IN-LINE METROLOGY SYSTEM.

IN-LINE METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20120021539A1
Опубликовано: 26-01-2012
Автор(ы): Arnold Allenic, Chong Lim, II Stephan Paul George, Oleh Karpenko, Sreenivas Jayaraman
Принадлежит: Individual
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

In-line metrology system and method

Номер патента: CN103119704A. Автор: 阿诺德·阿莱林克,史蒂芬保罗·Ii·乔治,斯瑞瓦斯·贾亚拉曼,欧蕾·卡尔盆库,林忠维. Владелец: First Solar Inc. Дата публикации: 2013-05-22.

Methods and systems for systematic error compensation across a fleet of metrology systems based on a trained error evaluation model

Номер патента: WO2024035619A1. Автор: Xi Chen,TIANHAO Zhang,Qiang Zhao,Ce Xu,Shankar Krishnan,Dawei Hu,Yao-Chung Tsao,Mark Allen Neil,Ming Di,Carlos L. Ygartua,Yih-Chung Chang,Bowei Huang,Igor Baskin,Malik Karman Sadiq,Jenching Tsai. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-02-15.

Methods And Systems For Systematic Error Compensation Across A Fleet Of Metrology Systems Based On A Trained Error Evaluation Model

Номер патента: US20240053280A1. Автор: Xi Chen,TIANHAO Zhang,Qiang Zhao,Ce Xu,Shankar Krishnan,Dawei Hu,Yao-Chung Tsao,Mark Allen Neil,Ming Di,Carlos L. Ygartua,Yih-Chung Chang,Bowei Huang,Igor Baskin,Malik Karman Sadiq,Jenching Tsai. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-02-15.

Calibration Of A Small Angle X-Ray Scatterometry Based Metrology System

Номер патента: US20180113084A1. Автор: John Hench,Nikolay ARTEMIEV,Antonio GELLINEAU,Joseph A. Di Regolo. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-04-26.

Integrated metrology system

Номер патента: WO2021152465A3. Автор: Alex Shichtman,Beni SHULMAN,Igor Shvartsman. Владелец: NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.. Дата публикации: 2021-09-30.

Integrated metrology system

Номер патента: US20230061147A1. Автор: Alex Shichtman,Beni SHULMAN,Igor Shvartsman. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Integrated metrology system

Номер патента: WO2021152465A2. Автор: Alex Shichtman,Beni SHULMAN,Igor Shvartsman. Владелец: NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.. Дата публикации: 2021-08-05.

In-line metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: US20220122241A1. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Combined semiconductor metrology system

Номер патента: US09553034B1. Автор: Guoheng Zhao,Scott A. Young,Neeraj Khanna,NanChang Zhu. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Metrology Systems And Methods For Process Control

Номер патента: US20180108578A1. Автор: Shchegrov Andrei V.,Sanko Dzmitry,Pandev Stilian Ivanov. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

Metrology system optimization for parameter tracking

Номер патента: KR102013483B1. Автор: 스틸리안 판데프,그레고리 브래디,앤드레이 벨드맨,안드레이 브이 쉬쉐그로프,새디어스 제라드 지우라,알랙산더 쿠즈네초프. Владелец: 케이엘에이 코포레이션. Дата публикации: 2019-08-22.

Metrology systems and methods for high aspect ratio and large lateral dimension structures

Номер патента: KR101982379B1. Автор: 새디어스 제라드 지우라,알랙산더 쿠즈네초프,쉐펑 리우,데이빗 와이 왕,존 마센,비어 요한네스 디 드,샨카르 크리쉬난,데릭 쇼네시,안드레이 스체그로프. Владелец: 케이엘에이-텐코 코포레이션. Дата публикации: 2019-05-27.

Metrology systems and methods for high aspect ratio and large lateral dimension structures

Номер патента: CN104781650A. Автор: 刘学峰,戴维·Y·王,德里克·萨乌夫尼斯,安德烈·谢卡格罗瓦,撒迪厄斯·吉拉德·奇乌拉,乔·马德森,亚历山大·库兹涅佐夫,乔汉斯·D·迪·维尔,桑卡·克里许南. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-07-15.

In-line metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: WO2022081369A1. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-21.

In-line metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: EP4229387A1. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-23.

In-line metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: EP4229388A1. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-23.

Method and system of multiple band UV light illumination of wafers for optical microscopy wafer inspection and metrology system

Номер патента: TW594001B. Автор: Anatoly Shchemelinin. Владелец: Tokyo Seimitsu Israel Ltd. Дата публикации: 2004-06-21.

METROLOGY SYSTEMS FOR SUBSTRATE STRESS AND DEFORMATION MEASUREMENT

Номер патента: US20190057910A1. Автор: BANNA SAMER,Egan Todd,TANTIWONG KYLE,VAEZ-IRAVANI Mehdi. Владелец: . Дата публикации: 2019-02-21.

Metrology systems with multiple derivative modules for substrate stress and deformation measurement

Номер патента: US10510624B2. Автор: Todd Egan,Mehdi Vaez-Iravani,Samer Banna,Kyle TANTIWONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-12-17.

Semiconductor metrology system and method

Номер патента: US20240193473A1. Автор: Yun-Chung Teng,Jan-Hau Chang,Hsien-Hung Chang,Ming-Hsiung Fu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Calibration of a small angle x-ray scatterometry based metrology system

Номер патента: IL302957B2. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-07-01.

Multiple angles of incidence semiconductor metrology systems and methods

Номер патента: EP3624174B1. Автор: Lawrence D. Rotter,David Y. Wang,Gregory Brady,Klaus Flock,Muzammil Arain,Andrei Shchegrov,Johannes D. De Veer,Shankar Krishnan,Catalin Filip. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2024-08-21.

Metrology system and measurement method using the same

Номер патента: US09746310B2. Автор: Yu-Wei Chou,Yi-Hung Lin,Ying-Chieh Hung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-29.

All surface film metrology system

Номер патента: WO2017172627A9. Автор: Lena Nicolaides,Shifang Li,Paul Horn,Richard Graetz. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-11-22.

All surface film metrology system

Номер патента: WO2017172627A1. Автор: Lena Nicolaides,Shifang Li,Paul Horn,Richard Graetz. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2017-10-05.

Spot-size control in reflection-based and scatterometry-based X-ray metrology systems

Номер патента: US11781999B2. Автор: Alexander Krokhmal. Владелец: Bruker Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

METROLOGY SYSTEM AND MEASUREMENT METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170221739A1. Автор: Lin Yi-Hung,Yu Ming-Hua,HUNG Ying-Chieh,CHANG Jet-Rung. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-03.

