improved lumen run-up

Номер патента: EP2659502A1. Автор: Istvan Maros,Tamas Panyik,Istvan Csanyi,József Gábeli. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2013-11-06.

High density plasma chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020030033A1. Автор: Water Lur,Shih-Wei Sun,Chih-Chien Liu,Ta-Shan Tseng,W.B. Shieh,J.Y. Wu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-03-14.

Mercury-free metal halide lamp, with contents and electric power control depending on resistance properties

Номер патента: US20030057876A1. Автор: Masaaki Muto. Владелец: Stanley Electric Co Ltd. Дата публикации: 2003-03-27.

Solid electrolyte containing composite metal halide containing magnesium, gallium, indium, and halogen, and secondary battery including the same

Номер патента: US20190296392A1. Автор: Norihito Fujinoki. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-09-26.

Organo-metal halide perovskites films and methods of making the same

Номер патента: US20180151813A1. Автор: Yuanyuan Zhou,Kai Zhu,Mengjin Yang,Nitin Prabhakar PADTURE. Владелец: Brown University - Technology Ventures Office. Дата публикации: 2018-05-31.

Organo-metal halide perovskites films and methods of making the same

Номер патента: EP3298630A1. Автор: Yuanyuan Zhou,Kai Zhu,Mengjin Yang,Nitin P. Padture. Владелец: Brown University - Technology Ventures Office. Дата публикации: 2018-03-28.

Metal halide lamp and luminaire

Номер патента: EP1709667A2. Автор: Shunsuke Matsuhita Elect.Ind.Co.Ltd KAKISAKA,Hiroshi Matsushita Elect.Indust.Co.Ltd NOHARA,Atsushi Matsushita Elect. Indust. Co.Ltd UTSUBO,Matshushita Elect.Indust. Co.Ltd KANAZAWA. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2006-10-11.

Metal halide lamp and luminaire

Номер патента: US20070145898A1. Автор: Hiroshi Nohara,Atsushi Utsubo,Shunsuke Kakisaka,Yukiya Kanazawa. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-06-28.

Metal halide discharge lamp with defined shank loading factor

Номер патента: WO1992012532A1. Автор: Daniel C. Briggs,Brian J. Thomas,Michael Advenko. Владелец: WELCH ALLYN, INC.. Дата публикации: 1992-07-23.

Thallium-free metal halide discharge lamp

Номер патента: EP2428978A3. Автор: Lei Deng. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2012-09-19.

Metal halide reflector lamp with beam color homogenizer

Номер патента: WO2009042047A1. Автор: Walter P. Lapatovich. Владелец: OSRAM GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG. Дата публикации: 2009-04-02.

Metal halide reflector lamp with beam color homogenizer

Номер патента: EP2191490A1. Автор: Walter P. Lapatovich. Владелец: OSRAM GMBH. Дата публикации: 2010-06-02.

Metal halide lamp

Номер патента: US20100164379A1. Автор: Theodorus Gerardus Marinus Maria Kappen,Sigrid Maria Roman Gelderland. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2010-07-01.

Metal halide lamp

Номер патента: US20110260610A1. Автор: Theodorus Gerardus Marinus Maria Kappen,Sigrid Maria Roman Gelderland. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2011-10-27.

Metal halide lamp

Номер патента: WO2008020406A3. Автор: Sigrid M R Gelderland,Theodorus G M M Kappen. Владелец: Theodorus G M M Kappen. Дата публикации: 2008-10-30.

Metal halide lamp

Номер патента: US20030178941A1. Автор: Yasutaka Horibe,Shunsuke Kakisaka,Yoshiharu Nishiura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2003-09-25.

Metal Halide Lamp

Номер патента: US20090315462A1. Автор: Koichi Naitoh,Akiyoshi Maehara. Владелец: Iwasaki Denki KK. Дата публикации: 2009-12-24.

Double-ended ceramic metal halide lamp

Номер патента: US09875886B1. Автор: Robert Su. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-01-23.

Plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon nitride barrier layer for high density plasma chemical vapor deposited (HDP-CVD) dielectric layer

Номер патента: US6127238A. Автор: Wei Lu,Yih-Shung Lin,Jia Zhen Zheng,Marvin De-Dui Liao,Kho Liep Chok. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Metal halide lamp

Номер патента: US20110260613A1. Автор: Osamu Shirakawa,Makoto Deguchi. Владелец: Harison Toshiba Lighting Corp. Дата публикации: 2011-10-27.

Xenon-metal halide lamp particularly suited for automotive applications

Номер патента: CA1301238C. Автор: John Martin Davenport,Richard Lowell Hansler,Rolf Sverre Bergman. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-05-19.

Production of aqueous metal hydroxide solutions of low metal halide concentration

Номер патента: CA1056735A. Автор: Jeffrey D. Eng,Cyril J. Harke. Владелец: Hooker Chemicals and Plastics Corp. Дата публикации: 1979-06-19.

Xenon-metal halide lamp particularly suited for automotive applications

Номер патента: US5221876A. Автор: John M. Davenport,Richard L. Hansler,Rolf S. Bergman. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-06-22.

Metal halide lamp

Номер патента: CA2549231A1. Автор: Teja Lehmann. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 2006-12-02.

Metal halide discharge lamp

Номер патента: US5220244A. Автор: Masao Niijima,Shinya Suzuki,Kyoichi Maseki,Akira Urushihara,Kazushi Tominaga. Владелец: Iwasaki Denki KK. Дата публикации: 1993-06-15.

Nanostructure-containing organic-metal halide perovskites

Номер патента: WO2017095886A1. Автор: Kai Zhu,Mengjin Yang,Jeffrey L. BLACKBURN,Anne-Marie DOWGIALLO,Rachelle R. IHLY. Владелец: ALLIANCE FOR SUSTAINABLE ENERGY, LLC. Дата публикации: 2017-06-08.

Nanostructure-containing organic-metal halide perovskites

Номер патента: US20180374651A1. Автор: Kai Zhu,Mengjin Yang,Rachelle Rosemarie IHLY,Jeffrey Lee Blackburn,Anne-Marie DOWGIALLO. Владелец: Alliance for Sustainable Energy LLC. Дата публикации: 2018-12-27.

Nanostructure-containing organic-metal halide perovskites

Номер патента: EP3384540A1. Автор: Kai Zhu,Mengjin Yang,Jeffrey L. BLACKBURN,Anne-Marie DOWGIALLO,Rachelle R. IHLY. Владелец: Alliance for Sustainable Energy LLC. Дата публикации: 2018-10-10.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A3. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2004-02-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A4. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2009-01-07.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: EP1493061A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science Inc. Дата публикации: 2005-01-05.

Polymeric antireflective coatings deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: WO2003087233A2. Автор: Wu-Sheng Shih,Ram W. Sabnis. Владелец: Brewer Science, Inc.. Дата публикации: 2003-10-23.

Quartz metal halide lamps with high lumen output

Номер патента: US20020079794A1. Автор: Junming Tu,Kevin Dombrowski. Владелец: Philips Electronics North America Corp. Дата публикации: 2002-06-27.

Gas generator

Номер патента: US20160264092A1. Автор: Masayuki Yamazaki,Kenji Fukumoto,Tomoharu Kobayashi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2016-09-15.

Mercury - free metal halide lamp

Номер патента: RU2032241C1. Автор: И.Ф. Минаев. Владелец: Акционерное общество "Лисма" - завод специальных источников света и электровакуумного стекла. Дата публикации: 1995-03-27.

