Semiconductor device gate spacer structures and methods thereof
Номер патента: US11664442B2
Опубликовано: 30-05-2023
Автор(ы): Chen-Chiu Huang, Chun-Chang Liu, Fu-Peng Lu, Kuo-Chang Huang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 30-05-2023
Автор(ы): Chen-Chiu Huang, Chun-Chang Liu, Fu-Peng Lu, Kuo-Chang Huang
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Devices including gate spacer with gap or void and methods of forming the same
Номер патента: US09917178B2. Автор: Chi-Wen Liu,Kuo-Cheng Ching,Ching-Wei Tsai,Ying-Keung Leung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-13.