LOW DOSE CHARGED PARTICLE METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20200333714A1. Автор: WANG FEI,Fang Wei,Liu Kuo-Shih. Владелец: . Дата публикации: 2020-10-22.

Multiple angles of incidence semiconductor metrology systems and methods

Номер патента: EP3624174A3. Автор: Lawrence D. Rotter,David Y. Wang,Gregory Brady,Klaus Flock,Muzammil Arain,Andrei Shchegrov,Johannes D. De Veer,Shankar Krishnan,Catalin Filip. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-06-03.

Spot-size control in reflection-based and scatterometry-based X-ray metrology systems

Номер патента: US20230075421A1. Автор: Alexander Krokhmal. Владелец: Bruker Technologies Ltd. Дата публикации: 2023-03-09.

Multiple angles of incidence semiconductor metrology systems and methods

Номер патента: EP3047520A4. Автор: Lawrence D. Rotter,David Y. Wang,Gregory Brady,Klaus Flock,Muzammil Arain,Andrei Shchegrov,Johannes D. De Veer,Shankar Krishnan,Catalin Filip. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-07-12.

Integrated thin film metrology system used in a solar cell production line

Номер патента: WO2011017509A4. Автор: Edward W. Budiarto,James Matthew Holden,Karen Lingel. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-08-11.

Multi-incident angle semiconductor metrology systems and methods

Номер патента: JP2022079538A. Автор: Krishnan Shankar,Shchegrov Andrei,Flock Klaus,Brady Gregory,Arain Muzammil,Filip Catalin,アンドレイシェグロフ,ローレンスディーロッター,D Rotter Lawrence,デイヴィッドワイワン,Y Wang David,クラウスフロック,シャンカークリシュナン,ヨハネスディーデフェール,D De Veer Johannes,キャタリンフィリップ,グレゴリーブラディ,ムザミルアライン. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

All surface film metrology system

Номер патента: IL261451A. Автор: . Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-12-31.

Calibration of a small angle x-ray scatterometry based metrology system

Номер патента: IL302957B1. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-01.

Metrology system and measurement method using the same

Номер патента: US20170221739A1. Автор: Yi-Hung Lin,Ming-Hua Yu,Jet-Rung Chang,Ying-Chieh Hung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-08-03.

Calibration of a small angle x-ray scatterometry based metrology system

Номер патента: IL302957A. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-07-01.

Calibration of a small angle x-ray scatterometry based metrology system

Номер патента: IL265798A. Автор: . Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-06-30.

Calibration of a small angle x-ray scatterometry based metrology system

Номер патента: IL265798B. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-02-01.

Calibration of a small angle x-ray scatterometry based metrology system

Номер патента: IL285130B1. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-05-01.

In-line metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: EP4229387A4. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-16.

Calibration of semiconductor metrology systems

Номер патента: US20160101445A1. Автор: Jian Ding,James Kane,Fei Shen,Steven Peterson,Priya Mukundhan. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2016-04-14.

Calibration of semiconductor metrology systems

Номер патента: US10173249B2. Автор: Jian Ding,James Kane,Fei Shen,Steven Peterson,Priya Mukundhan. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2019-01-08.

An overlay metrology system and method

Номер патента: IL277821B2. Автор: . Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2023-07-01.

Metrology system for substrate deformation measurement

Номер патента: US20190074201A1. Автор: Todd Egan,Mehdi Vaez-Iravani,Samer Banna,Kyle TANTIWONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-07.

SPECTROMETER, METROLOGY SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR INSPECTION METHOD

Номер патента: US20220404197A1. Автор: KIM Jinyong,YASUHIRO Hidaka. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2022-12-22.

An overlay metrology system and method

Номер патента: TW202004934A. Автор: 江佩琳,勇和艾力克斯莊,寅瑩肖,約翰費爾登,劉學峰. Владелец: 美商克萊譚克公司. Дата публикации: 2020-01-16.

An overlay metrology system and method

Номер патента: WO2019199340A1. Автор: Xuefeng Liu,Yung-Ho Alex Chuang,Peilin Jiang,John Fielden,Yinying XIAOLI. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-10-17.

Lighting configuration for metrology system with images acquired at different focus positions

Номер патента: US20230421909A1. Автор: Christopher Richard Hamner. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2023-12-28.

Metrology apparatus for a semiconductor pattern, metrology system including the same and metrology method using the same

Номер патента: US09863752B2. Автор: Seong Min MA,Yoon Shik KANG,Joon Seong HAHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-01-09.

Transmission small-angle x-ray scattering metrology system

Номер патента: EP3593124A1. Автор: Andrei Shchegrov,Sergey Zalubovsky,Antonio GELLINEAU. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-01-15.

Transmission Small-Angle X-Ray Scattering Metrology System

Номер патента: US20210088325A1. Автор: Andrei V. Shchegrov,Antonio Arion Gellineau,Sergey Zalubovsky. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-03-25.

Transmission small-angle x-ray scattering metrology system

Номер патента: WO2018191714A1. Автор: Andrei Shchegrov,Sergey Zalubovsky,Antonio GELLINEAU. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-10-18.

Transmission Small-Angle X-Ray Scattering Metrology System

Номер патента: US20180299259A1. Автор: Andrei V. Shchegrov,Antonio Arion Gellineau,Sergey Zalubovsky. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-10-18.

Transmission Small-Angle X-Ray Scattering Metrology System

Номер патента: US20210088325A1. Автор: Shchegrov Andrei V.,Zalubovsky Sergey,Gellineau Antonio Arion. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-25.

Loosely-Coupled Inspection and Metrology System for High-Volume Production Process Monitoring

Номер патента: US20200184372A1. Автор: Andrei V. Shchegrov,Lie-Quan Lee,Song Wu,Yin Xu,Jonathan Madsen,Pablo Rovira. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2020-06-11.

Transmission Small-Angle X-Ray Scattering Metrology System

Loosely coupled inspection and metrology systems for monitoring high-volume production processes

Номер патента: KR102471847B1. Автор: 송 우,인 수,안드레이 쉬셰그로프,리에-쿠안 리치 리,파블로 로비라,존 매슨. Владелец: 케이엘에이 코포레이션. Дата публикации: 2022-11-28.

Transmission small-angle x-ray scattering metrology system

Номер патента: EP3593124A4. Автор: Andrei Shchegrov,Sergey Zalubovsky,Antonio GELLINEAU. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-07-07.

Transmission small-angle x-ray scattering metrology system

Номер патента: EP3593124B1. Автор: Andrei Shchegrov,Sergey Zalubovsky,Antonio GELLINEAU. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2024-01-10.

Metrology apparatus for a semiconductor pattern, metrology system including the same and metrology method using the same

Номер патента: US20170038194A1. Автор: Seong Min MA,Yoon Shik KANG,Joon Seong HAHN. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-02-09.