Ceramic burner for ceramic metal halide lamp

Номер патента: RU2451361C2. Автор: Йозефус К. М. ХЕНДРИКС,Франсискус Й. Г. ХАККЕНС,Дюрандус К. ДЕЙКЕН,НЕЙС Адрианус Г. М. ДЕ,Александер Й. А. К. ДОРРЕСТЕЙН,Маринус К. РАС,Петер Й. ВРУГТ,Маринус К. РАС (NL),Франсискус Й. Г. ХАККЕНС (NL),Дюрандус К. ДЕЙКЕН (NL),НЕЙС Адрианус Г. М. ДЕ (NL),Александер Й. А. К. ДОРРЕСТЕЙН (NL),Йозефус К. М. ХЕНДРИКС (NL),Петер Й. ВРУГТ (NL). Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС ЭЛЕКТРОНИКС Н.В.. Дата публикации: 2012-05-20.

Small metal halide lamp with sodium and scandium halides

Номер патента: CA1202664A. Автор: Yasuki Mori,Akihiro Kamiya. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1986-04-01.

Method of carrying out plasma-enhanced chemical vapor deposition

Номер патента: US6432493B1. Автор: Tetsuya Taguwa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-08-13.

Organic polymeric antireflective coatings deposited by chemical vapor deposition

Номер патента: CA2400157A1. Автор: Ram W. Sabnis,Terry Brewer,Douglas Guerrero,Mary J. Spencer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-08-30.

Metal halide discharge lamp with phosphorous getter and method of manufacturing same

Номер патента: CA1088615A. Автор: Thomas S. Ainsworth. Владелец: Thorn Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1980-10-28.

Metal halide lamp

Номер патента: US5192891A. Автор: Atsushi Matsuura,Hisanori Sano,Shinji Inukai. Владелец: Toshiba Lighting and Technology Corp. Дата публикации: 1993-03-09.

Discharge lamps containing an inert gas and a metal halid

Номер патента: GB1502612A. Автор: . Владелец: Thorn Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1978-03-01.

Pulsed metal halide arc discharge light source

Номер патента: US4874988A. Автор: George J. English,Harold L. Rothwell, Jr.,Donald F. Garrity, Jr.. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1989-10-17.

Indium halide and rare earth metal halide lamp

Номер патента: US5965984A. Автор: Kiyoshi Takahashi,Makoto Horiuchi,Mamoru Takeda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-12.

Mercury-free metal halide lamp

Номер патента: US6069456A. Автор: Dieter Lang,Klaus Stockwald,Dietrich Fromm. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2000-05-30.

Methods for stabilization of self-assembled monolayers (sams) using sequentially pulsed initiated chemical vapor deposition (spicvd)

Номер патента: WO2024019841A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-01-25.

Metal halide cathode with enriched conductive additive

Номер патента: US20240021836A1. Автор: Young-Hye Na,Jangwoo Kim,Maxwell Giammona,Anthony Fong,Tobias Glossmann,Eunseok Lee. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Metal halide cathode with enriched conductive additive

Номер патента: US11824199B2. Автор: Young-Hye Na,Jangwoo Kim,Maxwell Giammona,Anthony Fong,Tobias Glossmann,Eunseok Lee. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Metal halide lamp with stabilized lamp lighting

Номер патента: US8653731B2. Автор: Yasuhisa Matsumoto. Владелец: Iwasaki Denki KK. Дата публикации: 2014-02-18.

Influence of indium iodide on ceramic metal halide lamp performance

Номер патента: WO2013074229A1. Автор: Raghu Ramaiah,Zoltan Toth. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2013-05-23.

Anode-free metal halide battery

Номер патента: US20230268508A1. Автор: Young-Hye Na,Yumi Kim,Anthony Bock Fong. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-08-24.

Metal halide lamp and metal halide lamp lighting device for near-infrared imaging

Номер патента: EP1548798A3. Автор: Mikio Matsuda,Toshihiko Ishigami,Toshio Hiruta. Владелец: Harison Toshiba Lighting Corp. Дата публикации: 2006-09-13.

Methods For Stabilization Of Self-Assembled Monolayers (SAMs) Using Sequentially Pulsed Initiated Chemical Vapor Deposition (spiCVD)

Номер патента: US20240017290A1. Автор: Jacques Faguet,Omid Zandi,Ornella Sathoud. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Ceramic metal halide lamp

Номер патента: EP1844488A1. Автор: Dennis S. Bradley,Joshua I. Rintamakl. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2007-10-17.

Ceramic gas discharge metal halide lamp with high color temperature

Номер патента: EP2387792A1. Автор: Jay Palmer,Alexander Dunaevsky. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2011-11-23.

Metal halide lamp

Номер патента: US20130285542A1. Автор: Yasuhisa Matsumoto. Владелец: Iwasaki Denki KK. Дата публикации: 2013-10-31.

Rechargeable metal halide battery

Номер патента: US20210036323A1. Автор: Robert D. Allen,Young-Hye Na,Jangwoo Kim. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-02-04.

Metal halide lamp with arc tube secured to frame by clips passing through protective sleeve

Номер патента: EP1131844A1. Автор: James Gensert,Kevin S. Dombrowski,Kevin D. Provagna,Richard Intihar. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-09-12.

Miniature ceramic metal halide lamp having thin leg

Номер патента: EP2238607A1. Автор: Lei Deng,Gary R. Allen. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2010-10-13.

Ceramic metal halide lamp

Номер патента: WO2002091431A2. Автор: Andrew D. Jackson,John C. Alderman,Shiming Wu,Ray G. Gibson, Iii,Sarah S. Carleton,Louis N. Kowalczyk,Thomas Steere,Jay J. Palmer,John E. Conrad, Sr.,Kent L. Collins. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2002-11-14.

Mercury free metal halide lamp

Номер патента: EP1550147A1. Автор: Christoffel Wijenberg,Josephus C. M. Hendricx,Matthias Born. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2005-07-06.

Rechargeable metal halide battery

Номер патента: WO2021019320A1. Автор: Robert Allen,Young-Hye Na,Jangwoo Kim. Владелец: Ibm (China) Investment Company Limited. Дата публикации: 2021-02-04.

Metal halide lamp fabrication

Номер патента: US20020153028A1. Автор: Raghu Ramaiah,Bernard Bewlay. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2002-10-24.

Gas generator and method for manufacturing gas generator

Номер патента: US20210291779A1. Автор: Tomoharu Kobayashi,Katsuhiro Imoto. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2021-09-23.

Verfahren zur herstellung eines metall-halid perowskit solarmoduls

Номер патента: EP4226432A1. Автор: Christof Schultz,Markus Fenske,Janardan Dagar,Bert Stegemann. Владелец: Helmholtz Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH. Дата публикации: 2023-08-16.

Manufacturing method of housing and apparatus having the same

Номер патента: US20240342997A1. Автор: Takuma Endo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Metal halide scintillators with reduced hygroscopicity and method of making the same

Номер патента: US09966162B2. Автор: Matthias J. Schmand,Mark S. Andreaco,A. Andrew Carey,Piotr Szupryczynski. Владелец: Siemens Medical Solutions USA Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Ceramic metal halide lamp

Номер патента: US09824878B1. Автор: Robert Su. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-11-21.

Method of producing photoluminescence of individual color centers in vapor-deposited diamond

Номер патента: RU2655026C1. Автор: Владимир Алексеевич Кукушкин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики Российской академии наук" (ИПФ РАН). Дата публикации: 2018-05-23.

Method of determination of transient thermal resistance of crystal-housing and thermal resistance of crystal-housing in the state of heat equilibrium of transistors with field control

Номер патента: RU2685769C1. Автор: Николай Николаевич Беспалов,Владислав Геннадьевич Мясин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Мордовский государственный университет им. Н.П. Огарёва". Дата публикации: 2019-04-23.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2692092C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2019-06-21.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2717333C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2020-03-23.

Lasing dye sensor for chemical vapors

Номер патента: US5185131A. Автор: Terence W. Barrett,John F. Giuliani. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1993-02-09.

