GaN semiconductor device having a high withstand voltage
Номер патента: US8183597B2
Опубликовано: 22-05-2012
Автор(ы): JIANG LI, Nariaki Ikeda, Seikoh Yoshida
Принадлежит: Furukawa Electric Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 22-05-2012
Автор(ы): JIANG LI, Nariaki Ikeda, Seikoh Yoshida
Принадлежит: Furukawa Electric Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Substrate for semiconductor device and method for manufacturing the same
Номер патента: US20240313086A1. Автор: Kazunori Hagimoto. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.