High-resolution in-line metrology for roll-to-roll processing operations

Номер патента: US09746316B1. Автор: Erik Novak,Brad Kimbrough. Владелец: 4D Technology Corp. Дата публикации: 2017-08-29.

Laser beam metrology system, laser beam system, euv radiation source, and lithographic apparatus

Номер патента: EP4330626A1. Автор: Willem Paul Beeker,Krishna Prashanth Anandan,Vasishta Parthasarathy Ganguly. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-03-06.

Laser beam metrology system, laser beam system, euv radiation source, and lithographic apparatus

Номер патента: US20240210840A1. Автор: Willem Paul Beeker,Krishna Prashanth Anandan,Vasishta Parthasarathy Ganguly. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-27.

Lithographic apparatus, metrology systems, phased array illumination sources and methods thereof

Номер патента: US11994808B2. Автор: Yuxiang LIN,Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux,Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Elazhary. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-05-28.

Lithographic apparatus, metrology systems, phased array illumination sources and methods thereof

Номер патента: TW202121063A. Автор: 莫海美德斯威拉姆,泰姆莫海美德托菲克歐美德莫海美德伊拉斯海瑞,史蒂芬露克司,林宇翔,賈斯汀洛依德克魯瑟. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍｌ控股公司. Дата публикации: 2021-06-01.

Lithographic apparatus, metrology systems, phased array illumination sources and methods thereof

Номер патента: TWI775704B. Автор: 莫海美德斯威拉姆,泰姆莫海美德托菲克歐美德莫海美德伊拉斯海瑞,史蒂芬露克司,林宇翔,賈斯汀洛依德克魯瑟. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍｌ控股公司. Дата публикации: 2022-08-21.

Metrology Systems and Phased Array Light Sources

Номер патента: KR20220047387A. Автор: 유시앙 린,저스틴 로이드 크루저,타머 모하메드 타우픽 아메드 모하메드 엘라자리,모하메드 스빌람,스티븐 루스. Владелец: 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.. Дата публикации: 2022-04-15.

Lithographic apparatus, metrology systems, phased array illumination sources and methods thereof

Номер патента: TW202217477A. Автор: 莫海美德斯威拉姆,泰姆莫海美德托菲克歐美德莫海美德伊拉斯海瑞,史蒂芬露克司,林宇翔,賈斯汀洛依德克魯瑟. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍｌ控股公司. Дата публикации: 2022-05-01.

Metrology system optimization for parameter tracking

Номер патента: US9255877B2. Автор: Andrei V. Shchegrov,Andrei Veldman,Gregory Brady,Stilian Ivanov Pandev,Alexander Kuznetsov,Thaddeus Gerard Dziura. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-02-09.

Optical metrology systems and methods

Номер патента: US20090174883A1. Автор: Emad Zawaideh,Javier Ruiz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-07-09.

See-through metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: WO2022081365A1. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-04-21.

See-through metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: US11748875B2. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

See-through metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: EP4229385A1. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-23.

See-through metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: US11978196B2. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-07.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-01-13.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: IL276810A. Автор: . Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-10-29.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: SG11202008092QA. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-09-29.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: EP3762779A4. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-12-01.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: WO2019173252A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

X-ray metrology system with broadband laser produced plasma illuminator

Номер патента: EP3738181B1. Автор: Alexander Bykanov,Oleg KHODYKIN. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2024-10-16.

Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier

Номер патента: US09768577B2. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,J. Joseph Armstrong,Yujun Deng,Justin Dianhuan Liou. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-09-19.

Metrology system and method for metrology system

Номер патента: TW202314238A. Автор: 亞歷山大庫茲尼斯夫,亞歷山德爾畢卡諾維,安德烈維德曼,尼可雷亞提湄夫,里勾洛約瑟夫Ａ迪,安東尼歐吉里紐,約翰漢琪. Владелец: 美商克萊譚克公司. Дата публикации: 2023-04-01.

All surface film metrology system

Номер патента: US20170278236A1. Автор: Lena Nicolaides,Shifang Li,Paul Horn,Richard Graetz. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-09-28.

Lithographic Apparatus, Metrology Systems, Phased Array Illumination Sources and Methods thereof

Номер патента: US20210095957A1. Автор: Swillam Mohamed,Lin Yuxiang,ROUX Stephen,ELAZHARY Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed,KREUZER Justin Lloyd. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-04-01.

All surface film metrology system

Metrology systems and phased array illumination sources

Номер патента: WO2021058571A1. Автор: Yuxiang LIN,Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed ELAZHARY,Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-04-01.

X-ray metrology system with broadband laser produced plasma illuminator

Номер патента: US10959318B2. Автор: Alexander Bykanov,Oleg KHODYKIN. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2021-03-23.

Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier

Номер патента: KR102411016B1. Автор: 영호 알렉스 추앙,저스틴 디안후안 리우,제이 조셉 암스트롱,유준 뎅. Владелец: 케이엘에이 코포레이션. Дата публикации: 2022-06-22.

Apparatus for designing an optical metrology system optimized for operating time budget

Номер патента: US20090240537A1. Автор: Edric Tong,Manuel Madriaga,Ching-Ling Meng,Xinkang Tian,Mihail Mihalov. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-09-24.

Semiconductor detection and metrology system using a laser pulse multiplier

Номер патента: TWI656705B. Автор: 艾力克斯莊勇和,劉典瓛,喬瑟夫阿姆斯壯Ｊ,鄧宇俊. Владелец: 美商克萊譚克公司. Дата публикации: 2019-04-11.

X-ray metrology system with broadband laser produced plasma illuminator

Номер патента: TWI791735B. Автор: 歐雷格可哈達金,亞歷山德爾畢卡諾維. Владелец: 美商克萊譚克公司. Дата публикации: 2023-02-11.

X-ray metrology system with broadband laser generated plasma illuminator

Номер патента: CN111566880A. Автор: A·毕卡诺维,O·可哈达金. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2020-08-21.

Semiconductor metrology method and semiconductor metrology system

Номер патента: CN114997408A. Автор: 埃坦·罗特施泰因,伊尔雅·拉比诺维奇,诺姆·塔尔,巴瑞克·布兰欧利兹,金涌河,艾瑞儿·布罗伊特曼,奥代德·科亨,伊伦·拉比诺维奇,塔尔·扎哈罗尼,珊·尤戈夫,丹尼尔·堪德尔. Владелец: Novell Ltd. Дата публикации: 2022-09-02.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: US20190279841A1. Автор: HONG Xiao. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-09-12.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: IL276810B1. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-04-01.

Scan strategies to minimize charging effects and radiation damage of charged particle beam metrology system

Номер патента: IL276810B2. Автор: . Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-08-01.

Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier

Номер патента: US09793673B2. Автор: David L. Brown,Yung-ho Chuang,J. Joseph Armstrong,Vladimir Dribinski,Justin Dianhuan Liou. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-10-17.

Semiconductor Inspection And Metrology System Using Laser Pulse Multiplier

Номер патента: US20180233872A1. Автор: Armstrong J. Joseph,Brown David L.,Dribinski Vladimir,Chuang Yung-Ho,Liou Justin Dianhuan. Владелец: . Дата публикации: 2018-08-16.

Semiconductor Inspection And Metrology System Using Laser Pulse Multiplier

Номер патента: US20160285223A1. Автор: Armstrong J. Joseph,Brown David L.,Dribinski Vladimir,Chuang Yung-Ho,Liou Justin Dianhuan. Владелец: . Дата публикации: 2016-09-29.

Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier

Номер патента: US9972959B2. Автор: David L. Brown,Yung-ho Chuang,J. Joseph Armstrong,Vladimir Dribinski,Justin Dianhuan Liou. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-05-15.

Semiconductor inspection and metrology system using laser pulse multiplier

Номер патента: WO2012173943A3. Автор: David L. Brown,Yung-ho Chuang,Vladimir Dribinski,Justin Dianhuan Liou,Joseph J. Armstrong. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-07-11.

Metrology system and method for measuring an excitation laser beam in an EUV plasma source

Номер патента: US11920977B2. Автор: Matthias Manger,Florian Baumer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-05.

Optical unit for a projective optical metrological system for determining quantities relative to the asset and/or position and communicating data

Номер патента: US11906308B2. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Scuola Superiore di Studi Universitari e di Perfezionamento SantAnna. Дата публикации: 2024-02-20.

Optical Unit for a Projective Optical Metrological System for Determining Quantities Relative to the Asset and/or Position and Communicating Data

Номер патента: US20230288206A1. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Scuola Superiore di Studi Universitari e di Perfezionamento SantAnna. Дата публикации: 2023-09-14.

CALIBRATION OF SEMICONDUCTOR METROLOGY SYSTEMS

Номер патента: US20160101445A1. Автор: Peterson Steven,Shen Fei,Kane James,DING Jian,Mukundhan Priya. Владелец: Rudolph Technologies, Inc.. Дата публикации: 2016-04-14.

SCAN STRATEGIES TO MINIMIZE CHARGING EFFECTS AND RADIATION DAMAGE OF CHARGED PARTICLE BEAM METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20190279841A1. Автор: Xiao Hong. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-12.

Interchangeable-object holding apparatus for an euv metrology system, method for calibrating such an interchangeable-object holding apparatus and euv metrology system having such an interchangeable-object holding apparatus

Номер патента: US20240198533A1. Автор: Thomas Gebhard,Manuel Best,Johann Irnstetter,Marcel Vogt,Andreas Daubenschüz. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-20.

Automatic Recipe Optimization for Overlay Metrology System

Номер патента: US20210025695A1. Автор: Weihua Li,Shiming Wei. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-01-28.

Wafer thickness, topography, and layer thickness metrology system

Номер патента: US11885609B2. Автор: Wojciech Jan Walecki. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-01-30.

Automatic recipe optimization for overlay metrology system

Номер патента: WO2021016144A1. Автор: Weihua Li,Shi-Ming Wei. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-01-28.

Laser confocal sensor metrology system

Номер патента: RU2604564C2. Автор: Кристофер УАЙЛДСМИТ,Питер В. САЙТС,Майкл Ф. УИДМЭН,Джон Б. ЭННС,Марк П. ПАУЭЛЛ. Владелец: Джонсон Энд Джонсон Вижн Кэа, Инк.. Дата публикации: 2016-12-10.

Measuring strain of epitaxial films using micro x-ray diffraction for in-line metrology

Номер патента: US20100208869A1. Автор: Thomas N. Adam,Anita Madan,Eric C. Harley,Teresa L. Pinto. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2010-08-19.

Metrology system for imaging workpiece surfaces at high robot transfer speeds

Номер патента: WO2011115696A3. Автор: Abraham Ravid,Todd Egan,Mitchell Disanto,Edward Budiarto,Karen Lingel,Hari Kishore Ambal. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-12-22.

Optical metrology system for spectral imaging of a sample

Номер патента: EP3074755A1. Автор: Andrzej Buczkowski. Владелец: Nanometrics Inc. Дата публикации: 2016-10-05.

Optical metrology system for spectral imaging of a sample

Номер патента: US09846122B2. Автор: Andrzej Buczkowski,Mikhail Sluch. Владелец: Nanometrics Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Optical metrology system for spectral imaging of a sample

Номер патента: US20160290927A1. Автор: Andrzej Buczkowski,Mikhail Sluch. Владелец: Nanometrics Inc. Дата публикации: 2016-10-06.

Optical metrology system for spectral imaging of a sample

Номер патента: TW201627652A. Автор: 安德茲巴克考斯基. Владелец: 耐諾股份有限公司. Дата публикации: 2016-08-01.

Metrology system calibration refinement

Номер патента: US09857291B2. Автор: Leonid Poslavsky,Lanhua Wei,Hidong Kwak,Mikhail M. Sushchik,Shankar Krishnan,John Lesoine,Malik Sadiq. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Optical metrology system and method employing laser-server supplying laser energy to distributed slave metrology heads

Номер патента: US20020030825A1. Автор: R. Wolf. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2002-03-14.

Method for programming a three-dimensional workpiece scan path for a metrology system

Номер патента: US09740190B2. Автор: Robert Kamil Bryll. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2017-08-22.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: US12007700B2. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Patrick Warnaar,Armand Eugene Albert Koolen,Willem Marie Julia Marcel Coene,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Nitesh PANDEY,Vasco Tomas TENNER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-11.

Metrology system and method for monitoring and correcting system generated errors

Номер патента: US20100302555A1. Автор: Hans-Artur Boesser,Slawomir Czerkas. Владелец: KLA Tencor MIE GmbH. Дата публикации: 2010-12-02.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: US20240319620A1. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Patrick Warnaar,Armand Eugene Albert Koolen,Willem Marie Julia Marcel Coene,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Nitesh PANDEY,Vasco Tomas TENNER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-26.

Metrology system for measuring edge of circular workpiece

Номер патента: US20240219316A1. Автор: Christopher Richard Hamner,Vahan Senekerimyan. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Reflective compact lens for magneto-optic kerr effect metrology system

Номер патента: WO2022094159A1. Автор: Yang Zhou,RUI Ni,Jun Wang,Walter Johnson,David Y. Wang,Jianou Shi,Yaolei Zheng,Shankar Krishnan,Lansheng DONG,Haijing PENG,Chun-xia LI,Changfei YAN,Hai-yang YOU. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2022-05-05.