Electric lamp and base therefor

Номер патента: GB1414411A. Автор: . Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1975-11-19.

Metal-halide high-pressure discharge lamp

Номер патента: CA2156472A1. Автор: Hans Eisemann,Andreas Genz,Andreas Hohlfeld. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 1996-03-15.

Metal halide lamp chemistries with magnesium and indium

Номер патента: US7256546B2. Автор: Lori R. Brock,Joseph A. Baglio,Joanne Browne. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2007-08-14.

Metal halide lamps and method of manufacture

Номер патента: US5924787A. Автор: Juris Sulcs,John McEllen. Владелец: Advanced Lighting Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Electrostatic microelectromechanical generator for chemical current source charging

Номер патента: RU2702981C1. Автор: Валерий Павлович Драгунов,Родион Евгеньевич Синицкий,Дмитрий Иванович Остертак. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Новосибирский Государственный Технический Университет". Дата публикации: 2019-10-14.

Metal halide lamp having heat dam portion

Номер патента: US5614787A. Автор: Naoki Masuda,Hirohisa Ota,Shigeki Ishihara,Kouji Kawai,Osamu Yogi. Владелец: Hamamatsu Photonics KK. Дата публикации: 1997-03-25.

Metal halide lamp

Номер патента: US5021703A. Автор: William M. Keeffe,Edmund M. Passmore. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1991-06-04.

High-power, high-pressure metal halide discharge lamp with improved spectral light distribution

Номер патента: US4647814A. Автор: Bernd Lewandowski,Walter Kiele,Alexander Dobrusskin. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 1987-03-03.

Metal halide lamp using loop electrodes

Номер патента: US3937996A. Автор: Daniel M. Cap. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1976-02-10.

Metal-halide discharge lamp with ceramic discharge vessel, and method of its manufacture

Номер патента: US5532552A. Автор: Juergen Heider,Peter Wahrendorff,Stefan Juengst. Владелец: Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH. Дата публикации: 1996-07-02.

Chemical vapor deposition process

Номер патента: US20020058413A1. Автор: Anand Srinivasan,Raj Narasimhan,Sujit Sharon. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Metal halide lamp having reflective coating on the arc tube

Номер патента: US5003214A. Автор: James Morris,William M. Keeffe,Zeya K. Krasko. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1991-03-26.

Electrochemical sodium metal halide battery, and method for producing same

Номер патента: AU2020415178A1. Автор: Martin Hofacker. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2022-08-11.

Long life metal halide lamp and an illumination optical apparatus and image display system using same

Номер патента: US5512800A. Автор: Masayuki Wakamiya,Nobuyoshi Takeuchi,Hideaki Omura,Munehiro Tabata. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-04-30.

Metal halide arc discharge lamp having improved color uniformity

Номер патента: CA1149007A. Автор: William M. Keeffe,W. Calvin Gungle,Orville R. Burr. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1983-06-28.

Producing coated textiles using photo-initiated chemical vapor deposition

Номер патента: CA3217114A1. Автор: Adrian J. BEACH,Sayantani NANDY,Trisha Lionel Andrew. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-11-03.

Ceramic metal halide discharge lamp with oxygen content and metallic component

Номер патента: WO2013012672A2. Автор: Deeder Aurongzeb,Emily Lauren MARTIS. Владелец: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Дата публикации: 2013-01-24.

Ceramic metal halide discharge lamp with oxygen content and metallic component

Номер патента: US20130020936A1. Автор: Deeder Aurongzeb,Emily Lauren MARTIS. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2013-01-24.

Porous silicon anode for rechargeable metal halide battery

Номер патента: US20210151743A1. Автор: John Collins,Robert David Allen,Devendra K. Sadana,Young-Hye Na,Joel P. de Souza,Jangwoo Kim. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Porous silicon anode for rechargeable metal halide battery

Номер патента: GB2604555A. Автор: Collins John,Na Young-Hye,Sadana Devendra,Kim Jangwoo,de Souza Joel,David Allen Robert. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-09-07.

Porous silicon anode for rechargeable metal halide battery

Номер патента: WO2021095027A1. Автор: John Collins,Devendra Sadana,Robert David Allen,Joel de Souza,Young-Hye Na,Jangwoo Kim. Владелец: Ibm (China) Investment Company Limited. Дата публикации: 2021-05-20.

Electrochemical sodium metal halide battery, and method for producing same

Номер патента: AU2020415178B2. Автор: Martin Hofacker. Владелец: Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV. Дата публикации: 2024-06-13.

Krypton metal halide lamps

Номер патента: EP1766650A2. Автор: Juris Sulcs,Abbas Lamouri. Владелец: Advanced Lighting Technologies Inc. Дата публикации: 2007-03-28.

Ceramic metal halide lamp

Номер патента: WO2002091431A3. Автор: John C Alderman,Ray G Gibson Iii,Shiming Wu,Thomas Steere,Kent L Collins,Andrew D Jackson,Sarah S Carleton,Louis N Kowalczyk,Jay J Palmer,John E Conrad Sr. Владелец: Koninkl Philips Electronics Nv. Дата публикации: 2003-04-17.

Metal Halide Scintillators With Reduced Hygroscopicity and Method of Making the Same

Номер патента: US20130087712A1. Автор: Matthias J. Schmand,Mark S. Andreaco,A. Andrew Carey,Piotr Szupryczynski. Владелец: Siemens Medical Solutions USA Inc. Дата публикации: 2013-04-11.

Mounting assembly for metal halide lamp and its shroud

Номер патента: WO2007052218A1. Автор: Joseph Carbone. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS, N.V.. Дата публикации: 2007-05-10.

Thallium iodide-free ceramic metal halide lamp

Номер патента: US20120056534A1. Автор: Lei Deng. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2012-03-08.

Metal Organic Chemical Vapor Deposition of Embedded Resistors for ReRAM Cells

Номер патента: US20150179937A1. Автор: Yun Wang,Chien-Lan Hsueh. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Rechargeable metal halide battery

Номер патента: GB2600621A. Автор: Allen Robert,Na Young-Hye,Kim Jangwoo. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-05-04.

Rechargeable metal halide battery

Номер патента: GB2596465A. Автор: Breyta Gregory,Na Young-Hye,Kim Jangwoo. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-12-29.

Rechargeable metal halide battery

Номер патента: WO2020183282A1. Автор: Young-Hye Na,Gregory Breyta,Jangwoo Kim. Владелец: Ibm (China) Investment Company Limited. Дата публикации: 2020-09-17.

Plattenanordnung mit CVDD-(Chemical Vapor Deposition Diamond)-Fenstern für den Wärmetransport

Номер патента: DE112019007581B4. Автор: Philip Andrew Swire,Nina Biddle. Владелец: Microchip Tech Caldicot Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Dopant-free tungsten electrodes in metal halide lamps

Номер патента: WO2005010910A3. Автор: C V Varanasi,Brumleve Timothy,Lamouri Abbas,Naruka Ajaypal. Владелец: Naruka Ajaypal. Дата публикации: 2006-01-19.

Multi-functional mini-reflector in a ceramic metal halide lamp

Номер патента: US20120119637A1. Автор: Lei Deng. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2012-05-17.

Ceramic discharge metal halide (cdm) lamp and method of manufacture thereof

Номер патента: EP2691975A1. Автор: Jay Palmer,John Alderman,Ray Gage GIBSON III,Gregory Allen Golding. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2014-02-05.

Ignition for ceramic metal halide high frequency ballasts

Номер патента: EP2277361A1. Автор: Andrew O. Johnsen,James N. Lester. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2011-01-26.

Ignition for ceramic metal halide high frequency ballasts

Номер патента: WO2009143015A1. Автор: James N. Lester,Andrew Johnsen. Владелец: OSRAM SYLVANIA, INC.. Дата публикации: 2009-11-26.

