Apparatus and method of processing a semiconductor substrate
Номер патента: TW348161B
Опубликовано: 21-12-1998
Автор(ы): JOHNSON Barry, Mastroianni Sal, Vasquez Barbara
Принадлежит: Motorola Inc
Опубликовано: 21-12-1998
Автор(ы): JOHNSON Barry, Mastroianni Sal, Vasquez Barbara
Принадлежит: Motorola Inc
Wafer marking method, method of producing nitride semiconductor device and nitride semiconductor substrate
Номер патента: US20240274452A1. Автор: Kazunori Hagimoto,Shouzaburo GOTO. Владелец: Shin Etsu Handotai Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.