고전압 전원 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 식각 장비
Номер патента: KR20230036847A
Опубликовано: 15-03-2023
Автор(ы): 김성열, 김지환, 김현배, 심승보, 조홍승
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-03-2023
Автор(ы): 김성열, 김지환, 김현배, 심승보, 조홍승
Принадлежит: 삼성전자주식회사
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Apparatus and method for plasma etching
Номер патента: US20240258084A1. Автор: Jongwoo SUN,Jewoo HAN,Haejoong Park,Kyohyeok KIM,Taehwa Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-08-01.