Reflection/refraction optical system and projection exposure apparatus comprising the optical system, exposure method and manufacturing method of micro-device
Номер патента: TW503466B
Опубликовано: 21-09-2002
Автор(ы): Naomasa Shiraishi, Soichi Owa, Yasuhiro Omura
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 21-09-2002
Автор(ы): Naomasa Shiraishi, Soichi Owa, Yasuhiro Omura
Принадлежит: Nikon Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
Номер патента: US20080049336A1. Автор: Hironori Ikezawa,Yasuhiro Omura,David Williamson. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2008-02-28.