Method of Manufacturing an Insulation Layer on Silicon Carbide and Semiconductor Device
Номер патента: US20200027716A1
Опубликовано: 23-01-2020
Автор(ы): Komatsu Yuji
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-01-2020
Автор(ы): Komatsu Yuji
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of manufacturing an insulation layer on silicon carbide and semiconductor device
Номер патента: EP3516682A1. Автор: Yuji Komatsu. Владелец: ZF FRIEDRICHSHAFEN AG. Дата публикации: 2019-07-31.