Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

表面波等离子体加工设备

Номер патента: CN107369601A
Опубликовано: 21-11-2017
Автор(ы): 刘春明, 肖德志, 韦刚
Принадлежит: Beijing North Microelectronics Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Electron beam enhanced surface wave plasma source

Номер патента: WO2008033928A3. Автор: Lee Chen,Paul Moroz. Владелец: Paul Moroz. Дата публикации: 2008-07-17.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170259A1. Автор: Hiroshi Kondo,Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Microwave emission mechanism, microwave plasma source and surface wave plasma processing apparatus

Номер патента: US09520272B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yutaka Fujino,Yuki Osada,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Microwave plasma processing apparatus and microwave supplying method

Номер патента: US09633821B2. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11456157B2. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-27.

Dual-frequency surface wave plasma source

Номер патента: US20180138018A1. Автор: Alok Ranjan,Sergey A. Voronin,Jason MARION. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-17.

Microwave radiation antenna, microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US09548187B2. Автор: Hiroyuki Miyashita,Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino,Yuki Osada,Akira Tanihara,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-17.

Antenna for plasma generation, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09552966B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Surface wave plasma generating antenna and surface wave plasma processing apparatus

Номер патента: EP2495749A1. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-09-05.

Plasma processing apparatus and method for carrying out plasma processing by using such plasma processing apparatus

Номер патента: US5567268A. Автор: Shingo Kadomura. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1996-10-22.

Impedance matching circuit, power supply apparatus, and plasma processing equipment including same

Номер патента: US20230197411A1. Автор: GALSTYAN OGSEN,Hyun Jin Kim,Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Sung Suk WI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-12-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501B1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-04-20.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Plasma processing apparatus and assembly method of resonator array structure

Номер патента: US20240186114A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Shin Oowada,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Plasma processing systems and methods for chemical processing a substrate

Номер патента: WO2022046461A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Inductively coupled plasma source for plasma processing

Номер патента: US09653264B2. Автор: Dongsoo Lee,Andreas Kadavanich,Vladimir Nagorny. Владелец: Mattson Technology Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing system

Номер патента: US12112920B2. Автор: Jaewon Jeong,Juho Lee,Junghyun Cho,Daebeom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Power control and delivery in plasma processing equipment

Номер патента: US5556549A. Автор: Roger Patrick,Frank A. Bose. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 1996-09-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Power control method and device of lower radio frequency power supply and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240234088A1. Автор: Yu Zhang,JING Yang,JING Wei,Gang Wei,Guodao SHAN,Chenyu ZHONG,Yanyan YOU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Synchronization of plasma processing components

Номер патента: US20230268162A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2023-08-24.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System

Номер патента: US20230298857A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Systems and methods for extracting process control information from radiofrequency supply system of plasma processing system

Номер патента: US12131886B2. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09859101B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Antenna, dielectric window, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09595425B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Dielectric window, plasma processing system including the window, and method of fabricating semiconductor device using the system

Номер патента: US09812293B2. Автор: Dong-Wook Kim,Jung-hwan UM,Sung-moon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing coil

Номер патента: US20220108871A1. Автор: Naoki Fujiwara,Yohei Yamazawa,Takehisa SAITO,Daisuke Kurashina,Kaori Fujiwara,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US20150382442A1. Автор: Michael Mueller,Sam Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Voltage waveform generator for ion energy control in plasma processing

Номер патента: NL2033565B1. Автор: Lemmen Erik,YU Qihao,Joannes Daniël Vermulst Bastiaan. Владелец: Prodrive Tech Innovation Services B V. Дата публикации: 2024-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma Processing Methods Using Multiphase Multifrequency Bias Pulses

Номер патента: US20230411116A1. Автор: Alok Ranjan,Shyam Sridhar,Ya-Ming Chen,Peter Lowwell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355587A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: US20240355586A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09960016B2. Автор: Kumiko Ono,Koichi Nagami,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09852890B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09711331B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09544987B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Learning based tuning in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: WO2024123375A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-13.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: EP4283655A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Plasma process system for multi-station

Номер патента: US20240162006A1. Автор: Jin Huh,Sae Hoon Uhm,Se Hong PARK,Dong Jegal,Yeonghoon SOHN,Gyueng Hyuen CHOE. Владелец: En2Core Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-16.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing

Номер патента: US20230298856A1. Автор: James Rogers,Katsumasa Kawasaki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and apparatus for control of deposit build-up on an inner surface of a plasma processing chamber

Номер патента: WO1998044535A1. Автор: William S. Kennedy,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin,Albert J. Lamm. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-10-08.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: IL126393A. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-03-10.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: AU2532797A. Автор: Robert D. Dible,Stephen G. Bradley,Seved Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1997-10-22.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US12125679B2. Автор: Masahiro Inoue,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi,Yuto Kosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Microwave plasma processing apparatus, slot antenna, and semiconductor device

Номер патента: US09875882B2. Автор: Toshihiko Iwao,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Dielectric window supporting structure for inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09818581B1. Автор: Saeng Hyun Cho. Владелец: Vni Solution Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Window edge heater for high power plasma processing applications

Номер патента: WO2023219905A1. Автор: Dan Marohl,Craig Rosslee,Ambarish CHHATRE,David Setton. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-11-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing device capable of plasma shaping through magnetic field control

Номер патента: US9728377B2. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2017-08-08.

Method and apparatus for preventing instabilities in radio-frequency plasma processing

Номер патента: EP1671347A1. Автор: Michael Kishinevsky. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2006-06-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051570B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Methods for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US12057293B2. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma Processing Device Capable of Plasma Shaping through Magnetic Field Control

Номер патента: US20160300697A1. Автор: Ki Woong Whang,Hee Woon Cheong. Владелец: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION. Дата публикации: 2016-10-13.

Matching unit for semiconductor plasma processing apparatus

Номер патента: US20050098116A1. Автор: Yukio Sato,Katsumi Takahashi,Etsuo Yamagishi,Taku Fukada. Владелец: Pearl Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180174805A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Systems for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US20240347319A1. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus for plasma processing

Номер патента: US12119207B2. Автор: Merritt Funk,Barton Lane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Method and System for Plasma Processing

Номер патента: US20240347317A1. Автор: Qiang Wang,Alok Ranjan,Michael Hummel,Mitsunori Ohata,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus and methods for plasma processing

Номер патента: WO2024210967A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and Methods for Plasma Processing

Номер патента: US20240331979A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805916B2. Автор: Hiroo Konno,Shunsuke Kadooka. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Multi-range voltage sensor and method for a voltage controlled interface of a plasma processing system

Номер патента: US09741543B2. Автор: Gary M. Lemson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09640368B2. Автор: Shunichi Ito,Ryuji Ohtani,Naoyuki Umehara,Kazutaka Sei,Tomomasa Nishida. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110174440A9. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240079208A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170265A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Antenna assembly and plasma processing equipment including same

Номер патента: US20230197409A1. Автор: GALSTYAN OGSEN,Hyun Jin Kim,Jung Hwan Lee,Dong Jun Park,Sang Hyeok Ahn. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Plasma processing equipment

Номер патента: US20240203693A1. Автор: Ju Ho Kim,Song Yun Kang,Hee Won MIN,Seok Hwan BAE,Dong Yun YEO,Kui Hyun Yoon,Seung Bin Lim,Ji Yun JU,Seo Yeon Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing equipment

Номер патента: US11804367B2. Автор: Dong Hoon Kim,Hak Young KIM,Byeong Sang KIM,Hee Won MIN,Seok Hwan BAE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-31.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber

Номер патента: AU3079597A. Автор: Neil Benjamin,William S. Kennedy,Joel M. Cook,Thomas E. Wicker,Robert A. Maraschin. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1998-01-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20040040507A1. Автор: Muneo Furuse,Masanori Kadotani,Motohiko Yoshigai,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-04.

Controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US09887069B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Method and apparatus for the detection of arc events during the plasma processing of a wafer, surface of substrate

Номер патента: US09842726B2. Автор: Paul Maguire,Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma control method

Номер патента: US20240203692A1. Автор: Osamu Sakai,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shin Oowada,Kazushi Kaneko,Masaaki Matsukuma. Владелец: University of Shiga Prefecture. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US12009220B2. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Acoustic energy utilization in plasma processing

Номер патента: WO2013151898A1. Автор: Ian J. Kenworthy,Daniel A. Brown,Cliff E. LA CROIX,Josh A. CORMIER. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-10-10.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20240355634A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US09978593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020025686A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-28.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020023716A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing method of semiconductor manufacturing apparatus

Номер патента: US20110250758A1. Автор: Ki-sang Kim,Jong-Bum Kim,In-Joong Kim,Hyun-Su JUN,Seung-Heong Lee,Min-Woung Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-10-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Connect structure for semiconductor processing equipment

Номер патента: US12040163B2. Автор: Hung-Chih Wang,Sheng-Yuan Lin,Ming-Sze CHEN,Yuan-Hsin CHI. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Pulsed voltage source for plasma processing applications

Номер патента: US20240234087A1. Автор: Yang Yang,Fernando Silveira,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,A N M Wasekul AZAD. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing system and edge ring replacement method

Номер патента: US20240234102A9. Автор: Kenichi Kato,Shin Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing system

Номер патента: US20020144980A1. Автор: Shinya Hasegawa,Yoshimi Watabe,Yukito Nakagawa,Yoichiro Numasawa. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 2002-10-10.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Spark plasma sintered component for cryo-plasma processing chamber

Номер патента: WO2023183330A1. Автор: LIN Xu,John Daugherty,Harmeet Singh,Satish Srinivasan,Pankaj HAZARIKA. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2023-09-28.

Method for enhancing plasma processing performance by irradiating with light

Номер патента: EP1041615A3. Автор: Hui Chen,Peter Loewenhardt,John M. Yamartino,Diana Xiaobing Ma. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-04-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device

Номер патента: US20100176085A1. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods

Номер патента: WO2007142166A2. Автор: Kazuhiro Inoue,Hiroyuki Tsuji. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2007-12-13.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212992A1. Автор: Kiho Lee,Junghyun Cho,Sangho Lee,Sangheun LEE,Sangki NAM,Seoyeon CHOI,Kuihyun YOON,Changheon Lee,Jaemin Rhee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing devices having multi-port valve assemblies

Номер патента: US12100575B2. Автор: Michael C. Kellogg,Allan K. Ronne,James E. Tappan,Daniel A. Brown,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing assemblies including hinge assemblies

Номер патента: WO2013078003A1. Автор: Greg Sexton. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-30.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Pulsed voltage source for plasma processing applications

Номер патента: US12125673B2. Автор: Fabrice CUBAYNES,Dmitry GRISHIN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Symmetric plasma process chamber

Номер патента: US09741546B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,James D. Carducci,Zhigang Chen,Hamid Tavassoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US09741538B2. Автор: Tomohiro Okumura,Satoshi Suemasu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09490105B2. Автор: Masashi Saito,Manabu Sato,Masaru Sugimoto,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Akira Koshiishi,Noriyuki Kobayashi,Manabu Iwata,Hiroki Yamazaki,Chishio Koshimizu,Kazuo Kibi,Daisuke Yano,Yohei Yamazawa,Toshihiro Hayami,Kunihiko Hinata,Ryuji Ohtani,Yoshinobu Ohya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Plasma processing apparatus, plasma processing method and high frequency generator

Номер патента: US09418822B2. Автор: Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Koji Koyama,Kiyotaka Ishibashi,Kazushi Kaneko,Kazunori Funazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Plasma processing system and method of processing substrate

Номер патента: US12020898B2. Автор: Akihiro Yokota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A2. Автор: John E. Cronin,Murray D. Sirkis,Eric J. Strang,Yu Wang Bibby. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2002-01-31.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: EP1695370A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger James Wilshire Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A3. Автор: John E Cronin,Yu Wang Bibby,Eric J Strang,Murray D Sirkis. Владелец: Murray D Sirkis. Дата публикации: 2002-06-20.

Multi-phase dc plasma processing system

Номер патента: WO1996024153A1. Автор: Geoffrey N. Drummond. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 1996-08-08.

Plasma process simulation method and semiconductor device manufacturing method including the same

Номер патента: US20240274416A1. Автор: Seungmin Lee,Inkook Jang,Suntaek LIM,Dongig OH,Jaesik An,Joohyun JEON,Thanh Cuong Nguyen. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

High frequency antenna and plasma processing device

Номер патента: EP3896717A1. Автор: Akinori Ebe,Hajime Tsuda,Hideki Moriuchi. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2021-10-20.

Power supply device for plasma processing

Номер патента: US09997903B2. Автор: Albert Bulliard,Benoit Fragnière,Joël Oehen. Владелец: Solvix GmbH. Дата публикации: 2018-06-12.

Atmospheric-pressure plasma processing apparatus for substrates

Номер патента: US09892907B2. Автор: Wenbin Hu,Wentong HUANG. Владелец: Hefei BOE Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09779919B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masahito Mori,Takao Arase,Takamasa ICHINO,Yuusuke Takegawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma process chambers employing distribution grids having focusing surfaces thereon enabling angled fluxes to reach a substrate, and related methods

Номер патента: US09534289B2. Автор: Jun Xue,Qiwei Liang,Ludovic Godet. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-01-03.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US09514918B2. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Feedforward temperature control for plasma processing apparatus

Номер патента: US09338871B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Douglas A. Buchberger, Jr.,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Chunlei Zhang,Shane C. NEVIL,Walter R. Merry,Duy D. Nguyen,Brad L. MAYS,Chetan MAHADESWARASWAMY,Fernando M. SILVEIRA,Yashaswini B. PATTAR,Tina TSONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Methods and Systems for Feedback Control in Plasma Processing Using Radical Sensing

Номер патента: US20230369033A1. Автор: Michael Harris,James Blessing,Keith K. Koai,Chenglong Yang,Jimmy Liu,Guy Rosenzweig. Владелец: MKS Instruments Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Monitor of plasma processes with multivariate statistical analysis of plasma emission spectra

Номер патента: WO1999021210A1. Автор: Herbert H. Sawin,Minh Le,Taber H. Smith,Duane S. Boning,Kuang Han Chen. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1999-04-29.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20210142985A1. Автор: Akira Koshiishi,Jongwoo SUN,Yongwoo Lee,Masato Horiguchi,Dowon Kim,Yunhwan Kim,Kyohyeok KIM,Youngjin Noh,Taeil Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A3. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Saurabh J Ullal. Дата публикации: 2008-07-31.

Faraday cleaning device and plasma processing system

Номер патента: US11735400B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-22.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A2. Автор: Anthony de la Llera,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-05-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046452B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US20220297168A1. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2022-09-22.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US20150221482A1. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384154A1. Автор: Kazuya Matsumoto,Atsushi Sasaki,Shingo Takahashi,Koichi Nagami,Yusuke HAYASAKA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393058A1. Автор: Tsutomu Nakamura,Hiroho Kitada,Hideki Kihara,Masatoshi Kawakami,Hironori Kusumoto,Hidenobu Tanimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Rotatable faraday cleaning apparatus and plasma processing system

Номер патента: US12009188B2. Автор: NA Li,Haiyang Liu,Xiaobo Liu,Zhihao WU,Song Guo,Dongdong HU,Shiran CHENG,Kaidong Xu. Владелец: Jiangsu Leuven Instruments Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Apparatus for indirect atmospheric pressure plasma processing

Номер патента: US12080525B2. Автор: Erwin Van Hoof,Annick Vanhulsel,Jan Cools. Владелец: VITO NV. Дата публикации: 2024-09-03.

Computer-implemented data presentation techniques for a plasma processing system

Номер патента: WO2006036893B1. Автор: Andrew D Bailey Iii,Puneet Yadav. Владелец: Puneet Yadav. Дата публикации: 2006-06-01.

Plasma processing apparatus with reduced parasitic capacity and loss in RF power

Номер патента: US20040238126A1. Автор: Akihiro Kojima,Kazuhiro Tomioka,Hisataka Hayashi,Itsuko Sakai,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Electrostatic Chuck Assembly for Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240282614A1. Автор: Maolin Long. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus, control method, power supply system, and storage medium

Номер патента: US20240304418A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331978A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12125685B2. Автор: Yoshihisa Hirano,Jae Hoon Kim,Young Jin Noh,Jun Soo Lee,Sung Moon Park,Hyung Kyu Choi,Seung Kyu Lim,Kyeong Seok Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US09991100B2. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing device

Номер патента: US09922803B2. Автор: Chien Chou,Chi-Hsien Huang,Chao-Sung Lai,Chu-Fa Chan. Владелец: Chang Gung University CGU. Дата публикации: 2018-03-20.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321550A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Electrode assembly and plasma processing apparatus

Номер патента: US09520276B2. Автор: Takashi Suzuki,Takashi Yamamoto,Masato Horiguchi,Chikako Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Bias voltage frequency controlled angular ion distribution in plasma processing

Номер патента: US09520267B2. Автор: Jun Xue,Ludovic Godet,Prashanth Kothnur,Umesh M. Kelkar,Matthew D. Scotney-Castle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Method of detecting arc discharge in a plasma process

Номер патента: US09484189B2. Автор: Markus Winterhalter,Peter Wiedemuth. Владелец: Trumpf Huettinger GmbH and Co KG. Дата публикации: 2016-11-01.

