Method for compensating for variations in structures of an integrated circuit
Номер патента: US8176446B2
Опубликовано: 08-05-2012
Автор(ы): Anthony K. Stamper, Bruce Walter Porth, Jothimalar Kuppusamy, Michael D. Hulvey, Paul William Pastel, Robert Kenneth Leidy, Santo Credendino
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 08-05-2012
Автор(ы): Anthony K. Stamper, Bruce Walter Porth, Jothimalar Kuppusamy, Michael D. Hulvey, Paul William Pastel, Robert Kenneth Leidy, Santo Credendino
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
OPC method for generating corrected patterns for a phase-shifting mask and its trimming mask and associated device and integrated circuit configuration
Номер патента: US20020071997A1. Автор: Wilhelm Maurer,Rainer Zimmerman,Juergen Knobloch,Marco Ahrens. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-06-13.