Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • RF CHOKE FOR GAS DELIVERY TO AN RF DRIVEN ELECTRODE IN A PLASMA PROCESSING APPARATUS

RF CHOKE FOR GAS DELIVERY TO AN RF DRIVEN ELECTRODE IN A PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20210090777A1
Опубликовано: 25-03-2021
Автор(ы): KUDELA Jozef, SORENSEN Carl A., WHITE John M.
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

RF choke for gas delivery to an RF driven electrode in a plasma processing apparatus

Номер патента: US09761365B2. Автор: John M. White,Jozef Kudela,Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09631274B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574267B2. Автор: Toshihisa Nozawa,Shinji Komoto,Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Method and apparatus for time-division plasma chopping in a multi-channel plasma processing equipment

Номер патента: US5405492A. Автор: Mehrdad M. Moslehi. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1995-04-11.

Structure and method for solving parasitic plasma in plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321554A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Structure and method for dealing with parasitic plasma in plasma processing device

Номер патента: EP4353865A1. Автор: CHEN CHEN,Dengzhi WANG,Fengming WANG,Qingyuan QU,Xueyong HE,Wangjun LI. Владелец: Suzhou Maizheng Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Plasma processing device and operation method

Номер патента: US20150235813A1. Автор: Hitoshi Kato,Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Masato Yonezawa,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-20.

Plasma processing device and operation method

Номер патента: US9376751B2. Автор: Hitoshi Kato,Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Masato Yonezawa,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-28.

Semiconductor processing apparatus with improved uniformity

Номер патента: WO2021041002A1. Автор: JIAN Li,Paul Brillhart,Juan Carlos Rocha,Vinay K. PRABHAKAR,Viren KALSEKAR. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2021-03-04.

Methods for preventing plasma un-confinement events in a plasma processing chamber

Номер патента: US09928995B2. Автор: Andreas Fischer,Rajinder Dhindsa. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Parasitic plasma prevention in plasma processing chambers

Номер патента: US09728429B2. Автор: Saurabh Ullal,Anthony Ricci,Larry Martinez. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

Showerhead electrode assembly in a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-07-09.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12080517B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Substrate processing apparatus and method for processing substrate

Номер патента: US20230245858A1. Автор: Hitoshi Kato,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Apparatus and methods for using high frequency chokes in a substrate deposition apparatus

Номер патента: US20110259362A1. Автор: Carl A. Sorensen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-10-27.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US09865454B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Masato Yonezawa,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20210142982A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Toshio Hasegawa,Shinya Iwashita,Naotaka Noro,Takamichi Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma generating method, plasma generating apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20070193512A1. Автор: Kenji Kato,Hitoshi Yoneda,Akinori Ebe,Hiroshige Deguchi,Yuichi Setsuhara. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2007-08-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11908663B2. Автор: Taro Ikeda,Toshifumi KITAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110088849A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210375588A1. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2021-12-02.

Systems and methods for electrical and magnetic uniformity and skew tuning in plasma processing reactors

Номер патента: WO2016014442A1. Автор: HAITAO Wang,Jie Zhou,Chunlei Zhang,S. M. Reza Sadjadi,Tza-Jing Gung,Fernando M. SILVEIRA. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2016-01-28.

Apparatus and method for tuning a plasma profile using a tuning electrode in a processing chamber

Номер патента: US09865431B2. Автор: Jian J. Chen,Mohamad A. Ayoub,Amit Kumar BANSAL. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing electronic component

Номер патента: US09786472B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Shogo Okita,Syouzou Watanabe. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-10.

Plasma processing apparatus and method for using plasma processing apparatus

Номер патента: US20230167553A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Impedance control of local areas of a substrate during plasma deposition thereon in a large pecvd chamber

Номер патента: US20240234105A9. Автор: Andrew C. Lam,Suhail Anwar,Jianhua Zhou,Zheng John Ye,Zeqiong ZHAO,Hshiang AN,Yoshitake NAKAJIMA,Fu-Ting Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Impedance control of local areas of a substrate during plasma deposition thereon in a large pecvd chamber

Номер патента: US20240136160A1. Автор: Andrew C. Lam,Suhail Anwar,Jianhua Zhou,Zheng John Ye,Zeqiong ZHAO,Hshiang AN,Yoshitake NAKAJIMA,Fu-Ting Chang. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9412562B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-09.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US9038566B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-05-26.

Capacitive coupling plasma processing apparatus

Номер патента: US8070911B2. Автор: Shinji Himori,Tatsuo Matsudo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-12-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087556B2. Автор: Akio Ui,Yosuke Sato,Hisataka Hayashi. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12071687B2. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Hollow cathode device and method for using the device to control the uniformity of a plasma process

Номер патента: US09455133B2. Автор: LIN Xu,Lee Chen,Kazuki Denpoh,Peter L G Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20130333617A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Tetsuya Suzuki,Hisanori Matsumoto,Hideyuki Nagaishi,Mayui NOBORISAKA. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2013-12-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240240320A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Ignition method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220293394A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Kazumasa Igarashi,Takeshi Ando. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20150110974A1. Автор: Yong-Suk Lee,Myung-Soo Huh,Suk-Won Jung,Mi-Ra An. Владелец: Samsung Display Co Ltd. Дата публикации: 2015-04-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190096640A1. Автор: Noriyuki Kato. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Microwave plasma processing apparatus and microwave plasma processing method

Номер патента: US5985091A. Автор: Nobumasa Suzuki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: WO2009102151A1. Автор: Sang-Ho Woo,Il-Kwang Yang. Владелец: EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.. Дата публикации: 2009-08-20.

Method and apparatus for controlling the temperature of a gas distribution plate in a process reactor

Номер патента: US20020155644A1. Автор: Guy Blalock,Kevin Donohoe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-24.

Plasma processing chamber with dual axial gas injection and exhaust

Номер патента: US9793128B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200266034A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka,Mayo UDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-20.

Plasma processing member, deposition apparatus including the same, and depositing method using the same

Номер патента: US09963783B2. Автор: Se Yong Kim,Hyun Kyu Cho,Jin Su Lee,Ki Jong Kim. Владелец: Genitech Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5439524A. Автор: John L. Cain,Michael P. Relue,Michael E. Costabile,William P. Marsh. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 1995-08-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230245870A1. Автор: Satoru Kawakami,Hiroyuki Matsuura,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200032395A1. Автор: Masanobu Honda,Yoshihide Kihara,Toru Hisamatsu,Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Michiko Nakaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190019653A1. Автор: Yohei Yamazawa,Atsuki Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-01-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US10916410B2. Автор: Yohei Yamazawa,Atsuki Furuya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-09.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240331977A1. Автор: Satoru Kawakami,Tsuyoshi Moriya,Hiroyuki Onoda,Jun Yamawaku,Tatsuo Matsudo,Munehito Kagaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Component for plasma processing apparatus and method for manufacturing component for plasma processing apparatus

Номер патента: US09988702B2. Автор: Michio Sato,Takashi Hino,Masashi Nakatani. Владелец: Toshiba Materials Co Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US6155201A. Автор: Takashi Ohtsuka,Hitoshi Murayama,Kazuyoshi Akiyama,Kazuto Hosoi,Toshiyasu Shirasuna,Ryuji Okamura. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2000-12-05.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US12068208B2. Автор: Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09663858B2. Автор: Koichi Nagami,Koji Itadani,Tsuyoshi Komoda. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20140346040A1. Автор: Akihiro Yokota,Shinji Himori,Etsuji Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-11-27.

Methods and apparatuses for controlling gas flow conductance in a capacitively-coupled plasma processing chamber

Номер патента: TWI416620B. Автор: Rajinder Dhindsa,Jerrel K Antolik,Scott Stevenot. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-11-21.

Methods and apparatuses for controlling gas flow conductance in a capacitively-coupled plasma processing chamber

Номер патента: US8784948B2. Автор: Rajinder Dhindsa,Scott Stevenot,Jerrel K. Antolik. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2014-07-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20090151638A1. Автор: Masaki Sugiyama,Toshiki Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-06-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09574270B2. Автор: Jun Yoshikawa,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-21.

Plasma process apparatus

Номер патента: US09887068B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Processing apparatus and method for plasma processing

Номер патента: US5134965A. Автор: Toru Otsubo,Yasuhiro Yamaguchi,Mitsuo Tokuda,Junzou Azuma,Ichirou Sasaki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1992-08-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220230848A1. Автор: Yoshiyuki Kondo,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-07-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170298514A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takaaki Kato,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5759334A. Автор: Kenichi Kojima,Tokihiro Ayabe,Takehiko Senoo,Yukio Soejima,Kishichi Haga. Владелец: Plasma System Corp. Дата публикации: 1998-06-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US7819082B2. Автор: Tadahiro Ohmi,Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-10-26.

Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device

Номер патента: US09496134B2. Автор: Shinya Sasaki,Yuji Takebayashi,Shintaro Kogura. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-11-15.

Plasma processing apparatus and shower plate

Номер патента: US09663856B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Yutaka Fujino. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09691593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Restoration apparatus and restoration method for plasma processing apparatus

Номер патента: US20190385818A1. Автор: Hiroyuki Mizuno. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-12-19.

Particle removal apparatus and method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20050039773A1. Автор: Tsuyoshi Moriya,Hiroshi Nagaike. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-02-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20210142988A1. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11688585B2. Автор: Hiroyuki Matsuura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-27.

Performance evaluation method for plasma processing apparatus for continuously maintaining a desired performance level

Номер патента: EP1720196A1. Автор: Tadahiro Ohmi,Akira Nakano. Владелец: Alps Electric Co Ltd. Дата публикации: 2006-11-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus including applying a voltage to a lower electrode in a substrate support with a gas supplied into a chamber

Номер патента: US20240222085A1. Автор: Koichiro Nakamura,Norihisa Kiyofuji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11776792B2. Автор: Takashi Uemura,Masahiro Nagatani,Yasushi Sonoda,Kiyohiko Sato,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

Shower plate, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12051564B2. Автор: Satoru Kawakami,Masaki Hirayama,Taro Ikeda. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110068004A1. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2011-03-24.

Method for producing plasma flow, method for plasma processing, apparatus for producing plasma, and apparatus for plasma processing

Номер патента: US09426875B2. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma generating apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US8562800B2. Автор: Yuichi Shiina. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20170350014A1. Автор: Toshihiko Iwao,Satoru Kawakami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190189403A1. Автор: Takashi Uemura,Junya Sasaki,Yasushi Sonoda,Tomoyoshi Ichimaru,Luke Joseph HIMBELE. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

High density plasma processing apparatus

Номер патента: WO2020039185A1. Автор: Michael Thwaites,Peter HOCKLEY. Владелец: Dyson Technology Limited. Дата публикации: 2020-02-27.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09941101B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Component of a plasma processing apparatus having a protective in situ formed layer on a plasma exposed surface

Номер патента: US09449797B2. Автор: Harmeet Singh,Thorsten Lill. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393031A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-26.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09653334B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Plasma processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230402256A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma-processing apparatus with upper electrode plate and method for performing plasma treatment process

Номер патента: US09431221B2. Автор: Chih-ching Cheng,Po-Ju Chen,Xiao-Meng Chen,Hsin-Yi Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180158650A1. Автор: Hideyuki Kobayashi,Ryota Sakane,Hiroshi Nagahata,Jungwoo Na. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-07.

Plasma processing device, and plasma processing method

Номер патента: US20240170260A1. Автор: Eiki Kamata,Taro Ikeda,Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20140238301A1. Автор: Shinya Akano. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2014-08-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12068139B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Electrode plate for plasma processing apparatus and method for regenerating electrode plate for plasma processing apparatus

Номер патента: US20200043707A1. Автор: Satoshi Nomura,Syuji Fujimori. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2020-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20170092513A1. Автор: Toshiki Nakajima,Yoshihiro Umezawa,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Plasma processing equipment and gas distribution apparatus thereof

Номер патента: US09540732B2. Автор: Liqiang Yao. Владелец: Beijing NMC Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Techniques for controlling ion/neutral ratio of a plasma source

Номер патента: WO2017112352A1. Автор: Joseph Olson,Tsung-Liang Chen,John Hautala,Shurong Liang. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2017-06-29.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079041A1. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Component for plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11948779B2. Автор: Shuichi Saito,Kazuhiro Ishikawa,Takashi Hino. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Plasma processing apparatus and method of cleaning the apparatus

Номер патента: US20010001185A1. Автор: Hajime Murakami,Eiji Setoyama,Kouji Ishiguro,Hirofumi Seki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2001-05-17.

Plasma processing apparatus and plasma generation antenna

Номер патента: US09543123B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Heat transfer plate for a showerhead electrode assembly of a capacitively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09396910B2. Автор: Sang Ki Nam,Rajinder Dhindsa,Ryan Bise. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-07-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402805A1. Автор: Jun Abe,Kazunobu Fujiwara,Yusuke Aoki,Koichi Nagami,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana,Fumiya TAKATA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051566B2. Автор: Hitoshi Kato,Yuji Sawada,Hiroyuki Kikuchi,Shinji Asari. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: EP4442853A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Trumpf Huettinger Sp zoo. Дата публикации: 2024-10-09.

Method and apparatus for forming a plasma resistant coating, component, and plasma processing apparatus

Номер патента: US12123089B2. Автор: Xiang Sun,Sheng Guo,Xingjian CHEN,Jiao DUAN. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-10-22.

Method of operating a plasma process system and a plasma process system

Номер патента: WO2024208908A1. Автор: Wojciech Gajewski,Anna Oniszczuk,Piotr Różański,Cezary KAMINSKI. Владелец: Trumpf Huettinger Sp. Z O. O.. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09601318B2. Автор: Hitoshi Kato,Jun Sato,Hiroyuki Kikuchi,Shigehiro Miura,Toshiyuki Nakatsubo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-21.

Near-substrate supplemental plasma density generation with low bias voltage within inductively coupled plasma processing chamber

Номер патента: WO2018136121A1. Автор: Qing Xu,Qian Fu,Yiting Zhang,Saravanapriyan Sriraman,Alex Paterson,Ying Wu,Zhongkui Tan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2018-07-26.

Precleaning chamber and plasma processing apparatus

Номер патента: US20170330769A1. Автор: Peng Chen,Peijun Ding,Kui Xu,Mengxin Zhao,qing She,Guodong Bian. Владелец: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805959B2. Автор: Naoki Matsumoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and upper electrode assembly

Номер патента: US09773647B2. Автор: Shin Matsuura,Jun Young Chung,Keita KAMBARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-26.

Rapid and uniform gas switching for a plasma etch process

Номер патента: WO2012061277A2. Автор: Theo Panagopoulos. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-05-10.

Plasma processing apparatus and temperature control method

Номер патента: US20190376185A1. Автор: Koji Maruyama,Akihiro Yokota,Kazuki Moyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Method and apparatus for performing plasma process on particles

Номер патента: US20020148812A1. Автор: Naoki Tamitani. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-10-17.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: WO2021206609A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2021-10-14.

Lower electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20150206722A1. Автор: Takashi Yamamoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-07-23.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: SE2030116A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2021-10-07.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: EP4133118A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2023-02-15.

Method for monitoring process conditions of, and method for controlling, a plasma pvd process

Номер патента: US20230151476A1. Автор: Daniel Lundin,Ulf Helmersson. Владелец: Ionautics AB. Дата публикации: 2023-05-18.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US11901158B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Method for Producing Plasma Flow, Method for Plasma Processing, Apparatus for Producing Plasma, and Apparatus for Plasma Processing

Номер патента: US20130034668A1. Автор: Yoshifumi Noguchi,Keisuke Sagisaka. Владелец: Ferrotec Corp. Дата публикации: 2013-02-07.

Plasma processing method, plasma processing apparatus, and control apparatus

Номер патента: US20210351010A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Hiroyuki Kikuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11996268B2. Автор: Toshihiko Iwao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143028A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, program, and memory medium

Номер патента: EP4425529A2. Автор: Tadashi Inoue,Masaharu Tanabe,Atsushi Takeda,Tatsunori SATO,Kazunari Sekiya,Hiroshi Sasamoto,Nobuaki Tsuchiya. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Charged particle beam source, surface processing apparatus and surface processing method

Номер патента: US12125664B2. Автор: David Pearson,Joao Ferreira,Sebastien POCHON. Владелец: OXFORD INSTRUMENTS NANOTECHNOLOGY TOOLS LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09779936B2. Автор: Toshio Nakanishi,Minoru Honda,Daisuke Katayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09653317B2. Автор: Tsutomu Ito,Shinichi Kozuka,Masaru Nishino,Ryosuke NIITSUMA,Takao FUNAKUBO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Batch-type remote plasma processing apparatus

Номер патента: US09373499B2. Автор: Kazuyuki Toyoda,Yasuhiro Inokuchi,Motonari Takebayashi,Nobuo Ishimaru,Tadashi Kontani. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-06-21.

Plasma processing apparatus comprising a compensating-process-gas supply means in synchronism with a rotating magnetic field

Номер патента: US5980687A. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1999-11-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180122665A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9165780B2. Автор: Akira Shimizu,Yu WAMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-10-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12046453B2. Автор: Atsushi Kubo,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US12106945B2. Автор: Takafumi Noguchi,SIQING Lu,Cheonkyu Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-01.

Methods of plasma processing using a pulsed electron beam

Номер патента: WO2021141651A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-07-15.

Plasma processing device

Номер патента: US09922803B2. Автор: Chien Chou,Chi-Hsien Huang,Chao-Sung Lai,Chu-Fa Chan. Владелец: Chang Gung University CGU. Дата публикации: 2018-03-20.

Ion beam generator and ion beam plasma processing apparatus

Номер патента: US09422623B2. Автор: Yasushi Kamiya,Einstein Noel Abarra,Yuta Konno. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2016-08-23.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA1299773C. Автор: Hiroshi Nishimura,Seitaro Matsuo,Mikiho Kiuchi. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1992-04-28.

Plasma processing method

Номер патента: US11915951B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Tomoyuki Watanabe,Masaru Izawa,Satoshi Sakai,Naoyuki Kofuji,Nobuya MIYOSHI,Kazunori Shinoda,Yutaka Kouzuma,Tatehito Usui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20210159089A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220285169A1. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-09-08.

Plasma processing apparatus and ceiling wall

Номер патента: US20230343561A1. Автор: Satoshi Itoh,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shigenori Ozaki,Soudai EMORI,Masashi Imanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

Plasma processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US9237638B2. Автор: Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-01-12.

Synchronized pulsing of plasma processing source and substrate bias

Номер патента: EP4231328A1. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2023-08-23.

Plasma processing apparatus utilizing a microwave window having a thinner inner area

Номер патента: US6091045A. Автор: Tomomi Murakami,Hiroshi Mabuchi,Katsuo Katayama,Toshihiro Hayami,Junya Tsuyuguchi,Hideo Ida,Naohiko Takeda. Владелец: Sumitomo Metal Industries Ltd. Дата публикации: 2000-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210233750A1. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-07-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200035501A1. Автор: Masahiro Tabata,Sho Kumakura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-01-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US4812712A. Автор: Akira Okuda,Shinichi Mizuguchi,Hiromi Shima,Youichi Ohnishi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1989-03-14.

Method of manufacturing semiconductor device and method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09349587B2. Автор: Atsushi Sano,Yoshiro Hirose,Kiyohiko Maeda,Kazuyuki Okuda. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2016-05-24.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20190378730A1. Автор: Toru Hisamatsu,Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-12-12.

