PLUGS FOR INTERCONNECT LINES FOR ADVANCED INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURE FABRICATION
Номер патента: US20210013323A1
Опубликовано: 14-01-2021
Автор(ы): AUTH Christopher P., HATTENDORF Michael L., JIN Ilsup, KANDAS Angelo, YEOH Andrew W.
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 14-01-2021
Автор(ы): AUTH Christopher P., HATTENDORF Michael L., JIN Ilsup, KANDAS Angelo, YEOH Andrew W.
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Gate cut and fin trim isolation for advanced integrated circuit structure fabrication
Номер патента: US12057492B2. Автор: Tahir Ghani,Byron Ho,Michael L. Hattendorf,Christopher P. Auth. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-08-06.