Ion beam generator and ion beam plasma processing apparatus

Номер патента: US09422623B2. Автор: Yasushi Kamiya,Einstein Noel Abarra,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Temperature measuring method and plasma processing system

Номер патента: US09412565B2. Автор: Takahiro Senda,Naoki Matsumoto,Yusuke Yoshida,Masayuki Kohno,Ryou Son. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Lower electrode assembly of plasma processing chamber

Номер патента: US09412555B2. Автор: Brett C. Richardson,Harmeet Singh,Jason Augustino,Quan Chau,Keith William Gaff,Hanh Tuong Ha. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US10062547B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Kazuo Murakami,Naoki Mihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-08-28.

Plasma processing method

Номер патента: US20060249481A1. Автор: Takashi Fuse. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-11-09.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: WO2024208908A1. Автор: Wojciech Gajewski,Anna Oniszczuk,Piotr Różański,Cezary KAMINSKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp. Z O. O.. Дата публикации: 2024-10-10.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A3. Автор: Bhola N De,Charles N Vannutt,Jonathan Ishii. Владелец: Materials Research Corp. Дата публикации: 1996-08-29.

Method and apparatus for reducing arcing in plasma processing chambers

Номер патента: WO1996014653A2. Автор: Jonathan Ishii,Charles N. Vannutt,Bhola N. De. Владелец: Materials Research Corporation. Дата публикации: 1996-05-17.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing system utilizing combined anode/ion source

Номер патента: AU6589398A. Автор: Barry W. Manley. Владелец: Sierra Applied Sciences Inc. Дата публикации: 1998-11-13.

Method for operation instability detection in a surface wave plasma source

Номер патента: US20180005805A1. Автор: Alok Ranjan,Sergey Voronin,Jason MARION. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Stable surface wave plasma source

Номер патента: WO2011031571A1. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao,Ronald V. BRAVENEC. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2011-03-17.

Stable surface wave plasma source

Номер патента: US20130264938A1. Автор: Lee Chen,Merritt Funk,Jianping Zhao,Ronald V. BRAVENEC. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230317421A1. Автор: Kenichi KOTE,Takafumi Nogami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing equipment and gas distribution apparatus thereof

Номер патента: US09540732B2. Автор: Liqiang Yao. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Instantaneous and efficient surface wave excitation of a low pressure gas or gases

Номер патента: CA1260531A. Автор: Donald J. Levy,Samuel M. Berman. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 1989-09-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235425A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Masayuki Kitamura,Kazuaki Nishimura,Masaki Hirayama,Shinsuke Oka,Takahiro Horiguchi. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2007-10-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US7432468B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masayuki Kitamura,Kazuaki Nishimura,Masaki Hirayama,Shinsuke Oka,Takahiro Horiguchi. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2008-10-07.

Electromagnetic-wave plasma light source based on radiation-permeable waveguide

Номер патента: RU2584681C2. Автор: Эндрю Саймон Нит,Барри ПРЕСТОН. Владелец: Серавижн Лимитед. Дата публикации: 2016-05-20.

Dense oxide coated component of a plasma processing chamber and method of manufacture thereof

Номер патента: US09546432B2. Автор: Tom Stevenson,LIN Xu,Hong Shih,Sivakami Ramanathan,John Daugherty,Robert G. O'Neill,John Michael Kerns,William Charles,Russell Ormond. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Magnet holding structures for plasma processing applications

Номер патента: WO2022086709A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-28.

Semiconductor processing equipment having tiled ceramic liner

Номер патента: EP1138055A1. Автор: William S. Kennedy,Robert A. Maraschin,Jerome S. Hubacek. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2001-10-04.

Magnetic holding structures for plasma processing applications

Номер патента: US20240297059A1. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Method and apparatus for time-division plasma chopping in a multi-channel plasma processing equipment

Номер патента: US5405492A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Semiconductor processing equipment including electrostatic chuck for plasma processing

Номер патента: US11862440B2. Автор: Jongwoo SUN,Jinyoung Park,Hyungjoo Lee,Jeongil MUN. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-02.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US20160163518A1. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Method of installing elastomer ring in semiconductor processing equipment and guiding sheet and jig used in installing elastomer ring

Номер патента: US10153140B2. Автор: Chun-Yao Huang,Yo-Yu CHANG. Владелец: Mfc Sealing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Semiconductor processing equipment and impedance-matching method

Номер патента: US20240249917A1. Автор: JING Yang,Di Zhang,Gang Wei,Wenqing Li,Shuqi JIANG. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Lucent waveguide electromagnetic wave plasma light source

Номер патента: WO2013167879A2. Автор: Andrew Simon Neate. Владелец: Ceravision Limited. Дата публикации: 2013-11-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Method of surface plasma processing

Номер патента: RU2426608C2. Автор: МИХЕЛЬ Томас,Ойген ШЛИТТЕНХАРДТ. Владелец: Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фёрдерунг Дер Ангевандтен Форшунг Э.Ф.. Дата публикации: 2011-08-20.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: WO2018197699A1. Автор: Pawel Ozimek,Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG. Дата публикации: 2018-11-01.

Power converter unit, plasma processing equipment and method of controlling several plasma processes

Номер патента: EP3616232A1. Автор: Jan Peter ENGELSTAEDTER,Krzysztof Ruda,Jakub SWIATNICKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2020-03-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Precleaning chamber and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170330769A1. Автор: Peng Chen,Peijun Ding,Kui Xu,Mengxin Zhao,qing She,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

Номер патента: WO2016014442A1. Автор: HAITAO Wang,Jie Zhou,Chunlei Zhang,S. M. Reza Sadjadi,Tza-Jing Gung,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-28.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US09543157B2. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Magnetic holding structures for plasma processing applications

Номер патента: US12020965B2. Автор: Canfeng Lai,Andrew Nguyen,Kallol Bera,Sathya Swaroop GANTA. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing device

Номер патента: US20220277932A1. Автор: Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-01.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Method For Processing Workpiece, Plasma Processing Apparatus And Semiconductor Device

Номер патента: US20230005739A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus

Номер патента: US09934946B2. Автор: Yohei Kawaguchi,Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma processing device

Номер патента: US09670584B2. Автор: Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma-processing apparatus with upper electrode plate and method for performing plasma treatment process

Номер патента: US09431221B2. Автор: Chih-ching Cheng,Po-Ju Chen,Xiao-Meng Chen,Hsin-Yi Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Diamond like carbon layer formed by an electron beam plasma process

Номер патента: EP3475971A1. Автор: Yang Yang,Chentsau Ying,Srinivas D. Nemani,Jie Zhou,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,James D. Carducci,Jingjing Liu,Gonzalo MONROY,Lucy Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-05-01.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Diagnosis device, diagnosis method, plasma processing apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240213003A1. Автор: Kenji Tamaki,Shota Umeda,Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing assembly using pulsed-voltage and radio-frequency power

Номер патента: US11776789B2. Автор: Kartik Ramaswamy,James Rogers,Rajinder Dhindsa,Olivier Luere,Yue Guo,Leonid Dorf,Evgeny KAMENETSKIY,Linying CUI,Valentin N. Todorow,Daniel Sang BYUN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing method and resist pattern modifying method

Номер патента: US20100055911A1. Автор: Jin Fujihara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-03-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Method of CVD plasma processing with a toroidal plasma processing apparatus

Номер патента: US09909215B2. Автор: William Holber,Robert J. BASNETT. Владелец: PLASMABILITY LLC. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US09627183B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Member for plasma processing device and plasma processing device provided with same

Номер патента: US12065727B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus, electrostatic attraction method, and electrostatic attraction program

Номер патента: US11764038B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama,Naoki Tamaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12071687B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09911577B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US09601330B2. Автор: Tomohiro Okumura,Hiroshi Kawaura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process

Номер патента: US09455133B2. Автор: LIN Xu,Lee Chen,Kazuki Denpoh,Peter L G Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09455126B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US09431263B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

Номер патента: US09426875B2. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: US09336996B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Method for cleaning plasma processing chamber and substrate

Номер патента: US09595448B2. Автор: Yu-Cheng Liu,Shih-Ping Hong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Electrode plate for plasma processing apparatus and method for regenerating electrode plate for plasma processing apparatus

Номер патента: US20200043707A1. Автор: Satoshi Nomura,Syuji Fujimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-06.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Apparatus for monitoring a plasma process

Номер патента: US20230317439A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Taekjin Kim,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Apparatus for plasma processing on optical surfaces and methods of manufacturing and use thereof

Номер патента: WO2018045285A1. Автор: Mark Andrew Franklin,Addison Randolph CROCKETT. Владелец: Mark Andrew Franklin. Дата публикации: 2018-03-08.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Atmospheric plasma processing systems and methods for manufacture of microelectronic workpieces

Номер патента: US20180096827A1. Автор: Anton J. deVilliers,Mirko Vukovic,Brandon Byrns. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing method

Номер патента: US20040157447A1. Автор: Tomohiro Okumura,Mitsuo Saitoh. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-12.

Plasma processing method

Номер патента: US20240203751A1. Автор: Tatsuya Hayashi,Mineaki Kodama,Masashi Kawabata,Tomoyoshi Ichimaru,Yujiro YONEDA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and method of replacing focus ring

Номер патента: US12094693B2. Автор: Zengdi LIAN,Rason Zuo,Dee Wu,Jiangtao PEI. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US12106945B2. Автор: Takafumi Noguchi,SIQING Lu,Cheonkyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing electronic component

Номер патента: US09786472B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Shogo Okita,Syouzou Watanabe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12112921B2. Автор: Hiroyuki Ikuta,Yutaka Fujino,Hirokazu Ueda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

System, method, and program for predicting processing shape by plasma process

Номер патента: US09620338B2. Автор: Seiji Samukawa,Kohei Ono,Takuya Iwasaki. Владелец: Mizuho Information and Research Institute Inc. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Component of a plasma processing apparatus having a protective in situ formed layer on a plasma exposed surface

Номер патента: US09449797B2. Автор: Harmeet Singh,Thorsten Lill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

A controller for a matching unit of a plasma processing system

Номер патента: US20220404785A1. Автор: Peter Daly,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon,Ian OLIVIERI. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2022-12-22.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing mounting stage

Номер патента: US12033886B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akira Nagayama,Ryo Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing system

Номер патента: US20200219707A1. Автор: Woohyun Jeong. Владелец: Xia Tai Xin Semiconductor Qing Dao Ltd. Дата публикации: 2020-07-09.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Determining an optimal ion energy for plasma processing of a dielectric substrate

Номер патента: EP4038656A1. Автор: Bastiaan Joannes Daniël VERMULST,Erik Lemmen,Qihao YU. Владелец: Prodrive Technologies Innovation Services BV. Дата публикации: 2022-08-10.

Determining an optimal ion energy for plasma processing of a dielectric substrate

Номер патента: WO2021064110A1. Автор: Bastiaan Joannes Daniël VERMULST,Erik Lemmen,Qihao YU. Владелец: PRODRIVE TECHNOLOGIES B.V.. Дата публикации: 2021-04-08.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Multi-zone heating apparatus, bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and temperature adjusting method

Номер патента: US12046458B2. Автор: Jie Du,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Switchable matching network and an inductively coupled plasma processing apparatus having such network

Номер патента: US20200090908A1. Автор: Hiroshi Iizuka,Tuqiang Ni,Kui Zhao,Xiaobei Pang. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2020-03-19.

Method for manufacturing electrode plate for plasma processing device

Номер патента: US5961361A. Автор: Shosuke Endoh,Masaaki Mitsuno. Владелец: Tokai Carbon Co Ltd. Дата публикации: 1999-10-05.

Plasma processing method

Номер патента: US12074033B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Masahito Mori,Ryota Takahashi,Chaomei Liu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Guard aperture to control ion angular distribution in plasma processing

Номер патента: US20160093409A1. Автор: Ludovic Godet,Sang Ki Nam. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-03-31.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20080280451A1. Автор: Tsunehiko Tsubone,Ken Yoshioka,Mamoru Yakushiji,Yutaka Kouzuma,Yutaka Ohmoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Restoring method for inner wall member of plasma processing apparatus

Номер патента: US20240240300A1. Автор: Taku Watanabe,Tadayoshi Kawaguchi,Shoichiro Mizunashi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, program, and memory medium

Номер патента: EP4425529A2. Автор: Tadashi Inoue,Masaharu Tanabe,Atsushi Takeda,Tatsunori SATO,Kazunari Sekiya,Hiroshi Sasamoto,Nobuaki Tsuchiya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing method

Номер патента: US20240304456A1. Автор: Makoto Miura,Koichi Takasaki,Makoto Satake. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Component for plasma processing apparatus and method for manufacturing component for plasma processing apparatus

Номер патента: US09988702B2. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing chamber with a grounded electrode assembly

Номер патента: US09905402B2. Автор: Arnold Kholodenko,Anwar Husain. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus and method therefor

Номер патента: US09620336B2. Автор: Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583355B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Nobuhiro Nishizaki,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing method

Номер патента: US09384992B2. Автор: Manabu Sato,Takanori Sato,Kazuki Narishige. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-07-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079041A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Electrostatic chuck and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20200161157A1. Автор: SeungBo SHIM,Myungsun Choi,Yongwoo Lee,Jaehak LEE,Youngjin Noh,Minyoung HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing apparatus and plasma etching method

Номер патента: US20200286737A1. Автор: Toshifumi Nagaiwa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US20200195216A1. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-06-18.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US20190149119A1. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-05-16.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US20220158604A1. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US10622962B2. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2020-04-14.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297021A1. Автор: Yoshinori Yoshida,Yutaka Kouzuma,Kazuyuki Hirozane. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20190371635A1. Автор: Tomoya Oori. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-05.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Electrostatic chuck assembly for plasma processing apparatus

Номер патента: US12119254B2. Автор: Maolin Long,Weimin Zeng. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Electrostatic Chuck and Method of Operation for Plasma Processing

Номер патента: US20240355593A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Electrostatic chuck and method of operation for plasma processing

Номер патента: WO2024220139A1. Автор: Melvin VERBAAS,Einosuke Tsuda. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Chuck for plasma processing chamber

Номер патента: US12131890B2. Автор: Darrell EHRLICH,Ann Erickson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09767993B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-19.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: US09728429B2. Автор: Saurabh Ullal,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Insulated dielectric window assembly of an inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09437400B2. Автор: Brett C. Richardson,David Setton,Gautam Bhattacharyya. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma-enhanced etching in an augmented plasma processing system

Номер патента: US09418859B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09396910B2. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

Plasma treatment process for in-situ chamber cleaning efficiency enhancement in plasma processing chamber

Номер патента: US10002745B2. Автор: LIN Zhang,Xuesong Lu,Andrew V. Le,Jang Seok Oh,Xinhai Han. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-06-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20110092073A1. Автор: Takashi Hosono,Makoto Muto,Hideyuki Nitta,Takefumi Minato,Yoshihisa Kase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Plasma processing method

Номер патента: US20170207068A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-07-20.

Method and apparatus for realtime wafer potential measurement in a plasma processing chamber

Номер патента: WO2023096730A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-06-01.

Plasma processing apparatus, data processing apparatus and data processing method

Номер патента: US20160336154A1. Автор: Seiichi Watanabe,Satomi Inoue,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371832A1. Автор: Yukinori Aburatani,Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toshiya Shimada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Structure and method for dealing with parasitic plasma in plasma processing device

Номер патента: EP4353865A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Broadband Plasma Processing Systems and Methods

Номер патента: US20210082667A1. Автор: Peter Ventzek,Jianping Zhao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Plasma processing method

Номер патента: US20100029024A1. Автор: Kenji Maeda,Masatoshi Miyake,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US11990323B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-21.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200227241A1. Автор: Seiji Yokoyama,Shunichi Kawasaki,Taichi Okano,Sho Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Scalable multi-role surface-wave plasma generator

Номер патента: US09867269B2. Автор: David N. Ruzic,Brian E. Jurczyk,Robert A. Stubbers. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2018-01-09.

Scalable multi-role surface-wave plasma generator

Номер патента: WO2014146008A3. Автор: David N. Ruzic,Brian E. Jurczyk,Michael P. Reilly,Piyum ZOONOZ,Robert S. STUBBERS. Владелец: Starfire Industries LLC. Дата публикации: 2014-11-06.

Flexible surface wave generator applicable to curved surfaces, and system and method for surface wave communication using same

Номер патента: US20240234998A9. Автор: Bu Young KIM,Woo Seong Shim,Jin Woo Kong. Владелец: Sunny Wave Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Flexible surface wave generator applicable to curved surfaces, and system and method for surface wave communication using same

Номер патента: US20240136695A1. Автор: Bu Young KIM,Woo Seong Shim,Jin Woo Kong. Владелец: Sunny Wave Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Surface wave generator attachable on ship metal body for communication

Номер патента: US20230187806A1. Автор: Hak Sun Kim,Bu Young KIM,Woo Seong Shim,Jin Woo Kong. Владелец: Sunnywavetech. Дата публикации: 2023-06-15.