Metal halide scintillators with reduced hygroscopicity and method of making the same

Номер патента: WO2013055643A1. Автор: Matthias J. Schmand,Mark S. Andreaco,Piotr Szupryczynski,Andrew A. Carey. Владелец: SIEMENS MEDICAL SOLUTIONS USA, INC.. Дата публикации: 2013-04-18.

Rare-earth metal halide scintillators with reduced hygroscopicity and method of making the same

Номер патента: WO2013055648A1. Автор: Matthias J. Schmand,Mark S. Andreaco,A. Andrew Carey,Piotr Szupryczynski. Владелец: SIEMENS MEDICAL SOLUTIONS USA, INC.. Дата публикации: 2013-04-18.

Method of forming a metal halide discharge tube and apparatus therefore

Номер патента: US20040263081A1. Автор: Kent Collins,Thomas Steere. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2004-12-30.

Metal halide lamp

Номер патента: US20110133638A1. Автор: Vincent Fischer,Petrus Johannes Mathijs Van Der Burgt,Timo Borlet. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2011-06-09.

In-situ p-type activation of iii-nitride films grown via metal organic chemical vapor deposition

Номер патента: US20210151329A1. Автор: Manijeh Razeghi. Владелец: Northwestern University. Дата публикации: 2021-05-20.

Pixel Scale Fabry Perot Filter Array for Chemical Agent Vapor Detection

Номер патента: US20240167874A1. Автор: William Lawrence. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2024-05-23.

Lithium metal halide based solid electrolyte for all-solid-state battery with excellent lithium ion conductivity

Номер патента: US20230178798A1. Автор: Sang Heon Lee,So Young Kim,Sang Soo Lee,Ji Hoon Kim,Ho Cheol Shin,Sun Ho Choi,Yong Jun Jang,Kwang Jin Kim,In Woo Song,Sa Heum Kim,Sang Uck Lee,Dae Yeon Hwang,Seong Hyeon Choi,Mun Seok Chae,Byeong Sun Jun. Владелец: Kia Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Growth of carbon nanotube (cnt) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (cvd) process

Номер патента: US20170077370A1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-16.

Methods for chemically etching a target layer

Номер патента: US20240363358A1. Автор: Timothee Blanquart,Charles DEZELAH,René Henricus Jozef Vervuurt. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2024-10-31.

Alkali metal halide cells

Номер патента: US09893383B2. Автор: Daniel L. Maxwell,Eric R. RAUB,Larry A. ADDINGTON,James A. DEGRUSON,Robert L. HIGGINS, JR.. Владелец: EaglePicher Technologies LLC. Дата публикации: 2018-02-13.

Methods for fabricating integrated circuits using flowable chemical vapor deposition techniques with low-temperature thermal annealing

Номер патента: US09831098B2. Автор: TAO Han,Sukwon Hong,Sandeep Gaan,Xinyuan Dou,Shimpei Yamaguchi,Satyajit Shinde,Carlos Chacon. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-11-28.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09825210B2. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-11-21.

Metal halide lamp with ceramic discharge vessel

Номер патента: US09773659B2. Автор: Junming Tu,Ray Gibson,Tom Steere. Владелец: Philips Lighting Holding BV. Дата публикации: 2017-09-26.

Methods for depositing dielectric films via physical vapor deposition processes

Номер патента: US09633839B2. Автор: Yong Cao,Yana Cheng,Xianmin Tang,Rongjun Wang,Thanh X. Nguyen,Srinivas Guggilla,Weimin Zeng,Daniel Lee Diehl. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Growth of carbon nanotube (CNT) leads on circuits in substrate-free continuous chemical vapor deposition (CVD) process

Номер патента: US09544998B1. Автор: Keith Daniel Humfeld. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-01-10.

Explosion-proof gas generator of inverted gasification process

Номер патента: RU2697599C1. Автор: Валентин Александрович Гусаров,Елена Валентиновна Гусарова,Ирина Юрьевна Кузнецова,Евгений Вячеславович Молоков. Владелец: Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный научный агроинженерный центр ВИМ" (ФГБНУ ФНАЦ ВИМ). Дата публикации: 2019-08-15.

Device for chemical care of forest

Номер патента: RU2690471C1. Автор: Евгений Михайлович Царев,Сергей Евгеньевич Анисимов,Татьяна Анатольевна Конюхова,Юлия Андреевна Коновалова,Никита Сергеевич Анисимов,Илья Сергеевич Анисимов,Андрей Вячеславович Кренев,Владимир Михайлович Заболотский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Поволжский государственный технологический университет". Дата публикации: 2019-06-03.

Chemical vapor deposition technique for depositing titanium silicide on semiconductor wafers

Номер патента: US5278100A. Автор: Trung T. Doan,Gurtej S. Sandhu. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1994-01-11.

Method of determining deformation of housing of object of mainly spacecraft

Номер патента: RU2691776C1. Автор: Дмитрий Николаевич Рулев,Михаил Юрьевич Беляев,Олег Николаевич Волков. Владелец: Публичное акционерное общество "Ракетно-космическая корпорация "Энергия" имени С.П. Королёва". Дата публикации: 2019-06-18.

Bearing housing and internal combustion engine

Номер патента: RU2569793C2. Автор: Вальтер РОТМУНД,Петер КУБОН,Кристофер АЛЛНОХ,Кристиан БРУННЕР,Штеффен ХАРШЕР,Роланд БУХМАНН. Владелец: Мту Фридрихсхафен Гмбх. Дата публикации: 2015-11-27.

Method for attachment of shielding on turbine housing and mounting system therefor

Номер патента: RU2584744C2. Автор: Жан-Люк Пьер САОРЕС,Жан-Морис КАЗО-БИК,Оливье Пьер ДЕСКЮБ,Кароль ЖОРЕГИБЕРРИ. Владелец: Турбомека. Дата публикации: 2016-05-20.

Single-ended metal halide discharge lamp with minimal color seperation and method of fabrication

Номер патента: CA1246135A. Автор: George J. English,Harold L. Rothwell, Jr.. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-12-06.

Cell having an alkali metal anode, a fluorinated carbon cathode and an electrolyte which includes an alkali metal halide salt and a solvent system containing a substituted amide solvent and a cyclic carbonate cosolvent

Номер патента: CA1120535A. Автор: Paul A. Malachesky,Bhaskara M.L. Rao. Владелец: Exxon Research and Engineering Co. Дата публикации: 1982-03-23.

Thallium-free metal halide fill for discharge lamps and discharge lamp containing same

Номер патента: CA2489264C. Автор: Lori R. Brock. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-02.

High intensity-discharge lamp of the mercury-metal halide type which efficiently illuminates objects with excellent color appearance

Номер патента: CA1151717A. Автор: Edward Chen,William A. Thornton, Jr.,Daniel A. Larson. Владелец: Daniel A. Larson. Дата публикации: 1983-08-09.

Metal halide lamp with arc tube shield support

Номер патента: CA1239970A. Автор: Robert J. Karlotski,Francis R. Koza,Martin E. Muzeroll. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-08-02.

Method for metal halide removal

Номер патента: US4544379A. Автор: Lawrence R. Lepovitz,Henry H. Elliott,Dale G. Jones. Владелец: Emcotek. Дата публикации: 1985-10-01.

Ultrasonic probe with housing and replaceable tip

Номер патента: RU2713146C2. Автор: Лоран САНДРИН. Владелец: Экоусенс. Дата публикации: 2020-02-03.

Weathering test apparatus having a long-arc type air-cooled vertical metal halide lamp

Номер патента: US6591701B2. Автор: Nagaichi Suga. Владелец: Suga Test Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2003-07-15.

Fast run-up of metal halide lamp by power modulation at acoustic resonance frequency

Номер патента: US20090079366A1. Автор: Nancy H. Chen,Joseph A. Olsen. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2009-03-26.