Plasma processing apparatus and method for monitoring plasma processing apparatus

Номер патента: US09666417B2. Автор: Atsushi Shoji,Masahiko Orimoto. Владелец: Sakai Display Products Corp. Дата публикации: 2017-05-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09997337B2. Автор: Masahito Mori,Naoshi Itabashi,Naoyuki Kofuji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US9583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and recording medium

Номер патента: US09583318B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Shigehiro Miura,Naohide Ito,Katsuaki Sugawara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09460896B2. Автор: Akitoshi Harada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Plasma Processing Apparatus And Method For Controlling The Same

Номер патента: US20070210032A1. Автор: Ryoji Nishio. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-09-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20080217295A1. Автор: Seiichi Watanabe,Akitaka Makino,Naoki Yasui,Susumu Tauchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20220384151A1. Автор: Shinya Ishikawa,Sho Kumakura,Yuta NAKANE. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Member for plasma processing apparatus, plasma processing apparatus with the same and method for using sintered body

Номер патента: US20200317583A1. Автор: Takahiro Murakami,Nobuyuki Nagayama,Takashi Ikeda,Kenji Fujimoto,Koichi Murakami,Hajime Ishii,Naoyuki Satoh. Владелец: Nippon Tungsten Co Ltd. Дата публикации: 2020-10-08.

Coating method for gas delivery system

Номер патента: US09689533B2. Автор: Duane Outka,Fangli Hao,Yijun Du,Ian Kenworthy,Leonard Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-06-27.

Component of substrate processing apparatus and method for forming a film thereon

Номер патента: US09828690B2. Автор: Koji Mitsuhashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Methods and apparatus for treating exhaust gas in a processing system

Номер патента: US09597634B2. Автор: Daniel O. Clark,Colin John Dickinson,Mehran Moalem. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Improved methods and apparatus for controlled partial ashing in a variable-gap plasma processing chamber

Номер патента: WO1998042014A1. Автор: David M. Bullock. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1998-09-24.

Scanning impedance measurement in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US20240079212A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo,Nicolas J. Bright,A N M Wasekul AZAD. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Learning based tuning in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: WO2024123375A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-13.

Distortion current mitigation in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US12106938B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-01.

Hardware switch on main feed line in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US11823868B2. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Learning based tuning in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: US20240194447A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Optimizing Image Distortion in a Multi Beam Charged Particle Processing Apparatus

Номер патента: US20240304413A1. Автор: Christoph Spengler,Michael Haberler. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-09-12.

Optimizing image distortion in a multi-beam charged-particle processing apparatus

Номер патента: EP4439625A1. Автор: Christoph Spengler,Michael Haberler. Владелец: IMS Nanofabrication GmbH. Дата публикации: 2024-10-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5529657A. Автор: Nobuo Ishii. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-06-25.

Substrate processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068658A1. Автор: Yasutaka HAMA,Shu Kino,Motoki NORO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma etching method, plasma etching device, plasma processing method, and plasma processing device

Номер патента: US09837251B2. Автор: Naoki Moriguchi. Владелец: Ulvac Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Plasma processing method

Номер патента: US12074033B2. Автор: Hitoshi Kobayashi,Masahito Mori,Ryota Takahashi,Chaomei Liu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Methods and apparatus for optimal temperature control in a plasma processing system

Номер патента: WO2006012021A2. Автор: Miguel A. Saldana,John E. Daugherty,Leonard J. Sharpless. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2006-02-02.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: WO2022164661A1. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-08-04.

Radical deactivation component, plasma processing apparatus using the same and radical deactivation method

Номер патента: US20190362939A1. Автор: Koji Yamagishi,Shinji Maekawa,Shota SASAKI,Daisuke Yoshikoshi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-11-28.

Image-based digital control of plasma processing

Номер патента: US12027426B2. Автор: Vladimir Nagorny. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-02.

Information processing apparatus, information processing method, and information processing system

Номер патента: US20230322111A1. Автор: Masanori Okazaki. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

System and method for replacing a battery in a vehicle

Номер патента: US20230242005A1. Автор: Amir Shapiro,Yoad GUETTA. Владелец: BG Negev Technologies and Applications Ltd. Дата публикации: 2023-08-03.

System and method for replacing a battery in a vehicle

Номер патента: WO2022003680A1. Автор: Amir Shapiro,Yoad GUETTA. Владелец: B.G. NEGEV TECHNOLOGIES & APPLICATIONS LTD., AT BEN-GURION UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-01-06.

Movable chamber liner plasma confinement screen combination for plasma processing apparatuses

Номер патента: US09490135B2. Автор: Leonard Sharpless,Danny Brown. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Electrode assembly and plasma processing apparatus

Номер патента: US09520276B2. Автор: Takashi Suzuki,Takashi Yamamoto,Masato Horiguchi,Chikako Takahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Configuration independent gas delivery system

Номер патента: US20150287573A1. Автор: Iqbal Shareef,Mark Taskar. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2015-10-08.

Plasma processing apparatus and liner assembly for tuning electrical skews

Номер патента: WO2012012200A1. Автор: Shahid Rauf,Kenneth S. Collins,James D. Carducci,Zhigang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-26.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US09490105B2. Автор: Masashi Saito,Manabu Sato,Masaru Sugimoto,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Akira Koshiishi,Noriyuki Kobayashi,Manabu Iwata,Hiroki Yamazaki,Chishio Koshimizu,Kazuo Kibi,Daisuke Yano,Yohei Yamazawa,Toshihiro Hayami,Kunihiko Hinata,Ryuji Ohtani,Yoshinobu Ohya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Movable grounding arrangements in a plasma processing chamber and methods therefor

Номер патента: WO2013081844A2. Автор: Rajinder Dhindsa,Alexei Marakhtanov,Anthony de la Llera,Michael C. KELLOG. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2013-06-06.

Plasma processing method

Номер патента: US20100029024A1. Автор: Kenji Maeda,Masatoshi Miyake,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2010-02-04.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5024748A. Автор: Shuzo Fujimura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1991-06-18.

Method of adsorbing target object on mounting table and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953854B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akihito FUSHIMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220028665A1. Автор: Koji Maruyama,Kazunobu Fujiwara,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami,Takashi Dokan,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-01-27.

Forming method of component and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234099A1. Автор: Kazuya Nagaseki,Michishige Saito,Shota Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Method and device for the reduction of contaminants in a plasma reactor, especially contamination by lubricants

Номер патента: US20210183640A1. Автор: Edward Reszke,Grzegorz Binkiewicz,Ihar Yelkin. Владелец: Plasma Investment Sp Z OO. Дата публикации: 2021-06-17.

Method and device for the reduction of contaminants in a plasma reactor, especially contamination by lubricants

Номер патента: EP3841604A1. Автор: Edward Reszke,Grzegorz Binkiewicz,Ihar Yelkin. Владелец: Plasma Investment Sp Z OO. Дата публикации: 2021-06-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110273094A1. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2011-11-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8450933B2. Автор: Hiroshi Haji,Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-05-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094697B2. Автор: Kazuki Takahashi,Toshimasa Kobayashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

System, method and apparatus for RF power compensation in a plasma processing system

Номер патента: US09508529B2. Автор: Henry Povolny,John C. Valcore, JR.. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-11-29.

Method for operation instability detection in a surface wave plasma source

Номер патента: US20180005805A1. Автор: Alok Ranjan,Sergey Voronin,Jason MARION. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-04.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20080075640A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Nobuo Ishimaru,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2008-03-27.

DC Bias in Plasma Process

Номер патента: US20190267211A1. Автор: Syun-Ming Jang,Jyu-Horng Shieh,Sheng-Liang Pan,Bing-Hung Chen,Shu-Huei Suen,Chia-Yang Hung,Jack Kuo-Ping Kuo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-08-29.

Substrate processing apparatus and sustrate processing method

Номер патента: US20060252283A1. Автор: Teruo Yoshino,Tomohiko Takeda,Katsuyoshi Hamano,Ken Sugihara. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2006-11-09.

Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system

Номер патента: US20240021408A1. Автор: John C. Valcore, JR.,Bradford J. Lyndaker. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

Methods and apparatus for controlling plasma in a plasma processing system

Номер патента: US11798784B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Bradford J. Lyndaker. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Processing apparatus and processing method, and gas cluster generating apparatus and gas cluster generating method

Номер патента: US11772138B2. Автор: Chishio Koshimizu,Kazuya Dobashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Method and apparatus for detecting one or more leaks in a battery enclosure of a battery

Номер патента: EP4399758A1. Автор: Marc Gonin. Владелец: Tofwerk AG. Дата публикации: 2024-07-17.

A plasma generator and processing apparatus including the plasma generator

Номер патента: KR20220026440A. Автор: 최대규. Владелец: (주) 엔피홀딩스. Дата публикации: 2022-03-04.

Upper electrode and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230298864A1. Автор: Shinya Yamanaka,Takashi Kitazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Method and apparatus for detecting one or more leaks in a battery enclosure of a battery

Номер патента: WO2023036881A1. Автор: Marc Gonin. Владелец: Tofwerk AG. Дата публикации: 2023-03-16.

SHOWERHEAD ELECTRODE ASSEMBLY IN A CAPACITIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20150194291A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Nam Sang Ki,Bise Ryan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2015-07-09.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US11798793B2. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-24.

Substrate processing method, component processing method, and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240006168A1. Автор: Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida,Koki MUKAIYAMA,Yusuke WAKO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Techniques for forming trenches in a silicon layer of a substrate in a high density plasma processing system

Номер патента: KR100574141B1. Автор: 마크에이. 케나드. Владелец: 램 리서치 코포레이션. Дата публикации: 2006-04-25.

Magnetic suspension device of a rotor placed in a sealed enclosure

Номер патента: CA1204468A. Автор: Maurice Brunet. Владелец: Societe Europeenne de Propulsion SEP SA. Дата публикации: 1986-05-13.

Hardware switch on main feed line in a radio frequency plasma processing chamber

Номер патента: WO2022260835A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Yue Guo. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-12-15.

Electron source for an rf-free electromagnetostatic electron-induced dissociation cell and use in a tandem mass spectrometer

Номер патента: CA2882118C. Автор: Douglas F. Barofsky,Joseph S. Beckman,Valery G. Voinov. Владелец: Oregon State University. Дата публикации: 2021-01-12.

Method and device for gas filling and sealing of a duct intended to be filled with gas and positioned in a container of a collapsible type, and container blank comprising such a duct

Номер патента: US7891160B2. Автор: Stefan Forss. Владелец: Eco Lean Research and Development AS. Дата публикации: 2011-02-22.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20090192652A1. Автор: Tomoyuki Yamada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2009-07-30.

Apparatus and method for enhancing laser beam efficacy in a liquid medium

Номер патента: AU2021389120B2. Автор: Hernan Altman. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20240194517A1. Автор: Jong Gun Lee,Minyoung Kim,Jumi Lee,Jaeoh Bang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Apparatus and method for enhancing laser beam efficacy in a liquid medium

Номер патента: EP4251082A1. Автор: Hernan Altman. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2023-10-04.

Apparatus and method for enhancing laser beam efficacy in a liquid medium

Номер патента: AU2021389120A9. Автор: Hernan Altman. Владелец: LUMENIS LTD. Дата публикации: 2024-06-06.

A method of controlling a processing apparatus

Номер патента: GB2377278A. Автор: Jae-Won Hwang,Chan-hoon Park,Bong-Su Cho,Kyoung-Shikjun,Y -Seug Park,Hyun-Tai Kang,Young-Ho Jei. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-01-08.

Substrate processing apparatus, substrate processing method, and program storage medium

Номер патента: US20090297705A1. Автор: Jiro Higashijima,Norihiro ITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-12-03.

Apparatus comprising a first transistor including a channel in a fin and a second transistor including a channel in a fin

Номер патента: US8742505B2. Автор: Christian Pacha,Klaus Von Arnim,Joerg Berthold. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2014-06-03.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20190355594A1. Автор: Xu Haiyang,Koji Maeda,Hidetatsu Isokawa,Shun EHARA. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-11-21.

Workpiece processing apparatus including a resin coater and a resin grinder

Номер патента: US11819975B2. Автор: Katsuhiko Suzuki,Shinya Watanabe,Ichiro Yamahata. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Workpiece processing apparatus including a resin coater and a resin grinder

Номер патента: MY202344A. Автор: Watanabe Shinya,SUZUKI Katsuhiko,YAMAHATA Ichiro. Владелец: Disco Corp. Дата публикации: 2024-04-24.

Substrate processing apparatus and monitoring method in substrate processing apparatus

Номер патента: EP4235756A1. Автор: Shinji Shimizu,Ryo Yamada,Tatsuya Masui,Miwa MIYAWAKI,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Substrate processing apparatus and monitoring method in substrate processing apparatus

Номер патента: US20230274397A1. Автор: Shinji Shimizu,Ryo Yamada,Tatsuya Masui,Miwa MIYAWAKI,Yuichi DEBA. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Semiconductor processing apparatus having wafer re-orientation mechanism

Номер патента: EP1034123A1. Автор: Daniel J. Woodruff,Kyle Hanson,Vlad Zila,Mark Dix. Владелец: Semitool Inc. Дата публикации: 2000-09-13.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US20170040188A1. Автор: Noriyuki Kikumoto. Владелец: Screen Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Substrate processing apparatus and substrate processing method

Номер патента: US20240096650A1. Автор: Masami Yamashita,Shogo Fukui,Tomofumi EMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma processing apparatus and lamination system for secondary battery comprising same

Номер патента: EP4428972A1. Автор: Sang-kyun Lee,Yong-Tae Lee,Hun-Hyeong Lee,Man-Woong HAN. Владелец: LG Energy Solution Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Method of generating and using a plasma processing control program

Номер патента: EP1877878A1. Автор: Andrew Leonard Goodyear,Philip Douglas Rossbrook. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2008-01-16.

Control and monitoring system for gas delivery system

Номер патента: US12057334B2. Автор: Miranda Pizzella,Andrew D. Selvy,Chelsea Diestelkamp,Cory Brandes. Владелец: Watlow Electric Manufacturing Co. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma Processing Apparatus and Method for Venting the Same to Atmosphere

Номер патента: US20090183683A1. Автор: Kenji Maeda,Hiroyuki Kobayashi,Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2009-07-23.

Substrate processing apparatus

Номер патента: US09822450B2. Автор: Eiji Ozaki,Keisuke Ueda,Toshikazu Nakazawa,Norihito Tsukamoto. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Apparatus and method for controlling uplink transmission power in a multiple element carrier wave system

Номер патента: US09713095B2. Автор: Myung Cheul Jung,Ki Bum Kwon,Jae Hyun Ahn. Владелец: Goldpeak Innovations Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Information processing apparatus, information processing method and recording medium

Номер патента: RU2666967C2. Автор: Кохити ХИРАИ,Тадаси НАГАТА. Владелец: РИКОХ КОМПАНИ, ЛТД.. Дата публикации: 2018-09-13.

Information processing apparatus, activation method of information processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20180129508A1. Автор: Xiaoli Wang. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-05-10.

Apparatus for supplying high power electric loads operated in a pulse-like manner, especially for X-ray equipment

Номер патента: US4355276A. Автор: Pal Vittay. Владелец: Medicor Muvek. Дата публикации: 1982-10-19.

Apparatus and method for controlling uplink transmission power in a multiple element carrier wave system

Номер патента: US11924773B2. Автор: Myung Cheul Jung,Ki Bum Kwon,Jae Hyun Ahn. Владелец: Pantech Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Apparatus and method for controlling uplink transmission power in a multiple element carrier wave system

Номер патента: US20230209471A1. Автор: Myung Cheul Jung,Ki Bum Kwon,Jae Hyun Ahn. Владелец: Pantech Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Apparatus and method for controlling uplink transmission power in a multiple element carrier wave system

Номер патента: US20190200301A1. Автор: Myung Cheul Jung,Ki Bum Kwon,Jae Hyun Ahn. Владелец: Goldpeak Innovations Inc. Дата публикации: 2019-06-27.

Apparatus and method for controlling uplink transmission power in a multiple element carrier wave system

Номер патента: US20170318544A1. Автор: Myung Cheul Jung,Ki Bum Kwon,Jae Hyun Ahn. Владелец: Goldpeak Innovations Inc. Дата публикации: 2017-11-02.

Plasma processing apparatus and plasma control method using magnetic field

Номер патента: US20230317427A1. Автор: Hyung Joon Kim,Duk Hyun SON,Dong Mok Lee. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-05.

Method for plasma processing of metal products

Номер патента: RU2754915C1. Автор: Юрий Дмитриевич Щицын,Владислав Юрьевич Щицын,Сергей Дмитриевич Неулыбин,Роман Германович Никулин. Владелец: федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Пермский национальный исследовательский политехнический университет". Дата публикации: 2021-09-08.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12125672B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09566821B2. Автор: Ryoji Nishio,Takamasa ICHINO,Shinji OBAMA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502215B2. Автор: Hitoshi Kato,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Shigehiro Miura,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: US20120291954A1. Автор: James E. Tappan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2012-11-22.

Electrode orientation and parallelism adjustment mechanism for plasma processing systems

Номер патента: WO2009100288A2. Автор: James E. Tappan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2009-08-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12087552B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20110240599A1. Автор: Masanobu Honda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-10-06.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020127858A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-12.

Method of controlling plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240055229A1. Автор: Jung Hwan Lee,Min Keun Bae,Aixian Zhang. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Diagnosis device, diagnosis method, plasma processing apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240213003A1. Автор: Kenji Tamaki,Shota Umeda,Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-27.

Diagnosis apparatus, plasma processing apparatus and diagnosis method

Номер патента: US12040167B2. Автор: Kenji Tamaki,Masaki Ishiguro,Shota Umeda,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US8864934B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-10-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060027324A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Plasma measurement method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240274417A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-15.

Plasma Measuring Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20240290589A1. Автор: Mitsutoshi ASHIDA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09484180B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Manabu Iwata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20130045547A1. Автор: Kenji Nakata,Atsushi Itou,Kouichi Yamamoto,Masaru Izawa. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-02-21.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and storage medium

Номер патента: US9299540B2. Автор: Tatsuya Ogi,Kimihiro Fukasawa,Kazuhiro Kanaya,Wataru Ozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-03-29.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20140141532A1. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Tadashi Kotsugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2014-05-22.

Method of producing processing condition of plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870901B2. Автор: Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741579B2. Автор: Naoki Yasui,Michikazu Morimoto,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033832B2. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Cleaning method of film layer in the plasma processing apparatus

Номер патента: US20240203708A1. Автор: Kazuhiro Ueda,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20060021700A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-02-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20060081559A1. Автор: Tetsuji Sato,Koji Miyata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-04-20.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090275209A1. Автор: Hideo Kitagawa,Nobumasa Suzuki,Shinzo Uchiyama,Yusuke Fukuchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20040173309A1. Автор: Toshio Masuda,Junichi Tanaka,Hiroyuki Kitsunai,Hideyuki Yamamoto,Go Miya. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12112925B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12074076B2. Автор: Soichiro Eto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Substrate processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: EP4428898A2. Автор: Maju TOMURA,Ryutaro Suda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09960031B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09691591B2. Автор: Masahide Iwasaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-06-27.