Surface wave generator attachable on ship metal body for communication

Номер патента: EP4199244A1. Автор: Haksun Kim,Bu Young KIM,Woo Seong Shim,Jinwoo KONG. Владелец: Sunnywavetech. Дата публикации: 2023-06-21.

Surface wave generator attachable on ship metal body for communication

Номер патента: US12149302B2. Автор: Hak Sun Kim,Bu Young KIM,Woo Seong Shim,Jin Woo Kong. Владелец: Sunnywavetech. Дата публикации: 2024-11-19.

Superposition of guided surface waves on lossy media

Номер патента: US09893402B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-02-13.

Surface wave antenna, antenna array and use of antenna or antenna array

Номер патента: RU2707659C2. Автор: Матильд БЕЛЛЕК,Жан-Ив ЛОРАН,Себастьен ПАЛЮ,Пьер-Ив ЖЕЗЕКЕЛЬ,Франк КОЛОМБЕЛЬ,Стефан АВРИЙОН. Владелец: Юниверсите Де Ренн 1. Дата публикации: 2019-11-28.

Surface wave communication system and methods for use therewith

Номер патента: US20190296795A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Thomas M. Willis, III,Paul Shala Henry. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2019-09-26.

Variable frequency receivers for guided surface wave transmissions

Номер патента: US20180159374A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-06-07.

Surface wave communication system and methods for use therewith

Номер патента: US20200145049A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Thomas M. Willis, III,Paul Shala Henry. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2020-05-07.

Surface wave communication system and methods for use therewith

Номер патента: WO2019190801A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Paul Shala Henry,III Thomas M. WILLIS. Владелец: AT&T Intellectual Property I, L.P.. Дата публикации: 2019-10-03.

Antenna for downhole communication using surface waves

Номер патента: US09638027B2. Автор: Mark W. Roberson. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2017-05-02.

Coaxial surface wave communication system and methods for use therewith

Номер патента: US20190296796A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Thomas M. Willis, III,Paul Shala Henry. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2019-09-26.

Site preparation for guided surface wave transmission in a lossy media

Номер патента: US09960470B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Basil F. Pinzone, Jr.,Stephen W. WILSON. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-05-01.

Surface wave launcher for high-speed data links over high-voltage power lines with loss compensation structure

Номер патента: US12137517B2. Автор: Manish Sharma,Ajay Sharma,Ramaswamy Parthasarathy,Jayprakash Thakur,Satish Ramachandra,Vishram Shriram Pandit,Vaibhavdeep SINGH,Ravichandra TUNGANI CHIKKABASAVAIAH,Rajiv PANIGRAHI,Neel Harkishin BHATIA. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-11-05.

Apparatus and system of surface wave mitigation for multiple-input-multiple-output (MIMO) radar antenna

Номер патента: US12013481B2. Автор: Ofer Markish,Arnaud Lucres AMADJIKPE,Tae Young Yang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Variable frequency receivers for guided surface wave transmissions

Номер патента: US09887587B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-02-06.

Changing guided surface wave transmissions to follow load conditions

Номер патента: US09887585B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,Joseph F. Pinzone. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-02-06.

Coupling device, surface wave coupling method and open wire surface wave wireless coverage system

Номер патента: US11888547B2. Автор: Hua Gao. Владелец: Xian Zhongxing New Software Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Surface wave based wireless connection to an electronic device

Номер патента: US11750242B2. Автор: Karthik Yogeeswaran,Apoorva Sharma. Владелец: Meta Platforms Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Surface Wave Based Wireless Connection to an Electronic Device

Номер патента: US20210119667A1. Автор: Apoorva Sharma,Karthik Gamal Yogeeswaran. Владелец: Facebook Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Flexible surface wave generator applicable to curved surfaces, and system and method for surface wave communication using same

Номер патента: EP4362216A1. Автор: Bu Young KIM,Woo Seong Shim,Jin Woo Kong. Владелец: Sunny Wave Tech Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-01.

Shielded surface wave transmission line

Номер патента: US4291289A. Автор: Gerald F. Ross,Harry M. Cronson,Basrur R. Rao. Владелец: Sperry Corp. Дата публикации: 1981-09-22.

Remote surface sensing using guided surface wave modes on lossy media

Номер патента: US10101444B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-10-16.

Excitation and use of guided surface wave modes on lossy media

Номер патента: US09910144B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-03-06.

Dual-polarization, circularly-polarized, surface-wave-waveguide, artificial-impedance-surface antenna

Номер патента: WO2015195718A1. Автор: Daniel J. Gregoire. Владелец: HRL LABORATORIES, LLC. Дата публикации: 2015-12-23.

Dual-polarization, circularly-polarized, surface-wave-waveguide, artificial-impedance-surface antenna

Номер патента: EP3158607A1. Автор: Daniel J. Gregoire. Владелец: HRL LABORATORIES LLC. Дата публикации: 2017-04-26.

Surface wave suppression on antenna devices for an automotive radar antenna system

Номер патента: EP4441844A1. Автор: Simon TEJERO ALFAGEME,Jordi BALCELLS VENTURA,Claudia VASANELLI,Jonathan ALVAREZ,Sergio Duque Biarge,Alberto PEREZ MONJAS. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-09.

Guided surface wave transmission of multiple frequencies in a lossy media

Номер патента: US09882397B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-01-30.

Monolithic nonlinear transmission lines and sampling circuits with reduced shock-wave-to-surface-wave coupling

Номер патента: US6894581B2. Автор: Karam Michael Noujeim. Владелец: Anritsu Co. Дата публикации: 2005-05-17.

Multidirectional feed and flush-mounted surface wave antenna

Номер патента: CA1258708A. Автор: Michael J. Gans. Владелец: American Telephone and Telegraph Co Inc. Дата публикации: 1989-08-22.

Planar surface wave launcher and methods for use therewith

Номер патента: WO2019190826A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Paul Shala Henry,III Thomas M. WILLIS. Владелец: AT&T Intellectual Property I, L.P.. Дата публикации: 2019-10-03.

Conformal Surface Wave Feed

Номер патента: US20130285871A1. Автор: Daniel J. Gregoire. Владелец: HRL LABORATORIES LLC. Дата публикации: 2013-10-31.

Surface wave launcher for high-speed data links over high-voltage power lines with loss compensation structure

Номер патента: EP3989359A3. Автор: Manish Sharma,Ajay Sharma,Vishram Pandit,Ramaswamy Parthasarathy,Jayprakash Thakur,Satish Ramachandra,Neel BHATIA,Vaibhavdeep SINGH,Ravichandra TUNGANI CHIKKABASAVAIAH,Rajiv PANIGRAHI. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-06-22.

Surface wave excitation device and printed circuit board

Номер патента: EP3823091A1. Автор: YUE Wen,Chao Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-05-19.

Surface-wave waveguide with conductive sidewalls and application in antennas

Номер патента: CA2892643C. Автор: Daniel J. Gregoire,Amit M. Patel. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-05-15.

Surface wave launcher

Номер патента: US20160372812A1. Автор: Michael Jessup. Владелец: Roke Manor Research Ltd. Дата публикации: 2016-12-22.

Changing guided surface wave transmissions to follow load conditions

Номер патента: US20180145540A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,Joseph F. Pinzone. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-05-24.

Apparatus and system of surface wave mitigation for multiple-input-multiple-output (mimo) radar antenna

Номер патента: US20230176178A1. Автор: Ofer Markish,Arnaud Lucres AMADJIKPE,Tae Young Yang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Antenna for improving influence of surface waves and increasing beamwidth

Номер патента: EP3846285A1. Автор: Shin-Lung KUO,Guan-Yi Li. Владелец: Arcadyan Technology Corp. Дата публикации: 2021-07-07.

Coupling device between an electromagnetic surface wave line and an external microstrip line

Номер патента: CA1256518A. Автор: Gerard Forterre,Julien Prevot. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1989-06-27.

Antenna design for surface wave suppression

Номер патента: US3579242A. Автор: William L Grantham. Владелец: National Aeronautics and Space Administration NASA. Дата публикации: 1971-05-18.

Surface wave excitation plasma CVD system

Номер патента: US20050109279A1. Автор: Masayasu Suzuki. Владелец: Shimadzu Corp. Дата публикации: 2005-05-26.

Radar antenna array with parasitic elements excited by surface waves

Номер патента: EP3482456A2. Автор: Russell Smith,Jamal ISADIAN. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2019-05-15.

Radar antenna array with parasitic elements excited by surface waves

Номер патента: WO2018071069A2. Автор: Russell Smith,Jamal ISADIAN. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2018-04-19.

Radar antenna array with parasitic elements excited by surface waves

Номер патента: US20200052413A1. Автор: Russell Smith,Jamal Izadian. Владелец: Waymo LLC. Дата публикации: 2020-02-13.

Apparatus and system of surface wave mitigation for multiple-input-multiple-output (mimo) radar antenna

Номер патента: US20200225314A1. Автор: Ofer Markish,Arnaud Lucres AMADJIKPE,Tae Young Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-07-16.

Variable frequency receivers for guided surface wave transmissions

Номер патента: EP3192151A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2017-07-19.

Apparatus and system of surface wave mitigation for multiple-input-multiple-output (mimo) radar antenna

Номер патента: EP3886259A1. Автор: Ofer Markish,Tae-Young Yang,Arnaud Amadjikpe. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-09-29.

Changing guided surface wave transmissions to follow load conditions

Номер патента: US20170070092A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,Joseph F. Pinzone. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2017-03-09.

Excitation and use of guided surface wave modes on lossy media

Номер патента: US20200287264A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2020-09-10.

Top surface wave antenna of spherical tokamak

Номер патента: US20240030616A1. Автор: LIANG Zhu,Qing Zhou,Yaoyao Wang,Zhenxing WANG,Wendong Ma,Chengzhou Liu,Jiafang Shan. Владелец: Anhui Agricultural University AHAU. Дата публикации: 2024-01-25.

Broadband dual polarized radiator for surface wave transmission line

Номер патента: US4772891A. Автор: Kosal Svy. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 1988-09-20.

Embedded surface wave antenna

Номер патента: AU4776990A. Автор: Farzin Lalezari,Theresa A. Cronin,Michael G. Munson. Владелец: Ball Corp. Дата публикации: 1991-07-18.

Anisotropic constitutive parameters for launching a zenneck surface wave

Номер патента: US20220214389A1. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2022-07-07.

Broadband magnetostatic surface wave devices with customizable frequency response

Номер патента: US20230261354A1. Автор: Scott M. Gillette,Piotr Kulik,Dayton Engstrom,Michael Geiler. Владелец: Metamagnetics Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Anisotropic constitutive parameters for launching a zenneck surface wave

Номер патента: US20210172988A1. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2021-06-10.

Anisotropic constitutive parameters for launching a Zenneck surface wave

Номер патента: AU2020401124A1. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2022-05-19.

Anisotropic constitutive parameters for launching a zenneck surface wave

Номер патента: CA3157768C. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2024-02-13.

Anisotropic constitutive parameters for launching a Zenneck surface wave

Номер патента: AU2020401124B2. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2024-02-08.

Anisotropic constitutive parameters for launching a zenneck surface wave

Номер патента: CA3157768A1. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2021-06-17.

Anisotropic constitutive parameters for launching a zenneck surface wave

Номер патента: EP4073885A1. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2022-10-19.

Anisotropic constitutive parameters for launching a zenneck surface wave

Номер патента: WO2021119077A1. Автор: James D. Lilly,Buford Randall Jean,Benjamin J. Tinlin. Владелец: CPG Technologies, LLC. Дата публикации: 2021-06-17.

Radio surface wave antenna

Номер патента: US3705407A. Автор: Arthur F Wickersham. Владелец: Stanford Research Institute. Дата публикации: 1972-12-05.

Guided surface wave transmission of multiple frequencies in a lossy media

Номер патента: AU2015315218B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2019-09-26.

Excitation and use of guided surface wave modes on lossy media

Номер патента: US20180183128A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-06-28.

Guided Surface Wave Transmission of Multiple Frequencies in a Lossy Media

Номер патента: US20180138719A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-05-17.

Surface wave suppression on antenna devices for an automotive radar antenna system

Номер патента: WO2023165675A1. Автор: Simon TEJERO ALFAGEME,Jordi BALCELLS VENTURA,Claudia VASANELLI,Jonathan ALVAREZ,Sergio Duque Biarge,Alberto PEREZ MONJAS. Владелец: Huawei Technologies Co., Ltd.. Дата публикации: 2023-09-07.

Antenna for improving influence of surface waves and increasing beamwidth

Номер патента: US11909105B2. Автор: Shin-Lung KUO,Guan-Yi Li. Владелец: Arcadyan Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Weighting surface wave filters by withdrawing electrodes

Номер патента: US3946342A. Автор: Clinton S. Hartmann. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1976-03-23.

Surface wave radar system including antenna array

Номер патента: GB2412029A. Автор: Pavel Turcaj,Nicholas Keith Spencer,Robert M Ellard,Yuriy Lyudviga,Yuri Abramovich. Владелец: Telstra Corp Ltd. Дата публикации: 2005-09-14.

Surface wave radar

Номер патента: CA2901610C. Автор: Pavel Turcaj,Nicholas Keith Spencer,Yuriy Lyudviga,Yuri Abramovich,Robert M. Ellard. Владелец: Telstra Corp Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Surface wave excitation device having a multi-layer PCB construction with closed regions therein

Номер патента: US11605870B2. Автор: YUE Wen,Chao Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-14.

Surface wave excitation device and printed circuit board

Номер патента: US20210204392A1. Автор: YUE Wen,Chao Wang. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Processing equipment, electrode plate processing equipment, battery processing equipment, and sheet processing method

Номер патента: US20240157707A1. Автор: Chao Guo,Yinyong Qiao. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

System and apparatus for feeding cable into cable processing equipment

Номер патента: EP3674237A1. Автор: Bradley J. Mitchell,Grace L. DUNCAN,Lars E. Blacken,Keith M. CUTLER. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2020-07-01.

Reactor for plasma processing of semiconductor structures

Номер патента: RU2670249C1. Автор: Владимир Борисович Павлов,Александр Кириллович Петров,Наталья Борисовна Гусева,Вадим Александрович Сологуб,Александр Арменакович Айрапетов,Вадим Васильевич Одиноков,Георгий Яковлевич Павлов,Александр Михайлович Никонов,Михаил Георгиевич Бирюков,Константин Викторович Вавилин,Елена Александровна Кралькина,Полина Алексеевна Неклюдова,Елена Владимировна Карпенкова. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения". Дата публикации: 2018-10-19.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: MY137638A. Автор: Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2009-02-27.

Plasma processing method and method for fabricating electronic component module using the same

Номер патента: EP1709674A1. Автор: Masaru Matsushita El.Ind.Co.Ltd. NONOMURA,Tatsuhiro Matsushita El. Ind. Co. MIZUKAMI. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2006-10-11.

Remote access gateway for semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2010048379A2. Автор: Ronald Vern Schauer. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2010-04-29.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Method of generating and using a plasma processing control program

Номер патента: EP1877878A1. Автор: Andrew Leonard Goodyear,Philip Douglas Rossbrook. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Detection assembly, laser module, laser emission control method, and laser processing equipment

Номер патента: WO2024078058A1. Автор: Mingwen Li,Huilin LIU,Fayang CAO. Владелец: Shenzhen Creality 3D Technology Co., Ltd.. Дата публикации: 2024-04-18.

Wafer processing equipment and method for processing wafers

Номер патента: WO2002037540A1. Автор: John Maltabes,Timothy Stanley. Владелец: Motorola Inc.. Дата публикации: 2002-05-10.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: CA3197618A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Single crystal cathode materials using microwave plasma processing

Номер патента: EP4281215A1. Автор: Richard K. Holman,Adrian Pullen,John COLWELL,Gregory M. WROBEL. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-11-29.

Semiconductor processing equipment with high temperature resistant nickel alloy joints and methods for making same

Номер патента: WO2019108858A1. Автор: Michael Parker,Jason Stephens,Guleid Hussen,Alfred Grant Elliot,Brent D.a. ELLIOT. Владелец: Component Re-Engineering Company, Inc.. Дата публикации: 2019-06-06.

Methods for etching metal films using plasma processing

Номер патента: US12057322B2. Автор: Qingyun Yang,Nathan P. Marchack,Devi Koty,Sebastian Ulrich Engelmann,Nicholas Joy. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Processing equipment

Номер патента: US20040211360A1. Автор: Akira Jonoshita. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2004-10-28.