Solid electrolyte containing metal halide containing alkaline-earth metal and group 13 metal, and filler, and secondary battery including solid electrolyte

Номер патента: US11223065B2. Автор: Norihito Fujinoki. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-11.

Consistent alignment mark profiles on semiconductor wafers using metal organic chemical vapor deposition titanium nitride protective layer

Номер патента: US6157087A. Автор: Joe W. Zhao,Keith K. Chao,Shumay X. Dou. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2000-12-05.

Pulsed metal or metal halide lamps for photocopying applications

Номер патента: CA1063161A. Автор: William F. Hug. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1979-09-25.

Electrode for metal halide discharge lamp

Номер патента: US5420477A. Автор: Timothy W. Graham,John W. Sims. Владелец: Welch Allyn Inc. Дата публикации: 1995-05-30.

Metal halide lamp having specific filling

Номер патента: US6031332A. Автор: Christoffel Wijenberg,Peter A. Seinen. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 2000-02-29.

Optical device with metal halide discharge lamp having enhanced starting property

Номер патента: US5583396A. Автор: Masayuki Wakamiya,Nobuyoshi Takeuchi,Munehiro Tabata,Omura Hideaki. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-12-10.

Selective chemical vapor deposition of tungsten for microdynamic structures

Номер патента: US5149673A. Автор: Liang-Yuh Chen,Noel C. MacDonald,Zuoying L. Zhang. Владелец: Cornell Research Foundation Inc. Дата публикации: 1992-09-22.

Heat sink means for metal halide lamp

Номер патента: US5204578A. Автор: John M. Davenport,Gary R. Allen,Timothy P. DEVER,Gerald E. Duffy. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1993-04-20.

Metal halide discharge lamp

Номер патента: GB1283152A. Автор: Dimitrios Mandamadiotis Speros,Robert Macgregor Caldwell,William Edward Smyser. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1972-07-26.

Metal halide lamp and temperature control system therefor

Номер патента: MY132627A. Автор: Mamoru Takeda,Makoto Kai,Yuriko Kaneko. Владелец: Matsushita Electric Ind Co Ltd. Дата публикации: 2007-10-31.

Metal halide lamp containing thi.sub.4 with added elemental cadmium or zinc

Номер патента: CA1162971A. Автор: John E. Spencer,Ashok K. Bhattacharya. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1984-02-28.

Directed vapor deposition and assembly of polymer micro - and nanostructures

Номер патента: WO2023081751A1. Автор: Kenneth K.S. Lau,Zhengtao CHEN,Tien Hong NGUYEN. Владелец: DREXEL UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-05-11.

Oxygen and metal halide and/or halogen enhanced metal-sulfur battery cathodes

Номер патента: US20230369646A1. Автор: Young-Hye Na,Jangwoo Kim,Maxwell Giammona. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-11-16.

Metal halide lamp with ceramic discharge tube

Номер патента: EP2587522A4. Автор: Feng Li,Hua Yao. Владелец: Shanghai Yaming Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2013-12-04.

Metal halide lamp with ceramic discharge tube

Номер патента: US20130099662A1. Автор: Feng Li,Hua Yao. Владелец: Shanghai Yaming Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2013-04-25.

Metal halide lamp with ceramic discharge tube

Номер патента: US8901817B2. Автор: Feng Li,Hua Yao. Владелец: Shanghai Yaming Lighting Co Ltd. Дата публикации: 2014-12-02.

A high-pressure metal halide lamp

Номер патента: WO1998037571A1. Автор: Marcus Kubon,Robert Peter Scholl. Владелец: Philips Ab. Дата публикации: 1998-08-27.

Flame retardant wood, preparation method thereof and use of metal halide

Номер патента: US20240091980A1. Автор: Qing Li,Jing Ren,Wenshuai Chen,Shengjie Ling,Sen Gao. Владелец: Northeast Forestry University. Дата публикации: 2024-03-21.

Metal halide lamp and luminaire

Номер патента: WO2005062341A2. Автор: Hiroshi Nohara,Atsushi Utsubo,Shunsuke Kakisaka,Yukiya Kanazawa. Владелец: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.. Дата публикации: 2005-07-07.

Electrolyte compositions for rechargeable metal halide battery

Номер патента: AU2021263028B2. Автор: Toru Tanaka,Kazunari Takeda,Katsutoshi Suzuki,Young-Hye Na,Jangwoo Kim,Masafumi Oda,Maxwell Giammona,Tsubasa ITAKURA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

UV enhancer for a metal halide lamp

Номер патента: US20030057833A1. Автор: Walter Lapatovich,A. Budinger. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2003-03-27.

Method for public utilization of housing

Номер патента: US20220270193A1. Автор: Chul Ho WON. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-08-25.

Gas generator for restraining device

Номер патента: EP2771212A1. Автор: Tomoharu Kobayashi,Kenji Numoto. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2014-09-03.

System for and method of planarizing the contact region of a via by use of a continuous inline vacuum deposition process

Номер патента: WO2006081352A3. Автор: Thomas P Brody,Joseph A Marcanio. Владелец: Joseph A Marcanio. Дата публикации: 2007-04-19.

System for and method of planarizing the contact region of a via by use of a continuous inline vacuum deposition process

Номер патента: WO2006081352A2. Автор: Thomas P. Brody,Joseph A. Marcanio. Владелец: Advantech Global, Ltd.. Дата публикации: 2006-08-03.

Gas generator for restraining device

Номер патента: US09487182B2. Автор: Takashi Katsuta. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Gas-generator module

Номер патента: RU2159349C1. Автор: А.П. Аджан,В.Ю. Богушев,А.М. Самсонов,Ю.А. Тюрин. Владелец: Открытое акционерное общество НПО Энергомаш им. акад. В.П. Глушко. Дата публикации: 2000-11-20.

Housing of cellular element, carrier of catalyst converter with such housing and method of manufacture of catalyst converter with such carrier

Номер патента: RU2264543C2. Автор: ВИРЕС Лудвиг,Брюк Рольф,КУРТ Ферди,ХОДГСОН Ян,ШМИТЦ Карл-Йозеф,ФАУСТ Ханс-Гюнтер,БРЮК Рольф (DE),ВИРЕС Лудвиг (DE),КУРТ Ферди (DE),ШМИТЦ Карл-Йозеф (DE),ФАУСТ Ханс-Гюнтер (DE),ХОДГСОН Ян (DE). Владелец: Эмитек Гезельшафт Фюр Эмиссионстехнологи Мбх. Дата публикации: 2005-11-20.

Thermal machine with glass bottle to actuate aerosol gas generator for fire fighting

Номер патента: RU2491972C2. Автор: Иянг ЖАНГ,Петер КЛОФТ,Клаус-Юрген ДЕЛЛЬ,Маттиас АГОСТИН,Штефан КОРДЕС,Аксель ХЕММЕР,Михаель КЕЛЛЕР,Херберт ВАЙССХАУПТ,Александра ВЕЛЬП. Владелец: ДИНАМИТ НОБЕЛЬ ДИФЕНС ГмбХ. Дата публикации: 2013-09-10.

Housing and transmittion differential

Номер патента: RU2765661C1. Автор: Александр ЛЁ-ГАЛЛЬ,Халид СЛИМАНИ. Владелец: Рено С.А.С. Дата публикации: 2022-02-01.

Low wattage metal halide discharge lamp electrically biased to reduce sodium loss

Номер патента: CA1239969A. Автор: Robert J. Karlotski,William M. Keeffe,Zeya K. Krasko. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-08-02.

Reprographic metal halide lamps having long life and maintenance

Номер патента: US5013968A. Автор: Paul G. Hlahol,Timothy D. Russell,Carl H. Hess,Charles N. Stewart. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1991-05-07.