Inductively coupled plasma processing apparatus

Номер патента: US09543121B2. Автор: Kazuo Sasaki,Toshihiro Tojo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09496147B2. Автор: Motohiro Tanaka,Masahiro Sumiya. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Plasma processing device and method of monitoring plasma discharge state in plasma processing device

Номер патента: US20100176085A1. Автор: Kiyoshi Arita,Masaru Nonomura,Tatsuhiro Mizukami. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2010-07-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088453A1. Автор: Koichi Yamamoto,Motohiro Tanaka,Naoki Yasui,Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09941097B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and operating method of plasma processing apparatus

Номер патента: US09934946B2. Автор: Yohei Kawaguchi,Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09899191B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-02-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09859101B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09734992B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Koji Itadani,Toshifumi Tachikawa,Satoru Hamaishi. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09711375B2. Автор: Koichi Yamamoto,Tsutomu Iida,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09589771B2. Автор: Mitsunori Ohata,Yuki Hosaka,Naokazu FURUYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12014903B2. Автор: Kohei Sato,Motohiro Tanaka,Takahiro Sakuragi,Tetsuo Kawanabe. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US12033833B2. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230420228A1. Автор: Akihiro Yokota,Ryo Terashima,Takaharu SAINO,Tomo MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230127467A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Plasma processing apparatus and plasma processing coil

Номер патента: US20220108871A1. Автор: Naoki Fujiwara,Yohei Yamazawa,Takehisa SAITO,Daisuke Kurashina,Kaori Fujiwara,Yuki Hosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-07.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200402809A1. Автор: Yasushi Sonoda. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-12-24.

Method For Processing Workpiece, Plasma Processing Apparatus And Semiconductor Device

Номер патента: US20230005739A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090001052A1. Автор: Takashi Kaneko,Akitaka Makino,Koichi Mishima,Toyoharu Okumoto. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-01-01.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US12009220B2. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212992A1. Автор: Kiho Lee,Junghyun Cho,Sangho Lee,Sangheun LEE,Sangki NAM,Seoyeon CHOI,Kuihyun YOON,Changheon Lee,Jaemin Rhee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-06-27.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US12090529B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240347325A1. Автор: Yuki Onodera,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20240355634A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09941132B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and waveform correction method

Номер патента: US09934947B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09911638B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09831096B2. Автор: Tsutomu Iida,Yuuzou Oohirabaru,Hiromitsu TERAUCHI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09704731B2. Автор: Masaru Izawa,Go Miya,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210143017A1. Автор: Takahiro Yokoyama,Yoshihide Kihara,Maju TOMURA,Satoshi Ohuchida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-13.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240234113A1. Автор: Jun Tamura,Takari YAMAMOTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11990316B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2024-05-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US12051595B2. Автор: Masahiro Tabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Plasma processing apparatus and substrate support of plasma processing apparatus

Номер патента: US11972933B2. Автор: Masahiro DOGOME. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Wideband RF Choke

Номер патента: US20220052453A1. Автор: KANG Lin. Владелец: PCT International Inc. Дата публикации: 2022-02-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242937A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242936A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Microwave plasma source and plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358757A1. Автор: Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US12080529B2. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321562A1. Автор: Yoshihide Kihara,Nobuyuki Fukui,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing method

Номер патента: US09941098B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09805940B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09741629B2. Автор: Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09627181B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583355B2. Автор: Tetsuhiro Iwai,Nobuhiro Nishizaki,Atsushi Harikai,Mitsuru Hiroshima. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09583314B2. Автор: Hitoshi Tamura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Monitoring method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006163A1. Автор: Takeshi Kobayashi,Jun Sato,Takashi Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240222096A1. Автор: Takashi Uemura,Shengnan Yu,Shunsuke Tashiro. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088454A1. Автор: Yuichi KUWAHARA,Ryou Son,Ryouhei SATOU,Syuntaro TAWARAYA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US20240203707A1. Автор: Seiwa NISHIO. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Method for surface treatment of upper electrode, plasma processing apparatus and upper electrode

Номер патента: US20160307741A1. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-20.

Plasma processing apparatus, and temperature control method

Номер патента: US12063717B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180294137A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Naoki Matsumoto,Toru Ito,Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-10-11.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20080280451A1. Автор: Tsunehiko Tsubone,Ken Yoshioka,Mamoru Yakushiji,Yutaka Kouzuma,Yutaka Ohmoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-11-13.

Adjustment method for filter unit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200126772A1. Автор: Nozomu Nagashima,Ryuichi Yui. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-04-23.

Wideband rf choke

Номер патента: WO2022036082A1. Автор: KANG Lin. Владелец: PCT International, Inc.. Дата публикации: 2022-02-17.

Method for operating a semiconductor processing apparatus

Номер патента: US20050089625A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Ryoji Nishio,Seiichiro Kanno,Hideki Kihara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-04-28.

Plasma processing system and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297025A1. Автор: Kota Seno,Fumiaki ARIYOSHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Method for surface treatment of upper electrode, plasma processing apparatus and upper electrode

Номер патента: US09741540B2. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09570272B2. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-14.

Plasma processing method

Номер патента: US09502219B2. Автор: Yoshihide Kihara,Toshio Haga,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Method of differential counter electrode tuning in an rf plasma reactor

Номер патента: US20140034612A1. Автор: Yang Yang,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Steven Lane,Douglas A. Buchberger, Jr.,Nipun Misra,Lawrence Wong. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2014-02-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220068604A1. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus, information processing apparatus, plasma processing method, and correction method

Номер патента: US20240194451A1. Автор: Taro Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020025686A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2002-02-28.

Plasma shutter and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240096606A1. Автор: Hyungsik KO. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160358758A1. Автор: Toshihiko Iwao,Takahiro Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240242934A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Plasma processing apparatus and plasma processing method using the same

Номер патента: US20230124857A1. Автор: Jong Won Park,Yoon Seok Choi,Sang Jeong Lee,Soon Cheon Cho,Hyun Woo Jo. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-20.

Method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system

Номер патента: EP4242904A2. Автор: Thomas Fink,Nikolai Schwerg,André Grede,Daniel Gruner,Anton Labanc,Manuel vor dem Brocke,Roland Schlierf. Владелец: Comet AG. Дата публикации: 2023-09-13.

Plasma processing apparatus and microwave radiation source

Номер патента: US20230178339A1. Автор: Kenta Kato,Taro Ikeda,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160155613A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-06-02.

Wafer processing apparatus and wafer processing method using the same

Номер патента: US20240282586A1. Автор: Sunggil Kang,Dongkyu Shin,Hoseop Choi,Sangjin AN,Chanyeong JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Plasma processing apparatus, substrate bonding system including the same, and substrate bonding method using the same

Номер патента: US20230215698A1. Автор: Ho Kim,Youngho Kim,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Se-Hoon Jang,Donggap Shin,Siwoong Woo,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-06.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20010008122A1. Автор: Makoto Ando,Naohisa Goto,Nobuo Ishii. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-07-19.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290581A1. Автор: Kohei Sato,Takashi Uemura,Shengnan Yu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for Machine Learning a Detection of at Least One Irregularity in a Plasma System

Номер патента: US20240355598A1. Автор: Thomas Fink,Nikolai Schwerg,André Grede,Daniel Gruner,Anton Labanc,Manuel vor dem Brocke,Roland Schlierf. Владелец: Comet AG. Дата публикации: 2024-10-24.

Cooling mechanism utlized in a plasma reactor with enhanced temperature regulation

Номер патента: US20150279634A1. Автор: Aniruddha Pal,Valentin N. Todorow,Martin Jeffrey Salinas,Victor Calderon. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-10-01.

Plasma processing device and plasma processing method

Номер патента: US09984906B2. Автор: Naoki Matsumoto,Yugo Tomita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09831064B2. Автор: Takashi SHIMOMOTO,Hiroo Konno. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09807862B2. Автор: Hachishiro Iizuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09799495B2. Автор: Tomohiro Okumura,Shogo Okita,Bunji MIIZUNO. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-24.

Plasma processing apparatus, analysis apparatus, plasma processing method, analysis method, and storage medium

Номер патента: US20240371603A1. Автор: Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240006154A1. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-04.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11764034B2. Автор: Shinji Himori,Chishio Koshimizu,Koichi Nagami,Takenobu Ikeda,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: IL167491A. Автор: Robert J Steger. Владелец: Robert J Steger. Дата публикации: 2009-08-03.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695B1. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2010-03-03.

Apparatus and method for plasma processing high-speed semiconductor circuits with increased yield

Номер патента: US20020023716A1. Автор: Kazue Takahashi,Ken Yoshioka,Saburou Kanai,Yutaka Ohmoto,Hironobu Kawahara. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-28.

A method and apparatus for the compensation of edge ring wear in a plasma processing chamber

Номер патента: EP1540695A2. Автор: Robert J. Steger. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-06-15.

Method and apparatus for plasma processing

Номер патента: US8969211B2. Автор: Tetsuo Ono,Satoru Muto,Yasuo Ohgoshi,Hirofumi Eitoku. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2015-03-03.

Ac power passing rf choke

Номер патента: WO1999049572A1. Автор: Wei Huang. Владелец: Harmonic, Inc.. Дата публикации: 1999-09-30.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297027A1. Автор: Soichiro Eto,Shigeru Nakamoto,Kosuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US12125679B2. Автор: Masahiro Inoue,Shoichiro Matsuyama,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi,Yuto Kosaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09953862B2. Автор: Shigeru Yoneda,Yen-Ting Lin,Akitoshi Harada,Chih-Hsuan CHEN,Ju-Chia Hsieh. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09761418B2. Автор: Takashi Suzuki,Masahiko Konno,Taizo Okada,Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Masayuki SHINTAKU,Michitaka AITA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09660182B2. Автор: Takashi Sone,Eiichi Nishimura,Fumiko Yamashita,Masato Kushibiki,Daisuke Urayama,Nao Koizumi,Wataru Kume. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09502220B2. Автор: Tomohiro Okumura,Bunji Mizuno,Shogo Okita. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09478387B2. Автор: Akira Tanabe,Yoshinobu Ooya,Yoshinori Yasuta. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Rf choke for use in a mass spectrometer and rf choke

Номер патента: WO2023237958A1. Автор: Andrei Sonoc,Manuel Faur. Владелец: DH Technologies Development Pte. Ltd.. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220020574A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2022-01-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240087849A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Biasing system for a plasma processing apparatus

Номер патента: US20140106571A1. Автор: Richard M. White,Bon-Woong Koo. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2014-04-17.

Methods and apparatus for gas delivery into plasma processing chambers

Номер патента: WO2012087919A2. Автор: Robert P. Chebi,Alan Cheshire,Stanley Detmar,Alfredo Granados,Gabriel Roupillard. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-06-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249922A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Improved application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: EP3711082A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2020-09-23.

Inspection method of plasma processing apparatus

Номер патента: US12046456B2. Автор: Masahiro Nagatani,Yusuke TAKEGAWA,Kota Kakimoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-07-23.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282460A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US20230282461A1. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-07.

Atmospheric pressure plasma generating method, plasma processing method and component mounting method using same, and device using these methods

Номер патента: WO2007142166A2. Автор: Kazuhiro Inoue,Hiroyuki Tsuji. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2007-12-13.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240266201A1. Автор: Shogo Okita,Minghui Zhao,Toshiyuki TAKASAKI. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Upper electrode structure and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240249907A1. Автор: Tetsuji Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Plasma Processing Method

Номер патента: US20080216865A1. Автор: Masamichi Sakaguchi,Yasuhiro Nishimori,Satoshi Une,Yutaka Kudou,Masunori Ishihara. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-09-11.

Plasma processing apparatus and system

Номер патента: US12087591B2. Автор: Kazuya Nagaseki,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

Plasma processing apparatus, control method, power supply system, and storage medium

Номер патента: US20240304418A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12094690B2. Автор: Koki HIDAKA,Hiroya Ogawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Focus ring replacement method and plasma processing system

Номер патента: US12094696B2. Автор: Shigeru Ishizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12094687B2. Автор: Tetsuo Ono,Naoki Yasui,Masayuki SHIINA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-17.

Plasma processing with independent temperature control

Номер патента: US20240304422A1. Автор: WEI Liu,Lily Huang,Sandip Niyogi,Dileep Venkata Sai VADLADI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240331974A1. Автор: Norihiko Ikeda,Masaru Izawa,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12125685B2. Автор: Yoshihisa Hirano,Jae Hoon Kim,Young Jin Noh,Jun Soo Lee,Sung Moon Park,Hyung Kyu Choi,Seung Kyu Lim,Kyeong Seok Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09997332B2. Автор: Masashi Saito,Chishio Koshimizu,Yohei Yamazawa,Kazuki Denpoh,Jun Yamawaku. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Plasma processing device, plasma processing method and manufacturing method of electronic device

Номер патента: US09978593B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09966233B2. Автор: Hidetoshi Hanaoka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma processing method

Номер патента: US09824866B2. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Yuji Nagatani. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-11-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805916B2. Автор: Hiroo Konno,Shunsuke Kadooka. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and operational method thereof

Номер патента: US09767997B2. Автор: Masahito Togami,Satomi Inoue,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kosa Hirota. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Method for impedance matching of plasma processing apparatus

Номер патента: US09736921B2. Автор: Norikazu Yamada,Koichi Nagami,Naoyuki Umehara. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-08-15.

Plasma processing method

Номер патента: US09673062B1. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09659754B2. Автор: Yoshio SUSA,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing device, plasma processing method and method of manufacturing electronic devices

Номер патента: US09627183B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Plasma processing method

Номер патента: US09349603B2. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-05-24.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5520771A. Автор: Saburo Kanai,Yoshinao Kawasaki,Seiichi Watanabe,Makoto Nawata,Kazuaki Ichihashi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1996-05-28.

Method and apparatus for inspecting process performance for use in a plasma processing apparatus

Номер патента: US20080174324A1. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-07-24.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240213002A1. Автор: Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Номер патента: US20230065586A1. Автор: Nobuhiko Hori. Владелец: Kioxia Corp. Дата публикации: 2023-03-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186113A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20230230815A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Jinyeong Yun,Jang-Yeob LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-07-20.

Multi-zone heating apparatus, bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and temperature adjusting method

Номер патента: US12046458B2. Автор: Jie Du,Sha Rin. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-07-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200161090A1. Автор: Jun Yoshikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-05-21.

Plasma processing apparatus, electrostatic attraction method, and electrostatic attraction program

Номер патента: US11764038B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Shoichiro Matsuyama,Naoki Tamaru. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Plasma processing apparatus and plasma control method

Номер патента: US20240203692A1. Автор: Osamu Sakai,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Taro Ikeda,Shin Oowada,Kazushi Kaneko,Masaaki Matsukuma. Владелец: University of Shiga Prefecture. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing systems and methods for chemical processing a substrate

Номер патента: WO2022046461A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-03-03.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190393058A1. Автор: Tsutomu Nakamura,Hiroho Kitada,Hideki Kihara,Masatoshi Kawakami,Hironori Kusumoto,Hidenobu Tanimura. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-12-26.

Application of modulating supplies in a plasma processing system

Номер патента: US20210074513A1. Автор: Kevin Fairbairn,Gideon van Zyl,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321559A1. Автор: Satoshi Taga. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma generating apparatus, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US12131889B2. Автор: Takeshi Kobayashi,Takeshi Ando,Yuki Tanaka,Kiwamu Ito. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12131964B2. Автор: Soichiro Eto,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi,Ryoji ASAKURA,Tsubasa Okamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma Processing Apparatus and Plasma Control Method

Номер патента: US20240339304A1. Автор: Satoru Kawakami,Kazushi Kaneko,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing method

Номер патента: US09972776B2. Автор: Naohiro Yamamoto,Masato Ishimaru,Makoto Suyama,Hidenori TOYOOKA,Norihiro HOSAKA. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09805915B2. Автор: Ryoji Nishio,Masaharu Gushiken,Megumu Saitou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-10-31.

Plasma processing apparatus and measurement method

Номер патента: US09658106B2. Автор: Kohei Yamashita,Hirokazu Ueda,Yuuki Kobayashi,Peter L. G. Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09640368B2. Автор: Shunichi Ito,Ryuji Ohtani,Naoyuki Umehara,Kazutaka Sei,Tomomasa Nishida. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 2017-05-02.

Antenna, dielectric window, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09595425B2. Автор: Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Osamu Morita,Kiyotaka Ishibashi,Kazuki Moyama,Wataru Yoshikawa,Takehiro Tanikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-03-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09583313B2. Автор: Tomohiro Okumura. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Plasma processing apparatus, plasma processing method and high frequency generator

Номер патента: US09418822B2. Автор: Naoki Matsumoto,Hideo Kato,Koji Koyama,Kiyotaka Ishibashi,Kazushi Kaneko,Kazunori Funazaki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11081351B2. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-08-03.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230360882A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Method of processing substrate, device manufacturing method, and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210057212A1. Автор: Satoru Nakamura,Yusuke Aoki,Shinya Morikita,Toshikatsu Tobana. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20200279719A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190088452A1. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and assembly method of resonator array structure

Номер патента: US20240186114A1. Автор: Hiroshi Kondo,Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Shin Oowada,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Apparatus for monitoring a plasma process

Номер патента: US20230317439A1. Автор: Minsung Kim,Sungyeol KIM,Hosun Yoo,Taekjin Kim,Meehyun Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230307245A1. Автор: Atsushi Takahashi,Yoshihide Kihara,Takatoshi ORUI,Maju TOMURA,Koki MUKAIYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US10699884B2. Автор: Norihiko Ikeda,Koichi Yamamoto,Isao Mori,Kazuya Yamada,Naoki Yasui. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-06-30.

Plasma processing apparatus, electrostatic chuck, and plasma processing method

Номер патента: US20240258078A1. Автор: Takahiko Sato. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Erosion resistant plasma processing chamber components

Номер патента: US20230317424A1. Автор: LIN Xu,Harmeet Singh,Justin Charles CANNIFF,Robin Koshy,Simon Gosselin,Adrian Radocea. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Plasma processing method and plasma processing system

Номер патента: US20230268190A1. Автор: Yoshimitsu Kon,Atsuki Hashimoto,Sho SAITOH. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-08-24.

Method and apparatus for monitoring a plasma in a material processing system

Номер патента: EP1579470A2. Автор: James E. Klekotka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2005-09-28.

Workpiece processing apparatus

Номер патента: US20080289577A1. Автор: Hirofumi Hayashi,Shigeru Masuda,Ryuichi Iwasaki,Masaaki Mike,Hirofumi Mankawa. Владелец: Noritsu Koki Co Ltd. Дата публикации: 2008-11-27.

Plasma processing apparatus and substrate support body

Номер патента: US20240266154A1. Автор: Shinya Ishikawa,Daiki HARIU,Haruka ENDO,Miyuki AOYAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240290625A1. Автор: Masanori Hosoya,Mitsuhiro Iwano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240212997A1. Автор: Pei-Yu Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Plasma processing devices having multi-port valve assemblies

Номер патента: US12100575B2. Автор: Michael C. Kellogg,Allan K. Ronne,James E. Tappan,Daniel A. Brown,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200365380A1. Автор: Takehiro Ueda,Jun Hirose. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-11-19.

Plasma processing apparatus and monitoring device

Номер патента: US12106948B2. Автор: Hiroki Endo,Ken Hirano. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12136535B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing method

Номер патента: US09953811B2. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09922841B2. Автор: Ryosuke NIITSUMA,Haruto Kanamori. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09911577B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09852922B2. Автор: Masanobu Honda,Hikaru Watanabe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-12-26.

Plasma processing method

Номер патента: US09842750B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing method

Номер патента: US09818582B2. Автор: Shigeru Senzaki,Hiroshi Tsujimoto,Keigo TOYODA,Nobutaka Sasaki,Takanori BANSE,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Antenna for plasma generation, plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09552966B2. Автор: Shigeru Kasai,Taro Ikeda,Tomohito Komatsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-01-24.

Plasma processing method

Номер патента: US09455153B2. Автор: Genki Koguchi,Akio Morisaki,Yukinori Hanada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-09-27.

Arrangement for plasma processing system control based on RF voltage

Номер патента: US09455126B2. Автор: John C. Valcore, JR.,Henry S. Povolny. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-09-27.