System and method for aligning wafers within wafer processing equipment

Номер патента: US20060096612A1. Автор: Hung-Chin Guthrie,Quang Le,Jian-Huei Feng,James Nystrom. Владелец: Hitachi Global Storage Technologies Netherlands BV. Дата публикации: 2006-05-11.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Wafer processing equipment having exposable sensing layers

Номер патента: US09725302B1. Автор: Dmitry Lubomirsky,Philip Allan Kraus,Olivier Joubert,Leonard TEDESCHI,Daniel T. McCormick,Lili Ji. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Substrate transferring apparatus, and liquid processing apparatus and substrate processing equipment including same

Номер патента: US20240222174A1. Автор: Eun Jung Lee,Young Jin Jang,Gui Su PARK,Jun Hyun LIM,Hee Jun YOUN,Seul Gi CHOI. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Furnace and semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240344769A1. Автор: Wu Zhang,Qun Liu,Qinghua Chang,Tairong ZHU. Владелец: Laplace Renewable Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Wafer processing equipment having exposable sensing layers

Номер патента: US09975758B2. Автор: Dmitry Lubomirsky,Philip Allan Kraus,Olivier Joubert,Leonard TEDESCHI,Daniel T. McCormick,Lili Ji. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-05-22.

Detecting heater failure in a group of electric heaters in a process equipment heating system

Номер патента: US09888526B2. Автор: Budd Edward Faulkner,Mark Kollin Romeo,Peter George Stammers,Brett Trevor Lawrence,Craig Richard Charles Turner,Brent Haslett,Nicholas Daniel Hutton,Matthew Demian Klepp. Владелец: Edwards Vacuum LLC. Дата публикации: 2018-02-06.

Processing equipment, electrode plate processing equipment, battery processing equipment, and sheet processing method

Номер патента: US11981150B1. Автор: Chao Guo,Yinyong Qiao. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Plasma processing method

Номер патента: US6723651B2. Автор: Kiyoshi Arita,Shoji Sakemi,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-04-20.

High frequency power source, plasma processing apparatus, inspection method for plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20020113738A1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-08-22.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Substrate fixing device, deposition processing equipment including the same, and deposition processing method using the deposition processing equipment

Номер патента: US11767588B2. Автор: Junyoung Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Substrate fixing device, deposition processing equipment including the same, and deposition processing method using the deposition processing equipment

Номер патента: US20210371971A1. Автор: Junyoung Lee. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2021-12-02.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing apparatus and lamination system for secondary battery comprising same

Номер патента: EP4428972A1. Автор: Sang-kyun Lee,Yong-Tae Lee,Hun-Hyeong Lee,Man-Woong HAN. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing of lithium transition metal oxides for lithium ion batteries

Номер патента: EP3897963A1. Автор: Richard K. Holman,Kamal Hadidi,Gregory Wrobel. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2021-10-27.

High temperature chuck for plasma processing systems

Номер патента: US09728437B2. Автор: Sultan Malik,Dmitry Lubomirsky,Satoru Kobayashi,Soonam Park,Tae Seung Cho,Shankar Venkataraman,Toan Q. Tran,Shambhu N. Roy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-08.

Plasma processing method

Номер патента: US09506154B2. Автор: Takahiro Abe,Takeshi Shimada,Masato Ishimaru,Makoto Suyama. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Pressurized interface apparatus for transferring a semiconductor wafer between a pressurized sealable transportable container and a processing equipment

Номер патента: CA2094436C. Автор: Andre Lafond,Georges Garric. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1998-10-27.

Method and apparatus for verifying the calibration of semiconductor processing equipment

Номер патента: US5948958A. Автор: Won Bang,Chen-An Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 1999-09-07.

Cell processing equipment, cell processing method, and battery production line

Номер патента: US20240170711A1. Автор: YUAN PENG,Chang Hong,Xiang Fan,Gang Lin,Zhijian ZHENG. Владелец: Contemporary Amperex Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Material scheduling method and device of semiconductor processing equipment

Номер патента: US20240210926A1. Автор: Lin Cui,Sixue SHI,Muya LIU. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Method and apparatus for alignment of carriers and semiconductor processing equipment

Номер патента: WO2002025707A3. Автор: Alan Rick Lappen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-06-06.

Radical deactivation component, plasma processing apparatus using the same and radical deactivation method

Номер патента: US20190362939A1. Автор: Koji Yamagishi,Shinji Maekawa,Shota SASAKI,Daisuke Yoshikoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A9. Автор: Jisoo Kim,Bi-Ming Yen,Peter K Loewenhardt,Binet Worsham. Владелец: Binet Worsham. Дата публикации: 2005-11-24.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A2. Автор: Jisoo Kim,Peter K. Loewenhardt,Bi-Ming Yen,Binet Worsham. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2005-10-06.

Methods and apparatus for integrating and controlling a plasma processing system

Номер патента: US20120138085A1. Автор: Chung-Ho Huang,Cheng-Chieh Lin. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-07.

Methods for minimizing mask undercuts and notches for plasma processing system

Номер патента: WO2008005630A2. Автор: Alferd Cofer,Tamarak Pandhumsoporn,William Bosch. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-01-10.

Method for fabricating electronic component module using a plasma processing method

Номер патента: EP1709674B1. Автор: Masaru Matsushita El.Ind.Co.Ltd. NONOMURA,Tatsuhiro Matsushita El. Ind. Co. MIZUKAMI. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-05.

Measuring and reporting power received from guided surface waves

Номер патента: US09857402B2. Автор: Michael W. Miller,James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Stephen W. WILSON. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-01-02.

Temperature compensated acoustic surface wave device

Номер патента: US3931420A. Автор: Manfred B. Schulz,Melvin G. Holland. Владелец: Raytheon Co. Дата публикации: 1976-01-06.

Hybrid guided surface wave communication

Номер патента: US09882606B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-01-30.

Hybrid guided surface wave communication

Номер патента: US09496921B1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2016-11-15.

Method of managing objects using an electromagnetic guided surface waves over a terrestrial medium

Номер патента: US09916485B1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-03-13.

Geolocation using guided surface waves

Номер патента: PH12018500529A1. Автор: James F Corum,Kenneth L Corum,Michael J D'aurelio,James D Lilly. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-08-29.

Method for tuning narrow-band acoustic-surface- wave device to center frequency

Номер патента: RU2157587C1. Автор: В.Н. Зима,К.М. Кизиитов. Владелец: Омский научно-исследовательский институт приборостроения. Дата публикации: 2000-10-10.

Temperature compensated voltage tunable circuits using surface wave devices

Номер патента: US3894286A. Автор: Donald B Armstrong. Владелец: Crystal Technology Inc. Дата публикации: 1975-07-08.

Acoustic surface wave devices

Номер патента: US3739290A. Автор: F Marshall,E Paige. Владелец: UK Secretary of State for Defence. Дата публикации: 1973-06-12.

Filter circuit having an acoustic surface-wave filter device

Номер патента: CA1039818A. Автор: Kokichi Morii,Ken-Ichi Urayama. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1978-10-03.

Surface wave filter and method

Номер патента: CA1037574A. Автор: Sundaram Subramanian. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1978-08-29.

Acoustic surface-wave devices

Номер патента: GB1433398A. Автор: . Владелец: Mullard Ltd. Дата публикации: 1976-04-28.

Acoustic surface wave filter

Номер патента: US3753164A. Автор: Vries A De. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1973-08-14.

Multiple pole surface wave acoustic filters employing angled grooved distributed reflector arrays

Номер патента: CA1161505A. Автор: Leland P. Solie,William J. Tanski. Владелец: Sperry Corp. Дата публикации: 1984-01-31.

Acoustic surface wave signal processors

Номер патента: US3898592A. Автор: Leland P Solie. Владелец: Sperry Rand Corp. Дата публикации: 1975-08-05.

Acoustic surface wave resonator devices

Номер патента: US3886504A. Автор: Clinto Sylvester Hartmann,Ronald Carl Rosenfeld. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1975-05-27.

Surface-wave-type reflective delay line

Номер патента: US5319326A. Автор: Peter Zibis,Bernd Fleischmann. Владелец: Siemens Matsushita Components GmbH and Co KG. Дата публикации: 1994-06-07.

Load shedding in a guided surface wave power delivery system

Номер патента: US20170070099A1. Автор: Michael W. Miller,James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.,Stephen W. WILSON,Richard T. DEVEREAUX,John Robert ASHCROFT. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2017-03-09.

Acoustic surface wave device for separating the luminance and chrominance signals and adjusting their delays

Номер патента: US3726990A. Автор: Vries A De,R Adler,F Dias. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1973-04-10.

Acoustic surface wave multiplexing filter

Номер патента: US4379274A. Автор: Kai Hansen. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1983-04-05.

Load shedding in a guided surface wave power delivery system

Номер патента: EP3345276A1. Автор: Michael W. Miller,James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.,Stephen W. WILSON,Richard T. DEVEREAUX,John Robert ASHCROFT. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-07-11.

Acoustic surface wave filters having bifurcated members with connecting links

Номер патента: US3984791A. Автор: John Maxwell Deacon. Владелец: Plessey Handel und Investments AG. Дата публикации: 1976-10-05.

Surface wave electromechanical filter

Номер патента: GB1460036A. Автор: . Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1976-12-31.

Surface wave devices

Номер патента: US3883831A. Автор: Richard C Williamson,Ernest Stern. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 1975-05-13.

Surface wave ambiguity analyzer

Номер патента: US3727718A. Автор: H Whitehouse. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1973-04-17.

Mesfet device surface-wave-device channel selector

Номер патента: CA1110356A. Автор: Darrell L. Ash. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1981-10-06.

Acoustic surface wave device eliminating spurious end reflections

Номер патента: US3781721A. Автор: G Judd,C Stout. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1973-12-25.

Acoustic surface wave-apparatus having dielectric material separating transducer from acoustic medium

Номер патента: US3760299A. Автор: Carmine F Vasile. Владелец: Hazeltine Corp. Дата публикации: 1973-09-18.

Magnetostrictive elastic surface wave structure

Номер патента: CA1082798A. Автор: Gerard Volluet,Bernard Desormiere. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1980-07-29.

Analog surface wave repeater pair and methods for use therewith

Номер патента: WO2019190813A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Paul Shala Henry,III Thomas M. WILLIS. Владелец: AT&T Intellectual Property I, L.P.. Дата публикации: 2019-10-03.

Surface wave device having alternating remanent polarization between interdigital electrodes,spaced a surface wavelength apart

Номер патента: US3713036A. Автор: H Thomann. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1973-01-23.

Acoustic surface wave filter having combined split-isolated and split-connected coupler

Номер патента: CA1048116A. Автор: Adrian J. Devries. Владелец: Zenith Radio Corp. Дата публикации: 1979-02-06.

Acoustic surface wave devices

Номер патента: US3955159A. Автор: Richard Stevens,Richard Frank Mitchell. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1976-05-04.

Surface wave device with over sampled withdrawal weighting

Номер патента: WO1984004433A1. Автор: Clinton S Hartmann. Владелец: Rf Monolithics. Дата публикации: 1984-11-08.

Hybrid guided surface wave communication

Номер патента: US10425126B2. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2019-09-24.

Surface wave transducer for digital signals

Номер патента: US3680007A. Автор: Samuel Chin-Chong Tseng. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1972-07-25.

Microwave acoustic surface wave amplifier and method of fabrication

Номер патента: US3614643A. Автор: Andrew J Slobodnik Jr. Владелец: Individual. Дата публикации: 1971-10-19.

Load shedding in a guided surface wave power delivery system

Номер патента: US20180323651A1. Автор: Michael W. Miller,James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Joseph F. Pinzone,Basil F. Pinzone, Jr.,Stephen W. WILSON,Richard T. DEVEREAUX,John Robert ASHCROFT. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-11-08.

Analog surface wave multipoint repeater and methods for use therewith

Номер патента: US20190296823A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Thomas M. Willis, III,Paul Shala Henry. Владелец: AT&T INTELLECTUAL PROPERTY I LP. Дата публикации: 2019-09-26.

Elastic surface wave filter

Номер патента: GB1512593A. Автор: . Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1978-06-01.

Elastic surface wave device

Номер патента: GB2175477A. Автор: Keum Chan Whang. Владелец: Goldstar Instrument and Electric Co Ltd. Дата публикации: 1986-11-26.

Feedback-type acoustic surface wave device

Номер патента: US3766496A. Автор: H Whitehouse. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1973-10-16.

Surface wave devices for differential coherent detectors

Номер патента: CA2198529C. Автор: John Choo Beng Saw,Harry Leib,George Alfred Kipens. Владелец: Northern Telecom Ltd. Дата публикации: 1999-06-29.

Amplifying surface wave receiver

Номер патента: US4928069A. Автор: Helmut Schink,Ralf D. Schnell. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1990-05-22.

Acoustic surface-wave filters

Номер патента: GB1513580A. Автор: . Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1978-06-07.

Frequency-doubling amplifying surface wave receiver

Номер патента: US4839607A. Автор: Helmut Schink. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1989-06-13.

Analog surface wave multipoint repeater and methods for use therewith

Номер патента: WO2019190825A1. Автор: Robert Bennett,Giovanni Vannucci,Farhad Barzegar,Irwin Gerszberg,Donald J. Barnickel,Paul Shala Henry,III Thomas M. WILLIS. Владелец: AT&T Intellectual Property I, L.P.. Дата публикации: 2019-10-03.

Acoustic surface wave transmission system

Номер патента: US3893047A. Автор: Claude Lardat. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1975-07-01.

Low velocity zero temperature coefficient acoustic surface wave delay line having group and phase velocity vector coincidence

Номер патента: US3771072A. Автор: A Slobodnik. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1973-11-06.

Acoustic surface wave device

Номер патента: US4276524A. Автор: Michio Kadota. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1981-06-30.

Surface wave multifrequency oscillator

Номер патента: US3990021A. Автор: Clinton S. Hartmann,Steven J. Bomba,Ralph F. Tenny. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1976-11-02.

Electrical filter comprising an acoustic surface wave device, and method of manufacturing such a filter

Номер патента: CA1232038A. Автор: Paul A. Moore,Richard F. Mitchell. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1988-01-26.

Temperature compensated surface wave device

Номер патента: CA1049647A. Автор: Sheldon J. Kerbel. Владелец: Hazeltine Corp. Дата публикации: 1979-02-27.

Surface wave filter element

Номер патента: US5521454A. Автор: Yasuhiko Horio,Masaki Aoki,Hideo Torii,Ryoichi Takayama,Eiji Fujii,Masumi Hattori,Atsushi Tomozawa,Ken Kamata. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1996-05-28.

Elastic surface wave filter

Номер патента: US4034318A. Автор: Hideki Ishiyama,Hideharu Ieki,Atushi Inoue. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1977-07-05.

Elastic surface wave apparatus

Номер патента: GB1526306A. Автор: . Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1978-09-27.

Surface wave device balun resonator filters

Номер патента: CA2233835A1. Автор: Yufeng Xu,Ji-Dong Dai,Thomas Philip Cameron. Владелец: Northern Telecom Ltd. Дата публикации: 1998-11-15.

Parametric acoustic surface wave apparatus

Номер патента: US3816753A. Автор: G Kino. Владелец: Leland Stanford Junior University. Дата публикации: 1974-06-11.

Surface wave frequency discriminators

Номер патента: US3750027A. Автор: C Hartmann. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1973-07-31.

Acoustic surface wave resonator devices

Номер патента: CA1119709A. Автор: Richard F. Mitchell. Владелец: Philips Gloeilampenfabrieken NV. Дата публикации: 1982-03-09.

Apparatus and method for oversampled transducers in acoustic surface wave devices

Номер патента: US3979702A. Автор: Bill J. Hunsinger,Jerry H. Peppler. Владелец: Magnavox Co. Дата публикации: 1976-09-07.

Broadband unidirectional surface wave transducer

Номер патента: US3866154A. Автор: Robert A Moore. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1975-02-11.

Acoustic surface wave interaction device

Номер патента: GB1536614A. Автор: . Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1978-12-20.

Acoustic surface-wave devices using mono crystalline bismuth silicon oxide substrate

Номер патента: US3956647A. Автор: Richard Stevens,Eileen Read,Richard Frank Mitchell. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1976-05-11.

Surface wave resonator having a plurality of resonance frequencies

Номер патента: US5781083A. Автор: Michio Kadota,Hideya Horiuchi,Junya Ago. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1998-07-14.

Hybrid wave plasma engine for low orbit space vehicle

Номер патента: RU2764487C1. Автор: Андрей Иванович Шумейко,Виктор Дмитриевич Телех,Вера Ивановна Майорова. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана (национальный исследовательский университет)" (МГТУ им. Н.Э. Баумана). Дата публикации: 2022-01-17.

Wave plasma source of electrons

Номер патента: RU2757210C1. Автор: Андрей Иванович Шумейко. Владелец: Общество С Ограниченной Отвественностью "Эдвансд Пропалшн Системс". Дата публикации: 2021-10-12.

Transducer for surface wave filters with an asymmetrical transfer function

Номер патента: US4068141A. Автор: Bernard Epsztein,Jean Michel Autran. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1978-01-10.

