Two-fluid cleaning jet nozzle, cleaning equipment and method of fabricating semiconductor device employing the same
Номер патента: US6708903B2
Опубликовано: 23-03-2004
Автор(ы): Itaru Kanno
Принадлежит: Renesas Technology Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 23-03-2004
Автор(ы): Itaru Kanno
Принадлежит: Renesas Technology Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of fabrication of a semiconductor device including one or more nanostructures
Номер патента: US20200212179A1. Автор: Kangguo Cheng,Shay REBOH,Remi Coquand,Nicolas Loubet. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2020-07-02.