Metal halide lamps with oxidized frame parts

Номер патента: US4918352A. Автор: Timothy D. Russell,Ralph M. Potter,Carl H. Hess,Frank I. Ewing,Edward G. Zubler. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1990-04-17.

Rechargeable metal halide battery

Номер патента: US3640770A. Автор: Ralph Zito Jr. Владелец: ZITO CO. Дата публикации: 1972-02-08.

Discharge lamps containing an inert gas and a metal halide

Номер патента: CA1037097A. Автор: Eric J. G. Beeson. Владелец: Thorn Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1978-08-22.

Low wattage metal halide capsule shape

Номер патента: CA2052261C. Автор: Harold L. Rothwell, Jr.,Betina Desmarais. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1998-12-08.

Chemically vapor deposited saw guides

Номер патента: US5415069A. Автор: Jerry Collins,John Hoover,Al Latham. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-05-16.

Quartz arc tube for a metal halide lamp and method of making same

Номер патента: CA2396801C. Автор: Miguel Galvez,Gregory Zaslavsky,Joseph V. Lima,William D. Koenigsberg,Zeya Krasko. Владелец: Osram Sylvania Inc. Дата публикации: 2010-11-30.

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of advanced lubricant for thin film storage medium

Номер патента: US20090263592A1. Автор: Lei Li,Michael Joseph Stirniman,Jing Gui,Jianwei Liu,Yiao-Tee Hsia. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2009-10-22.

Power-delivery mechanism and apparatus of plasma-enhanced chemical vapor deposition using the same

Номер патента: US20080295771A1. Автор: Kuan-Chou Chen,Fu-Ching Tung,Yuan-Yuan Chiang. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2008-12-04.

Thermal ink jet with chemical vapor deposited nozzle plate

Номер патента: CA2506728C. Автор: Kia Silverbrook. Владелец: SILVERBROOK RESEARCH PTY LTD. Дата публикации: 2010-08-24.

Metal halide arc discharge lamp having electrolysis prevention means

Номер патента: US4413206A. Автор: Robert J. Karlotski,Joseph S. Kulik, Jr.,Martin E. Muzeroll. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1983-11-01.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: WO2013135631A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: MEMC Electronic Materials S.p.A.. Дата публикации: 2013-09-19.

Thorium-free metal halide lamps

Номер патента: WO2012063205A3. Автор: Robinson Randy,Junming Tu. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2012-07-26.

Ceramic metal halide discharge lamp

Номер патента: EP1759403A1. Автор: Josephus C. M. Hendricx. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2007-03-07.

System for machining seed rods for use in a chemical vapor deposition polysilicon reactor

Номер патента: EP2825350A1. Автор: Rodolfo Bovo,Paolo Molino. Владелец: SunEdison Inc. Дата публикации: 2015-01-21.

Magnetic core housing and noise reduction device

Номер патента: US20230027914A1. Автор: Yoshihiro Saito,Yuji Nitobe,Naoko Saito,Shuichi Hayasaka. Владелец: Tokin Corp. Дата публикации: 2023-01-26.

Magnetic core housing and noise reduction device

Номер патента: EP4123670A1. Автор: Yoshihiro Saito,Yuji Nitobe,Naoko Saito,Shuichi Hayasaka. Владелец: Tokin Corp. Дата публикации: 2023-01-25.

Electronic device including plurality of housings

Номер патента: EP3635509A1. Автор: Jun-Won Lee,Seung-ho Jang,Hyun-Keun Son,Jae-Ho Baik,Chung-Ha Kim,Jang-Woon KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-04-15.

Printing apparatus with access portions for access to inside of housing

Номер патента: US10071579B2. Автор: Kazuyuki Aoki. Владелец: Riso Kagaku Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Gas turbine apparatus with actuators to counteract deformations of housing

Номер патента: US7220097B2. Автор: Alexander Boeck. Владелец: MTU AERO ENGINES GMBH. Дата публикации: 2007-05-22.

2H/1T phase contact engineering for high performance transition metal dichalcogenide chemical vapor sensors

Номер патента: US10436744B2. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Paul M. Campbell,James C. Culbertson,Aubrey T. Hanbicki. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2019-10-08.

Printing apparatus with access portions for access to inside of housing

Номер патента: US20170341441A1. Автор: Kazuyuki Aoki. Владелец: Riso Kagaku Corp. Дата публикации: 2017-11-30.

Image forming apparatus and installation or removal of housing including photoreceptors

Номер патента: US9594344B1. Автор: Koichi Sato,Yoshiyuki Takashima,Atsushi Funada,Hibiki Sasaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

2H/1T Phase Contact Engineering for High Performance Transition Metal Dichalcogenide Chemical Vapor Sensors

Номер патента: US20170299544A1. Автор: F. Keith Perkins,Adam L. Friedman,Paul M. Campbell,James C. Culbertson,Aubrey T. Hanbicki. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 2017-10-19.

Image forming apparatus and installation or removal of housing including photoreceptors

Номер патента: US20170075296A1. Автор: Koichi Sato,Yoshiyuki Takashima,Atsushi Funada,Hibiki Sasaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-16.

Fully assembled, fully cast-in-place, composite-type house and construction method thereof

Номер патента: US09797137B2. Автор: Chun Liu. Владелец: KUNSHAN ECOLOGICAL BUILDING TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Image forming apparatus and installation or removal of housing including photoreceptors

Номер патента: US09594344B1. Автор: Koichi Sato,Yoshiyuki Takashima,Atsushi Funada,Hibiki Sasaki. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Steam-gas generator

Номер патента: RU2664637C1. Автор: Владислав Юрьевич Климов. Владелец: Владислав Юрьевич Климов. Дата публикации: 2018-08-21.

Method for extracting rare metals from ash-slag masses of used underground gas generator

Номер патента: RU2443788C1. Автор: Ефим Вульфович Крейнин. Владелец: Открытое Акционерное Общество "Газпром Промгаз". Дата публикации: 2012-02-27.

Method for manufacturing metal halide lamp

Номер патента: GB2308493A. Автор: Seong-Ho Lee. Владелец: Samsung Display Devices Co Ltd. Дата публикации: 1997-06-25.

Method of housing certification tests for impenetrability at gte starter rotor disc destruction

Номер патента: RU2607145C1. Автор: Дмитрий Владимирович Сапронов,Камалиддин Джамолдинович Каримбаев. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Центральный институт авиационного моторостроения им. П.И. Баранова". Дата публикации: 2017-01-10.

Electrode alignement and capsule design for single- ended low wattage metal halide lamps

Номер патента: CA1245703A. Автор: Harold L. Rothwell, Jr.,William M. Keeffe,W. Calvin Gungle,Zeya K. Krasko. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-11-29.

Distribution cabinet for electric equipment of houses and buildings

Номер патента: RU2384926C2. Автор: Михель РОТ,Харри ШААФ. Владелец: Абб Патент Гмбх. Дата публикации: 2010-03-20.

Device for installation of housing, in particular, radio receiver one in vehicle dashboard compartment

Номер патента: RU2605961C2. Автор: Изабель ПРЕН,Ален ДАГОРО,Мишель БУГО,Сильви ПЕРВЕЙРИ,Лоран ПЕРРЕН. Владелец: Рено С.А.С.. Дата публикации: 2017-01-10.

A plasma light source with low metal halide dose

Номер патента: EP3803954A1. Автор: Barry Preston,Stuart Mucklejohn. Владелец: Ceravision Ltd. Дата публикации: 2021-04-14.

Metal halide arc discharge lamp having shielded electrode

Номер патента: CA1149001A. Автор: William M. Keeffe,W. Calvin Gungle,Dale E. Work. Владелец: GTE Sylvania Inc. Дата публикации: 1983-06-28.