Circuit board having printed thereon conductive patterns to be connected with input and output lead wires of acoustic surface wave filter element

Номер патента: US4250473A. Автор: Tomoji Gemba. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1981-02-10.

Transducer for surface wave filters with reduced diffraction

Номер патента: US4083021A. Автор: Bernard Epsztein,Jean Michel Autran. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1978-04-04.

Acoustic surface wave interaction device

Номер патента: US4143343A. Автор: Hideharu Ieki,Atushi Inoue. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 1979-03-06.

Television IF filter constructed in accordance with the surface wave principle

Номер патента: US4066985A. Автор: Wilhelm Kuny. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1978-01-03.

Acoustic surface wave device including a reflective multistrip coupler

Номер патента: US4511867A. Автор: John Schofield. Владелец: US Philips Corp. Дата публикации: 1985-04-16.

Acoustic surface wave device

Номер патента: US4205285A. Автор: Martin E. Dempsey,Ching W. Lee. Владелец: GTE Laboratories Inc. Дата публикации: 1980-05-27.

Voltage-controlled oscillator with surface-wave transmission line

Номер патента: US4560951A. Автор: Augustin Futterer. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1985-12-24.

Elastic surface wave transducer

Номер патента: US3894251A. Автор: Kimio Shibayama,Hiroaki Sato. Владелец: Individual. Дата публикации: 1975-07-08.

Bidirectional wave plasma engine for a space vehicle

Номер патента: RU2764823C1. Автор: Андрей Иванович Шумейко. Владелец: Общество С Ограниченной Отвественностью «Эдвансд Пропалшн Системс». Дата публикации: 2022-01-21.

Data acquisition method, device, and system for semiconductor process equipment

Номер патента: EP4398127A1. Автор: Jiajia CHAI. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Method and device for rapid detection of faults in signal processing equipment and optical interface board

Номер патента: RU2523331C2. Автор: Пу ЛИ. Владелец: Зте Корпорейшн. Дата публикации: 2014-07-20.

Coaxial cavity type, radiofrequency wave, plasma generating apparatus

Номер патента: CA2010245C. Автор: Jes Asmussen. Владелец: Michigan State University MSU. Дата публикации: 1993-05-11.

Data processing equipment structure

Номер патента: US09655259B2. Автор: Samuel Rodriguez,Travis North,Steven BORNFIELD. Владелец: Chatsworth Products Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Information processing equipment and method for determining the priority of input keys thereof

Номер патента: US20070073692A1. Автор: Satoshi Nishimura,Masahiro Yamagishi. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2007-03-29.

Modular thermal isolation barrier for data processing equipment structure

Номер патента: US12063758B2. Автор: Joshua James YOUNG,Jared Keith DAVIS,Joshua Blaine GREESON,Steven J. Gibble. Владелец: Chatsworth Products Inc. Дата публикации: 2024-08-13.

Signal processing equipment

Номер патента: US20070082511A1. Автор: Nobuyuki Kurihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-04-12.

Dynamic monitoring and securing of factory processes, equipment and automated systems

Номер патента: US12111923B2. Автор: John B. PUTMAN,Matthew C. PUTMAN,Vadim Pinskiy,Damas Limoge,Andrew Sundstrom,James Williams, III. Владелец: Nanotronics Imaging Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Information processing equipment, information processing method and storage medium

Номер патента: US09838254B2. Автор: Noriyuki Taniuchi. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2017-12-05.

Modular thermal isolation barrier for data processing equipment structure

Номер патента: US09795060B2. Автор: Joshua James YOUNG,Jared Keith DAVIS,Joshua Blaine GREESON,Steven J. Gibble. Владелец: Chatsworth Products Inc. Дата публикации: 2017-10-17.

Modular thermal isolation barrier for data processing equipment structure

Номер патента: US09572286B2. Автор: Joshua James YOUNG,Jared Keith DAVIS,Joshua Blaine GREESON,Steven J. Gibble. Владелец: Chatsworth Products Inc. Дата публикации: 2017-02-14.

Surface processing equipment and surface processing method

Номер патента: US20230191534A1. Автор: Chih-Chieh Chen,Kao-Der Chang,Chih-Chiang Weng,Yo-Sung Lee. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2023-06-22.

Information processing equipment

Номер патента: US10148831B2. Автор: Ryutaro TAIRA. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2018-12-04.

Functional module securing device and data processing equipment

Номер патента: US20240334638A1. Автор: Wen-Chen Wang,Jia-Feng Lin. Владелец: Fulian Precision Electronics Tianjin Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Video processing equipment cover with integrated display

Номер патента: WO2024044843A1. Автор: Donald Mark Sizemore,Troy English,A. Matthew Zimmer,C. Jason WILLIAMS,Desmond Ambrose,J. Todd RIGGS,Jonathan PANNAMAN,Joshua Ashcraft. Владелец: Ross Video Limited. Дата публикации: 2024-03-07.

Data processing equipment storage rack with monitoring device

Номер патента: AU2020103843A4. Автор: Xuebin Zhang,Peijun Huang. Владелец: Xian Bohui Electronic Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Modular thermal isolation barrier for data processing equipment structure

Номер патента: US20220061188A1. Автор: Joshua James YOUNG,Jared Keith DAVIS,Joshua Blaine GREESON,Steven J. Gibble. Владелец: Chatsworth Products Inc. Дата публикации: 2022-02-24.

Method and mobile unit for flexible energy optimisation between computing modules and a greenhouse, other building or industrial process equipment to be heated using immersion cooling

Номер патента: US20240074117A1. Автор: Jacob Jan Ten Wolde,Jelmer Durk Ten Wolde,Patrick Christiaan Bakker,Dirk Bakker. Владелец: Sustainable Data Farming BV. Дата публикации: 2024-02-29.

Method and mobile unit for flexible energy optimisation between computing modules and a greenhouse, other building or industrial process equipment to be heated using immersion cooling

Номер патента: EP4302581A1. Автор: Jacob Jan Ten Wolde,Jelmer Durk Ten Wolde,Patrick Christiaan Bakker,Dirk Bakker. Владелец: Sustainable Data Farming BV. Дата публикации: 2024-01-10.

Method and mobile unit for flexible energy optimisation between computing modules and a greenhouse, other building or industrial process equipment to be heated using immersion cooling

Номер патента: WO2022184923A1. Автор: Jacob Jan Ten Wolde,Jelmer Durk Ten Wolde,Patrick Christiaan Bakker,Dirk Bakker. Владелец: Sustainable Data Farming B.V.. Дата публикации: 2022-09-09.

Apparatus for plasma-processing flexible printed circuit boards

Номер патента: US20080308042A1. Автор: Chih-Yi Tu,Ze Long,Szu-Min Huang. Владелец: Foxconn Advanced Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

Floor structures particularly suitable for rooms with data processing equipment

Номер патента: CA2009061C. Автор: Alain Rene Emile Ducroux,Miodrag Novakovic. Владелец: Guilford Delaware Inc. Дата публикации: 1997-03-25.

Microwave processing equipment for continuous flow liquids

Номер патента: US11805578B2. Автор: Wei Chen,HAO Zhang,Jianxin Zhao,Daming Fan,Yuhao ZHANG,Bowen YAN,Wenhua Gao,Huayu YANG. Владелец: Nanjing Xianou Instruments Manufacture Co ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Physical adapter, signal processing equipment, methods and computer programs

Номер патента: GB2598255A. Автор: CLUCAS Richard. Владелец: V Nova International Ltd. Дата публикации: 2022-02-23.

Physical adapter, signal processing equipment, methods and computer programs

Номер патента: EP3417629A1. Автор: Richard Clucas. Владелец: V Nova International Ltd. Дата публикации: 2018-12-26.

Physical adapter, signal processing equipment, methods and computer programs

Номер патента: WO2017141038A1. Автор: Richard Clucas. Владелец: V-Nova Ltd. Дата публикации: 2017-08-24.

Gateway And Method For Transforming A Data Model Of A Manufacturing Process Equipment

Номер патента: US20240012403A1. Автор: Darko ANICIC. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2024-01-11.

Physical adapter, signal processing equipment, methods and computer programs

Номер патента: US11924450B2. Автор: Richard Clucas. Владелец: V Nova International Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Combiner and distributor for adjusting impedances or power across multiple plasma processing stations

Номер патента: US12143087B2. Автор: George Thomas,Edward Augustyniak,Sunil Kapoor,Yaswanth Rangineni. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-11-12.

Estimation of soil properties using wave signals of seismic surface waves

Номер патента: RU2503035C2. Автор: Кристин Э. Крон. Владелец: Эксонмобил Апстрим Рисерч Компани. Дата публикации: 2013-12-27.

Geolocation using guided surface waves

Номер патента: EP3341751A1. Автор: James F. Corum,Kenneth L. Corum,James D. Lilly,Michael J. D'aurelio. Владелец: Cpg Technologies Llc. Дата публикации: 2018-07-04.

Method of measuring impact strength of welded assembly and device for measuring speed of ultrasonic surface waves

Номер патента: RU2249815C2. Автор: Жан-Ив Франсуа ШАТЕЛЬЕ,Даниель Себасть н РАМАЭФАЗОЛО,Даниель Себастьян РАМАЭФАЗОЛО. Владелец: Снекма Мотер. Дата публикации: 2005-04-10.

Imaging methods for dispersion energy spectrums of surface waves, electronic devices, and storage media

Номер патента: US20240094420A1. Автор: Luo Li,RAN Yang,Jing Tang,Hai YAO,Weiping Cao,Mengcheng LI,Xuri HUANG,Yungui XU,Yezheng HU. Владелец: SOUTHWEST PETROLEUM UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-21.

Method for measuring adhesive strength of thin film using dispersion characteristics of surface waves, and computer-readable recording medium having program for performing same recorded thereon

Номер патента: US20200217820A1. Автор: Yu Min Choi,Tae Sung Park,Ik Keun PARK,Dong Ryul KWAK. Владелец: Seoul National University of Technology Center for Industry Cllaboration. Дата публикации: 2020-07-09.

A method and system for determining ground properties of a sub-surface target volume using a 2-dimensional array of surface wave sensors

Номер патента: NL2033830B1. Автор: Fliedner Moritz,Staring Myrna,Eddies Rod. Владелец: FNV IP BV. Дата публикации: 2024-07-05.

A method and system for determining ground properties of a sub-surface target volume using a 2-dimensional array of surface wave sensors

Номер патента: WO2024133141A1. Автор: Myrna STARING,Rod EDDIES,Moritz FLIEDNER. Владелец: FNV IP B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

Surface wave prospecting method for jointly extracting Rayleigh wave frequency dispersion characteristics by seismoelectric field

Номер патента: US11754744B2. Автор: Zhanxiang He,Xiaofei Chen,Zhentao Yang,Hengxin REN,Shichuan YUAN,Xuzhen ZHENG. Владелец: Southern University of Science and Technology. Дата публикации: 2023-09-12.

Multi-phase wavefield inversion method considering both body waves and surface waves in half-space of rock media

Номер патента: US20240264322A1. Автор: Gang Li,Hongnan Li,Zhiqian DONG,Yaohui XUE,Dinghao YU. Владелец: Dalian University of Technology. Дата публикации: 2024-08-08.

Apparatus and method for measuring velocity of acoustic surface wave using full-field laser ultrasound imaging technique

Номер патента: US20240237970A1. Автор: Byeong Ha Lee,Tae Il YOON,Young Gue KIM. Владелец: GWANGJU INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-07-18.

Systems and methods for estimating concrete strength using surface wave speed

Номер патента: WO2023091602A1. Автор: Joshua Scott,Tej N. Pantha,Armita Mohammadian,Shawn G. Anderson,Klarissa Ramos,Ethan Loewenthal,Ashtad Javanmardi,Akash Nikam. Владелец: Fdh Infrastructure Services, Llc. Дата публикации: 2023-05-25.

Surface wave augmented loop memory system

Номер патента: US4027299A. Автор: Wayne C. Hubbell. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1977-05-31.

Continuous adaptive surface wave analysis for three-dimensional seismic data

Номер патента: RU2518577C2. Автор: Клаудио Лучано СТРОББИА,Анна ГЛУЩЕНКО. Владелец: Джеко Текнолоджи Б.В.. Дата публикации: 2014-06-10.

Terahertz time domain sensing to derive physical characteristics of an object by ealuating the contribution of surface waves to the reflected/scattered time domain waveform

Номер патента: WO2006008456A1. Автор: Bryan Edward Cole,Julian Alexander Cluff. Владелец: TeraView Limited. Дата публикации: 2006-01-26.

Apparatus for measuring concrete strength and slip form method for constructing vertical concrete column member using surface wave velocity measurement device

Номер патента: US8931345B2. Автор: Young Jin Kim,Hee Seok Kim,Byung Suk Kim,Won Jong CHIN,Hye Jin YOON. Владелец: KOREA INSTITUTE OF CONSTRUCTION TECHNOLOGY. Дата публикации: 2015-01-13.

Elastic surface wave Hadamard transformer

Номер патента: US4245330A. Автор: Jean-Claude Rebourg. Владелец: Individual. Дата публикации: 1981-01-13.

Spatial stablization of standing capillary surface waves

Номер патента: US4719480A. Автор: Butrus T. Khuri-Yakub,Scott A. Elrod,Calvin F. Quate. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1988-01-12.

Method for grinding rolls by use of surface wave probe

Номер патента: CA2520133C. Автор: Hajime Takada,Takashi Morii,Ikuo Yarita,Ryouichi Sugimoto. Владелец: JFE Steel Corp. Дата публикации: 2010-08-24.

Elastic surface wave gyroscope

Номер патента: US6003370A. Автор: Minoru Kurosawa,Kazuhiko Yukawa,Toshiro Higuchi,Yoshimitsu Fukuda. Владелец: Minolta Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-21.

Characterizing spatial variablility of surface waves in seismic processing

Номер патента: CA2712439C. Автор: Sunwoong Lee,Warren S. Ross. Владелец: ExxonMobil Upstream Research Co. Дата публикации: 2016-07-26.

Estimation of soil properties using waveforms of seismic surface waves

Номер патента: CA2726462A1. Автор: Christine E. Krohn. Владелец: ExxonMobil Upstream Research Co. Дата публикации: 2010-02-18.

Characterizing spatial variablility of surface waves in seismic processing

Номер патента: EP2269094A1. Автор: Sunwoong Lee,Warren S. Ross. Владелец: ExxonMobil Upstream Research Co. Дата публикации: 2011-01-05.

Composite technology and auxiliary device for nitriding bimetallic surface wave flat rolling at different temperatures

Номер патента: LU506282B1. Автор: Xiangyu Gao. Владелец: Univ Taiyuan Science & Tech. Дата публикации: 2024-08-01.

Vessel with a hydrodynamic duct of flow management mounted on the bow thereof with a horizontal wall portion of surface wave management

Номер патента: US12084149B2. Автор: Emmanuel E. Petromanolakis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-10.

Methods and devices for detection of analytes using bloch surface wave-enhanced diffraction-based sensors

Номер патента: US09658221B2. Автор: Marco Liscidini,John Sipe. Владелец: University of Toronto. Дата публикации: 2017-05-23.

Downhole fluid detection using surface waves

Номер патента: CA2974494A1. Автор: Krishna M. Ravi,Paul F. Rodney,Mark W. Roberson,Scott Goodwin,Vimal V. Shah,Batakrishna Mandal. Владелец: Halliburton Energy Services Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Method and apparatus for determining cable length for plasma processing equipment

Номер патента: US20230194585A1. Автор: Ji Hyun Kim,Ja Myung GU,Tae Hoon JO,Hyo Seong SEONG. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Statistical method of mimic protection of an over-the-horizon surface wave radar station

Номер патента: RU2746799C1. Автор: Игорь Михайлович Орощук,Сергей Леонидович Мельник. Владелец: Федеральное Государственное Казенное Военное Образовательное Учреждение Высшего Образования "Тихоокеанское Высшее Военно-Морское Училище Имени С.О. Макарова" Министерства Обороны Российской Федерации (Г. Владивосток). Дата публикации: 2021-04-21.

Surface wave prediction and removal from seismic data

Номер патента: US11880011B2. Автор: Hao Hu,Yingcai ZHENG. Владелец: UNIVERSITY OF HOUSTON SYSTEM. Дата публикации: 2024-01-23.

Attenuating surface waves in common shot gathers of seismic data collected by a set of geophones

Номер патента: US20200393588A1. Автор: Jianyong BAI,Orhan Yilmaz. Владелец: Emerson Paradigm Holding LLC. Дата публикации: 2020-12-17.

Internal and surface wave simulator tank

Номер патента: US3629958A. Автор: Jack R Olson,Henry M Miller Jr. Владелец: US Department of Navy. Дата публикации: 1971-12-28.

Systems and methods of utilizing surface waves for signal transmission in a downhole environment

Номер патента: WO2023023385A1. Автор: Ryan WEEDEN. Владелец: DaisyChain Technologies, LLC. Дата публикации: 2023-02-23.