Plasma-enhanced etching in an augmented plasma processing system

Номер патента: US09418859B2. Автор: Andrew D. Bailey, III,Rajinder Dhindsa,Eric A. Hudson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-08-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11854772B2. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tohoku University NUC. Дата публикации: 2023-12-26.

Plasma Processing Method and Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20230420223A1. Автор: Soya Todo. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8404050B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-03-26.

Plasma processing apparatus and method for processing object

Номер патента: US20150245460A1. Автор: Ryoichi Yoshida,Nobutaka Sasaki,Hiraku MURAKAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2015-08-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200303169A1. Автор: Hisanori Sakai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-09-24.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20090134121A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-05-28.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US8231800B2. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-07-31.

Plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20120285623A1. Автор: Hiroyuki Nakayama,Tsuyoshi Moriya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-11-15.

Etching method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230298898A1. Автор: Shingo Takahashi,Shogo Yamaya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12020899B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: SG175637A1. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2011-11-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210074530A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Plasma-processing apparatus

Номер патента: US20040245935A1. Автор: Tadahiro Ogawa,Masaaki Takayama. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-12-09.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240186115A1. Автор: Satoru Kawakami,Eiki Kamata,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: US20120328771A1. Автор: George Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. Дата публикации: 2012-12-27.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384146A1. Автор: Hiroyuki Hayashi,Hiroki EHARA,Jun NAKAGOMI,Syouji YAMAGISHI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Method and apparatus for preventing arcing at ports exposed to a plasma in plasma processing chambers

Номер патента: SG144071A1. Автор: Daniel John Hoffman. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2008-07-29.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A4. Автор: Wayne L Johnson,Joseph T Verdeyen,Murray D Sirkis. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-11-27.

Electron density measurement and plasma process control system using a microwave oscillator locked to an open resonator containing the plasma

Номер патента: EP1212692A1. Автор: Murray D. Sirkis,Wayne L. Johnson,Joseph T. Verdeyen. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-06-12.

Systems and Methods for Extracting Process Control Information from Radiofrequency Supply System of Plasma Processing System

Номер патента: US20230298857A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20040159639A1. Автор: Hideyuki Yamamoto,Tetsuo Ono,Katsumi Setoguchi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-08-19.

Closed loop process control of plasma processed materials

Номер патента: WO2012178175A1. Автор: George D. Papasouliotis,Deven Raj,Harold Persing. Владелец: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.. Дата публикации: 2012-12-27.

High frequency antenna and plasma processing device

Номер патента: EP3896717A1. Автор: Akinori Ebe,Hajime Tsuda,Hideki Moriuchi. Владелец: EMD Corp. Дата публикации: 2021-10-20.

Plasma processing apparatus, power system, control method, and storage medium

Номер патента: US20240347320A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Plasma processing system

Номер патента: US12112920B2. Автор: Jaewon Jeong,Juho Lee,Junghyun Cho,Daebeom Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-10-08.

Systems and methods for extracting process control information from radiofrequency supply system of plasma processing system

Номер патента: US12131886B2. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Felix Leib Kozakevich,Ranadeep BHOWMICK. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240355584A1. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Apparatus for ion energy analysis of plasma processes

Номер патента: US12136542B2. Автор: James Doyle,Tigran Poghosyan,Paul Scullin,David Gahan,J J Lennon. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2024-11-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12057294B2. Автор: Masahiro Inoue,Chishio Koshimizu,Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Plasma processing method

Номер патента: US09960016B2. Автор: Kumiko Ono,Koichi Nagami,Hiroshi Tsujimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-01.

Antenna for plasma generation and plasma processing device having the same

Номер патента: US09947511B2. Автор: Yasunori Ando,Dongwei Li. Владелец: Nissin Electric Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09870898B2. Автор: Koichi Nagami,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-16.

Bias voltage frequency controlled angular ion distribution in plasma processing

Номер патента: US09520267B2. Автор: Jun Xue,Ludovic Godet,Prashanth Kothnur,Umesh M. Kelkar,Matthew D. Scotney-Castle. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Method and apparatus for processing a workpiece with a plasma

Номер патента: US20040219737A1. Автор: Bill Quon. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2004-11-04.

Plasma processing apparatus, plasma processing method, and method for manufacturing electronic device

Номер патента: US20110092073A1. Автор: Takashi Hosono,Makoto Muto,Hideyuki Nitta,Takefumi Minato,Yoshihisa Kase. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2011-04-21.

Detection method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030012A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus, data processing apparatus and data processing method

Номер патента: US20160336154A1. Автор: Seiichi Watanabe,Satomi Inoue,Shigeru Nakamoto,Kousuke Fukuchi. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-11-17.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11887817B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma processing apparatus, impedance matching method, and plasma processing method

Номер патента: US20200203129A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-06-25.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240145218A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-02.

Plasma processing apparatus, wafer to wafer bonding system and wafer to wafer bonding method

Номер патента: US20240038536A1. Автор: Wooyoung Kim,Jiwon Moon,SeungDae SEOK,Yongin LEE,Donggap Shin,Bumki Moon,Siwoong Woo,Sehoon JANG,Inhwa Baek. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-02-01.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: US20240145215A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11961718B2. Автор: Tetsuji Sato,Shojiro Yahata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-16.

Pulsed voltage plasma processing apparatus and method

Номер патента: WO2024091280A1. Автор: Shreeram Jyoti DASH. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-02.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20090253246A1. Автор: KATSUSHI Kishimoto,Yusuke Fukuoka. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-10-08.

Plasma processing apparatus and electrostatic chuck including a dielectric structure and an electrostatic claim electrode inside the dielectric structure

Номер патента: US20240222092A1. Автор: Takahiko Sato,Tetsuo Yoshida. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Antenna assembly and plasma processing equipment including same

Номер патента: US20230197409A1. Автор: GALSTYAN OGSEN,Hyun Jin Kim,Jung Hwan Lee,Dong Jun Park,Sang Hyeok Ahn. Владелец: Semes Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2000-12-20.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: EP1060501B1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-04-20.

Methods for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US12057293B2. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Ion beam processing apparatus and method of operating ion source therefor

Номер патента: US20030030009A1. Автор: Shigeru Tanaka,Isao Hashimoto. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2003-02-13.

Method and system for plasma processing arc suppression

Номер патента: US20230141067A1. Автор: Anthony Oliveti. Владелец: Comet Technologies USA Inc. Дата публикации: 2023-05-11.

Voltage waveform generator for ion energy control in plasma processing

Номер патента: NL2033565B1. Автор: Lemmen Erik,YU Qihao,Joannes Daniël Vermulst Bastiaan. Владелец: Prodrive Tech Innovation Services B V. Дата публикации: 2024-05-30.

Method for reducing topography dependent charging effects in a plasma enhanced semiconductor wafer processing system

Номер патента: EP1041172A3. Автор: Peter Loewenhardt,Kenlin Huang,John M. Yamartino,Diana Xiaobing Ma. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2001-07-04.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: IL126393A. Автор: . Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2002-03-10.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US20060005927A1. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-01-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230178340A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Isao Gunji. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Internal pressure control apparatus and substrate processing apparatus including the same

Номер патента: US20240304427A1. Автор: Tae-hyun Kim,Sang Ki Nam,Sung Ho Jang,Seul Gi Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-12.

Plasma processing apparatus, control method thereof and program for performing same

Номер патента: US7585385B2. Автор: Satoshi Yamazaki,Taira Takase. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US12125676B2. Автор: Ken Kobayashi,Takahiro Takeuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US09991097B2. Автор: Yutaka Fujino,Shigenori Ozaki,Tomohito Komatsu,Jun NAKAGOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-05.

Plasma processing system and method using radio frequency and microwave power

Номер патента: US12131887B2. Автор: Yunho Kim,Yanxiang Shi,Mingmei Wang. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Plasma processing method

Номер патента: US09805917B2. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Symmetric plasma process chamber

Номер патента: US09741546B2. Автор: Shahid Rauf,Kartik Ramaswamy,Kenneth S. Collins,Andrew Nguyen,Ajit Balakrishna,Douglas A. Buchberger, Jr.,James D. Carducci,Zhigang Chen,Hamid Tavassoli. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Method for processing a carrier, a method for operating a plasma processing chamber, and a method for processing a semiconductor wafer

Номер патента: US09543157B2. Автор: Michael Renner,Lothar Brencher. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-10.

Method of processing substrate and substrate processing apparatus

Номер патента: US09530657B2. Автор: Masahiro Ogasawara,Rui Takahashi,Masafumi Urakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-12-27.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US10297489B2. Автор: Akihiro Itou,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2019-05-21.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20110174440A9. Автор: Yohei Yamazawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2011-07-21.

Plasma processing apparatus for generating uniform strip-shaped plasma by propagating microwave through rectangular slit

Номер патента: US5315212A. Автор: Akira Ishii,Michio Taniguchi,Syoichiro Minomo,Masato Sugiyo. Владелец: Daihen Corp. Дата публикации: 1994-05-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240038511A1. Автор: Hiroshi Shirouzu. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-01.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371832A1. Автор: Yukinori Aburatani,Shin Hiyama,Hidehiro Yanai,Toshiya Shimada. Владелец: HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. Дата публикации: 2015-12-24.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11875978B2. Автор: Atsushi Sekiguchi,Miyako Matsui,Tatehito Usui,Shigeru Nakamoto,Tsubasa Okamoto,Naohiro Kawamoto. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11791135B2. Автор: Shinji Kubota. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190287768A1. Автор: Takashi Suzuki,Shin Yamashita,Masashi Oshida,Yoshikazu AZUMAYA,Yukari ISOZAKI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-09-19.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11842885B2. Автор: Kenetsu Yokogawa,Masaru Izawa,Tooru Aramaki. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-12-12.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220359166A1. Автор: Masahiro Nagatani,Masahiro Sumiya,Kosa Hirota,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2022-11-10.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20130029492A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2013-01-31.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923177B2. Автор: Kazumasa Igarashi,Kazuo Yabe,Yamato Tonegawa,Keiji Tabuki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus and method for controlling source frequency of source radio-frequency power

Номер патента: US20230369020A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US9941133B2. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Plasma processing apparatus with tunable electrical characteristic

Номер патента: WO2022256407A1. Автор: Alok Ranjan,Peter Ventzek,Yun Han,Mitsunori Ohata. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-12-08.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20180190502A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2018-07-05.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190333772A1. Автор: Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Masahiro Sumiya,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-10-31.

Focus ring for a plasma-based semiconductor processing tool

Номер патента: US20230386799A1. Автор: Jr-Sheng Chen,Sheng-Chieh Huang,Chih-Hsien Hsu,Chung-Hsiu Cheng,Chun Yan Chen,Chang Kuang TSO,Chou Feng LEE,Chin-Tai HUNG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A2. Автор: John E. Cronin,Murray D. Sirkis,Eric J. Strang,Yu Wang Bibby. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2002-01-31.

Method and device for attenuating harmonics in semiconductor plasma processing systems

Номер патента: EP1264328A1. Автор: Andrej S. Mitrovic,Wayne L. Johnson,Thomas H. Windhorn. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2002-12-11.

Tunable focus ring for plasma processing

Номер патента: WO2002025695A3. Автор: Wayne L Johnson. Владелец: Wayne L Johnson. Дата публикации: 2002-06-13.

Automated electrode replacement apparatus for a plasma processing system

Номер патента: WO2002009141A3. Автор: John E Cronin,Yu Wang Bibby,Eric J Strang,Murray D Sirkis. Владелец: Murray D Sirkis. Дата публикации: 2002-06-20.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US20150382442A1. Автор: Michael Mueller,Sam Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2015-12-31.

Apparatus and method for radio frequency de-coupling and bias voltage control in a plasma reactor

Номер патента: EP1399944A1. Автор: Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Methods and apparatuses for controlling phase difference in plasma processing systems

Номер патента: AU2532797A. Автор: Robert D. Dible,Stephen G. Bradley,Seved Jafar Jafarian-Tehrani. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 1997-10-22.

Plasma processing apparatus with reduced parasitic capacity and loss in RF power

Номер патента: US20040238126A1. Автор: Akihiro Kojima,Kazuhiro Tomioka,Hisataka Hayashi,Itsuko Sakai,Tokuhisa Ohiwa. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2004-12-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297020A1. Автор: Hiroyuki Miyashita,Taro Ikeda,Yuki Osada. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Plasma processing with broadband rf waveforms

Номер патента: US20240312766A1. Автор: John Carroll,Jianping Zhao,Charles Schlechte,Peter Lowell George Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Bottom electrode assembly, plasma processing apparatus, and method of replacing focus ring

Номер патента: US12094693B2. Автор: Zengdi LIAN,Rason Zuo,Dee Wu,Jiangtao PEI. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Systems for real-time pulse measurement and pulse timing adjustment to control plasma process performance

Номер патента: US20240347319A1. Автор: Merritt Funk,Alok Ranjan,Peter Ventzek. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Apparatus and methods for plasma processing

Номер патента: WO2024210967A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2024-10-10.

Apparatus and Methods for Plasma Processing

Номер патента: US20240331979A1. Автор: Qi Wang,Sergey Voronin,Andrew Metz,Hamed Hajibabaeinajafabadi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09852890B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-12-26.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09711331B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Frequency tuning for pulsed radio frequency plasma processing

Номер патента: US09544987B2. Автор: Michael Mueller,Myeong Yeol Choi. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2017-01-10.

Feedforward temperature control for plasma processing apparatus

Номер патента: US09338871B2. Автор: Kartik Ramaswamy,Douglas A. Buchberger, Jr.,Sergio Fukuda Shoji,Hamid Noorbakhsh,Chunlei Zhang,Shane C. NEVIL,Walter R. Merry,Duy D. Nguyen,Brad L. MAYS,Chetan MAHADESWARASWAMY,Fernando M. SILVEIRA,Yashaswini B. PATTAR,Tina TSONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US5891252A. Автор: Shinichi Tachi,Masahito Mori,Keizo Suzuki,Kazunori Tsujimoto,Tetsuo Ono,Naoshi Itabashi,Ken'etsu Yokogawa. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1999-04-06.

Inductively coupled plasma processing apparatus for very large area using dual frequency

Номер патента: US20070012250A1. Автор: Kyong-Nam Kim,Geun-Young Yeom. Владелец: Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration. Дата публикации: 2007-01-18.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230402269A1. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20210159049A1. Автор: Shinji Kubota,Shinji Himori,Kazuya Nagaseki,Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-05-27.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US20200211823A1. Автор: Chishio Koshimizu,Michishige Saito,Ryuji HISATOMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-02.

Plasma processing method

Номер патента: US20190326103A1. Автор: Takahiro Murakami,Muneyuki Omi,Dai Igarashi,Rei Ibuka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2019-10-24.

Cleaning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11804368B2. Автор: Chishio Koshimizu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Plasma processing-apparatus processing object support platform, plasma processing apparatus, and plasma processing method

Номер патента: US20190096731A1. Автор: Hideo Eto. Владелец: Toshiba Memory Corp. Дата публикации: 2019-03-28.

Member and plasma processing apparatus

Номер патента: US11037763B2. Автор: Yuki Sugawara,Masafumi Urakawa,Masanori ASAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-06-15.

Substrate processing method and substrate processing apparatus

Номер патента: US20230386787A1. Автор: Kiyoshi Maeda,Yasuhiko Saito,Atsutoshi Inokuchi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200105506A1. Автор: Hidehito Azumano. Владелец: Shibaura Mechatronics Corp. Дата публикации: 2020-04-02.

Apparatus and methods for removing contaminant particles in a plasma process

Номер патента: US11120976B2. Автор: Ganesh Balasubramanian,Sidharth Bhatia,Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-09-14.

Plasma processing apparatus and coil holder for holding plasma excitation antenna

Номер патента: US20240105422A1. Автор: Masaki Tsunoda,Masato Ozawa,Chanseong AHN. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-28.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160079043A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-03-17.

Processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20200227241A1. Автор: Seiji Yokoyama,Shunichi Kawasaki,Taichi Okano,Sho Oikawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-07-16.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240047181A1. Автор: Yuki Kondo,Shintarou Nakatani,Takamasa ICHINO. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US9607874B2. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Makoto Nawata,Tomoyuki Tamura,Shigeru Shirayone,Masaki Ishiguro,Kazuyuki Ikenaga. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Member and plasma processing apparatus

Номер патента: US20180350567A1. Автор: Yuki Sugawara,Masafumi Urakawa,Masanori ASAHARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-06.

Temperature controller, temperature measurer, and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US20190385813A1. Автор: Hak-Young Kim,Bi-Ah SHIN,Bo-Ra YOON,Jun-Ho IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-12-19.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US9324542B2. Автор: Takahiro Senda,Kazuki Takahashi,Naoki Matsumoto,Jun Yoshikawa,Kazuyuki Kato,Kenji Sudou,Yoshiyasu Sato,Naoki Mihara,Michitaka AITA,Yugo Tomita,Hitoshi Mizusugi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-04-26.

Method for determining amount of wear of edge ring, plasma processing apparatus, and substrate processing system

Номер патента: US20240212979A1. Автор: Atsushi TERASAWA,Ikko Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and methods for removing contaminant particles in a plasma process

Номер патента: US20200350146A1. Автор: Ganesh Balasubramanian,Sidharth Bhatia,Anup Kumar Singh,Bhaskar Kumar,Vivek Bharat SHAH. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-11-05.

Plasma processing apparatus and wear amount measurement method

Номер патента: US12033838B2. Автор: Takehito Watanabe,Joji TAKAYOSHI,Ryuta Akimoto. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Plasma processing apparatus and method for manufacturing mounting stage

Номер патента: US12033886B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Akira Nagayama,Ryo Chiba. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Etching method and plasma processing system

Номер патента: US20230402289A1. Автор: Yoshihide Kihara,Kae Takahashi,Maju TOMURA,Noriyoshi ARIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11996271B2. Автор: SATOSHI Tanaka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-28.

Compensation of impedance modulation in a plasma generator by frequency sweep

Номер патента: WO2024137944A1. Автор: Masahiro Watanabe. Владелец: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.. Дата публикации: 2024-06-27.

Apparatus and method for plasma processing

Номер патента: EP1695370A1. Автор: Nityalendra Singh,Roger James Wilshire Croad. Владелец: Oxford Instruments Plasma Technology Ltd. Дата публикации: 2006-08-30.

Ring structures and systems for use in a plasma chamber

Номер патента: US20240266151A1. Автор: Alexei Marakhtanov,John Holland,Alexander Matyushkin,Zhigang Chen,Felix Kozakevich,Michael C. Kellogg,Adam Mace. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Controlling ion energy distribution in plasma processing systems

Номер патента: US09887069B2. Автор: Eric Hudson,Andreas Fischer. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Dielectric window, plasma processing system including the window, and method of fabricating semiconductor device using the system

Номер патента: US09812293B2. Автор: Dong-Wook Kim,Jung-hwan UM,Sung-moon PARK. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-07.

Multi-range voltage sensor and method for a voltage controlled interface of a plasma processing system

Номер патента: US09741543B2. Автор: Gary M. Lemson. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Replaceable upper chamber section of plasma processing apparatus

Номер патента: US09613834B2. Автор: Michael S. Kang,Harmeet Singh,Leonard J. Sharpless. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-04-04.

Method of processing target object and plasma processing apparatus

Номер патента: US09583361B2. Автор: Masanobu Honda,Ryoichi Yoshida,Ken Kobayashi,Yoshihide Kihara,Hiromi MOCHIZUKI,Masaya Kawamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-02-28.

