Load lock chamber, vacuum processing system having load lock chamber, and method for exhausting load lock chamber
Номер патента: JP6602894B2
Опубликовано: 06-11-2019
Автор(ы): ヴォルフガング クライン,, トーマス ゲーベレ,, ラルフ リンデンベルク,
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 06-11-2019
Автор(ы): ヴォルフガング クライン,, トーマス ゲーベレ,, ラルフ リンデンベルク,
Принадлежит: Applied Materials Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Load lock chamber for large area substrate processing system
Номер патента: WO2010025253A3. Автор: Shinichi Kurita,Mehran Behdjat,Makoto Inagawa,Suhail Anwar. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-06-03.