Phase shift mask defect repair method and defect repair device
Номер патента: JP3015646B2
Опубликовано: 06-03-2000
Автор(ы): 好 元 介 三, 村 勝 弥 奥
Принадлежит: Toshiba Corp
Опубликовано: 06-03-2000
Автор(ы): 好 元 介 三, 村 勝 弥 奥
Принадлежит: Toshiba Corp
Method for quartz bump defect repair with less substrate damage
Номер патента: US20070105027A1. Автор: Matthew Lamantia,Baorui Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-10.