Window for microwave plasma processing device

Номер патента: WO1992022085A1. Автор: Takashi Inoue,Masahiko Tanaka,Shunji Miyahara,Ching-Hwa Chen,David Pirkle. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1992-12-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20070235426A1. Автор: SATOSHI Tanaka,Hidetoshi Hanaoka,Naoki Matsumoto,Manabu Iwata,Chishio Koshimizu,Yoshinobu Hayakawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-10-11.

System and method for managing a plasma process and method for manufacturing an electronic device

Номер патента: US20070062802A1. Автор: Takashi Shimizu,Shinji Mori,Katsuyuki Sekine. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-03-22.

Plasma processing apparatus with a rotating electromagnetic field

Номер патента: US5554223A. Автор: Issei Imahashi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 1996-09-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11923171B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hidetoshi Hanaoka,Junichi Sasaki,Tomohiko Akiyama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Method of cleaning stage in plasma processing apparatus, and the plasma processing apparatus

Номер патента: US11865591B2. Автор: Junichi Sasaki,Takamitsu Takayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Seasoning method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030014A1. Автор: Naoki Matsumoto,Satoru Nakamura,Yusuke Shimizu,Toshihisa Ozu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240063000A1. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US11908666B2. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-02-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20230352273A1. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2023-11-02.

Method of cleaning plasma processing apparatus and plasma processing apparatus

Номер патента: US11887824B2. Автор: Nobuaki Shindo,Yasutaka HAMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-30.

Plasma process monitoring device and plasma processing apparatus including the same

Номер патента: US11862442B2. Автор: Il Gu Yun. Владелец: Industry Academic Cooperation Foundation of Yonsei University. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing apparatus and power supply control method

Номер патента: US20230411128A1. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Plasma processing method, plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the apparatus

Номер патента: US20210202276A1. Автор: Jin-Young Park,Chan-hoon Park,Je-woo Han,Jong-Woo Sun,Seung-Yoon Song,Jung-Mo Sung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-07-01.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US11830704B2. Автор: Chishio Koshimizu,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11871503B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293469A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20160293456A1. Автор: Noriyuki Matsubara,Shogo Okita,Atsushi Harikai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Plasma processing apparatus, calculation method, and calculation program

Номер патента: US11862438B2. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20160225587A1. Автор: Masaki Fujii,Tetsuo Ono,Yoshiharu Inoue,Masakazu Miyaji,Michikazu Morimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2016-08-04.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US11581170B2. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Yuji AOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-02-14.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20220122847A1. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-04-21.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US11817321B2. Автор: Yuzuru Sakai,Ryo Terashima. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20210358722A1. Автор: Masahiro Sumiya,Anil PANDEY,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-11-18.

Plasma processing apparatus and substrate processing apparatus

Номер патента: US20240112891A1. Автор: Masaru ISAGO,Ryoya Abe. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus, calculation method, and calculation program

Номер патента: US20240087855A1. Автор: Shinsuke Oka. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Plasma processing apparatus and control method

Номер патента: US20200273670A1. Автор: Chishio Koshimizu,Shin Hirotsu. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2020-08-27.

Filter circuit and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220246400A1. Автор: Koji Yamagishi,Koichi Nagami,Yuji AOTA,Kota ISHIHARADA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-08-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240030003A1. Автор: Yuzuru Sakai,Kazuki Oshima,Takehiro Tanikawa,Torai Iwasa,Masaya Herai. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US11948776B2. Автор: Hitoshi Tamura,Chen Pin Hsu. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-04-02.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20190287770A1. Автор: Kenetsu Yokogawa,Tsutomu Tetsuka,Taku Iwase. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Helical resonator type plasma processing apparatus

Номер патента: EP1530230A3. Автор: Dae-Il 204-1401 Ohyun Jugong Apr Kim,Gook-yoon A-201 Geumgang Villa Kim,Dong-joon 6-1108 Plaza Apt Ma,Sung-Kyo Wellrich 206 242-2 Jung-ri Choi. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-06-07.

Stage and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240153749A1. Автор: Yasuharu Sasaki,Hajime Tamura,Shin Yamaguchi,Tsuguto SUGAWARA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Plasma processing apparatus and power supply control method

Номер патента: US11776795B2. Автор: Koichi Nagami,Tatsuro Ohshita. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-10-03.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240030008A1. Автор: Taro Hayakawa,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-01-25.

Plasma processing system and plasma processing method

Номер патента: US20240170258A1. Автор: Gen Tamamushi. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20190088455A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-03-21.

Plasma processing apparatus and prediction method of the condition of plasma processing apparatus

Номер патента: US20210082673A1. Автор: Masahiro Sumiya,Yoshito Kamaji. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2021-03-18.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20080203925A1. Автор: Masaru Izawa,Ken'etsu Yokogawa,Takumi Tandou. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2008-08-28.

Method for controlling cleaning and plasma processing apparatus

Номер патента: US12009189B2. Автор: Takashi TSUTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-06-11.

Method for controlling cleaning and plasma processing apparatus

Номер патента: US20220384162A1. Автор: Takashi TSUTO. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Plasma processing apparatus and processing method

Номер патента: US20210066040A1. Автор: Shinji Kubota,Chishio Koshimizu,Yuji AOTA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-03-04.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180151332A1. Автор: Takashi Hasegawa,Naoki Matsumoto,Koji Koyama,Kazushi Kaneko. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-31.

Plasma processing apparatus, data analysis apparatus, and semiconductor device manufacturing system

Номер патента: US20240203712A1. Автор: Akira Kagoshima,Daisuke Shiraishi,Shunta NOSAKA. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20240112892A1. Автор: Pei Ye. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-04.

Plasma processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device using the same

Номер патента: US20210142985A1. Автор: Akira Koshiishi,Jongwoo SUN,Yongwoo Lee,Masato Horiguchi,Dowon Kim,Yunhwan Kim,Kyohyeok KIM,Youngjin Noh,Taeil Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-05-13.

A controller for a matching unit of a plasma processing system

Номер патента: US20220404785A1. Автор: Peter Daly,Paul Scullin,David Gahan,Jj Lennon,Ian OLIVIERI. Владелец: IMPEDANS LTD. Дата публикации: 2022-12-22.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A3. Автор: La Llera Anthony De,Saurabh J Ullal. Владелец: Saurabh J Ullal. Дата публикации: 2008-07-31.

Method and apparatus for predicting plasma-process surface profiles

Номер патента: WO1999045567A1. Автор: Richard A. Gottscho,Vahid Vahedi,Maria E. Barone. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 1999-09-10.

Components for a plasma processing apparatus

Номер патента: WO2008063324A2. Автор: Anthony de la Llera,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2008-05-29.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US12051570B2. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing

Номер патента: US20230298856A1. Автор: James Rogers,Katsumasa Kawasaki. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-21.

Spatial and temporal control of ion bias voltage for plasma processing

Номер патента: EP4376061A3. Автор: Kevin Fairbairn,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Aes Global Holdings Pte Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Ion beam device and cleaning method for gas field ion source

Номер патента: US20200294776A1. Автор: Shinichi Matsubara,Hiroyasu Shichi,Yoshimi Kawanami,Tomihiro Hashizume,Atsushi Kobaru. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2020-09-17.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240297021A1. Автор: Yoshinori Yoshida,Yutaka Kouzuma,Kazuyuki Hirozane. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-05.

Spatial monitoring and control of plasma processing environments

Номер патента: US20210241996A1. Автор: Kevin Fairbairn,Victor Brouk,Daniel Carter,Denis Shaw. Владелец: Advanced Energy Industries Inc. Дата публикации: 2021-08-05.

Matching unit for semiconductor plasma processing apparatus

Номер патента: US20050098116A1. Автор: Yukio Sato,Katsumi Takahashi,Etsuo Yamagishi,Taku Fukada. Владелец: Pearl Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2005-05-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20180174805A1. Автор: Yoshinobu Ooya,Ryohei Takeda,Maju TOMURA,Ryuichi TAKASHIMA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-06-21.

Reactor, process processing apparatus including the same and method for manufacturing reactor

Номер патента: US12068133B2. Автор: Dai Kyu Choi. Владелец: Np Holdings Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240170259A1. Автор: Hiroshi Kondo,Eiki Kamata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-05-23.

Inductively coupled plasma process chamber with shield electrode interposed between antenna and dielectric window

Номер патента: EP1238407A1. Автор: Robert E. Ryan,Arthur Sato,Zhiwen Sun,Xueyu Qian,Valentin N. Todorov,Jin-Yuan Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2002-09-11.

Microwave plasma processing apparatus

Номер патента: US5243259A. Автор: Junji Sato,Kazuo Suzuki,Takuya Fukuda,Satoru Todoroki,Shunichi Hirose. Владелец: Hitachi Engineering and Services Co Ltd. Дата публикации: 1993-09-07.

Substrate support and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240339305A1. Автор: Hajime Tamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US09875881B2. Автор: Norikazu Yamada,Kouichi Yoshida,Tadashi Gondai,Kohichi NAGAMI. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-01-23.

Method and apparatus for the detection of arc events during the plasma processing of a wafer, surface of substrate

Номер патента: US09842726B2. Автор: Paul Maguire,Stephen Daniels,Shane Glynn,Felipe Soberon. Владелец: Verity Instruments Inc. Дата публикации: 2017-12-12.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20240321550A1. Автор: Masaki Hirayama. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Plasma processing systems including side coils and methods related to the plasma processing systems

Номер патента: US09336996B2. Автор: Alex Paterson,Maolin Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2016-05-10.

Plasma processing apparatus for producing plasma at low electron temperatures

Номер патента: US5936352A. Автор: Kibatsu Shinohara,Seiji Samukawa,Hiroyuki Ueyama,Tsutomu Tsukada,Hirofumi Matsumoto,Yukito Nakagawa. Владелец: Anelva Corp. Дата публикации: 1999-08-10.

Apparatus and method for surface processing such as plasma processing

Номер патента: US20070123041A1. Автор: Yoshinori Nakano,Toshimasa Takeuchi,Eiji Miyamoto,Shinichi Kawasaki,Junichiro Anzai,Satoshi Mayumi,Sumio Nakatake. Владелец: Sekisui Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-31.

Apparatus and method for uniform microwave plasma processing using TE1101 modes

Номер патента: US5302803A. Автор: Joseph L. Cecchi,James E. Stevens. Владелец: Consortium for Surface Processing Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US11923229B2. Автор: Yusuke Aoki. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US8513097B2. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-08-20.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20200402822A1. Автор: Tetsuhiro Iwai. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-24.

The plasma processing apparatus and plasma processing method

Номер патента: US20190006153A1. Автор: Hitoshi Tamura,Naoki Yasui,Nanako TAMARI. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2019-01-03.

Plasma processing method

Номер патента: US20170278676A1. Автор: Koichi Nagami. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2017-09-28.

Plasma processing method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20240120187A1. Автор: Sho Kumakura,Hironari SASAGAWA. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Method for processing workpiece, plasma processing apparatus and semiconductor device

Номер патента: US20230005752A1. Автор: FEI Yu,Junliang Li,Mengyang Xin. Владелец: Beijing E Town Semiconductor Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-05.

Plasma processing apparatus

Номер патента: US20220375730A1. Автор: Ryota Sakane. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-11-24.

Control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US20230377843A1. Автор: Koji Maruyama,Shinji Kubota,Taichi Hirano,Chishio Koshimizu,Toru HAYASAKA,Takashi Dokan. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-11-23.

Method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system

Номер патента: EP4242904A3. Автор: Thomas Fink,Nikolai Schwerg,André Grede,Daniel Gruner,Anton Labanc,Manuel vor dem Brocke,Roland Schlierf. Владелец: Comet AG. Дата публикации: 2023-11-01.

Plasma processing method and plasma processing device

Номер патента: US20220199369A1. Автор: Mikio Sato,Nobuhiko Yamamoto,Eiki Kamata,Taro Ikeda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Temperature controlled plasma processing chamber component with zone dependent thermal efficiencies

Номер патента: US20110303641A1. Автор: Kallol Bera,Larry D. Elizaga,Chetan MAHADESWARASWAMY. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Radio frequency electrode assembly for plasma processing apparatus, and plasma processing apparatus

Номер патента: US11875970B2. Автор: Jie Liang,Weina Wang,Leyi Tu,Longbao Chen. Владелец: Advanced Micro Fabrication Equipment Inc. Дата публикации: 2024-01-16.

Plasma processing system and method of supporting plasma ignition

Номер патента: US11923174B2. Автор: Yuji Kitamura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Effective biasing active circulator with RF choke concept

Номер патента: US09893401B2. Автор: Eric M. Prophet,Hasan Sharifi,Jongchan Kang. Владелец: HRL LABORATORIES LLC. Дата публикации: 2018-02-13.

Method of outgassing a mask material deposited over a workpiece in a process tool

Номер патента: US20160049313A1. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Martin S. Wohlert,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Prabhat Kumar. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-02-18.

Method of outgassing a mask material deposited over a workpiece in a process tool

Номер патента: US09412619B2. Автор: AJAY Kumar,James S. Papanu,Martin S. Wohlert,Wei-Sheng Lei,Brad Eaton,Prabhat Kumar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-08-09.

Wafer processing method and wafer processing apparatus

Номер патента: SG132691A1. Автор: Isamu Kawashima. Владелец: Tokyo Seimitsu Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-28.

Modular-component system for gas delivery

Номер патента: US11996301B2. Автор: Norman Nakashima,Karl Frederick Leeser,John Folden STUMPF,Damien Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-05-28.

Peripheral rf choke and z direction heat pipe

Номер патента: WO2023028011A1. Автор: Ryan Stevenson. Владелец: Krishna, Arvind. Дата публикации: 2023-03-02.

Modular-component system for gas delivery

Номер патента: US20240347349A1. Автор: Norman Nakashima,Karl Frederick Leeser,John Folden STUMPF,Damien Long. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-17.

Modifying work function of a metal film with a plasma process

Номер патента: US20180218911A1. Автор: WEI Liu,Johanes S. Swenberg,Houda Graoui,Steven C. H. Hung. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-08-02.

Plasma processing method

Номер патента: US20020173161A1. Автор: Kiyoshi Arita,Tetsuhiro Iwai. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Plasma processing method

Номер патента: US20240321583A1. Автор: Miyako Matsui,Kenichi Kuwahara. Владелец: Hitachi High Tech Corp. Дата публикации: 2024-09-26.

De-chuck control method and control device for plasma processing apparatus

Номер патента: US09466519B2. Автор: Atsushi Kawabata. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-10-11.

Plasma oxidizing method, plasma processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US20100015815A1. Автор: Takashi Kobayashi,Nobuhiko Yamamoto,Junichi Kitagawa,Yoshiro Kabe,Hikaru Adachi,Toshihiko Shiozawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-01-21.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: WO2012039744A3. Автор: Travis R. Taylor,Anthony de la Llera,David Carman,Harmeet Singh,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-08-23.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: SG188600A1. Автор: David Carman,Harmeet Singh,La Llera Anthony De,Travis R Taylor,Saurabh J Ullal. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2013-04-30.

Plasma confinement ring assembly for plasma processing chambers

Номер патента: WO2012039744A2. Автор: Travis R. Taylor,Anthony de la Llera,David Carman,Harmeet Singh,Saurabh J. Ullal. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-03-29.

De-chuck control method and plasma processing apparatus

Номер патента: US09966291B2. Автор: Junichi Sasaki,Masaaki Miyagawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

ESD block isolation by RF choke

Номер патента: US8958185B2. Автор: Jun-De JIN,Ming Hsien Tsai,Tzu-Jin Yeh,Hsieh-Hung HSIEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-02-17.

Esd block isolation by rf choke

Номер патента: US20120212865A1. Автор: Jun-De JIN,Ming Hsien Tsai,Tzu-Jin Yeh,Hsieh-Hung HSIEH. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2012-08-23.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A9. Автор: Jisoo Kim,Bi-Ming Yen,Peter K Loewenhardt,Binet Worsham. Владелец: Binet Worsham. Дата публикации: 2005-11-24.

Methods for the optimization of substrate etching in a plasma processing system

Номер патента: WO2005091974A2. Автор: Jisoo Kim,Peter K. Loewenhardt,Bi-Ming Yen,Binet Worsham. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2005-10-06.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: US20050037629A1. Автор: Ichiro Nakayama,Yoshihiro Yanagi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-02-17.

Method for operating a vehicle being configured for driving in an autonomous drive mode, method for controlling a vehicle being subject to an interrupted autonomous drive mode, method for providing a driving record by a vehicle, data processing apparatus, computer program, computer-readable storage medium, and traffic system

Номер патента: EP4439519A1. Автор: Oswaldo Perez Barrera,Anders LENNARTSSON. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2024-10-02.

Method for synchronizing a rotatory steering wheel position of a steering wheel to an angular road wheel position of a road wheel, method for starting a vehicle, data processing apparatus, computer program, computer-readable storage medium, and steering system

Номер патента: EP4417490A1. Автор: Anders Hansson. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2024-08-21.

Instruction storage and cache miss recovery in a high speed multiprocessing parallel processing apparatus

Номер патента: US5179680A. Автор: John O'donnell,Robert P. Colwell,David B. Papworth,Paul K. Rodman. Владелец: Digital Equipment Corp. Дата публикации: 1993-01-12.

A sensor for embedding in a cast material which transfers a pressure in the cast material to an electrical signal and a method to measure pressure in a cast material

Номер патента: WO1999063315A1. Автор: Henrik Stang,Helge Fredslund-Hansen,Birgitte Friis Dela,John Forbes Olesen. Владелец: John Forbes Olesen. Дата публикации: 1999-12-09.

Information processing system, information processing apparatus and method, storage case and information processing method, and program

Номер патента: US20240330425A1. Автор: Kei Takahashi,Yudai Kato,Keita SEKIJIMA,Riho Sato. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Information processing apparatus, control method therefor, and storage medium

Номер патента: US12113940B2. Автор: Kiichi Hasegawa,Satoshi Okuma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-10-08.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20230388732A1. Автор: Toru Nakagawa,Akihito Nakai,Masashi Fujihara. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Image processing apparatus, image processing method, image transmitting apparatus, and image processing system

Номер патента: EP4250715A1. Автор: Makoto Honjo. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2023-09-27.

Information processing apparatus, method, system and computer program

Номер патента: EP3158724A1. Автор: Keiji Okamoto,Ryogo Ito,Kazuma Akamatsu,Shiro Eshita,Yoko Fukata. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-04-26.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20240163552A1. Автор: Daisuke Yamamoto,Takeshi Ogita,Keiichiro Taniguchi,Ayumi NAKAGAWA,Akiko Yoshimoto,Atsutaka Ito,Mayumi Uemura. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Control method for information processing apparatus, non-transitory computer-readable storage medium, and information processing apparatus

Номер патента: US20240272838A1. Автор: Kazushige Shimada. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-15.

Control apparatus, lens apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium that determine data as coefficient data corresponding to an order less than a predetermined order of an approximation function

Номер патента: US09990698B2. Автор: Kunihiro Shirai. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-06-05.

Communication system including information processing apparatus and mediation apparatus capable of transmitting command to device in appropriate order

Номер патента: US20190319888A1. Автор: Takashi Nishizaki. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2019-10-17.

Image processing apparatus and image processing method

Номер патента: US20130142449A1. Автор: Masayoshi Shimizu,Yuushi Toyoda. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2013-06-06.

Image processing apparatus

Номер патента: US20150261491A1. Автор: Yasutomo Hayano. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Image processing apparatus, control method for image processing apparatus, and recording medium

Номер патента: US10129416B1. Автор: Jun Omata,Hiroyoshi Takamiya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-11-13.

