半导体工艺中的智能图像跟踪系统
Номер патента: CN112912926A
Опубликовано: 04-06-2021
Автор(ы): 李昌雨, 李秀昌, 洪光珍, 裵允晟, 裵坰洙, 金珉成
Принадлежит: Green Information And Communications Ltd, Mujin Electronics Co ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-06-2021
Автор(ы): 李昌雨, 李秀昌, 洪光珍, 裵允晟, 裵坰洙, 金珉成
Принадлежит: Green Information And Communications Ltd, Mujin Electronics Co ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method and system for recognizing and addressing plasma discharge during semiconductor processes
Номер патента: US12100604B2. Автор: Chih-Yu Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.