Surface wave-ionised plasma dipole antenna

Номер патента: RU2544806C1. Автор: Константин Федорович Сергейчев,Намик Гусейнага оглы Гусейн-заде,Николай Николаевич Богачев,Игорь Михайлович Минаев,Елена Николаевна Тараканова,Дмитрий Михайлович Карфидов,Алексей Юрьевич Трефилов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук. Дата публикации: 2015-03-20.

An ink jet printing apparatus and method using a pressure generating device to induce surface waves in an ink meniscus

Номер патента: US20020001015A1. Автор: Hirofumi Nakamura,Yasuhiro Otsuka,Torahiko Kanda,Fuminori Takizawa,Masakazu Okuda,Ryuichi Kojima. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2002-01-03.

Real-time pavement profile sensing system using air-coupled surface wave

Номер патента: US09921187B2. Автор: Ming Wang,Yinghong Cao. Владелец: Northeastern University Boston. Дата публикации: 2018-03-20.

Continuous adaptive surface wave analysis for three-dimensional seismic data

Номер патента: CA2744050C. Автор: Claudio Luciano Strobbia,Anna Glushchenko. Владелец: Schlumberger Canada Ltd. Дата публикации: 2016-07-12.

Method and apparatus for determining surface wave data in liquids

Номер патента: WO2024018209A1. Автор: Shamit SHRIVASTAVA. Владелец: Apoha Limited. Дата публикации: 2024-01-25.

Radio-interrogated surface-wave technology sensor

Номер патента: US6084503A. Автор: Werner Ruile,Valentin Magori,Thomas Ostertag,Leonhard Reindl,Gerd Scholl. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2000-07-04.

Surface wave mitigation in spatially inhomogeneous media

Номер патента: CA2712441C. Автор: Sunwoong Lee,Warren S. Ross. Владелец: ExxonMobil Upstream Research Co. Дата публикации: 2017-11-28.

Elastic surface wave accelerometer

Номер патента: US4199990A. Автор: Pierre Hartemann,Michel Valdois,Patrick Levesque. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1980-04-29.

Elastic surface wave accelerometer

Номер патента: CA1099947A. Автор: Pierre Hartemann,Michel Valdois,Patrick Levesque. Владелец: Thomson CSF SA. Дата публикации: 1981-04-28.

Method of producing an attenuating structure on a surface wave component

Номер патента: US5900286A. Автор: Winfried Plundrich,Heiner Bayer,Walter Fischer,Wolfgang Pahl,Hans Stelzl. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-05-04.

Non-destructive technique for surface wave velocity measurement

Номер патента: US4121467A. Автор: Grant R. Gerhart. Владелец: US Department of Army. Дата публикации: 1978-10-24.

Systems and methods for obtaining energy from surface waves

Номер патента: US20200072181A1. Автор: Mitchell Fait. Владелец: Individual. Дата публикации: 2020-03-05.

Systems and methods for obtaining energy from surface waves

Номер патента: US20170191461A1. Автор: Mitchell Fait. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-06.

Method and system to determine the azimuthal orientation of borehole seismometer sensor using long period surface waves in microseisms

Номер патента: US20230176241A1. Автор: Seongjun Park,Tae-Kyung HONG. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2023-06-08.

Vessel with a hydrodynamic duct of flow management mounted on the bow thereof with a horizontal wall portion of surface wave management

Номер патента: WO2020174256A1. Автор: Emmanuel E. Petromanolakis. Владелец: Petromanolakis Emmanuel E. Дата публикации: 2020-09-03.

Vessel with a hydrodynamic duct of flow management mounted on the bow thereof with a horizontal wall portion of surface wave management

Номер патента: AU2020227267A1. Автор: Emmanuel E. Petromanolakis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-07.

Method and system to determine the azimuthal orientation of borehole seismometer sensor using long period surface waves in microseisms

Номер патента: US11822029B2. Автор: Seongjun Park,Tae-Kyung HONG. Владелец: University Industry Foundation UIF of Yonsei University. Дата публикации: 2023-11-21.

Vessel with a hydrodynamic duct of flow management mounted on the bow thereof with a horizontal wall portion of surface wave management

Номер патента: EP3931073A1. Автор: Emmanuel E. Petromanolakis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-01-05.

Vessel with a hydrodynamic duct of flow management mounted on the bow thereof with a horizontal wall portion of surface wave management

Номер патента: WO2020174256A9. Автор: Emmanuel E. Petromanolakis. Владелец: Petromanolakis Emmanuel E. Дата публикации: 2021-09-23.

Transport of suspended charged particles using traveling electrostatic surface waves

Номер патента: US4896174A. Автор: Richard G. Stearns. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 1990-01-23.

Integrated optics chip having reduced surface wave propagation

Номер патента: CA2328787C. Автор: Lorrie L. Gampp,Arthur R. Martinez,Thomas Flaherty,Gregory Zimmerman. Владелец: Litton Systems Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Lens barrel using a surface wave motor

Номер патента: US5239415A. Автор: Hideo Kanno,Hiroshi Tanioka,Hitoshi Imanari. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 1993-08-24.

Sound-insulating coating with the vibration insulation system of process equipment

Номер патента: RU2651529C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-04-20.

Method and system for planning preventive maintenance and repair of process equipment based on acoustic diagnostics using neural networks

Номер патента: RU2764962C1. Автор: Александр Владимирович Власов,Александр Владимирович Киселев,Дмитрий Михайлович Михайлов. Владелец: Дмитрий Михайлович Михайлов. Дата публикации: 2022-01-24.

Return of underwater production and processing equipment

Номер патента: RU2600066C1. Автор: Эрик Рэндалл СМЕДСТАД. Владелец: ЭфЭмСи ТЕКНОЛОДЖИЗ ИНК.. Дата публикации: 2016-10-20.

Probe and system for removal of gases from process equipment

Номер патента: RU2390749C2. Автор: Доменико БРУЦЦИ. Владелец: Доменико БРУЦЦИ. Дата публикации: 2010-05-27.

Method for cleaning transport-technological capacities of nuclear reactor from long radioactive elements of process equipment

Номер патента: RU2666152C1. Автор: Вячеслав Владимирович Мевиус,Дмитрий Геннадьевич Южаков,Андрей Владимирович Мевиус,Алексей Вячеславович Зубавленко,Иван Николаевич Корлюков,Василий Архипович Дмитриев. Владелец: Акционерное общество "Опытно-демонстрационный центр вывода из эксплуатации уран-графитовых ядерных реакторов" (АО "ОДЦ УГР"). Дата публикации: 2018-09-06.

Enzymatic method of removing slime from vegetable oil and reduction of growth on process equipment

Номер патента: RU2347804C2. Автор: Крис Л. Дж. ДЕЙТОН,Кэрри П. СТАЛЛЕР,Томас Л. БАРКШИЕ. Владелец: Банджи Оилс, Инк.. Дата публикации: 2009-02-27.

Methods for retrieval and replacement of subsea production and processing equipment

Номер патента: US09441461B2. Автор: Harold Brian Skeels,Michael R. Williams,Andrei STRIKOVSKI,Thomas L. Hergarden,Howard J. Hartley,Eric Randall SMEDSTAD,Jimmy D. Andrews,John D. DAFLER, JR.. Владелец: FMC Technologies Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Method for manufacturing cast rods from liquid glass mixtures in heated "thermo-shock-co2-process" equipment

Номер патента: RU2630399C2. Автор: Марина Викторовна Никифорова,Сергей Алексеевич Никифоров,Евгения Павловна Роот,Антон Павлович Никифоров. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Южно-Уральский государственный университет (национальный исследовательский университет)" (ФГАОУ ВО "ЮУрГУ (НИУ)"). Дата публикации: 2017-09-07.

Process equipment of a rolling mill section with a positioning laser linearity apparatus and hot rolling process line for adjusting the angle of the rolled product

Номер патента: RU2770856C1. Автор: Цзицзюнь ЖЭНЬ,Цзяньнин ЦАО,Вэнь ХАНЬ,Сикан ЧЖОУ,Ятин ЧЖОУ,Бинь ФУ,Бин БАЙ,Яньцзюнь ЛЮ. Владелец: СЕРИ Текнолоджи Компани Лимитед. Дата публикации: 2022-04-22.

A method for monitoring and visualising process equipment in a mine

Номер патента: WO2013156214A1. Автор: Christine Mikkelsen,David Jakobsson,Diamond Dong,Filip Lundeholm,Isak Savo. Владелец: ABB RESEARCH LTD. Дата публикации: 2013-10-24.

Methods for retrieval and replacement of subsea production and processing equipment

Номер патента: US09556713B2. Автор: Harold Brian Skeels,Michael R. Williams,Andrei STRIKOVSKI,Thomas L. Hergarden,Howard J. Hartley,Eric Randall SMEDSTAD,Jimmy D. Andrews,John D. DAFLER, JR.. Владелец: FMC Technologies Inc. Дата публикации: 2017-01-31.

Sensor controlling temperature of production process, equipped with sensor for diagnosis of vibrations thereof

Номер патента: RU2594623C1. Автор: Энтони Михаэль ЭЛКЕ. Владелец: Росемоунт Инк.. Дата публикации: 2016-08-20.

Self-installing sensor/transmitter for process equipment

Номер патента: RU2543701C2. Автор: Юрий Николаевич Кузнецов,Лорен Майкл ЭНГЕЛСТЕД,Дуглас Уэйн ЭРНСТОН,Джейсон Харолд РАД,Кларенс Эдвард ХОУЛМСТЕДТ,Рэнди Кеннет ПАШКЕ,Сергей Викторович Асмолов. Владелец: Роузмаунт Инк.. Дата публикации: 2015-03-10.

Processing Equipment of Nutrition Powder for Aquacultured Animals

Номер патента: AU2020103363A4. Автор: PENG Zhao,Shulu GUO,Haoyuan LIU,Bingqi Tian,Lijing Sun. Владелец: Tangshan Hydrience Marine Technology Co Ltd. Дата публикации: 2021-01-21.

Retrieval of subsea production and processing equipment

Номер патента: US09482075B2. Автор: Eric Randall SMEDSTAD. Владелец: FMC Technologies Inc. Дата публикации: 2016-11-01.

Method of diagnosing electrical insulation in process of remote computer monitoring of process equipment

Номер патента: RU2709604C1. Автор: Алексей Владимирович Костюков,Валерий Васильевич Жильцов,Сергей Николаевич Бойченко,Евгений Александрович Бурда. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью НПЦ "Динамика" - Научно-производственный центр "Диагностика, надежность машин и комплексная автоматизация". Дата публикации: 2019-12-18.

Cleaning coke deposits from process equipment

Номер патента: SG11201809766QA. Автор: Vincent dePaul MCGAHEE. Владелец: Chevron Phillips Chemical Co LP. Дата публикации: 2018-12-28.

Cleaning apparatus for food processing equipment

Номер патента: WO2012030549A3. Автор: Michael J. Higgins,James L. Marsden,Sherri D. Clark. Владелец: HUSSMANN CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-10.

Thin film processing equipment and the processing method thereof

Номер патента: US20130072000A1. Автор: Toshiaki Yoshimura,Ying-Shih Hsiao. Владелец: YOSHIMURA TOSHIAKU. Дата публикации: 2013-03-21.

Cleaning apparatus for food processing equipment

Номер патента: WO2012030549A2. Автор: Michael J. Higgins,James L. Marsden,Sherri D. Clark. Владелец: HUSSMANN CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-08.

Height adjustable support for food processing equipment

Номер патента: US20170072742A1. Автор: Rudi Groppe,Erick Arthur Davidson. Владелец: Heinzen LLC. Дата публикации: 2017-03-16.

Height adjustable support for food processing equipment

Номер патента: US20170190213A1. Автор: Rudi Groppe,Erick Arthur Davidson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-07-06.

User interface of mineral or waste material processing equipment

Номер патента: EP2150348A1. Автор: Mika Peltonen,Jouni Mahonen,Jarmo Eloranta,Hannu Heman,Ari Posti. Владелец: Metso Minerals Oy. Дата публикации: 2010-02-10.

Height adjustable support for food processing equipment

Номер патента: US09592703B1. Автор: Rudi Groppe,Erick Arthur Davidson. Владелец: Heinzen LLC. Дата публикации: 2017-03-14.

Method for cleaning internal surfaces of heat power and process equipment from scale deposits with the descaler

Номер патента: RU2735015C1. Автор: Михаил Геннадьевич Жариков,Руслан Юсуфович Салпагаров. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью «НИЖЕГОРОДСКИЙ ИНСТИТУТ ПРИКЛАДНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ». Дата публикации: 2020-10-27.

Portable field processing equipment

Номер патента: WO1998053405A1. Автор: Philip B. Wesby,Hans K. O. Ahnlund. Владелец: Nokia Networks Oy. Дата публикации: 1998-11-26.

Control apparatus and method for 3d printer post-processing equipment

Номер патента: US20240227302A9. Автор: Ji Yeon Son,Min Gi Kim,Chang Beom Kim,Hyo Nyoung HAN. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-07-11.

Oxidative processes for self-heating and pyrophoric catalysts containing active metal sulfides, and mitigation of halide and polythionic acid stress corrosion cracking mechanisms in process equipment

Номер патента: CA3190107A1. Автор: Sean Sears,James Esteban,Trey Schuenemann. Владелец: Refined Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Cleaning coke deposits from process equipment

Номер патента: EP3448591A1. Автор: Vincent dePaul MCGAHEE. Владелец: Chevron Phillips Chemical Co LP. Дата публикации: 2019-03-06.

Cleaning Coke Deposits from Process Equipment

Номер патента: US20210162471A1. Автор: Vincent dePaul MCGAHEE. Владелец: Chevron Phillips Chemical Co LP. Дата публикации: 2021-06-03.

Cleaning Coke Deposits from Process Equipment

Номер патента: US20220305532A1. Автор: Vincent dePaul MCGAHEE. Владелец: Chevron Phillips Chemical Co LP. Дата публикации: 2022-09-29.

Cleaning Coke Deposits from Process Equipment

Номер патента: US20190224726A1. Автор: Vincent dePaul MCGAHEE. Владелец: Chevron Phillips Chemical Co LP. Дата публикации: 2019-07-25.

Method for using a processing equipment commercial platform

Номер патента: US20210319487A1. Автор: Chi-Hsien Huang. Владелец: Brimo Technology Inc. Дата публикации: 2021-10-14.

Module for process equipments in a purifying plant

Номер патента: WO2004056713A1. Автор: Olai Lagus,Alf Holm. Владелец: OY KWH PIPE AB. Дата публикации: 2004-07-08.

Processing equipment for extracting mentha arvensis oil from mentha haplocalyx briq

Номер патента: LU505957B1. Автор: Li Zhu. Владелец: An Hui Yi Fan Spice Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Method of using a lubricating member for food-processing equipment

Номер патента: US20010041662A1. Автор: Yoshinori Muzumura. Владелец: NSK LTD. Дата публикации: 2001-11-15.

Data acquisition and analysis method based on diabetes data analysis and processing equipment

Номер патента: US20240280462A1. Автор: Ze Li,Xiaodong Li,Yanling Yang,Jinghao Chen,Yayun Wang,Feifei Wu,Yunhu Bai. Владелец: Air Force Medical University of PLA. Дата публикации: 2024-08-22.

Processing equipment of excretory substances and the method

Номер патента: US09585805B2. Автор: Tokuo SAITOH,Fumiyuki Akoshima,Kiichi Komatsu,Nobuyoshi Kurosawa. Владелец: Keiko Saitoh. Дата публикации: 2017-03-07.

Method and system for feeding a liquid organic peroxide to a polymer melt processing equipment

Номер патента: ZA202303721B. Автор: Sebastian Schwarzer. Владелец: LUMMUS NOVOLEN TECHNOLOGY GMBH. Дата публикации: 2023-11-29.

A Processing Equipment For Iron-Containing Acid Pickle In Electroplating Industry And Its Working Method

Номер патента: AU2021102940A4. Автор: Li Guo,FAN Yao,YuQun Chen,Zhi LIANG,Lingya GE,Chengfang Yang. Владелец: Xuzhou University of Technology. Дата публикации: 2021-08-19.

A sample processing equipment for mineral rock test benches

Номер патента: AU2020104153A4. Автор: XIAO Li,Xuejuan Song,Lanying Huang,Shengcheng Wang,Hao SHAN. Владелец: Xuzhou University of Technology. Дата публикации: 2021-03-04.

Mobile complex for gas plasma processing of metal

Номер патента: RU2677039C1. Автор: Андрей Александрович Колесников,Станислав Владимирович Адаменко,Евгений Александрович Дасис,Руслан Леонидович Губар. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Газпром трансгаз Ухта". Дата публикации: 2019-01-15.

Method for reducing the amount of perfluorocompound gas contained in exhaust emissions from plasma processing

Номер патента: EP1124622A1. Автор: Calvin Todd Gabriel. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-08-22.

Sound-insulating coating with vibration insulation system of process equipment

Номер патента: RU2651989C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-04-24.

