PAD STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF IN SEMICONDUCTOR DEVICE
Номер патента: US20210050314A1
Опубликовано: 18-02-2021
Автор(ы): HUANG HUNG-SHU, LIU MING-CHYI
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 18-02-2021
Автор(ы): HUANG HUNG-SHU, LIU MING-CHYI
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Pad structure and manufacturing method thereof in semiconductor device
Номер патента: US10840198B2. Автор: Ming-Chyi Liu,Hung-Shu Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-11-17.