Method for calibrating a specimen stage of a metrology system and metrology system comprising a specimen stage

Номер патента: US20100241384A1. Автор: Uwe Schellhorn,Matthias Manger,Alexander Huebel,Gerd Klose,Michael Arnz. Владелец: Carl Zeiss SMS GmbH. Дата публикации: 2010-09-23.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: WO2019068459A1. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Patrick Warnaar,Armand Eugene Albert Koolen,Willem Marie Julia Marcel Coene,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Nitesh PANDEY,Vasco Tomas TENNER. Владелец: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten. Дата публикации: 2019-04-11.

Metrology system for examining objects with EUV measurement light

Номер патента: US11796926B2. Автор: Renzo Capelli,Klaus Gwosch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-10-24.

Metrology system for examining objects with euv measurement light

Номер патента: US20230168593A1. Автор: Renzo Capelli,Klaus Gwosch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-06-01.

Lithographic apparatus, metrology systems, adaptable phase array illumination and collector devices, and method thereof

Номер патента: WO2024132407A1. Автор: Irwan Dani Setija,Duygu Akbulut,Jorn Paul VAN ENGELEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-27.

IN-LINE METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20140065731A1. Автор: George,Allenic Arnold,Karpenko Oleh Petro,Jayaraman Sreenivas,Lim Chong,II Stephan Paul. Владелец: FIRST SOLAR, INC. Дата публикации: 2014-03-06.

In-line metrology for supercritical fluid processing

Номер патента: US20070012337A1. Автор: Joseph Hillman,Maximilian Biberger. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2007-01-18.

Sensor with electrically controllable aperture for inspection and metrology systems

Номер патента: US09860466B2. Автор: David L. Brown,Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden,Jingjing Zhang,Keith Lyon,Mark Shi Wang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Sensor with electrically controllable aperture for inspection and metrology systems

Номер патента: IL255230A0. Автор: . Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-12-31.

An optical metrology system and methods for the measurement of optical surfaces

Номер патента: EP4425095A1. Автор: Louis Martin,David Mackey,Niamh FITZGERALD,Ruth Mackey,Liz Daly,Alexander V Goncharov. Владелец: Mbryonics Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Optical Metrology System and Methods for the Measurement of Optical Surfaces

Номер патента: US20240288266A1. Автор: Louis Martin,David Mackey,Niamh FITZGERALD,Ruth Mackey,Liz Daly,Alexander V Goncharov. Владелец: Mbryonics Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

An optical metrology system and methods for the measurement of optical surfaces

Номер патента: GB2627770A. Автор: Mackey David,FITZGERALD Niamh,Martin Louis,Mackey Ruth,Daly Liz,V Goncharov Alexander. Владелец: Mbryonics Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Projective optical metrology system

Номер патента: US20150308815A2. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2015-10-29.

Metrology systems with phased arrays for contaminant detection and microscopy

Номер патента: US20240319617A1. Автор: Wei Guo,Mohamed Swillam,Stephen Roux. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-09-26.

Laser metrology system and method

Номер патента: US09606235B2. Автор: William D. Sherman,David C. Soreide,Jonathan M. Saint Clair,Mitchell D. Voth. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2017-03-28.

Metrology System and Method for Measuring Diagonal Diffraction-Based Overlay Targets

Номер патента: US20210389125A1. Автор: Ohad Bachar,Nadav GUTMAN,Roie VOLKOVICH. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-12-16.

Pupil stop for an illumination optical unit of a metrology system

Номер патента: US20220342317A1. Автор: Matthias Roesch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-10-27.

Metrology system and method for measuring diagonal diffraction-based overlay targets

Номер патента: EP4150293A1. Автор: Ohad Bachar,Nadav GUTMAN,Roie VOLKOVICH. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-03-22.

Metrology system, lithographic apparatus, and calibration method

Номер патента: US11740561B2. Автор: Nikhil Mehta,Piotr Jan Meyer. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-08-29.

Method of regenerating diffraction signals for optical metrology systems

Номер патента: US8570531B2. Автор: Shifang Li. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2013-10-29.

Method for measuring a reflectivity of an object for measurement light and metrology system for carrying out the method

Номер патента: WO2021073993A1. Автор: Dirk Hellweg,Walter Pauls,Markus Koch,Renzo Capelli,Klaus Gwosch,Grizelda Kersteen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-04-22.

Spectrometric metrology systems based on multimode interference and lithographic apparatus

Номер патента: US12135505B2. Автор: Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-11-05.

Micro-electrical discharged based metrology system

Номер патента: US9207060B2. Автор: Jerry Mraz,Jonathan Montgomery. Владелец: SMALTEC INTERNATIONAL LLC. Дата публикации: 2015-12-08.

Non-contact optical metrology system to measure simultaneously the relative piston and the relative inclination in two axes (tip and tilt) between two reflective surfaces

Номер патента: WO2023174524A1. Автор: Santiago Royo Royo,Gaizka MURGA LLANO,Rubén SANQUIRCE GARCIA,Josep Arasa Marti,Alexander DIAZ CASTILLO,Maialen GONZALEZ JAIO,Elena LARA SAEZ,Carles Pizarro Bondia,Noél RODRIGO ARCAY,Pau SANTOS VIVES,Manuel Enrique ROLDAN NARVION,Francisco Javier CASTRO LOPEZ-TARRUELLA. Владелец: IDOM, S.A.U.. Дата публикации: 2023-09-21.

Virtual metrology systems and methods for using feedforward critical dimension data to predict other critical dimensions of a wafer

Номер патента: US20180211891A1. Автор: Ramanapathy Veerasingam. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2018-07-26.

Sensor With Electrically Controllable Aperture For Inspection And Metrology Systems

Номер патента: US20180070040A1. Автор: Brown David L.,Chuang Yung-Ho Alex,Fielden John,Zhang Jingjing,Lyon Keith,Wang Mark Shi. Владелец: . Дата публикации: 2018-03-08.

Periodic Semiconductor Device Misregistration Metrology System and Method

Номер патента: US20210082099A1. Автор: Michelsson Detlef,Feler Yoel. Владелец: . Дата публикации: 2021-03-18.

Overlay metrology system and method

Номер патента: US20150138555A1. Автор: Xintuo Dai,Binbin Yan. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2015-05-21.

OPTICAL METROLOGY SYSTEM FOR SPECTRAL IMAGING OF A SAMPLE

Номер патента: US20150146193A1. Автор: Buczkowski Andrzej. Владелец: Nanometrics Incorporated. Дата публикации: 2015-05-28.

Metrology system for an extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2018175023A1. Автор: Jason Michael Arcand,Jesse Quinn Odle. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-09-27.