Sound-insulating coating with the vibration insulation system of process equipment

Номер патента: RU2667923C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-09-25.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Method for operation of process equipment

Номер патента: RU2580569C2. Автор: Александр Валентинович Митрофанов,Сергей Николаевич Барышов. Владелец: Открытое акционерное общество "Системы и технологии обеспечения безопасности. Техдиагностика". Дата публикации: 2016-04-10.

Method for fire cleaning of process equipment

Номер патента: RU2605241C2. Автор: Александр Филиппович Решетняк,Анастасия Олеговна Пронина,Сергей Викторович Игнатов,Олег Элиханович Велиханов. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Промэлектроника" ООО "Промэлектроника". Дата публикации: 2016-12-20.

Sound-insulating enclosure of process equipment

Номер патента: RU2639049C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2017-12-19.

Sound-insulating coating with the vibration insulation system of process equipment

Номер патента: RU2651556C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-04-20.

Anti-vibration system for process equipment with variable mass

Номер патента: RU2668874C2. Автор: Мария Михайловна Стареева. Владелец: Мария Михайловна Стареева. Дата публикации: 2018-10-09.

Vibration isolator for process equipment

Номер патента: RU2624120C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2017-06-30.

Double spring vibration insulator for process equipment with variable mass

Номер патента: RU2661043C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-07-11.

Analyzing ultrasonic signals using a dynamic signal processing window for an early detection of scaling in water processing equipment

Номер патента: EP2593783A2. Автор: Michael Peterson,Guy Mizrahi,Jack Gilron,Alan R. Greenberg,Keith D. Corby,Elmira Kujundzic,Xiao Yun Lu. Владелец: Ben Gurion University of the Negev Research and Development Authority Ltd. Дата публикации: 2013-05-22.

Automated lsp process equipment system for aero-engine blade

Номер патента: US20230047843A1. Автор: BO LIU,Yu Zhang,Wei Gao,Shun Zhang,Ang Li,Yanbin Zhang,Changhe Li,Bingheng Lu,Mingzheng LIU,Zechen Zhang,Binwei Wang,Jiazhi Yao. Владелец: Sichuan Future Aerospace Industry LLC. Дата публикации: 2023-02-16.

Laser processing equipment and method

Номер патента: US20230415280A1. Автор: Pi-cheng Tung,Chih-Kuang Lin,Jeng-Rong Ho. Владелец: National Central University. Дата публикации: 2023-12-28.

Closure processing equipment and method

Номер патента: EP4387895A1. Автор: Neil B. CAMMISH,Guido Drees. Владелец: F Hoffmann La Roche AG. Дата публикации: 2024-06-26.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: EP4368301A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-05-15.

Performing calculation in digital signal processing equipment

Номер патента: US20030074384A1. Автор: Jari Parviainen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-04-17.

Processing equipment for computer shell panel

Номер патента: LU505969B1. Автор: Zhiliang LIU,Jinfeng Gao,Ruxian Yao. Владелец: Univ Huanghuai. Дата публикации: 2024-07-01.

System and method for protecting portions of material processing equipment used in aggregate industry

Номер патента: US20210107737A1. Автор: David Bryan Stroup. Владелец: Terex USA LLC. Дата публикации: 2021-04-15.

Remote process equipment bolt flange joint opening and closing system and method of use

Номер патента: WO2021194922A1. Автор: Kevin Larsen. Владелец: Kevin Larsen. Дата публикации: 2021-09-30.

Plasma Processing Apparatus and Method for Venting the Same to Atmosphere

Номер патента: US20090183683A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

A tea rolling processing equipment for tea pretreatment and a processing method thereof

Номер патента: LU506065B1. Автор: Ping Yu,Yubao Xu,Miaomiao Huang. Владелец: Univ West Anhui. Дата публикации: 2024-07-05.

A method for treating a mixture containing an ester compound, a chemical processing equipment, a mixture containing an ester compound, and a composition of ester compounds

Номер патента: US20100292494A1. Автор: Carl-Johan Lindquist. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-11-18.

A method for treating a mixture containing an ester compound, a chemical processing equipment, a mixture containing an ester compound, and a composition of ester compounds

Номер патента: WO2008119805A1. Автор: Carl-Johan Lindquist. Владелец: Carl-Johan Lindquist. Дата публикации: 2008-10-09.

A tea rolling processing equipment for tea pretreatment and a processing method thereof

Номер патента: ZA202400218B. Автор: YU PING,Xu Yubao,Huang Miaomiao. Владелец: Univ West Anhui. Дата публикации: 2024-09-25.

Highly reflective metallic alloys for components of semiconductor processing equipment, and related methods

Номер патента: US20240295048A1. Автор: Tetsuya Ishikawa,Ala Moradian,Shawn Thanhson Le,Amir H. Tavakoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-05.

Gas processing equipment and gas processing method, and carbon dioxide capture system and carbon dioxide capture method

Номер патента: US12070719B2. Автор: Satoshi Saito,Shinji Murai,Yasuhiro Kato,Koshito Fujita,Takehiko Muramatsu,Ryosuke Shibata,Osamu Shibasaki,Yusuke Handa,Daigo Muraoka,Hayato Morigaki. Владелец: Toshiba Energy Systems and Solutions Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Meat processing equipment having improved yieldable arresting means

Номер патента: US09801395B2. Автор: Jacobus Eliza Hazenbroek. Владелец: Foodmate BV. Дата публикации: 2017-10-31.

Metal powder processing equipment

Номер патента: US09623512B2. Автор: Mitsuyoshi Yoshida,Koichi Amaya,Hideto Matsubara,Toshihiko Katoh. Владелец: Matsuura Machinery Corp. Дата публикации: 2017-04-18.

Process equipment contaminant removal

Номер патента: US09415338B2. Автор: Doug Scott,Alan Finley,Lisha Salathiel. Владелец: Global Vapor Control Inc. Дата публикации: 2016-08-16.

Rubber metal vibration isolator for the process equipment installation

Номер патента: RU2651404C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-04-19.

Method for detecting depressurization of process equipment at an early stage by reducing the value of the minimum detectable fluid activity of a radiometric unit (versions)

Номер патента: RU2727072C1. Автор: Александр Евгеньевич Шермаков,Константин Владимирович Родионов. Владелец: Константин Владимирович Родионов. Дата публикации: 2020-07-17.

"dome" type device for liquidation of underwater oil spills complete with process equipment

Номер патента: RU2723799C1. Автор: Евгений Михайлович Апполонов,Алексей Андреевич Бачурин,Василий Константинович Грызлов,Елена Николаевна Грызлова,Любовь Александровна Зверева,Сергей Николаевич Коротов,Иван Владимирович Ромшин,Олег Яковлевич Сочнев,Александр Павлович Сошитов,Яков Олегович Трухин,Алексей Евгеньевич Шуланкин. Владелец: Публичное акционерное общество "Нефтяная компания "Роснефть" (ПАО "НК "Роснефть"). Дата публикации: 2020-06-17.

Methods for retrieval and replacement of subsea production and processing equipment

Номер патента: CA2879302C. Автор: Harold Brian Skeels,Michael R. Williams,Andrei STRIKOVSKI,Thomas L. Hergarden,Howard J. Hartley,Eric Randall SMEDSTAD,John D. DAFLER,Jimmy D. Andrews. Владелец: FMC Technologies Inc. Дата публикации: 2018-01-16.

Continuous polyester fiber textile cloth, processing equipment and method

Номер патента: US20230304214A1. Автор: Lijun Lin,Buyi Cen,Jieyuan Cen,Chenxin Fei. Владелец: Ningbo Xinrun Textile Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Method, computing device and computer program for detecting abnormal behavior of process equipment

Номер патента: US20240103950A1. Автор: Seung Jae HA. Владелец: Aibiz Co ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Coating apparatus and substrate processing equipment

Номер патента: US20240246110A1. Автор: Qi Zhang,Jie GENG,Haishang CAO,Hanrong BI. Владелец: Jiangsu Contemporary Amperex Technology Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

A vibrating screen processing equipment for tea production with controllable motion range

Номер патента: LU506324B1. Автор: Xiaojiao Huang. Владелец: Univ West Anhui. Дата публикации: 2024-07-09.

Information-processing equipment

Номер патента: US20110076523A1. Автор: Akira Iwamoto,Masaru Furujiku. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-03-31.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

A vibrating screen processing equipment for tea production with controllable motion range

Номер патента: ZA202400219B. Автор: HUANG Ji,Wang Wenming,Huang Xiaojiao,Ji Tiantian,Zhao Jiangdong. Владелец: Univ West Anhui. Дата публикации: 2024-07-31.

Performing calculation in digital signal processing equipment

Номер патента: EP1275043A1. Автор: Jari A. Parviainen. Владелец: Nokia Oyj. Дата публикации: 2003-01-15.

Performing calculation in digital signal processing equipment

Номер патента: WO2001061467A1. Автор: Jari A. Parviainen. Владелец: Nokia Corporation. Дата публикации: 2001-08-23.

Metal powder processing equipment

Номер патента: US10596654B2. Автор: Toshihiko Kato,Mitsuyoshi Yoshida,Koichi Amaya,Hideto Matsubara. Владелец: Matsuura Machinery Corp. Дата публикации: 2020-03-24.

Processing equipment and its supporting structure

Номер патента: US20240174477A1. Автор: Yung-Chi Chang,You-Syun LYU,Jia-Jyun SHEN. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 2024-05-30.

Composition, Processing Technology and Processing Equipment of A Multifunctional Compound Lubricating Oil Additive

Номер патента: NL2036259B1. Автор: Chen Ling,YIN Hong,Gong Haifeng,CHEN Yafei,Ouyang Ping,He Donglin. Владелец: Chongqing Technology And Business Univ Science And Technology Development Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Method for reagent treatment of wastes from process equipment for production of industrial fabrics with impregnation from synthetic fibers

Номер патента: RU2707023C1. Автор: Пётр Александрович Зимовец. Владелец: Пётр Александрович Зимовец. Дата публикации: 2019-11-21.

Automated installation for monitoring of technical condition of special process equipment of fuel servicing trucks

Номер патента: RU2718713C1. Автор: Владимир Васильевич Середа,Виктор Николаевич Кирпичников,Владимир Михайлович Таран,Леонид Александрович Багаев,Виктор Семенович Красовский. Владелец: Федеральное автономное учреждение "25 Государственный научно-исследовательский институт химмотологии Министерства обороны Российской Федерации". Дата публикации: 2020-04-14.

Method for drilling of process equipment elements in well

Номер патента: RU2703013C1. Автор: Василий Николаевич Никитин,Александр Васильевич Никитин. Владелец: Александр Васильевич Никитин. Дата публикации: 2019-10-15.

Method for plasma processing of metal products

Номер патента: RU2754915C1. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин,Роман Германович Никулин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-09-08.

Automated reverse action device for plasma processing of shoe preparations

Номер патента: RU2628988C1. Автор: Сергей Петрович Александров,Татьяна Владимировна Жуковская,Андрей Владимирович Шестов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет технологий и управления имени К.Г. Разумовского (Первый казачий университет" (ФГБОУ ВО "МГУТУ им. К.Г. Разумовского (ПКУ)"). Дата публикации: 2017-08-23.

Method and control system for detecting condition of plurality of process equipment in industrial plant

Номер патента: EP3861415A1. Автор: Jinendra GUGALIYA,Harvinder Singh,Alessandro BONGIOVI,Rahul KUMAR VIJ. Владелец: ABB Schweiz AG. Дата публикации: 2021-08-11.

Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing

Номер патента: US09970818B2. Автор: Zheng Yan,Yan Chen,Hanyou Chu,Junwei Bao,Holger Tuitje,Ching-Ling Meng,Mihail Mihaylov,Haixing Zou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Process and apparatus for the cyclic heating and cooling of processing equipment

Номер патента: CA1070669A. Автор: Richard E. Hinkle. Владелец: American Hydrotherm Corp. Дата публикации: 1980-01-29.

Poultry processing equipment

Номер патента: US9433224B2. Автор: Hua Long. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-09-06.

Method of cleaning melt-processing equipment with a thermoplastic polyolefin and a bifunctional siloxane

Номер патента: US4976788A. Автор: J. Gavin MacDonald,Ronald S. Nohr. Владелец: Kimberly Clark Corp. Дата публикации: 1990-12-11.

Method and process equipment to volume reduce expanded polystyrene

Номер патента: CA2739698A1. Автор: Dietmar A. M. Tholen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-11-05.

Operator console with dynamic future representations for processing equipment

Номер патента: US11934172B2. Автор: Berty Jacques Alain Bhuruth,Graeme John LAYCOCK,Rohan James MCADAM. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

A processing equipment for industrial robot accessories

Номер патента: LU505591B1. Автор: Shuaihua Chen. Владелец: Chongqing City Vocational College. Дата публикации: 2024-05-21.

Manway For Food Processing Equipment

Номер патента: US20110252980A1. Автор: Timothy J. Isenberg,John E. Zirbel. Владелец: Individual. Дата публикации: 2011-10-20.

Assessement of process equipment reliability

Номер патента: RU2398260C2. Автор: Дейл Х. ПЕРРИ,Марк С. ШУМАХЕР,Гарри Д. ХЬЮСЕНГА,Рэнди Дж. ЛОНГСДОРФ. Владелец: Роузмаунт Инк.. Дата публикации: 2010-08-27.

Combined soil-processing equipment for preventing soil movement down the slope

Номер патента: RU2665069C1. Автор: Ильдар Раисович Рахимов,Салават Гумерович Мударисов,Зиннур Саетович Рахимов,Марсель Мусавирович Ямалетдинов,Ильдар Мавлиярович Фархутдинов,Регина Леонидовна Гордова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Башкирский государственный аграрный университет". Дата публикации: 2018-08-28.

Vibration adsorber for process equipment

Номер патента: RU2650336C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2018-04-11.

Information control system of automated control system for preparation of propulsion systems and process equipment of space rockets within technical and launching complexes

Номер патента: RU2604362C1. Автор: Игорь Евгеньевич Васильев,Михаил Юрьевич Охтилев,Павел Алексеевич Пикулёв,Татьяна Анатольевна Булыгина,Виктор Александрович Каргин,Филипп Анатольевич Кириленко. Владелец: Закрытое акционерное общество "СКБ ОРИОН". Дата публикации: 2016-12-10.

New process equipment and method of producing natural gas and hydrogen

Номер патента: RU2696154C1. Автор: Ёсиюки ВАТАНАБЕ,Хидефуми ОМОРИ. Владелец: ДжГК Корпорейшн. Дата публикации: 2019-07-31.

Monitoring and data processing equipment for wind turbines and predictive maintenance system for wind power stations

Номер патента: US20070140847A1. Автор: Jose Llorente Gonzalez,María Martínez De Lizarduy Romo. Владелец: Gamesa Innovation and Technology SL. Дата публикации: 2007-06-21.

Compressed air processing equipment for lorries

Номер патента: EP1431153B1. Автор: Harald Pohl,Heinz Peter Distelrath. Владелец: Iveco Magirus AG. Дата публикации: 2005-10-12.

Method for automated calibration of temperature sensors in rapid thermal processing equipment

Номер патента: US6004029A. Автор: Mehrdad M. Moslehi,Yong Jin Lee. Владелец: CVC Products Inc. Дата публикации: 1999-12-21.

Oxidative processes for self-heating and pyrophoric catalysts containing active metal sulfides, and mitigation of halide and polythionic acid stress corrosion cracking mechanisms in process equipment

Номер патента: US20230302436A1. Автор: Sean Sears,James Esteban,Trey Schuenemann. Владелец: Refined Technologies Inc. Дата публикации: 2023-09-28.

Direct measurement of composition in chemical processing equipment to optimize process variables

Номер патента: US20240003784A1. Автор: John F. Hart. Владелец: Hart John F. Дата публикации: 2024-01-04.

Method and system for heating direct reduced iron (DRI) between a DRI source and processing equipment for the DRI

Номер патента: US11965221B2. Автор: Todd Michael Astoria,James Lloyd LEWIS, Jr.. Владелец: Midrex Technologies Inc. Дата публикации: 2024-04-23.

Adjusting blade gap in processing equipment for processing fibrous material

Номер патента: WO2023135362A1. Автор: Pekka Saukko,Juha Aronen. Владелец: Valmet Technologies Oy. Дата публикации: 2023-07-20.

Method and system for heating direct reduced iron (dri) between a dri source and processing equipment for the dri

Номер патента: US20230332259A1. Автор: Todd Michael Astoria,James Lloyd LEWIS, Jr.. Владелец: Midrex Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Control apparatus and method for 3d printer post-processing equipment

Номер патента: US20240131796A1. Автор: Ji Yeon Son,Min Gi Kim,Chang Beom Kim,Hyo Nyoung HAN. Владелец: Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI. Дата публикации: 2024-04-25.

Virtual storage architecture management system, information processing equipment for virtual storage architecture, computer- readable storage medium, and method of producing virtual storage architecture

Номер патента: US20060143424A1. Автор: Noriaki Matsuzaki,Fumikazu Fujimoto. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2006-06-29.