Metallic halide high-pressure discharge lamp including arsenic

Номер патента: CA1046130A. Автор: Ernst Fischer,Roland Lorenz,Ludwig Rehder. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1979-01-09.

Metal halide lamp having open tungsten coil electrodes

Номер патента: CA1071685A. Автор: Wayne R. Hellman,Thomas J. Harding. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1980-02-12.

Arc tube for high-pressure mercury/metal halide lamp

Номер патента: US4001623A. Автор: Robert Brian Page,Donald Arthur Howles. Владелец: Thorn Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1977-01-04.

Transparencies comprising metal halide or urea antistatic layer

Номер патента: US5202205A. Автор: Shadi L. Malhota. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1993-04-13.

Method to reduce color temperature variation in metal halide arc tubes

Номер патента: US4850499A. Автор: James C. Morris,William M. Keeffe,Philip J. White. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1989-07-25.

Metal halide lamp with ceramic discharge vessel and magnesium in the fill to improve lumen maintenance

Номер патента: US5698948A. Автор: Nancy J. Caruso. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1997-12-16.

Regenerator for metal halide sludge catalyst

Номер патента: US3629143A. Автор: William S Reveal. Владелец: Shell Oil Co. Дата публикации: 1971-12-21.

Electrode alignment and capsule design for single- ended low wattage metal halide lamps

Номер патента: CA1246655A. Автор: Harold L. Rothwell, Jr.,William M. Keeffe,W. Calvin Gungle,Zeya K. Krasko. Владелец: GTE Products Corp. Дата публикации: 1988-12-13.

Control and monitoring system for chemical treatment of an oilfield well

Номер патента: CA2293686C. Автор: Michael H. Johnson,Alan Clemmit. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Metal halide lamps with iodides of sodium, lithium and scandium

Номер патента: CA1102390A. Автор: Barry Preston,Stephen H. Howe,Robert B. Page. Владелец: Thorn Electrical Industries Ltd. Дата публикации: 1981-06-02.

Metal halide lamp for automotive headlamp and headlamp with said lamp

Номер патента: EP2745308A1. Автор: Lukas Kuepper,Volker KOLAUCH. Владелец: Philips Deutschland Gmbh. Дата публикации: 2014-06-25.

System for the Contactless Sealing of a Rotatably Mounted Shaft with Respect to a Housing, and Gear Unit

Номер патента: US20120000308A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Cold-wall chemical vapor thin film deposition apparatus

Номер патента: TWI633588B. Автор: 鄭嘉晉,莊鎮宇,王鶴偉,魏松煙,章詠湟. Владелец: 優材科技有限公司. Дата публикации: 2018-08-21.

A kind of water pump O-ring seal sealing structure

Номер патента: CN209654295U. Автор: 张彭,王少磊. Владелец: Anhui Wolding Seal Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-19.

A kind of hub assembly O-ring seals sealing

Номер патента: CN206439404U. Автор: 胡卫平,孙晗,罗晓秋,姜贺,于长鑫,温少英,佟已冬,李俊芝,姜德惠,张锡刚. Владелец: Wafangdian Bearing Group Corp. Дата публикации: 2017-08-25.

Floating o-ring seal

Номер патента: CA708780A. Автор: M. Voitik Robert. Владелец: Continental Illinois National Bank and Trust Co. Дата публикации: 1965-05-04.

O-ring seal for rock bit bearings

Номер патента: SG22889A1. Автор: Madapusi K Keshavan,Michael E Hooper,Wayne C Quantz,Mark J Hommel. Владелец: Smith International. Дата публикации: 1995-11-28.

Scuba diving tank o-ring seal dispenser/inserter

Номер патента: GB9801559D0. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1998-03-25.

HYDRAULIC CYLINDER WITH AN O-RING SEAL OF VARIABLE GEOMETRY

Номер патента: US20120304851A1. Автор: del Campo y Ruiz de Almodovar Cesar. Владелец: GRUPO DE INGENIERIA OCEANICA, S.L.. Дата публикации: 2012-12-06.

Fluid Valve Port Optimized for Robustness with Standard O-Ring Seal

Номер патента: US20120305115A1. Автор: Valencia,JR. Pablo,Bartnick Brian K.,Johnson Corry W.,Tompkins Bill F.. Владелец: GM GLOBAL TECHNOLOGY OPERATIONS LLC. Дата публикации: 2012-12-06.

O-ring seal feeding mechanism

Номер патента: CN208895501U. Автор: 吴志强,陈涛,蒋斌,杨志伟,宋一峰. Владелец: Zhejiang Pinghu Senior Technical School. Дата публикации: 2019-05-24.

O-ring seal inspection method

Номер патента: JP4054653B2. Автор: 林一 倉田. Владелец: ブリヂストンフローテック株式会社. Дата публикации: 2008-02-27.

Truck hub O-ring seal size instrument for quick measuring

Номер патента: CN204404927U. Автор: 钱亚淳. Владелец: CHANGSHU SAICHI MACHINERY Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-17.

A kind of O-ring seal mold molding cutter

Номер патента: CN207873300U. Автор: 刘方礼. Владелец: DALIAN TECHNOLOGY RUBBER SEALING MEMBER Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-18.

A kind of O-ring seal and its production method preventing aging

Номер патента: CN109812578A. Автор: 张彭,王少磊. Владелец: Anhui Wolding Seal Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-28.

O-ring seal diameter measuring method and the servicing unit for implementing this method

Номер патента: CN104132600B. Автор: 张子明,杨继春,符严平,张维浩. Владелец: Pinggao Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-27.

O-ring seal passer

Номер патента: CN204439339U. Автор: 刘彦军,李衍亮,范占辉,宋大同. Владелец: Shengrui Transmission Co Ltd. Дата публикации: 2015-07-01.

Cooling structure of O-ring seal part in vertical furnace

Номер патента: JPH0638113Y2. Автор: 修司 米満. Владелец: 国際電気株式会社. Дата публикации: 1994-10-05.

Rubber o-ring sealing property testing equipment under high pressure hydrogen environment

Номер патента: CN206618538U. Автор: 严大鹏,陈国华,周池楼. Владелец: South China University of Technology SCUT. Дата публикации: 2017-11-07.

A kind of wear-resisting O-ring seal of Novel compressive

Номер патента: CN109867886A. Автор: 张彭,王少磊. Владелец: Anhui Wolding Seal Industry Co Ltd. Дата публикации: 2019-06-11.

A kind of fluid valve motor O-ring sealing structure

Номер патента: CN207251356U. Автор: 李鑫,李建伟. Владелец: Cixi Micro Cube Intelligent Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

O-ring seal installation tool

Номер патента: USD992383S1. Автор: James Jeffrey Rasmussen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-07-18.

Deposition Apparatus And Methods To Reduce Deposition Asymmetry

Номер патента: US20120000772A1. Автор: Cox Michael S.,RITCHIE ALAN. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Atomic layer deposition of metal oxides using metal halide precursors

Номер патента: WO2024186414A1. Автор: Younghee Lee,Samantha SiamHwa Tan,Michelle Margarita FLORES ESPINOSA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2024-09-12.

Metal halide lamp

Номер патента: RU2077093C1. Автор: И.Ф. Минаев,В.В. Литюшкин. Владелец: Правление научно-технического общества энергетиков и электротехников Мордовии. Дата публикации: 1997-04-10.

Metal halide lamp for attraction of fish

Номер патента: RU2033654C1. Автор: В.Н. Ботанцин,И.Ф. Волков,А.Б. Аббакумов. Владелец: Акционерное общество "Лисма". Дата публикации: 1995-04-20.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2237315C2. Автор: И.Ф. Минаев,В.С. Немцева,В.Н. Ботанцин,В.А. Ермошин. Владелец: Открытое акционерное общество "Лисма". Дата публикации: 2004-09-27.