Method for three-dimensional determination of an aerial image of a measurement object with the aid of a metrology system and metrology system for carrying out the determination method

Номер патента: WO2024115173A1. Автор: Markus Koch,Renzo Capelli,Klaus Gwosch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-06-06.

Metrology system and method having a plurality of sensors for estimating a spectral feature of a pulsed light beam

Номер патента: US09778108B2. Автор: Joshua Thornes. Владелец: Cymer LLC. Дата публикации: 2017-10-03.

Radar metrology system

Номер патента: US20230314595A1. Автор: Ted Staton Cook,Nick HARTMANN. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Radar metrology system including calibration

Номер патента: US20230314563A1. Автор: Nick HARTMANN. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

In-line metrology methods and systems for solar cell fabrication

Номер патента: WO2011017570A2. Автор: Wei-Yung Hsu,Antoine P. Manens,Bassam Shamoun,Manivannan Thothadri,Ting-Ruei Shiu. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-02-10.

See-through metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: EP4229385A4. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-16.

See-through metrology systems, apparatus, and methods for optical devices

Номер патента: EP4229386A4. Автор: Ludovic Godet,Yangyang Sun,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-02.

METROLOGY SYSTEM WITH PROJECTED PATTERN FOR POINTS-FROM-FOCUS TYPE PROCESSES

Номер патента: US20220138976A1. Автор: REDLARSKI Lukasz,Campbell Shannon Roy. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

X-Ray Metrology System With Broadband Laser Produced Plasma Illuminator

Номер патента: US20190215940A1. Автор: Khodykin Oleg,Bykanov Alexander. Владелец: . Дата публикации: 2019-07-11.

Capacitive measurement device for e.g. dimensional metrology system, has integrated circuit surrounded by guard to which guard electrode of sensor module is connected, where guard electrode is arranged near target electrode

Номер патента: FR2893711A1. Автор: Didier Roziere,Frederic Ossart. Владелец: Nanotec Solution SAS. Дата публикации: 2007-05-25.

Metrology system with spectroscopic ellipsometer and photoacoustic measurements

Номер патента: US7705974B2. Автор: Robert Gregory Wolf,Robin Mair,Christopher Morath. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2010-04-27.

Metrology system with spectroscopic ellipsometer and photoacoustic measurements

Номер патента: US20060126057A1. Автор: Robert Wolf,Robin Mair,Christopher Morath. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2006-06-15.

Stereoscopic three-dimensional metrology system and method

Номер патента: AU2002357335A8. Автор: Donald B Snow,John T Strom,Raymond H Kraft. Владелец: Applied Precision Inc. Дата публикации: 2003-07-24.

Integrated metrology systems and information and control apparatus for interaction with integrated metrology systems

Номер патента: US20060031180A1. Автор: Tomer Tamarkin,Robert Block,Phillip Fine. Владелец: USCL Corp. Дата публикации: 2006-02-09.

Integrated metrology systems and information and control apparatus for interaction with integrated metrology systems

Номер патента: US20090109056A1. Автор: Tomer D. Tamarkin,Robert S. Block,Phillip M. Fine. Владелец: USCL Corp. Дата публикации: 2009-04-30.

Integrated metrology systems and information and control apparatus for interaction with integrated metrology systems

Номер патента: US7379791B2. Автор: Tomer D. Tamarkin,Robert S. Block,Phillip M. Fine. Владелец: USCL Corp. Дата публикации: 2008-05-27.

Integrated metrology systems and information and control apparatus for interaction with integrated metrology systems

Номер патента: US8306668B2. Автор: Tomer D. Tamarkin,Robert S. Block,Phillip M. Fine. Владелец: USCL Corp. Дата публикации: 2012-11-06.

Integrated metrology system and information and control apparatus for interaction with integrated metrology systems

Номер патента: EP1815213A1. Автор: Tomer D. Tamarkin,Robert S. Block,Phillip M. Fine. Владелец: USCL Corp. Дата публикации: 2007-08-08.

Illumination subsystems of a metrology system, metrology systems, and methods for illuminating a specimen for metrology measurements

Номер патента: KR101661090B1. Автор: 블라디미르 레빈스키,융-호 알렉스 츄앙,수에펭 리우. Владелец: 케이엘에이-텐코어 코오포레이션. Дата публикации: 2016-09-28.

Illumination subsystems of a metrology system, metrology systems, and methods for illuminating a specimen for metrology measurements

Номер патента: KR20160055967A. Автор: 블라디미르 레빈스키,융-호 알렉스 츄앙,수에펭 리우. Владелец: 케이엘에이-텐코어 코오포레이션. Дата публикации: 2016-05-18.

Metrology Systems and Methods

Номер патента: US20150036142A1. Автор: Manassen Amnon,Kandel Daniel,Levinski Vladimir,Seligson Joel,Bachar Ohad,Negri Daria,Rotem Efraim,Chuang Yung-Ho Alex,HILL Andrew,Svizher Alexander,Sela Ilan,Markowitz Moshe. Владелец: . Дата публикации: 2015-02-05.

METROLOGY SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING AN EXCITATION LASER BEAM IN AN EUV PLASMA SOURCE

Номер патента: US20210190583A1. Автор: Manger Matthias,BAUMER Florian. Владелец: . Дата публикации: 2021-06-24.

METROLOGY SYSTEM, METHOD, AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT EMPLOYING AUTOMATIC TRANSITIONING BETWEEN UTILIZING A LIBRARY AND UTILIZING REGRESSION FOR MEASUREMENT PROCESSING

Номер патента: US20160320315A1. Автор: Poslavsky Leonid,CAO Meng,Lee Liequan,QIU Hong,Getin Raphael Jean Michel Marie,Kaack Torsten Rudolf. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-03.

Workpiece holder for utilization in metrology system for measuring workpiece in different orientations

Номер патента: US20220349705A1. Автор: Scott Allen Harsila,Maxwell James Perkins. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2022-11-03.

OPTICAL UNIT FOR A PROJECTIVE OPTICAL METROLOGICAL SYSTEM FOR THE DETERMINATION OF QUANTITIES RELATING TO TRIM AND/OR POSITION AND DATA COMMUNICATION

Номер патента: IT202000017488A1. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Thales Alenia Space Italia Spa Con Unico Socio. Дата публикации: 2022-01-17.

Optical unit for a projective optical metrological system for determining quantities relative to the asset and/or position and communicating data

Номер патента: EP4183065A1. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Scuola Superiore Di Studi Universitari E Perfezionamento Sant'anna. Дата публикации: 2023-05-24.

Metrology system configured to measure apertures of workpieces

Номер патента: US20230168209A1. Автор: Paul Gerard Gladnick,Joseph Daniel Tobiason. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2023-06-01.

