Method of monitoring and/or controlling a semiconductor manufacturing apparatus and a system therefor
Номер патента: US20030199108A1
Опубликовано: 23-10-2003
Автор(ы): Akira Kagoshima, Daisuke Shiraishi, Hideyuki Yamamoto, Hiroyuki Kitsunai, Junichi Tanaka, Shoji Ikuhara, Toshio Masuda
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-10-2003
Автор(ы): Akira Kagoshima, Daisuke Shiraishi, Hideyuki Yamamoto, Hiroyuki Kitsunai, Junichi Tanaka, Shoji Ikuhara, Toshio Masuda
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of monitoring and/or controlling a semiconductor manufacturing apparatus and a system therefor
Номер патента: US7058470B2. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Shoji Ikuhara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2006-06-06.