Information processing apparatus, method for controlling information processing, and storage medium

Номер патента: US20240259508A1. Автор: Shodai Yano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Image processing apparatus, image forming apparatus and program

Номер патента: US20190068802A1. Автор: Yuji Uchida. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2019-02-28.

Image processing apparatus, method, and storage medium

Номер патента: EP3885891A1. Автор: Yusuke Hayashi,Motoyuki Katsumata. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2021-09-29.

Information processing apparatus and control method

Номер патента: US20210352185A1. Автор: Yuki Futatsumori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2021-11-11.

Non-transitory computer-readable medium storing programs for information processing apparatus, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: US09462143B2. Автор: Kenji Tamaki,Aiko MIZUTANI. Владелец: Brother Industries Ltd. Дата публикации: 2016-10-04.

Information processing apparatus, control method therefor, and storage medium

Номер патента: US20230319194A1. Автор: Kiichi Hasegawa,Satoshi Okuma. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Image processing apparatus, method for processing image, image transmission apparatus, and image processing system

Номер патента: US20240013344A1. Автор: Makoto Honjo. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Information processing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US11778132B2. Автор: Tomonori Tanaka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Information processing apparatus, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20220150365A1. Автор: Yohei Shogaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-05-12.

Information processing apparatus, control method for controlling the information processing apparatus in a maintenance mode, and storage medium

Номер патента: US09607180B2. Автор: Yasuharu Sugano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-03-28.

Image processing apparatus, image processing method, and image processing system

Номер патента: US20240013492A1. Автор: Daisuke Tahara. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-01-11.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and non-transitory storage medium

Номер патента: US11758375B2. Автор: Daisuke Tanabe,Hiroyuki Tokita,Shin Sakurada,Ayana TAKESHITA,Yeonseo KIM,Koichi ASAMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-09-12.

Information processing apparatus, information processing system, information processing method, and non-transitory storage medium

Номер патента: US20190380013A1. Автор: Daisuke Tanabe,Hiroyuki Tokita,Shin Sakurada,Ayana TAKESHITA,Yeonseo KIM,Koichi ASAMOTO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2019-12-12.

Print system to which two information processing apparatuses are connected, information processing apparatus, control methods therefor, and storage media storing programs for executing these control methods

Номер патента: US20200213470A1. Автор: Shou Kikuchi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-07-02.

Integrated Circuit and Method of Arbitration in a Network on an Integrated Circuit

Номер патента: US20080186991A1. Автор: Kees Gerard Willem Goossens,Andrei Radulescu,Rikard Lennart Thid. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2008-08-07.

Integrated circuit and method of arbitration in a network on an integrated circuit

Номер патента: WO2006123287A2. Автор: Andrei Radulescu,Rikart L. Thid,Kees G. W. Goosens. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2006-11-23.

Integrated circuit and method of arbitration in a network on an integrated circuit

Номер патента: EP1884084A2. Автор: Andrei Radulescu,Rikart L. Thid,Kees G. W. Goosens. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2008-02-06.

Technique for storing cookie information in a core network domain of a wireless communication network

Номер патента: EP4399859A1. Автор: Miguel Angel MUÑOZ DE LA TORRE ALONSO,Rodrigo Alvarez Dominguez,Alfonso De Jesus Perez Martinez. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2024-07-17.

Access control for data blocks in a distributed filesystem

Номер патента: US09628486B2. Автор: Feng Xu,I-Ching Wang,Sri SUDARSAN. Владелец: Vormetric Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Methods and apparatus for content delivery to a mobile device

Номер патента: CA2565694A1. Автор: An Mei Chen,Ravinder Chandhok,Ben A. Saidi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-11-17.

Methods and apparatus for content delivery to a mobile device

Номер патента: EP1747656A1. Автор: An Mei Chen,Ravinder Chandhok,Ben Saidi. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2007-01-31.

Physical layer protocol data unit format in a high efficiency wireless lan

Номер патента: US20160007342A1. Автор: Yongho Seok. Владелец: Newracom Inc. Дата публикации: 2016-01-07.

Endoscope System, White Balance Adjustment Method Therefor, and Image Processing Apparatus for Endoscope

Номер патента: US20170085851A1. Автор: Yugo KOIZUMI,Kyoko HONDA,Mai OJIMA. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2017-03-23.

Endoscope system, white balance adjustment method therefor, and image processing apparatus for endoscope

Номер патента: US9813688B2. Автор: Yugo KOIZUMI,Kyoko HONDA,Mai OJIMA. Владелец: Olympus Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Information processing system, information processing apparatus, and control method therefor

Номер патента: US20220038587A1. Автор: Koichi Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-02-03.

Information processing system, information processing apparatus, and control method therefor

Номер патента: US20200382659A1. Автор: Koichi Unno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-03.

Method and apparatus for providing a splitter in a notification system

Номер патента: US20050163306A1. Автор: David Salgueiro. Владелец: Wheelock Inc. Дата публикации: 2005-07-28.

Information processing apparatus, system, control method of information processing apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US11843729B2. Автор: Akira Ishikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20170150309A1. Автор: Takatoshi Nakamura,Kazuyuki Sakoda,Akihiro Ihori,Erika Saito,Yueting HU. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-05-25.

Information processing apparatus, control method, and program

Номер патента: EP3751387A1. Автор: Hirokazu Sakamoto,Hiroyuki Sanami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-16.

Information processing apparatus, control method, and non-transitory computer-readable medium

Номер патента: US20200396349A1. Автор: Hirokazu Sakamoto,Hiroyuki Sanami. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-12-17.

Information processing apparatus, system, control method of information processing apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US20240064243A1. Автор: Akira Ishikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Information processing apparatus, system, control method of information processing apparatus, and non-transitory computer-readable storage medium

Номер патента: US20230254415A1. Автор: Akira Ishikawa. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

A method of decentralized medium access control in a communications network

Номер патента: EP1642419A1. Автор: G. c/o Philips I. P. & Standards GmbH HIERTZ,R.S. c/o Philips I.P. & Standards GmbH BAGUL,O. c/o Philips I.P. & Standards GmbH WISCHHUSEN,J. c/o Philips I.P. & Standards GmbH HABETHA,K.P. c/o Philips I.P. & Standards GmbH MAY. Владелец: Philips Intellectual Property and Standards GmbH. Дата публикации: 2006-04-05.

Recording medium and sound processing apparatus having library program for multiple processors

Номер патента: US11567727B2. Автор: Shintaro Noguchi,Hajime Komura. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2023-01-31.

Information processing apparatus, information processing method, information processing program, and information processing system

Номер патента: US20180288246A1. Автор: Junpei Tada. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Information processing apparatus, method for controlling information processing, and storage medium

Номер патента: US20220141345A1. Автор: Shodai Yano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-05-05.

Information processing apparatus, method for controlling information processing, and storage medium

Номер патента: US12010275B2. Автор: Shodai Yano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Recording medium and sound processing apparatus

Номер патента: US20210064332A1. Автор: Shintaro Noguchi,Hajime Komura. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 2021-03-04.

Information processing apparatus, color profile generation system, information processing method, and recording medium

Номер патента: US20190260912A1. Автор: Yuki Matsushima. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-22.

Image processing apparatus, image processing method, and program

Номер патента: US8699793B2. Автор: Satoru Komatsu. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2014-04-15.

Method for avoiding data loss in a packet switch

Номер патента: GB2341058A. Автор: Robert Geoffrey Wood. Владелец: Mitel Corp. Дата публикации: 2000-03-01.

Color picture processing apparatus for reproducing a color picture having a smoothly changed gradation

Номер патента: US5696611A. Автор: Shinichi Sato,Kazuyuki Nishimura. Владелец: Matsushita Graphic Communication Systems Inc. Дата публикации: 1997-12-09.

Information processing apparatus, program, and information processing system

Номер патента: US20210001808A1. Автор: Takeshi Morikawa,Takehisa Yamaguchi. Владелец: KONICA MINOLTA INC. Дата публикации: 2021-01-07.

Access control for data blocks in a distributed filesystem

Номер патента: EP3210156A2. Автор: Feng Xu,I-Ching Wang,Sri SUDARSAN. Владелец: Vormetric Inc. Дата публикации: 2017-08-30.

Access control for data blocks in a distributed filesystem

Номер патента: CA2965522C. Автор: Feng Xu,I-Ching Wang,Sri SUDARSAN. Владелец: Thales DIS CPL USA Inc. Дата публикации: 2023-08-01.

Information processing apparatus for readout of data compressed in a mount format

Номер патента: US11843745B2. Автор: Yohei Shogaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-12-12.

isolated monoclonal antibody or antigen-binding fragment thereof that binds to cd8, pharmaceutical composition, nucleic acid molecule, expression vector, host cell, antibody conjugate, methods for imaging cd8-expressing tissue to treat a subject having a solid tumor, to predict a positive response to an anti-tumor therapy, to monitor a tumor response in a subject to an anti-tumor therapy, to predict or monitor the effectiveness of anti-tumor therapy, and to monitor the presence of t cells in a tumor over time, and, compound.

Номер патента: BR112020001360A2. Автор: Dangshe Ma,William Olson,Gavin Thurston,Richard Tavare,Jason T. Giurleo. Владелец: Regeneron Pharmaceuticals, Inc.. Дата публикации: 2020-08-11.

Secure application computing environment in a federated edge cloud

Номер патента: US20230362016A1. Автор: Dario Sabella,Neal Oliver,Yevgeniy Yarmosh,Anurag Ranjan. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-11-09.

Operation method and apparatus related to rrc connection and timer of a remote ue in a wireless communication system

Номер патента: US20230072842A1. Автор: Seungmin Lee,Giwon Park,Jongwoo Hong,Seoyoung Back. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2023-03-09.

Method and arrangement for cell outage compensation in a communication network system

Номер патента: EP2641418A1. Автор: Pal Frenger,Fredrik Gunnarsson,Johan Moe,Mikael Coldrey,Mehdi AMIRIJOO. Владелец: Telefonaktiebolaget LM Ericsson AB. Дата публикации: 2013-09-25.

Additive composition suitable for use in a structural adhesive

Номер патента: CA2993488C. Автор: Nicolas VALLOIR,Olivier FRADIN,Christian BRET,Emilie VAIQUE,Mathieu ROUX,Raber Inoubli. Владелец: Arkema France SA. Дата публикации: 2020-04-28.

Method and apparatus for echo control in a communication system

Номер патента: CA2266277C. Автор: David Dal Farra. Владелец: Nortel Networks Ltd. Дата публикации: 2008-11-18.

Systems and methods for therapeutic gas delivery for personal medical consumption having safety features

Номер патента: WO2020191045A3. Автор: Raymond Wu,Philip Hsueh. Владелец: Philip Hsueh. Дата публикации: 2020-10-29.

An arrangement for controlling the edge of pulp mass in a web former and a method for controlling the edge of pulp mass

Номер патента: EP1402110A1. Автор: Harri Tahti,Lassi Minkkinen. Владелец: Metso Paper Oy. Дата публикации: 2004-03-31.

Apparatus for the automated removal of workpieces arranged in a container

Номер патента: US09855659B2. Автор: Alois Mundt,Thomas Mattern,David Haenschke,Berhard Riedmiller. Владелец: Liebherr Verzahntechnik GmbH. Дата публикации: 2018-01-02.

Method and device for gas filling and sealing of a duct intended to be filled with gas and positioned in a container of a collapsible type, and container blank comprising such a duct

Номер патента: EP1667917B1. Автор: Stefan Forss. Владелец: Eco Lean Research and Development AS. Дата публикации: 2007-06-20.

Apparatus and method for storage of object collections in a database system

Номер патента: US6061690A. Автор: Anil Nori,Srinath Krishnaswamy,Viswanathan Krishnaomurthy,Vikas Arora. Владелец: Oracle Corp. Дата публикации: 2000-05-09.

Real-time apparatus and method for minimizing disk fragmentation in a computer system

Номер патента: US5930828A. Автор: Craig Charles Jensen,Andrew C. Staffer. Владелец: Executive Software International. Дата публикации: 1999-07-27.

Information processing apparatus capable of switching patterns to be compared with data received by network interface control method for information processing apparatus, and computer-readable storage medium

Номер патента: US09430016B2. Автор: Junnosuke Yokoyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Information processing apparatus, control method for information processing apparatus, and storage medium

Номер патента: US12019924B2. Автор: Shodai Yano. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Model generation apparatus, information processing apparatus, model generation method, and computer program product

Номер патента: US20190294989A1. Автор: Tatsunori Kanai,Yusuke Shirota,Mayuko Koezuka. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Apparatus for catalytic decomposition of nitrous oxide in a gas stream

Номер патента: US20210146075A1. Автор: István Szabó,Tomas Nyberg,Jerker Sundling. Владелец: Medclair AB. Дата публикации: 2021-05-20.

Apparatus, transport system and method for transport of an object in a wind turbine

Номер патента: EP3896281A1. Автор: Peder Flodgaard Madsen. Владелец: Siemens Gamesa Renewable Energy AS. Дата публикации: 2021-10-20.

Apparatus, transport system and method for transport of an object in a wind turbine

Номер патента: EP4121655A1. Автор: designation of the inventor has not yet been filed The. Владелец: Siemens Gamesa Renewable Energy AS. Дата публикации: 2023-01-25.

An integrated charge connector holder in a saddled electric vehicle

Номер патента: EP4182209A1. Автор: Sridhar Balaguru,Vishwanath Patil LOHIT,Ramakrishna Naraharisetti. Владелец: TVS Motor Co Ltd. Дата публикации: 2023-05-24.

Method and device for providing a storage capacity reserve in a traction battery for imminent downhill drive

Номер патента: US20240025265A1. Автор: Philipp Wagner,Christian Haupt,Julius Engasser. Владелец: MAN Truck and Bus SE. Дата публикации: 2024-01-25.

Power-savng control device, information processing apparatus, power-saving control method, and computer readable medium

Номер патента: US20160274644A1. Автор: Yuichi Kawata,Kei Hatano,Tadamasa SAKAMAKI,Takanori FUKUOKA,Hisaji Hiramatsu. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-09-22.

Apparatus, transport system and method for transport of an object in a wind turbine

Номер патента: WO2021209271A1. Автор: Peder Flodgaard Madsen. Владелец: Siemens Gamesa Renewable Energy A/S. Дата публикации: 2021-10-21.

Apparatus for catalytic decomposition of nitrous oxid in a gas stream

Номер патента: SE1750475A1. Автор: Szabó István,Sundling Jerker,Nyberg Tomas. Владелец: Medclair AB. Дата публикации: 2018-10-22.

An assembly for direct injection of gaseous fuel in a cylinder of a two-stroke internal combustion piston engine and a two-stroke internal com-bustion piston engine

Номер патента: EP4285013A1. Автор: Sangram Kishore Nanda,Alejandro CALVO OLIVEIRA. Владелец: Waertsilae Services Switzerland Ltd. Дата публикации: 2023-12-06.

Apparatus for catalytic decomposition of nitrous oxid in a gas stream

Номер патента: EP3612289A1. Автор: István Szabó,Tomas Nyberg,Jerker Sundling. Владелец: Medclair AB. Дата публикации: 2020-02-26.

Atmospheric Pressure Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120291706A1. Автор: Hiroyuki Kobayashi,Kiyoshi Yasutake,Hiroaki Kakiuchi. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2012-11-22.

Rf choke and interface structures for employment with an rf oven

Номер патента: US20180153002A1. Автор: Michele Gentile,Marco Carcano,Michele Sclocchi. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2018-05-31.

Rf choke and interface structures for employment with an rf oven

Номер патента: EP3549400A1. Автор: Michele Gentile,Marco Carcano,Michele Sclocchi. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2019-10-09.

Rf choke and interface structures for employment with an rf oven

Номер патента: WO2018102081A1. Автор: Michele Gentile,Marco Carcano,Michele Sclocchi. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC.. Дата публикации: 2018-06-07.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: CA3212927A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: WO2022212192A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc.. Дата публикации: 2022-10-06.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: AU2022252181A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Obtaining ozone in a plasma plant with direct cooling

Номер патента: RU2696471C1. Автор: Райнер ФИТЦЕК,Ральф ФИКЕНС,Манфред САЛЬВЕРМОЗЕР,Николь БРЮГГЕМАНН. Владелец: Ксилем Ай Пи Менеджмент С.А Р.Л.. Дата публикации: 2019-08-01.

Electrodes for gas- and liquid-cooled plasma torches

Номер патента: US11865650B2. Автор: Frank LAURISCH,Ralf-Peter REINKE,Volker KRINK. Владелец: Kjellberg Stiftung. Дата публикации: 2024-01-09.

Apparatus for plasma-processing flexible printed circuit boards

Номер патента: US20080308042A1. Автор: Chih-Yi Tu,Ze Long,Szu-Min Huang. Владелец: Foxconn Advanced Technology Inc. Дата публикации: 2008-12-18.

RF choke with windings located at two different core diameters

Номер патента: US6094110A. Автор: Prabhakara Reddy. Владелец: National Electronic Devices Ltd. Дата публикации: 2000-07-25.

Improved process and apparatus for reducing electrode wear in a plasma arc torch

Номер патента: WO1991016165A1. Автор: Lifeng Luo,Nicholas A. Sanders,Richard W. Couch, Jr.. Владелец: Hypertherm, Inc.. Дата публикации: 1991-10-31.

Thermal torch lead gas delivery methods and related systems and devices

Номер патента: US09427820B2. Автор: Jonathan Mather,Liming Chen,Ross Angus Smith. Владелец: Hypertherm Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Plasma generating device, plasma processing device, and plasma etching device for seamless roller mold

Номер патента: US20240260165A1. Автор: Kohei Murakami,Tsuneharu TANAKA,Akira NAGAYASU. Владелец: Shinko Seiki Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma filter facility, electrode facility and method for operating a plasma filter facility

Номер патента: US20240173667A1. Автор: Lambert Feher,Martin Seifert,Volker MODEL,Philipp Hoecht,Florian Meise. Владелец: Siemens Healthcare GmbH. Дата публикации: 2024-05-30.

Device and method for generating a barrier discharge in a gas flow

Номер патента: US20130177473A1. Автор: Andreas Albrecht,Eckart Theophile. Владелец: Reinhausen Plasma GmbH. Дата публикации: 2013-07-11.

Microwave plasma processing of spheroidized copper or other metallic powders

Номер патента: EP4313447A1. Автор: Sunil Bhalchandra Badwe. Владелец: 6K Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Information processing apparatus, inspection apparatus, and control method

Номер патента: US20240231713A1. Автор: Yukio Kanakubo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Information processing apparatus, inspection apparatus, and control method

Номер патента: EP4400961A1. Автор: Yukio Kanakubo. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-17.

Method and apparatus for driving address electrodes in plasma display panel

Номер патента: US20080100538A1. Автор: Jae-Il Byeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2008-05-01.

Image processing apparatus

Номер патента: WO2008123733A1. Автор: Nam Jung Her. Владелец: Samjung. Co., Ltd.. Дата публикации: 2008-10-16.

Configuring and processing management information base (MIB) in a distributed environment

Номер патента: US09697017B2. Автор: Kentaro Yamada. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-04.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US12086994B2. Автор: HIRONORI Hattori,Yuya Yamashita,Suguru YOKOYAMA. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Multipath filter assembly with integrated gaseous seal for multimodal surgical gas delivery system

Номер патента: EP3316805A1. Автор: Ralph Stearns,Kenneth Blier,Earl M. Zergiebel,Dominick Mastri,Michael J. Augelli. Владелец: Surgiquest Inc. Дата публикации: 2018-05-09.

Image processing apparatus for region segmentation of an obtained image

Номер патента: US8792716B2. Автор: Ikuya Saito,Shinichi Nakajima. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2014-07-29.