Banknote processing equipment and method of processing banknotes

Номер патента: WO2017212296A1. Автор: Robert Wright. Владелец: Cash Dynamics Limited. Дата публикации: 2017-12-14.

Sterilization fabric processing equipment and product manufactured by the same

Номер патента: US20230048862A1. Автор: Mu-Chun Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-02-16.

Adjusting the performance capability of rack-mounted data processing equipment in dependence on the application being run

Номер патента: GB2406936A. Автор: Ricardo Espinoza-Ibarra,Andrew Harvey Barr,Kirk M Bresniker. Владелец: Hewlett Packard Development Co LP. Дата публикации: 2005-04-13.

Device for reporting error conditions occurring in adapters to the data processing equipment central control unit

Номер патента: CA1190654A. Автор: Gerard Dalboussiere,Rene Castel,Michel Kulakowski. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1985-07-16.

Attaching/detaching structure for a keyboard module in an information processing equipment

Номер патента: US5642257A. Автор: Asao Saito,Katsutoshi Mukaijima. Владелец: Citizen Watch Co Ltd. Дата публикации: 1997-06-24.

System and method for monitoring product processing equipment of an industrial plant

Номер патента: EP4250026A1. Автор: Jan Buck,Michel Vorsprach,Sebastian Gau,Oliver Poensgen. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-09-27.

Method for monitoring deposition in wells, flowlines, processing equipment and laboratory testing apparatus

Номер патента: CA3072077A1. Автор: David Wayne Jennings,Brian B. Ochoa,Michael J. DEIGHTON,Tudor C. Ionescu. Владелец: Baker Hughes Inc. Дата публикации: 2019-02-14.

A gateway and method for transforming a description of an industrial process equipment into a data information model

Номер патента: EP3853680A1. Автор: Alexander Hoffman,Darko ANICIC. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2021-07-28.

Traffic information processing equipment, system and method

Номер патента: US20210229804A1. Автор: Yu Gu. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Information processing equipment

Номер патента: US9286317B2. Автор: Minoru Ozaki,Kouji MUTOU,Yutaka Iyoki,Atsurou Kitazawa. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-15.

Disinfecting system for food processing equipment

Номер патента: WO2021234740A8. Автор: Ragnar Olafsson. Владелец: D-Tech Ehf. Дата публикации: 2021-12-30.

Oil and Gas Process Equipment Burner Emission Prevention Device

Номер патента: US20220333774A1. Автор: Ty Freeman Davis,Jeffrey Odell Davis. Владелец: Individual. Дата публикации: 2022-10-20.

System and method for cleaning meat processing equipment and machinery

Номер патента: US20240149310A1. Автор: Ronald J. CURNETT,Craig E. Feeler,Chad Wheeler. Владелец: Hantover Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Method and system for feeding a liquid organic peroxide to a polymer melt processing equipment

Номер патента: US20230383066A1. Автор: Sebastian Schwarzer. Владелец: LUMMUS NOVOLEN TECHNOLOGY GMBH. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for monitoring product processing equipment of an industrial plant

Номер патента: WO2023180112A1. Автор: Jan Buck,Michel Vorsprach,Sebastian Gau,Oliver Poensgen. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2023-09-28.

Method for monitoring deposition in wells, flowlines, processing equipment and laboratory testing apparatus

Номер патента: EP3665474A1. Автор: David Wayne Jennings,Brian B. Ochoa,Michael J. DEIGHTON,Tudor C. Ionescu. Владелец: Baker Hughes a GE Co LLC. Дата публикации: 2020-06-17.

System and method for cleaning meat processing equipment and machinery

Номер патента: EP4364864A1. Автор: Ronald J. CURNETT,Craig E. Feeler,Chad Wheeler. Владелец: Hantover Inc. Дата публикации: 2024-05-08.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATION OF FREE-SURFACE WAVES USING CAVITY RESONATOR

Номер патента: US20120001434A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Evaluation method and system of characteristic properties of two contacting media and boundary surface between them considering mixed surface waves propagating along their boundary surface

Номер патента: RU2439317C1. Автор: Дмитрий Владиленович Писаренко,Тимур Вячеславович Жарников,Масафуми Фукухара,Владимир Альбертович Чеверда,Павел Владимирович Крауклис,Игорь Витальевич Бородин. Владелец: Математический Институт им.В.А.Стеклова Российской академии наук. Дата публикации: 2012-01-10.

Uhf method for irregularity introscopy of dielectric and magneto-dielectric surfaces using a slow surface wave

Номер патента: RU2301987C1. Автор: Дмитрий Александрович Дмитриев,Павел Александрович Федюнин,Анатолий Александрович Панов. Владелец: ГОУ ВПО Тамбовское высшее военное авиационное инженерное училище радиоэлектроники (Военный институт). Дата публикации: 2007-06-27.

Surface wave breaker

Номер патента: SG136011A1. Автор: Soon Kim Loon Stephen. Владелец: Soon Kim Loon Stephen. Дата публикации: 2007-10-29.

Method to increase temperature stability of frequency of narrow-band acoustic surface wave filter and narrow-band acoustic surface wave filter with higher temperature stability of frequency

Номер патента: RU2479118C1. Автор: Федор Федорович Яковлев,Владимир Константинович Гапшин,Владислав Андреевич Белоусов. Владелец: Открытое акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Полет". Дата публикации: 2013-04-10.

Method of measuring speed of ultrasonic surface wave

Номер патента: RU2490606C1. Автор: Хорис Борисович Толипов,Юлия Хорисовна Толипова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Уральский государственный университет" (национальный исследовательский университет) (ФГБОУ ВПО "ЮУрГУ") (НИУ). Дата публикации: 2013-08-20.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

Gyroscope operating at acoustic surface waves

Номер патента: RU2329466C1. Автор: Владимир Сергеевич Богословский. Владелец: Владимир Сергеевич Богословский. Дата публикации: 2008-07-20.

Process of measurement of high-frequency spectra of surface waves and device for its implementation

Номер патента: RU2040780C1. Автор: Г.Н. Христофоров,А.С. Запевалов,Ю.А. Мищенчук,В.Е. Смолов. Владелец: Морской гидрофизический институт. Дата публикации: 1995-07-25.

Method for ultrasonic inspection of articles with acoustic surface waves

Номер патента: RU2451931C1. Автор: Валентин Михайлович Ушаков,Денис Михайлович Давыдов. Владелец: Открытое акционерное общество Научно-производственное объединение "Центральный научно-исследовательский институт технологии машиностроения". Дата публикации: 2012-05-27.

Open resonator of surface wave

Номер патента: RU2014662C1. Автор: Л.М. Бузик,С.А. Чурилова. Владелец: Радиоастрономический институт АН Украины. Дата публикации: 1994-06-15.

Method to pour concrete mixture under process equipment at final stage of its assembly

Номер патента: RU2466251C1. Автор: Владимир Владимирович Верстов,Дмитрий Дмитриевич Тишкин,Виктор Николаевич Романовский. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный архитектурно-строительный университет". Дата публикации: 2012-11-10.

Method for cleaning inner surface of process equipment and pipelines (versions)

Номер патента: RU2594426C1. Автор: Николай Дмитриевич Войтех,Юрий Алексеевич Журавлев,Александр Викторович Литвиненко,Дмитрий Юрьевич Першин. Владелец: Акционерное общество "Научно-исследовательский и проектный институт по переработке газа" (АО "НИПИгазпереработка"). Дата публикации: 2016-08-20.

Felling and bunching skidding machine with universal process equipment

Номер патента: RU2388214C1. Автор: Петр Михайлович Огар,Алексей Митрофанович Долотов,Владимир Богданович Кашуба,Валерий Васильевич Яковлев,Елена Михайловна Рунова,Александр Николаевич Сухих,Леонид Николаевич Захаренко. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Братский государственный университет". Дата публикации: 2010-05-10.

Method of manufacturing of working element of process equipment with wear-resistant element interacting with abrasive medium

Номер патента: RU2583977C2. Автор: Андрей Евгеньевич Малашко. Владелец: Андрей Евгеньевич Малашко. Дата публикации: 2016-05-10.

Method to evaluate operability of process equipment operated under conditions causing reduction of plasticity and cracking of metal in structural elements

Номер патента: RU2569964C1. Автор: Александр Валентинович Митрофанов,Сергей Николаевич Барышов,Борис Александрович Ерихинский. Владелец: Открытое акционерное общество "Системы и технологии обеспечения безопасности. Техдиагностика". Дата публикации: 2015-12-10.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

Vibration absorber for process equipment

Номер патента: RU2578410C1. Автор: Татьяна Дмитриевна Ходакова. Владелец: Татьяна Дмитриевна Ходакова. Дата публикации: 2016-03-27.

Installation for recovery and treatment of gas emissions from process equipment

Номер патента: RU2416651C1. Автор: Владимир Александрович Грачев,Валерий Николаевич Азаров,Владимир Владимирович Гутенев,Наталия Михайловна Сергина,Валерий Иванович Теличенко,Артем Иванович Ажгиревич,Евгений Александрович Коротков,Юлия Владимировна Кораблина. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Проектно-технологическое бюро проектно-строительного объединения Волгоградгражданстрой". Дата публикации: 2011-04-20.

Stareeva vibration isolator for process equipment

Номер патента: RU2578405C1. Автор: Мария Олеговна Стареева. Владелец: Мария Олеговна Стареева. Дата публикации: 2016-03-27.

Device for monitoring ground circuit of information processing equipment

Номер патента: RU2599379C2. Автор: Николай Иванович Елисеев,Дмитрий Владимирович Самойленко,Андрей Викторович Щербаков,Александр Сергеевич Зеленков,Сергей Юрьевич Герасимов,Василий Иванович Сирченко,Александр Анатольевич Копылов. Владелец: федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего образования "Краснодарское высшее военное училище имени генерала армии С.М. Штеменко" Министерства обороны Российской Федерации. Дата публикации: 2016-10-10.

Process equipment system for heat exchanging structures production for air-cooled gas apparatus, slip ways for heat exchanging structures production, slip ways for gas intake header or cooled gas outlet header assembling and installation and production slipways for central support element under fan motor

Номер патента: RU2342240C2. Автор: Николай Павлович Селиванов. Владелец: Николай Павлович Селиванов. Дата публикации: 2008-12-27.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Device for transfer of rocks from process equipment onto belt conveyor

Номер патента: RU2456223C1. Автор: Юрий Дмитриевич Тарасов,Юрий Дмитриевич Тарасов (RU). Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный горный институт имени Г.В. Плеханова (технический университет)". Дата публикации: 2012-07-20.

Device for replacement of plasmatron for installation for plasma processing of wastes

Номер патента: RU2579037C1. Автор: Алексей Александрович Кудринский,Александр Васильевич Переславцев,Сергей Сергеевич ТРЕСВЯТСКИЙ,Сергей Александрович Вощинин,Владимир Степанович Горохов. Владелец: Сергей Александрович Вощинин. Дата публикации: 2016-03-27.

Data processing equipment

Номер патента: CA164770S. Автор: . Владелец: Selectron Systems AG. Дата публикации: 2015-12-28.

Data processing equipment

Номер патента: CA157146S. Автор: . Владелец: Selectron Systems AG. Дата публикации: 2015-12-28.

Method and device for ball plasma processing

Номер патента: RU2401310C1. Автор: Магомед-Эмин Хасаевич Исакаев,Александр Семенович Тюфтяев,Александр Эммануилович Яблонский. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Современные плазменные технологии". Дата публикации: 2010-10-10.

Unit for ion-ray and plasma processing

Номер патента: RU2496913C2. Автор: Аскар Джамилевич Мингажев,Анатолий Михайлович Смыслов,Василий Андреевич Гонтюрев,Марина Константиновна Смыслова,Вячеслав Юрьевич Гордеев,Игорь Борисович Степанов,Александр Ильич Рябчиков,Юрий Михаилович Дыбленко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология". Дата публикации: 2013-10-27.

Computer-aided feed-through device for plasma processing of upper blanks

Номер патента: RU2556166C2. Автор: Сергей Петрович Александров,Ирина Петровна Бердникова,Ильдар Шаукатович Абдулин. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный университет технологий и управления" им. К.Г. Разумовского. Дата публикации: 2015-07-10.

System of vibration monitoring, protection and diagnostics of technical state of process equipment

Номер патента: RU2464486C1. Автор: Юрий Валерьевич Брусиловский. Владелец: Юрий Валерьевич Брусиловский. Дата публикации: 2012-10-20.

Spring vibration isolator by kochetov for process equipment with variable mass

Номер патента: RU2550910C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мария Олеговна Стареева,Мария Михайловна Стареева,Татьяна Дмитриевна Ходакова,Анна Михайловна Стареева. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2015-05-20.

Vibration absorber for process equipment

Номер патента: RU2515813C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мария Олеговна Стареева,Мария Михайловна Стареева. Владелец: Мария Михайловна Стареева. Дата публикации: 2014-05-20.

Vibrator isolator for process equipment

Номер патента: RU2558775C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мария Олеговна Стареева,Мария Михайловна Стареева,Татьяна Дмитриевна Ходакова,Анна Михайловна Стареева. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2015-08-10.

Device for processing equipment relocation (versions)

Номер патента: RU2368473C2. Автор: Евгений Иванович Овчинников,Александр Витальевич Елин,Максим Васильевич Яковлев. Владелец: Максим Васильевич Яковлев. Дата публикации: 2009-09-27.

Explosion-protective valve for process equipment

Номер патента: RU2442052C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мария Олеговна Стареева,Игорь Георгиевич Гетия,Сергей Игоревич Гетия,Ирина Николаевна Леонтьева. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2012-02-10.

A multi-electrode source assembly for plasma processing

Номер патента: WO2024226135A1. Автор: James Rogers,Rajinder Dhindsa,Linying CUI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-31.

Vibration absorber for process equipment

Номер патента: RU2547972C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мария Олеговна Стареева,Мария Михайловна Стареева,Татьяна Дмитриевна Ходакова,Анна Михайловна Стареева. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2015-04-10.

Explosion-proof valve for process equipment

Номер патента: RU2495313C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов,Мария Олеговна Стареева,Мария Михайловна Стареева. Владелец: Мария Михайловна Стареева. Дата публикации: 2013-10-10.

Detergent for treating food processing equipment

Номер патента: RU2517192C1. Автор: Екатерина Сергеевна Анохина,Максим Борисович Ребезов. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Уральский государственный университет" (национальный исследовательский университет) (ФГБОУ ВПО "ЮУрГУ" (НИУ)). Дата публикации: 2014-05-27.

Method for mining-well extraction scavenger oil and process equipment system therefor

Номер патента: RU2593614C1. Автор: Анатолий Васильевич Ильюша,Валентин Яковлевич Афанасьев,Владимир Юрьевич Линник,Андрей Владимирович Корчак,Владимир Викторович Годин,Валерий Николаевич Захаров,Гарник Левонович Амбарцумян,Виктор Васильевич Шерсткин. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Государственный университет управления" (ГУУ). Дата публикации: 2016-08-10.

Microwave plasma processing device

Номер патента: RU2539872C1. Автор: Петр Павлович Мальцев,Юрий Владимирович Федоров,Виталий Васильевич Аристов,Сергей Викторович Редькин,Алевтина Александровна Реппа. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники Российской академии наук (ИСВЧПЭ РАН). Дата публикации: 2015-01-27.

Data processing equipment

Номер патента: CA164769S. Автор: . Владелец: Selectron Systems AG. Дата публикации: 2015-12-28.

Processing equipment for dragging tractor (versions)

Номер патента: RU2148507C1. Автор: И.А. Мельников,В.В. Радьков,А.В. Чистиков. Владелец: Акционерное общество открытого типа "Алтайский трактор ". Дата публикации: 2000-05-10.

Composition for minimizing fouling of heat exchangers and other hydrocarbon processing equipment

Номер патента: CA1227449A. Автор: Richard F. Miller,John Link. Владелец: Atlantic Richfield Co. Дата публикации: 1987-09-29.

Complex ion-plasma processing unit

Номер патента: RU2453629C2. Автор: Александр Викторович Кабанов,Сергей Николаевич Григорьев,Леонид Павлович Саблев,Анатолий Афанасьевич Андреев,Александр Петрович Горовой,Алексей Анатольевич Вислагузов. Владелец: Российская Федерация, в лице Министерства промышленности и торговли Российской Федерации. Дата публикации: 2012-06-20.

Method of electrolite-plasma processing of metal surface

Номер патента: RU2537346C1. Автор: Дмитрий Ефимович Капуткин,Валентин Николаевич Дураджи,Андрей Юрьевич Дураджи. Владелец: Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС". Дата публикации: 2015-01-10.

Method for electrolytic-plasma processing of surface of parts from low-carbon steels with increased chromium content

Номер патента: RU2555312C1. Автор: Евгений Николаевич Каблов,Сергей Артемович Мубояджян,Сергей Александрович Будиновский,Светлана Владимировна Попова. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ"). Дата публикации: 2015-07-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.