Piston-free machine for chemical interaction of gas mixtures

Номер патента: RU2325225C1. Автор: Петр Петрович Петров,Александр Петрович Самойлов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Метанол и азотные процессы". Дата публикации: 2008-05-27.

Metal halide lamp having vacuum shroud for improved performance

Номер патента: CA1309452C. Автор: John Martin Davenport,Richard Lowell Hansler,Park French. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1992-10-27.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2181916C2. Автор: И.Ф. Минаев. Владелец: Открытое акционерное общество "Лисма". Дата публикации: 2002-04-27.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2040067C1. Автор: И.Ф. Минаев. Владелец: Акционерное общество "Лисма" - завод специальных источников света и электровакуумного стекла. Дата публикации: 1995-07-20.

Mercury-free metal halide lamp

Номер патента: RU2033655C1. Автор: И.Ф. Минаев. Владелец: Саранское производственное объединение "Лисма". Дата публикации: 1995-04-20.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2066500C1. Автор: И.Ф. Минаев. Владелец: Акционерное общество "Лисма" - завод специальных источников света и электровакуумного стекла. Дата публикации: 1996-09-10.

Piston-free machine for chemical interaction of gas mixtures

Номер патента: RU2325224C1. Автор: Петр Петрович Петров,Александр Петрович Самойлов. Владелец: Закрытое акционерное общество "Метанол и азотные процессы". Дата публикации: 2008-05-27.

Method for obtaining steam-gas mixture and hot heat carrier from liquid and turbo-rotary steam-gas generator for its implementation

Номер патента: RU2411423C2. Автор: Василий Иванович Рева. Владелец: Василий Иванович Рева. Дата публикации: 2011-02-10.

Ingredients for solenoidal metal halide arc lamps

Номер патента: CA1238937A. Автор: Peter D. Johnson,Carl L. Chalek. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1988-07-05.

Apparatus for chemical purification and drying of articles

Номер патента: RU2580259C1. Автор: Алексей Алексеевич Исаев,Павел Иванович Бойко,Николай Петрович Зубков,Татьяна Петровна Симонова. Владелец: Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Исток" имени А.И. Шокина" (АО "НПП "Исток" им. Шокина"). Дата публикации: 2016-04-10.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2087991C1. Автор: И.Ф. Минаев. Владелец: Акционерное общество "Лисма - завод специальных источников света и электровакуумного стекла". Дата публикации: 1997-08-20.

Metal halide lamp using loop electrodes

Номер патента: CA1046129A. Автор: Daniel M. Cap. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1979-01-09.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2091903C1. Автор: И.Ф. Минаев,И.Ф. Волков. Владелец: Акционерное общество "Лисма" - завод специальных источников света и электровакуумного стекла. Дата публикации: 1997-09-27.

Method for chemical treatment of plants and apparatus for performing the same

Номер патента: RU2297140C1. Автор: Адаман Габдинагимович Габдуллин. Владелец: Государственное научное учреждение Всероссийский научно-исследовательский институт овощеводства (ГНУ ВНИИО). Дата публикации: 2007-04-20.

Method of sealed joint of housing of submersible electric motor with input unit of submersible pumps

Номер патента: RU2534395C2. Автор: Игорь Александрович Малыхин,Юрий Сергеевич Соловьев,Николай Петрович Вегера,Рамиль Мухаметвалиевич Сунгатуллин. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Сервисная Компания "Навигатор". Дата публикации: 2014-11-27.

Chemical vapor deposition of metal compound coatings utilizing metal sub-halide

Номер патента: CA1224091A. Автор: M. Javid Hakim. Владелец: Liburdi Engineering Ltd. Дата публикации: 1987-07-14.

Metal-halide lamp

Номер патента: RU2084045C1. Автор: С.Г. Ашурков,Г.С. Сарычев. Владелец: Товарищество с ограниченной ответственностью Научно-производственный центр "Фототехнология". Дата публикации: 1997-07-10.

Apparatus for chemical ignition of gas-generating fuel during thermochemical processing of oil and gas wells

Номер патента: RU2232264C1. Автор: Г.П. Доманов,Э.Б. Мовшович. Владелец: Доманов Геннадий Пантелеймонович. Дата публикации: 2004-07-10.

Clock having ornamental housing made of precious metal, ornamental housing and thin-wall ornamental cover made of precious metal for said clock and method of making clock from precious metal

Номер патента: RU2532957C2. Автор: Тенгиз Амиранович Саникидзе. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Часовой завод "НИКА". Дата публикации: 2014-11-20.

Solid fuel thermal gas generator

Номер патента: RU2255960C2. Автор: В.В. Шломин,В.А. Коркин,Н.С. Еремеев. Владелец: ОАО "Центральный научно-исследовательский и Проектно-конструкторский Институт Механизации и Энергетики лесной промышленности" (ОАО "ЦНИИМЭ". Дата публикации: 2005-07-10.

Protective coating comprising the reaction product of a metal halide and a fluorinated hydrocarbon

Номер патента: CA1040211A. Автор: Saul Kessler. Владелец: AIDLIN JOSEPH W. Дата публикации: 1978-10-10.

Masking techniques in chemical vapor deposition

Номер патента: CA1199715A. Автор: Robert D. Burnham. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1986-01-21.

Housing-and-support jointing device

Номер патента: RU2146332C1. Автор: В.В. Ермолаев,Я.И. Евсеев,А.Ю. Сосновский. Владелец: Акционерное общество открытого типа "Теплоэнергосервис". Дата публикации: 2000-03-10.

Assembly to joint together gas generator housing and gas turbine drive free turbine

Номер патента: RU2354839C1. Автор: Евгений Изосимович Жильцов,Владимир Николаевич Понькин,Борис Александрович Кесель,Александр Анатольевич Корноухов. Владелец: Открытое акционерное общество Конструкторско-производственное предприятие "Авиамотор". Дата публикации: 2009-05-10.

Gas generator for raising ships from deep sea, device and method to this end

Номер патента: RU2476347C2. Автор: Юрий Алексеевич Берков. Владелец: Юрий Алексеевич Берков. Дата публикации: 2013-02-27.

Heat gas generator for improvement of formation filtration in its well bore zone

Номер патента: RU2439312C1. Автор: Николай Иванович Новиков,Александр Валентинович Дуванов,Александр Алексеевич Меркулов,Юрий Григорьевич Улунцев,Олег Николаевич Кондаков. Владелец: Открытое акционерное общество "Всероссийский научно-исследовательский и проектно-конструкторский институт по использованию энергии взрыва в геофизике" (ОАО "ВНИПИвзрывгеофизика"). Дата публикации: 2012-01-10.

Gas generator based installation for waste wood recycling

Номер патента: RU2348860C2. Автор: Владимир Данилович Басаргин,Владимир Данилович Басаргин (RU). Владелец: Владимир Данилович Басаргин. Дата публикации: 2009-03-10.

Steam-gas generator for production of oil and gas condensate

Номер патента: RU2558031C1. Автор: Александр Сергеевич Артамонов,Евгений Александрович Артамонов,Александр Борисович Гофман. Владелец: Евгений Александрович Артамонов. Дата публикации: 2015-07-27.

Device for chemical firing of propellant components in liquid-propellant rocket engine

Номер патента: RU2509910C1. Автор: Александр Васильевич Кузнецов,Виктор Дмитриевич Горохов,Дмитрий Владимирович Радько,Дмитрий Николаевич Билевич,Вячеслав Васильевич Сальников. Владелец: Открытое акционерное общество "Конструкторское бюро химавтоматики". Дата публикации: 2014-03-20.

Method determining design parameters of powder gas generator

Номер патента: RU2328712C1. Автор: Александр Васильевич Бугаев. Владелец: Российская Федерация, от имени которой выступает государственный заказчик - Федеральное агентство по атомной энергии - Агентство. Дата публикации: 2008-07-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.