Information processing apparatus, control method, and storage medium

Номер патента: US20240256257A1. Автор: Ryuhei Wakita,Gou Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Information processing apparatus, control method, and program

Номер патента: EP4407444A1. Автор: Ryuhei Wakita,Gou Sasaki. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-07-31.

Information processing apparatus and activation method therefor for processing data of a hibernation image

Номер патента: US09904559B2. Автор: Kensuke Kato. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-02-27.

Information processing apparatus, information processing system, and control method therefor

Номер патента: US09606880B2. Автор: Yuji Aoki,Maya Watanabe. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Information processing apparatus, control method for information processing apparatus, and program

Номер патента: US20240220959A1. Автор: Kouta TSUCHIHASHI. Владелец: Fast Retailing Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Non-transitory storage medium encoded with computer readable information processing program, information processing system, information processing apparatus, and method of controlling information processing apparatus that allow processing of operations of character object high in zest

Номер патента: US20230128475A1. Автор: Tatsuo Nomura,Shigeru Miyamoto,Chihiro Kanno. Владелец: Nintendo Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Biological information processing apparatus, biological information processing method and biological information processing program

Номер патента: US20070124081A1. Автор: Tamotsu Noguchi,Shuichi Hirose. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-31.

Recommendation method and information processing apparatus

Номер патента: US20230131330A1. Автор: Ken Kobayashi,Takuya Takagi,Kentaro Kanamori. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2023-04-27.

Method and system for determining an angular position of a component of a goods processing apparatus

Номер патента: US11754391B2. Автор: Wolfgang Muhl,Axel Ortmann,Tilmann Schilling,Wolf-Alexander Krumholz,Matthias Lorenzen,Karsten Von Der Waydbrink. Владелец: Francotyp Postalia GmbH. Дата публикации: 2023-09-12.

Information processing apparatus, management system and management method

Номер патента: US20220382558A1. Автор: Tetsuya Nakamura,Ken Sasaki,Tatsumi Nagasawa,Yusaku Morishige,Zuying Wo. Владелец: Lenovo Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2022-12-01.

Printing apparatus, server apparatus and information processing apparatus

Номер патента: US20010019421A1. Автор: Makoto Kizawa. Владелец: Matsushita Graphic Communication Systems Inc. Дата публикации: 2001-09-06.

Information processing apparatus and data processing method for inserting image information into a document by converting a size of the image information into a size suitable for an output paper size of the document

Номер патента: US09864554B2. Автор: Kazufumi Kobashi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Information processing apparatus and method, recording medium, and program

Номер патента: US09785780B2. Автор: Satoshi Yoshida,Isao Itoh. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2017-10-10.

Signal processing apparatus, signal processing method, and signal processing program

Номер патента: US09715885B2. Автор: Akihiko Sugiyama,Ryoji Miyahara. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2017-07-25.

Signal processing apparatus for wheel speed sensor

Номер патента: US09580053B2. Автор: Chang Woo Lee. Владелец: Mando Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Investigation program, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: US09507657B2. Автор: Yasuo Ueda,Hideyuki Niwa,Ken Ichikawa,Hiroyuki Kamezawa,Hidetoshi Seto,Yuichi Nagahama,Taku Izumi,Yasuaki Ishimatsu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2016-11-29.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20240046609A1. Автор: Sei Sato,Ryusuke Miyamoto. Владелец: NS Solutions Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Apparatus for sealing a hole in a lining or wall

Номер патента: US20230286231A1. Автор: Guy VAN DER WALT. Владелец: Individual. Дата публикации: 2023-09-14.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20200217774A1. Автор: Kenji Yamane,Shigeatsu Yoshioka,Rei Murata. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2020-07-09.

Apparatus for inserting and positioning a pipeline lining in a pipe and method for inserting and positioning a pipeline lining in a pipe

Номер патента: CA3208126A1. Автор: Daniel Boller. Владелец: Bodus GmbH. Дата публикации: 2022-08-18.

An adaptive method for processing an event sequence in a complex event processing system and a system thereof

Номер патента: WO2013167344A1. Автор: Mandar Mutalikdesai,Sanket PATIL. Владелец: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT. Дата публикации: 2013-11-14.

Signal processing apparatus, signal processing method, and signal processing program

Номер патента: US09858946B2. Автор: Akihiko Sugiyama,Ryoji Miyahara,Kwangsoo Park. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Information processing apparatus and image forming apparatus

Номер патента: US20200081368A1. Автор: Junichi Goda. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2020-03-12.

Information processing apparatus and information processing method

Номер патента: US20240029089A1. Автор: Tetsuya Ishida. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Information processing apparatus, information processing method, and non-tranistory storage medium

Номер патента: US20220128369A1. Автор: Yusuke Sato,Hiromitsu Fujii,Shin Sakurada,Satoshi Komamine,Yu Nagata. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2022-04-28.

Systems And Methods For Gas Detection Within Vehicles

Номер патента: US20220126457A1. Автор: Bo Wu,Perry Robinson MacNeille. Владелец: FORD GLOBAL TECHNOLOGIES LLC. Дата публикации: 2022-04-28.

Electronic device for analyzing an analyte present in a fluid and consumable and interchangeable sensor, method of manufacturing said device and said consumable and interchangeable sensor

Номер патента: US20230243754A1. Автор: Thierry CHAVIGNER. Владелец: Aryballe SA. Дата публикации: 2023-08-03.

Assisted Injection Device for Selectively Injecting a Composition Contained in a Medical Container

Номер патента: US20200188593A1. Автор: Franck Carrel,Frederic Perot,Julien Gagliano. Владелец: Becton Dickinson France SA. Дата публикации: 2020-06-18.

Multibit screening of print documents in a PDL environment

Номер патента: US20020126314A1. Автор: Ramesh Nagarajan,Francis Tse,Michael Davidson,Harry Parker. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2002-09-12.

Information processing apparatus, information processing method, non-transitory storage medium and vehicle system

Номер патента: US20220180412A1. Автор: Toyokazu Nakashima,Toshiomi YAMADA. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2022-06-09.

Information processing apparatus, information processing method, non-transitory storage medium and vehicle system

Номер патента: US11720938B2. Автор: Toyokazu Nakashima,Toshiomi YAMADA. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2023-08-08.

Information processing apparatus, control method, and non-transitory storage medium

Номер патента: US20220018823A1. Автор: Hiromi Shimizu,Riki ETO. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2022-01-20.

Non-transitory computer-readable recording medium, machine training method, and information processing apparatus

Номер патента: US20230162054A1. Автор: Seiji Okajima. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2023-05-25.

System for testing electrical products in a closed circuit

Номер патента: CA3217126A1. Автор: Joaquim Lopez Mestre,Marta BERGÉ GARCIA. Владелец: Cinergia Power Solutions SL. Дата публикации: 2024-04-17.

System for testing electrical products in a closed circuit

Номер патента: CA3215924A1. Автор: Joaquim Lopez Mestre,Marta BERGÉ GARCIA. Владелец: Cinergia Power Solutions SL. Дата публикации: 2024-04-17.

Computer-Implemented Method And An Electronic Control Unit For A Deterministic Data Communication In A Partitioned Embedded System

Номер патента: US20240256334A1. Автор: Denis Claraz,Ralph Mader,Rudolf Sieber,Martin Alfranseder,Kevin Marteil. Владелец: Vitesco Technologies GmbH. Дата публикации: 2024-08-01.

A computer-implemented method and an electronic control unit for a deterministic data communication in a partitioned embedded system

Номер патента: WO2023061639A9. Автор: Denis Claraz,Ralph Mader,Rudolf Sieber,Martin Alfranseder,Kevin Marteil. Владелец: Vitesco Technologies GmbH. Дата публикации: 2024-05-16.

A computer-implemented method and an electronic control unit for a deterministic data communication in a partitioned embedded system

Номер патента: WO2023061639A1. Автор: Denis Claraz,Ralph Mader,Rudolf Sieber,Martin Alfranseder,Kevin Marteil. Владелец: Vitesco Technologies GmbH. Дата публикации: 2023-04-20.

Apparatus for mounting a data/video projector in a portable enclosure

Номер патента: US20060256304A1. Автор: Michael Rodems. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-11-16.

Method for designing a template that removably fits to an object's surface

Номер патента: WO2003034288A3. Автор: Steven Lobregt,Edward Vuurberg,Jozef J Schillings. Владелец: Jozef J Schillings. Дата публикации: 2003-09-25.

An arrangement for locking two members in a selected mutual position of rotation

Номер патента: WO1993013320A1. Автор: Ove Hammarstrand. Владелец: Logos Export Ab. Дата публикации: 1993-07-08.

Apparatuses, systems, and methods for transporting medications from a central pharmacy to a patient in a healthcare facility

Номер патента: US09511945B2. Автор: James KOLOZS,Shawn T. Greyshock. Владелец: Aesynt Inc. Дата публикации: 2016-12-06.

Tow processing apparatus

Номер патента: US3881230A. Автор: Harold Edward Arnold,Joseph Boatner Herbert. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1975-05-06.

Image forming system, information processing apparatus, document processing method and printer driver

Номер патента: EP2244179A2. Автор: Takehisa Yamaguchi,Minako Kobayashi,Katsuhiko Akita,Kazuya Anezaki. Владелец: KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC. Дата публикации: 2010-10-27.

Fins, tubes, and structures for fin array for use in a centrifugal fan

Номер патента: US09863434B2. Автор: Steven C. Elsner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-01-09.

Information processing apparatus using swap file, control method therefor, and storage medium

Номер патента: US11797292B2. Автор: Yoko Tokumoto. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-24.

An air treatment system for providing treated air in a defined space, a method for controlling an air treatment system and a computer program for an air treatment system

Номер патента: WO2024074478A1. Автор: Robert Arnell,Lena ALLZÉN,Max PANTZAR,Anders GRANSTRAND. Владелец: Munters Europe Aktiebolag. Дата публикации: 2024-04-11.

Investigation program, information processing apparatus, and information processing method

Номер патента: US20150160994A1. Автор: Yasuo Ueda,Hideyuki Niwa,Ken Ichikawa,Hiroyuki Kamezawa,Hidetoshi Seto,Yuichi Nagahama,Taku Izumi,Yasuaki Ishimatsu. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2015-06-11.

Method for conveying sheet in post-processing apparatus

Номер патента: US20230331509A1. Автор: Takuro Mita,Taro Ishifune. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-10-19.

Information processing apparatus and information processing system

Номер патента: US20090019266A1. Автор: Seiji Maeda. Владелец: Toshiba Corp. Дата публикации: 2009-01-15.

Output system for unifying a documentary form relating to an event

Номер патента: US8164781B2. Автор: Tetsuo Fukumoto. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 2012-04-24.

Information processing apparatus, management system and management method

Номер патента: EP4095684A1. Автор: Tetsuya Nakamura,Ken Sasaki,Tatsumi Nagasawa,Yusaku Morishige,Zuying Wo. Владелец: Lenovo Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2022-11-30.

Piston for use in a syringe with specific dimensional ratio of a sealing structure

Номер патента: CA2914532C. Автор: Mikkel Hetting. Владелец: Injecto Group AS. Дата публикации: 2020-12-29.

Sealing device for covering an aperture in a wing part

Номер патента: EP4292924A1. Автор: Bernhard Schlipf,Dennis KREY,Altra GEMILANG. Владелец: AIRBUS OPERATIONS GMBH. Дата публикации: 2023-12-20.

System and method for matching revenue streams in a cloud service broker platform

Номер патента: EP3782021A1. Автор: Vladimir Zatsepin,Maxim Kuzkin,Vladimir Grebenschikov,Oleg Melnikov,Pavel KHODOS,Andrey Bolotov,Sergey Ulitsky,Gleb Averchyk,Fedor Kolesnikov,Evgeniy LIKHTANSKLY. Владелец: Ingram Micro Inc. Дата публикации: 2021-02-24.

Assembly for buffering a liquefied petroleum gas in a liquefied petroleum gas storage and storage bag therefore

Номер патента: EP2885569A1. Автор: Servatius Alfons Maria Jaasma. Владелец: Vialle Alternative Fuel Systems Bv. Дата публикации: 2015-06-24.

Assembly for buffering a liquefied petroleum gas in a liquefied petroleum gas storage and storage bag therefore

Номер патента: WO2014027102A1. Автор: Servatius Alfons Maria Jaasma. Владелец: VIALLE ALTERNATIVE FUEL SYSTEMS B.V.. Дата публикации: 2014-02-20.

α-ACID AND/OR ß-ACID BASED COMPOSITIONS FROM HUMULUS FOR USE IN A HUMAN AND/OR VETERINARY APPLICATION

Номер патента: WO2023209173A1. Автор: Jean-Paul Remon,Brenda Vermeulen. Владелец: Orotech Nv. Дата публикации: 2023-11-02.

Information processing apparatus, method of controlling same, storage medium, and image forming apparatus

Номер патента: US11822928B2. Автор: Yoshiharu Ito. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2023-11-21.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20230343052A1. Автор: Tsuyoshi Ishikawa,Jun Kimura,Shinichi Kawano,Ikuo Yamano. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2023-10-26.

Arrangement for controlling volume in a gas or oil well system

Номер патента: AU2020405920A1. Автор: Gustav Olov SKÄRGÅRD,Per Christian STENSHORNE. Владелец: ENHANCED DRILLING AS. Дата публикации: 2022-06-09.

Information processing apparatus, control method for controlling the same and storage medium

Номер патента: US11971991B2. Автор: Naoki Tsuchitoi. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2024-04-30.

Application state synchronization across computing environments to an alternate application

Номер патента: US20240028335A1. Автор: Sandeep Patnaik,Randall Richards Cook,Elina LUTHRA,Philip J. GERITY. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Unauthorized usage prevention system and information processing apparatus

Номер патента: EP1901195A3. Автор: Masato Amano. Владелец: Ricoh Co Ltd. Дата публикации: 2013-05-08.

Information processing apparatus, information processing method, and program

Номер патента: US20200020245A1. Автор: Atsushi Yoshida,Riho Matsuo,Shunsuke Tanimori,Hirofumi Kamimaru,Fumiki OHTANI,Shodai KATO. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2020-01-16.

System and method for matching revenue streams in a cloud service broker platform

Номер патента: WO2019204307A1. Автор: Vladimir Zatsepin,Maxim Kuzkin,Vladimir Grebenschikov,Oleg Melnikov,Pavel KHODOS,Andrey Bolotov,Sergey Ulitsky,Gleb Averchyk,Fedor Kolesnikov,Evgeniy LIKHTANSKLY. Владелец: Ingram Micro Inc.. Дата публикации: 2019-10-24.

An adjustable protective cap arrangement for a ball joint in a vehicle

Номер патента: EP4296526A1. Автор: Jithendra GOWDA,Girish ALAJE. Владелец: Volvo Truck Corp. Дата публикации: 2023-12-27.

Application state synchronization across computing environments to an alternate application

Номер патента: WO2024019835A1. Автор: Sandeep Patnaik,Randall Richards Cook,Elina LUTHRA,Philip J. GERITY. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2024-01-25.

Information processing apparatus, information processing system, computer readable recording medium and information processing method

Номер патента: US11970080B2. Автор: Yasuhiro Iwaki,Syouji INOSE,Kazuhiro Kodaira. Владелец: Honda Motor Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-30.

Information processing apparatus, information processing method and non-transitory storage medium

Номер патента: US20220027818A1. Автор: XIN Jin. Владелец: Toyota Motor Corp. Дата публикации: 2022-01-27.

A method and an assembly for measuring particle size of particles suspended in a fluid

Номер патента: WO2024091159A1. Автор: Edouard Jean Jacques BERROCAL,Elias Viktor Kristensson. Владелец: Spec-Imaging AB. Дата публикации: 2024-05-02.

Specifying method, determination method, non-transitory computer readable recording medium, and information processing apparatus

Номер патента: US20210110558A1. Автор: Masahiro Kataoka,Natsuki Harai,Yumeto Mori. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

System and method for matching revenue streams in a cloud service broker platform

Номер патента: AU2023201449B2. Автор: Vladimir Zatsepin,Maxim Kuzkin,Vladimir Grebenschikov,Oleg Melnikov,Pavel KHODOS,Andrey Bolotov,Sergey Ulitsky,Gleb Averchyk,Fedor Kolesnikov,Evgeniy LIKHTANSKLY. Владелец: Cloudblue LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

System and method for matching revenue streams in a cloud service broker platform

Номер патента: CA3097365A1. Автор: Vladimir Zatsepin,Maxim Kuzkin,Vladimir Grebenschikov,Oleg Melnikov,Pavel KHODOS,Andrey Bolotov,Sergey Ulitsky,Gleb Averchyk,Fedor Kolesnikov,Evgeniy LIKHTANSKLY. Владелец: Ingram Micro Inc. Дата публикации: 2019-10-24.

System and method for matching revenue streams in a cloud service broker platform

Номер патента: AU2019255621A1. Автор: Vladimir Zatsepin,Maxim Kuzkin,Vladimir Grebenschikov,Oleg Melnikov,Pavel KHODOS,Andrey Bolotov,Sergey Ulitsky,Gleb Averchyk,Fedor Kolesnikov,Evgeniy LIKHTANSKLY. Владелец: Cloudblue LLC. Дата публикации: 2020-11-05.

Apparatus for inserting and positioning a pipeline lining in a pipe and method for inserting and positioning a pipeline lining in a pipe

Номер патента: AU2022220727A1. Автор: Daniel Boller. Владелец: Bodus GmbH. Дата публикации: 2023-07-27.

Arrangement for controlling volume in a gas or oil well system

Номер патента: GB2605065A. Автор: Christian Stenshorne Per,Olov Skärgård Gustav. Владелец: ENHANCED DRILLING AS. Дата публикации: 2022-09-21.

Arrangement for controlling volume in a gas or oil well system

Номер патента: WO2021125974A1. Автор: Gustav Olov SKÄRGÅRD,Per Christian STENSHORNE. Владелец: ENHANCED DRILLING AS. Дата публикации: 2021-06-24.

Information processing apparatus, information processing method, information processing program, and information processing system

Номер патента: US20240169657A1. Автор: Koji Nishida,Noriaki Takahashi,Takaaki Suzuki,Yuto KOBAYASHI,Daisuke Irie. Владелец: Sony Group Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Information processing apparatus, information processing method, and storage medium

Номер патента: US20210248099A1. Автор: Keiji Hasegawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2021-08-12.

Video processing apparatus

Номер патента: US20210259518A1. Автор: Brian Nielsen,Kasper Rieland Jakobsen,Line Sandahl Ubbesen,Henrik Frengler,Nai-Hua Chen. Владелец: Ambu AS. Дата публикации: 2021-08-26.

A method and an assembly for measuring particle size of particles suspended in a fluid

Номер патента: SE2251236A1. Автор: Edouard Jean Jacques BERROCAL,Elias Viktor Kristensson. Владелец: Spec Imaging Ab. Дата публикации: 2024-04-25.

System for testing electrical products in a closed circuit

Номер патента: EP4357797A1. Автор: Joaquim Lopez Mestre,Marta BERGÉ GARCIA. Владелец: Cinergia Power Solutions SL. Дата публикации: 2024-04-24.

Irradiation apparatus for inactivating pathogens and/or leukocytes in a biological fluid and process

Номер патента: WO2009000445A1. Автор: Thierry Verpoort,Francis Goudaliez,Frank Tolksdorf,Arnaud Chavatte,Maurice Behague,Wolfram Hubert Walker. Владелец: MACO PHARMA S.A.. Дата публикации: 2008-12-31.