Optical unit for a projective optical metrological system for determining quantities relative to the asset and/or position and communicating data

Номер патента: EP4183065B1. Автор: Fulvio Bresciani,Ernesto Ciaramella,Mario Rannello,Giulio Cossu,Valter Basso. Владелец: Scuola Superiore di Studi Universitari e di Perfezionamento SantAnna. Дата публикации: 2024-02-28.

Method and apparatus for integration of real-time tool data and in-line metrology for fault detection in an advanced process control (APC) framework

Номер патента: US6532555B1. Автор: Elfido Coss, Jr.,Michael Lee Miller,Qingsu Wang. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2003-03-11.

Beam Homogenizer, Illumination System and Metrology System

Номер патента: US20170248794A1. Автор: Tukker Teunis Willem,KOOLEN Armand Eugene Albert,Eurlings Markus Franciscus Antonius,DE WIT Johannes Matheus Marie,SMIRNOV Stanislav. Владелец: . Дата публикации: 2017-08-31.

Feed forward of metrology data in a metrology system

Номер патента: US9903711B2. Автор: Nadav Carmel,Leonid Poslavsky,Daniel Kandel,Michael E. Adel,Nuriel Amir,Barak BRINGOLTZ,Tzahi Grunzweig,Ady Levy,John Robinson,Tal Marciano,Dana Klein,Tal Itzkovich,Vidya Ramanathan,Janay Camp,Mark Wagner. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-27.

Method for simulating a target wavefront of an imaging optical production system and metrology system for carrying out the method

Номер патента: DE102021211975A1. Автор: Mario Längle,Markus Koch,Lukas Fischer,Klaus Gwosch,Daniel Pagel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2023-04-27.

Metrology systems, measurement of wear systems and methods thereof

Номер патента: WO2022214392A1. Автор: Venkata Siva Chaithanya CHILLARA,Kellen SANNA. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-10-13.

Metrology systems, measurement of wear systems and methods thereof

Номер патента: US20240167809A1. Автор: Venkata Siva Chaithanya CHILLARA,Kellen SANNA. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-05-23.

VIRTUAL METROLOGY SYSTEMS AND METHODS FOR USING FEEDFORWARD CRITICAL DIMENSION DATA TO PREDICT OTHER CRITICAL DIMENSIONS OF A WAFER

Номер патента: US20180211891A1. Автор: Veerasingam Ramanapathy. Владелец: . Дата публикации: 2018-07-26.

Feed Forward of Metrology Data in a Metrology System

Номер патента: US20160290796A1. Автор: Nadav Carmel,Leonid Poslavsky,Daniel Kandel,Michael E. Adel,Nuriel Amir,Barak BRINGOLTZ,Tzahi Grunzweig,Ady Levy,John Robinson,Tal Marciano,Dana Klein,Tal Itzkovich,Vidya Ramanathan,Janay Camp,Mark Wagner. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-10-06.

Laser confocal sensor metrology system

Номер патента: KR101886615B1. Автор: 미첼 에프. 위드만,존 비. 엔스,마크 피. 포웰,피터 더블류. 사이츠,크리스토퍼 와일드스미스. Владелец: 존슨 앤드 존슨 비젼 케어, 인코포레이티드. Дата публикации: 2018-08-09.

Automated overlay metrology system

Номер патента: US20020192577A1. Автор: Bernard Fay,Arun Aiyer. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2002-12-19.

Automated overlay metrology system

Номер патента: US7087352B2. Автор: Bernard Fay,Arun A. Aiver. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2006-08-08.

laser confocal sensor metrology system

Номер патента: BR112013013440A2. Автор: Wildsmith Christopher,B Enns John,F Widman Michael,P Powell Mark,W Sites Peter. Владелец: Johnson & Johnson Vision Care. Дата публикации: 2019-12-03.

Measuring elastic moduli of dielectric thin films using an optical metrology system

Номер патента: US20060072120A1. Автор: TONG Zheng,Guray Tas,Michael Kotelyanskii,Sean Leary,Christopher Morath,Guenadiy Lazarov,Andre Miller,George Antonelli,Jamie Ludke. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2006-04-06.

Laser confocal sensor metrology system

Номер патента: CA2819348C. Автор: Michael F. Widman,John B. Enns,P. Mark Powell,Peter W. Sites,Christopher Wildsmith. Владелец: Johnson and Johnson Vision Care Inc. Дата публикации: 2018-12-11.

Automated overlay metrology system

Номер патента: US20040109165A1. Автор: Bernard Fay,Arun Aiver. Владелец: Aiver Arun A.. Дата публикации: 2004-06-10.

Laser confocal sensor metrology system

Номер патента: TW201233975A. Автор: Christopher Wildsmith,Michael F Widman,John B Enns,Peter W Sites,P Mark Powell. Владелец: Johnson & Johnson Vision Care. Дата публикации: 2012-08-16.

Laser confocal sensor metrology system

Номер патента: WO2012075013A8. Автор: Michael F. Widman,John B. Enns,Peter W. Sites,Christopher Wildsmith,Mark P. Powell. Владелец: JOHNSON & JOHNSON VISION CARE, INC.. Дата публикации: 2013-06-20.

Laser confocal sensor metrology system

Номер патента: AU2011336781A1. Автор: Michael F. Widman,John B. Enns,Peter W. Sites,Christopher Wildsmith,Mark P. Powell. Владелец: Johnson and Johnson Vision Care Inc. Дата публикации: 2013-07-11.

Metrology system and method for thin film stacks

Номер патента: CN112945111A. Автор: 张伟,李锋锐,邹远祥. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2021-06-11.

Measuring elastic moduli of dielectric thin films using an optical metrology system

Номер патента: WO2006041493A1. Автор: TONG Zheng,Christopher J. Morath,Guray Tas,Sean P. Leary,Michael Kotelyanskii,Guenadiy Lazarov,Andre D. Miller,George A. Antonelli,Jamie L. Ludke. Владелец: Rudolph Technologies, Inc.. Дата публикации: 2006-04-20.

LASER CONFOCAL SENSOR METROLOGY SYSTEM

Номер патента: AR084042A1. Автор: . Владелец: Johnson & Johnson Vision Care. Дата публикации: 2013-04-17.

Optical metrology system and method

Номер патента: US20240264538A1. Автор: Gilad Barak,Amir Shayari. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Metrology system for imaging workpiece surfaces at high robot transfer speeds

Номер патента: TW201139084A. Автор: Abraham Ravid,Todd Egan,Mitchell Disanto,Edward Budiarto,Karen Lingel,Hari Kishore Ambal. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-11-16.

