PROTECTIVE COATING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER PART AND A METHOD OF USE
Номер патента: US20140065835A1
Опубликовано: 06-03-2014
Автор(ы): Dhindsa Rajinder, Kadkhodayan Bobby, McChesney Jon, Pape Eric
Принадлежит: LAM RESEARCH CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-03-2014
Автор(ы): Dhindsa Rajinder, Kadkhodayan Bobby, McChesney Jon, Pape Eric
Принадлежит: LAM RESEARCH CORPORATION
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Vacuum adsorption apparatus and a vacuum adsorption method of semiconductor package
Номер патента: US20150311059A1. Автор: Yong-Ki Kim,Joo-Hoon CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-10-29.