Electrochemical measuring cell for determining ammonia or hydrazine in a measuring sample

Номер патента: US5198092A. Автор: Uwe Kühn,Herbert Kiesele,Stephan Haupt. Владелец: Draegerwerk AG and Co KGaA. Дата публикации: 1993-03-30.

Input device for controlling an avatar in a computer-generated environment, and a method for controlling same

Номер патента: US20180088662A1. Автор: Julia Reineke,Tobias Reineke. Владелец: PATHBENDER GMBH. Дата публикации: 2018-03-29.

Apparatus for holding electronic devices or other items in a vehicle

Номер патента: US20180154841A1. Автор: Ilgar Roust. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-06-07.

Automated parking assist system for parking a vehicle in a parking spot

Номер патента: US11772635B2. Автор: Martin BONANDER. Владелец: Volvo Car Corp. Дата публикации: 2023-10-03.

X-ray radiation detector for use in a CT system

Номер патента: US8445854B2. Автор: Christian Schröter,Matthias Strassburg,Peter Hackenschmied. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2013-05-21.

X-ray radiation detector for use in a CT system

Номер патента: US20100127182A1. Автор: Christian Schröter,Matthias Strassburg,Peter Hackenschmied. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-27.

Apparatus for holding electronic devices or other items in a vehicle

Номер патента: WO2018100548A1. Автор: Ilgar Roust. Владелец: Roust Ilgar. Дата публикации: 2018-06-07.

Arrangement for closing and opening a roll nip in a shoe calender

Номер патента: WO2003040472A1. Автор: Kari Hasanen. Владелец: METSO PAPER, INC.. Дата публикации: 2003-05-15.

IMAGE FORMING SYSTEM THAT ADJUSTS A DISCHARGE INTERVAL FROM AN IMAGE FORMING SECTION ACCORDING TO AN ACCUMULATED NUMBER OF ROTATIONS OF A DRIVEN MEMBER IN A POST PROCESSING SECTION

Номер патента: US20180067442A1. Автор: Taki Hiroyuki. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

Image forming system that adjusts a discharge interval from an image forming section according to an accumulated number of rotations of a driven member in a post processing section

Номер патента: US9927754B1. Автор: Hiroyuki Taki. Владелец: Toshiba TEC Corp. Дата публикации: 2018-03-27.

Improved apparatus for measuring the quality of a fluid in a vessel

Номер патента: CA2230867C. Автор: Richard Mulder,Cornelis Wijnand Petrus Schoenmakers,Marian Jozef Walter Slezak. Владелец: Meridian Instruments BV. Дата публикации: 2004-10-26.

Method of transporting a sulfur-hydrocarbon slurry in a pipeline

Номер патента: US3967860A. Автор: Richard L. Every,Anthony G. Fonseca. Владелец: Continental Oil Co. Дата публикации: 1976-07-06.

Passing initiative in a multitasking multiprocessor environment

Номер патента: US20090217284A1. Автор: Leonard W. Helmer, Jr.,John S. Houston,Ambrose A. Verdibello, Jr.. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-08-27.

Roll bar system, for a convertible automobile, has swing units and a lateral yoke to move from a rest position in parallel to an extended setting at right angles to each other, in a compact structure

Номер патента: DE10143934C1. Автор: Robert Werner. Владелец: Audi AG. Дата публикации: 2002-06-27.

Apparatus for measuring the quality of a fluid in a vessel

Номер патента: US5992231A. Автор: Richard Mulder,Comelis W. P. Schoenmakers,Marian J. W. Slezak. Владелец: Meridian Instruments BV. Дата публикации: 1999-11-30.

Fins, tubes, and structures for fin array for use in a centrifugal fan

Номер патента: US20180094640A1. Автор: Steven C. Elsner. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-04-05.

Method and assembly for preparing food products in a treatment unit

Номер патента: NL2032945B1. Автор: Quirinus Fredrik Verouden Franciscus,Stephanus Margaretha Joseph Van Der Borg Lodewijk. Владелец: Kaak Groep B V. Дата публикации: 2024-03-21.

Apparatus for providing indication of the level of air pressure in a tire

Номер патента: WO2007017877A2. Автор: Yehuda Nowogrodski. Владелец: Yehuda Nowogrodski. Дата публикации: 2007-02-15.

Injection device for injecting a composition contained in a medical container

Номер патента: AU2019214394B2. Автор: Franck Carrel. Владелец: Becton Dickinson France SA. Дата публикации: 2024-06-06.

Apparatus for detecting chemicals in a sample

Номер патента: WO2023180532A1. Автор: Edoardo Charbon,Claudio BRUSCHINI,Hilton BARBOSA DE AGUIAR,Samuel BURRI. Владелец: Ecole Normale Superieure de Paris. Дата публикации: 2023-09-28.

Apparatus for providing indication of the level of air pressure in a tire

Номер патента: WO2007017877A3. Автор: Yehuda Nowogrodski. Владелец: Yehuda Nowogrodski. Дата публикации: 2007-11-15.

Magnetic resonance apparatus and method for determining a pulse sequence to feed an rf radiating coil

Номер патента: US20090322329A1. Автор: Markus Vester,Wolfgang Renz,Sebastian Wolf,Dirk Diehl,Juergen Nistler,Rene Gumbrecht. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-12-31.

Handling of hard errors in a cache of a data processing apparatus

Номер патента: US20090164727A1. Автор: Andrew Christopher Rose,Antony John Penton,Alex James Waugh,Paul Stanley Hughes. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2009-06-25.

A roller for use in a photographic sheet material wet processing apparatus

Номер патента: EP0921437A1. Автор: Bart c/o Agfa-Gevaert N.V. IIE 3800 Verhoest,Frans c/o Agfa-Gevaert N.V. IIE 3800 Joos. Владелец: Agfa Gevaert NV. Дата публикации: 1999-06-09.

Handling of hard errors in a cache of a data processing apparatus

Номер патента: US7987407B2. Автор: Luc Orion,Damien Rene Gille. Владелец: ARM LTD. Дата публикации: 2011-07-26.

Coin blockage avoidance method for a coin operated machine, especially a coin-operated gambling machine, in which a control unit is connected to an optical barrier sensor unit for regulating the flow in a coin output channel

Номер патента: DE102004003441A1. Автор: . Владелец: ASP Gauselmann GmbH. Дата публикации: 2005-08-11.

Cutting device for the strand material transferred from a full to an empty drum, e.g. B. wire or cable, in a device for continuous winding

Номер патента: DE1172509B. Автор: Gilbert Elory,Henry Eickhoff. Владелец: Crompton and Knowles Corp. Дата публикации: 1964-06-18.

Device assigned to an internal combustion engine for recovering fuel vapors stored in a fuel vapor filter

Номер патента: DE3935612C2. Автор: Hans-Udo Fischer,Juergen Picker. Владелец: VOLKSWAGEN AG. Дата публикации: 2000-06-15.

Apparatus and method of RF built in self-test (RFBIST) in a radar system

Номер патента: US11921195B2. Автор: Abraham Bauer,Noam ARKIND. Владелец: ARBE Robotics Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: EP1282908A2. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Essox Research and Development Inc. Дата публикации: 2003-02-12.

Plasma processing method and apparatus

Номер патента: CA2409747A1. Автор: Michael Lee Fraim,Rick B. Spielman,Robert R. Schiewe. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-11-15.

Method for reducing the amount of perfluorocompound gas contained in exhaust emissions from plasma processing

Номер патента: EP1124622A1. Автор: Calvin Todd Gabriel. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2001-08-22.

Device and method for gas treatment using low-temperature plasma and catalyst medium

Номер патента: RU2602152C2. Автор: Макото ИКЕГАМИ,Таканори МАЦУМОТО,Цуруо НАКАЯМА,Йоухей ДЗИКИХАРА. Владелец: ЭнБиСи МЕШТЕК, ИНК.. Дата публикации: 2016-11-10.

Device and method for gas treatment using non-thermal plasma and catalyst medium

Номер патента: US09962651B2. Автор: Makoto Ikegami,Takanori Matsumoto,Tsuruo Nakayama,Youhei Jikihara. Владелец: NBC Meshtec Inc. Дата публикации: 2018-05-08.

Plasma ignition and combustion assist system for gas turbine engines

Номер патента: US12037948B2. Автор: Mark Harris,Patrick Bailey,David Monk,Felipe Gomez del Campo,Drew Weibel,Ilya GULKO,Munetake Nishihara,Ford McClure. Владелец: Acutronic Turbines Inc. Дата публикации: 2024-07-16.

Plasma processing system and method

Номер патента: WO2004048942A1. Автор: Andrej S. Mitrovic. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2004-06-10.

Methods and internet of things (IoT) systems for gas loss control based on smart gas platform

Номер патента: US12072066B2. Автор: YONG Li,Zehua Shao,Junyan ZHOU. Владелец: Chengdu Qinchuan IoT Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Cable harness with multiple rf chokes and magnetic resonance system

Номер патента: US20240302464A1. Автор: Christian Findeklee,Christoph Günther Leussler. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-09-12.

Spatially resolved optical emission spectroscopy (OES) in plasma processing

Номер патента: US09970818B2. Автор: Zheng Yan,Yan Chen,Hanyou Chu,Junwei Bao,Holger Tuitje,Ching-Ling Meng,Mihail Mihaylov,Haixing Zou. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-05-15.

Cable harness with multiple rf chokes and magnetic resonance system

Номер патента: EP4302107A1. Автор: Christian Findeklee,Christoph Günther Leussler. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2024-01-10.

Additive gas delivery apparatus

Номер патента: EP3157600A1. Автор: Leif Lindkvist. Владелец: Maquet Critical Care AB. Дата публикации: 2017-04-26.

Plasma display apparatus including an address electrode being electrically floated in a sustain period

Номер патента: US8253658B2. Автор: Yunkwon Jung,Sangyoon Soh,Mukhee Kim. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2012-08-28.

Respiratory interface device for gas delivery to the user

Номер патента: RU2648025C2. Автор: Кристоф ДОБРЮССКИН,Сандер Теодор ПАСТОР,Мл. Джером МАТУЛА,Питер Чи Фай ХО. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2018-03-21.

Rotor blade for gas-turbine engine (variants)

Номер патента: RU2626871C2. Автор: Оливье Жак ЛАМИК,Фернандо Мануэль Ибарра ЭСПАРРАГОСА,Пол Фрэнсис НОРТОН,Джеремайя Уисли КИ. Владелец: Соулар Тёрбинз Инкорпорейтед. Дата публикации: 2017-08-02.

Method and Structure for Ameliorating Side-Effects of Performing in Situ Fenestration Using a Plasma RF Catheter

Номер патента: US20090234348A1. Автор: Trevor Greenan,Walter Bruszewski. Владелец: Medtronic Vascular Inc. Дата публикации: 2009-09-17.

Plasma Ignition and Combustion Assist System for Gas Turbine Engines

Номер патента: US20230392553A1. Автор: Mark Harris,Patrick Bailey,David Monk,Felipe Gomez del Campo,Drew Weibel,Ilya GULKO,Munetake Nishihara,Ford McClure. Владелец: Acutronic Turbines Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

CONSUMABLE ISOLATION RING FOR MOVABLE SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY OF A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000605A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: Lam Research Corporation.. Дата публикации: 2012-01-05.

MOVABLE GROUND RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120003836A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120000608A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Kellogg Michael C.,Marakhtanov Alexei. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE STAGE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

Номер патента: US20120000612A1. Автор: Muraki Yusuke,ODAGIRI Masaya,FUJIHARA Jin. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, STAGE-UNDULATION CORRECTING METHOD, PROGRAM THEREFOR

Номер патента: US20120002032A1. Автор: Sakagami Junichi,Narusawa Ryu,Hirono Yu. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

System For Monitoring Foreign Particles, Process Processing Apparatus And Method Of Electronic Commerce

Номер патента: US20120002196A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD ADOPTED IN SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120004753A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND DEVICE FOR ACTIVELY SUPPRESSING PRESSURE OSCILLATIONS IN A HYDRAULIC SYSTEM

Номер патента: US20120000543A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHOD AND APPARATUS FOR TRANSMITTING A REFERENCE SIGNAL IN A WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002740A1. Автор: Chung Jae Hoon,Kwon Yeong Hyeon,Han Seung Hee. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SHOWERHEAD ELECTRODE ASSEMBLY IN A CAPACITIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20140087488A1. Автор: Dhindsa Rajinder,Nam Sang Ki,Bise Ryan. Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2014-03-27.

CALL DELIVERY TO AN IMS NETWORK FOR A MOBILE DIRECTORY NUMBER HOMED IN A 2G WIRELESS NETWORK

Номер патента: US20120243471A1. Автор: Bienn Marvin,Brombal David,Boulos Pierre. Владелец: . Дата публикации: 2012-09-27.

METHODS AND APPARATUSES FOR CONTROLLING GAS FLOW CONDUCTANCE IN A CAPACITIVELY-COUPLED PLASMA PROCESSING CHAMBER

Номер патента: US20120028379A1. Автор: . Владелец: LAM RESEARCH CORPORATION. Дата публикации: 2012-02-02.

Heating state detection device of a heat storage body in a heat storage type gas processing apparatus

Номер патента: JP6541906B1. Автор: 俊明 行岡,拓馬 松本. Владелец: Chugai Ro Co Ltd. Дата публикации: 2019-07-10.

MASS FLOW CONTROL SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND FLOW CONTROL METHOD

Номер патента: US20120000607A1. Автор: ETO Hideo,Ito Atsushi. Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

Microwave Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000610A1. Автор: . Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Plasma Processing Apparatus

Номер патента: US20120000774A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120000886A1. Автор: NISHINO Masaru,HONDA Masanobu,Kubota Kazuhiro,Ooya Yoshinobu. Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE

Номер патента: US20120002345A1. Автор: . Владелец: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS AND APPARATUS FOR RADIO FREQUENCY (RF) PLASMA PROCESSING

Номер патента: US20120000888A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

POWER SUPPLYING MEANS HAVING SHIELDING MEANS FOR FEEDING LINE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING THE SAME

Номер патента: US20120000609A1. Автор: DO Jae-Chul,JEON Bu-Il,SONG Myung-Gon,LEE Jung-Rak. Владелец: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120000629A1. Автор: . Владелец: TOKYO ELECTRON LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

OPTOELECTRONIC APPARATUS FOR GAS ANALYSIS AND METHOD

Номер патента: US20120002205A1. Автор: KAUFMANN Jürgen,NUBER Frank,OVERDICK Michael,SCHIFFLER Rolf. Владелец: SICK MAIHAK GMBH. Дата публикации: 2012-01-05.

Device for natural gas delivery

Номер патента: RU2505742C1. Автор: Александр Нефедович Гульков,Виктор Дорофеевич Лапшин,Юрий Дмитриевич Земенков. Владелец: Виктор Дорофеевич Лапшин. Дата публикации: 2014-01-27.

Method of fabrication of apparatus for air cooling of gas, method of fabrication of apparatus heat exchanger section (versions), method of fabrication of apparatus chamber for gas inlet or outlet, method of hydraulic pressure testing of apparatus heat exchanger section and method of hydraulic pressure testing of apparatus manifold for gas supply and removal

Номер патента: RU2364811C2. Автор: Николай Павлович Селиванов. Владелец: Николай Павлович Селиванов. Дата публикации: 2009-08-20.

FILLET WELD JOINT AND METHOD FOR GAS SHIELDED ARC WELDING

Номер патента: US20120003035A1. Автор: Suzuki Reiichi,Kinefuchi Masao,KASAI RYU. Владелец: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.). Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING METHOD, AND PROGRAM

Номер патента: US20120001733A1. Автор: Kousaka Satoshi,Abeno Takashi. Владелец: SONY CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING SYSTEM, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001937A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120001944A1. Автор: SAKURAI Masahiro,Machino Taichi,Ikeda Teppei. Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING PROGRAM, AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002010A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND METHOD

Номер патента: US20120002071A1. Автор: Nishiyama Tomohiro. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, SIGNAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM

Номер патента: US20120002074A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, RADIATION IMAGING SYSTEM, IMAGE PROCESSING METHOD, AND STORAGE MEDIUM STORING A PROGRAM

Номер патента: US20120002083A1. Автор: Machida Yoshihito. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002085A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, DISPLAY CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002232A1. Автор: Inui Masanobu. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM STORING IMAGE TRANSMISSION PROGRAM, AND COMPUTER-READABLE NON TRANSITORY STORAGE MEDIUM STORING IMAGE DISPLAY PROGRAM

Номер патента: US20120002715A1. Автор: Matsui Kazuki,HORIO Kenichi,IMAI Tomoharu. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF PROCESSING IMAGE, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120002879A1. Автор: . Владелец: OLYMPUS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND STORAGE MEDIUM

Номер патента: US20120002900A1. Автор: . Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM HAVING INFORMATION PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN, INFORMATION PROCESSING APPARATUS, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, AND INFORMATION PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120004017A1. Автор: . Владелец: NINTENDO CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

GRAPHICS PROCESSING UNIT AND INFORMATION PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120001930A1. Автор: Hachiya Koji,Iwaki Tsutomu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

MAP INFORMATION PROCESSING APPARATUS, MAP INFORMATION PROCESSING METHOD, MAP INFORMATION PROCESSING PROGRAM AND RECORDING MEDIUM

Номер патента: US20120001936A1. Автор: Kurata Tetsuya,Fukuhara Wazo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO SIGNAL PROCESSING APPARATUS AND VIDEO SIGNAL PROCESSING METHOD

Номер патента: US20120002009A1. Автор: . Владелец: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA. Дата публикации: 2012-01-05.

VIDEO PROCESSING APPARATUS AND CONTROL METHOD THEREOF

Номер патента: US20120002013A1. Автор: Asanuma Tomoya. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

CAMERA AND IMAGE PROCESSING APPARATUS

Номер патента: US20120002076A1. Автор: . Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS AND IMAGE FILE MANAGEMENT METHOD

Номер патента: US20120002077A1. Автор: Inagaki Kensuke. Владелец: CANON KABUSHIKI KAISHA. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS HAVING A BUFFER MEMORY FOR IMAGE DATA STORAGE

Номер патента: US20120002080A1. Автор: SASAKI Gen. Владелец: MEGA CHIPS CORPORATION. Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, IMAGE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER-READABLE ENCODING MEDIUM ENCODED WITH A COMPUTER PROGRAM

Номер патента: US20120002225A1. Автор: KIMURA Takashi,Hirano Masanori,Yoshida Masakazu,MURAI Hironobu. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Image processing apparatus, computer program product, and preview image displaying method

Номер патента: US20120002231A1. Автор: MANO Hiroko,SAKAYORI Tetsuya,YANO Takashi,TAKAMI Junichi,SAEKI Iwao,SAKURAMATA Yoshifumi,NAGAHARA Takanori,SHIDA Haruo. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

NONVOLATILE MEMORY, DATA PROCESSING APPARATUS, AND MICROCOMPUTER APPLICATION SYSTEM

Номер патента: US20120002498A1. Автор: MATSUBARA Ken,Setogawa Jun,IWASE Takashi,Matsushita Toru,Mitani Hidenori,Yamada Fumiko. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

IMAGE PROCESSING APPARATUS, METHOD, AND PROGRAM THAT CLASSIFIES DATA OF IMAGES

Номер патента: US20120002878A1. Автор: . Владелец: CASIO COMPUTER CO., LTD.. Дата публикации: 2012-01-05.

Improved Regulating Device for Gas-heated Ironing Machines, Hand-irons and other Laundry, and Cleaners' and Dyers' Apparatus.

Номер патента: GB190601387A. Автор: Edward Samuel Cook,William Howard Chipperfield. Владелец: Individual. Дата публикации: 1906-07-05.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.