Optical metrology system and method

Номер патента: IL295619B1. Автор: . Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Optical metrology system and method

Номер патента: IL314364A. Автор: . Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2024-09-01.

Optical metrology system and method

Номер патента: US11868054B2. Автор: Gilad Barak,Amir Shayari. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

METROLOGY SYSTEM FOR SUBSTRATE DEFORMATION MEASUREMENT

Номер патента: US20190074201A1. Автор: BANNA SAMER,Egan Todd,TANTIWONG KYLE,VAEZ-IRAVANI Mehdi. Владелец: . Дата публикации: 2019-03-07.

Metrology system, lithographic apparatus, and method

Номер патента: WO2020169419A1. Автор: Yuxiang LIN,Joshua Adams. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2020-08-27.

Generic interface for an optical metrology system

Номер патента: US7271902B2. Автор: Shifang Li,Nickhil Jakatdar,Xinhui Niu,Junwei Bao. Владелец: TEL Timbre Technologies Inc. Дата публикации: 2007-09-18.

Apparatus for designing an optical metrology system optimized with signal criteria

Номер патента: US7734437B2. Автор: Manuel Madriaga,Ching-Ling Meng,Xinkang Tian,Mihail Mihalov. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2010-06-08.

Surface metrology systems and methods thereof

Номер патента: US12123701B2. Автор: James Fredric Munro. Владелец: Optipro Systems LLC. Дата публикации: 2024-10-22.

Methods utilizing triangulation in metrology systems for in-situ surgical applications

Номер патента: US20140313523A1. Автор: Alexey Sharonov,Candido Dionisio Pinto. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2014-10-23.

Metrology system

Номер патента: EP3759428B1. Автор: Mark Baker,Chris Barns,Clint Vandergiessen,Robert Batten,Shawn Boling,Jared Greco,Derek Aqui,Garrett Headrick. Владелец: DWFritz Automation LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Methods utilizing triangulation in metrology systems for in-situ surgical applications

Номер патента: US20120293812A1. Автор: Alexey Sharonov,Candido Dionisio Pinto. Владелец: TYCO HEALTHCARE GROUP LP. Дата публикации: 2012-11-22.

Optical metrology system and method employing laser-server supplying laser energy to distributed slave metrology heads

Номер патента: AU2001293266A1. Автор: R. Gregory Wolf. Владелец: Rudolph Technologies Inc. Дата публикации: 2002-03-26.

Illumination System and Metrology System

Номер патента: US20170255105A1. Автор: MAASSEN Martinus,FEIJEN Kim Gerard,VAN DE GROES Henricus Martinus Johannes,DE WIT Johannes Matheus Marie,Sijben Anko Jozef Cornelus. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2017-09-07.

Multipole illumination system and overlay metrology system

Номер патента: CN112840202B. Автор: A·V·希尔,D·戈列里克. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2022-10-14.

Position-sensitive metrology system

Номер патента: US20120045855A1. Автор: Markus E. Beck,Erel Milshtein. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-23.

Metrology System and Method For Determining a Characteristic of one or More Structures on a Substrate

Номер патента: US20210003924A1. Автор: WARNAAR Patrick,COENE Willem Marie Julia Marcel,Den Boef Arie Jeffrey,KOOLEN Armand Eugene Albert,PANDEY Nitesh,TINNEMANS Patricius Aloysius Jacobus,TENNER Vasco Tomas. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-01-07.

Automated Metrology System Selection

Номер патента: US20170023491A1. Автор: Qiang Zhao,Lie-Quan Lee,Meng Cao,Heyin Li,Mengmeng Ye. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-26.

METROLOGY SYSTEM CALIBRATION REFINEMENT

Номер патента: US20180100796A1. Автор: Poslavsky Leonid,Krishnan Shankar,Kwak Hidong,Lesoine John,Sadiq Malik,Wei Lanhua,Sushchik Mikhail M.. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-12.

Metrology System and Method For Determining a Characteristic of One or More Structures on a Substrate

Номер патента: US20190107781A1. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Patrick Warnaar,Armand Eugene Albert Koolen,Willem Marie Julia Marcel Coene,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Nitesh PANDEY,Vasco Tomas TENNER. Владелец: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten. Дата публикации: 2019-04-11.

METROLOGY SYSTEM AND MEASUREMENT METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170131084A1. Автор: Lin Yi-Hung,HUNG Ying-Chieh,CHOU Yu-Wei. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-11.

Laser Metrology System and Method

Номер патента: US20150198433A1. Автор: Soreide David C.,Voth Mitchell D.,Sherman William D.,Saint Clair Jonathan M.. Владелец: The Boeing Company. Дата публикации: 2015-07-16.

METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20200209021A1. Автор: Baker Mark,Boling Shawn,Batten Robert,Aqui Derek,Greco Jared,Headrick Garrett,Vandergiessen Clint,Barns Chris. Владелец: DWFritz Automation, Inc.. Дата публикации: 2020-07-02.

METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20190265012A1. Автор: Baker Mark,Barnes Chris,Boling Shawn,Batten Robert,Aqui Derek,Greco Jared,Headrick Garrett,Vanderglessen Clint. Владелец: DWFritz Automation, Inc.. Дата публикации: 2019-08-29.

MULTIPLE ANGLES OF INCIDENCE SEMICONDUCTOR METROLOGY SYSTEMS AND METHODS

Номер патента: US20140375981A1. Автор: Krishnan Shankar,Shchegrov Andrei,de Veer Johannes D.,Flock Klaus,Wang David Y.,Brady Gregory,Rotter Lawrence,Arain Muzammil,Filip Catalin. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-12-25.

Metrology systems and methods

Номер патента: US8441639B2. Автор: Daniel Kandel,Vladimir Levinski,Alexander Svizher,Joel Seligson,Andrew Hill,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Yung-Ho Alex Chuang,Ilan Sela,Moshe Markowitz,Daria Negri,Efraim Rotem. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2013-05-14.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: US10816909B2. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Patrick Warnaar,Armand Eugene Albert Koolen,Willem Marie Julia Marcel Coene,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Nitesh PANDEY,Vasco Tomas TENNER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2020-10-27.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: US11415900B2. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Patrick Warnaar,Armand Eugene Albert Koolen,Willem Marie Julia Marcel Coene,Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans,Nitesh PANDEY,Vasco Tomas TENNER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-08-16.

Metrology Systems and Methods

Номер патента: CN104155313B. Автор: A·希尔,D·坎戴尔,V·列文斯基,A·斯维泽,J·塞利格松,O·巴卡尔,A·马纳森,Y-H·A·庄,I·塞拉,M·马克维兹,D·纳格利,E·罗特姆. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-05-10.

Contaminant identification metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: KR20230004535A. Автор: 앤드류 저지,라비 차이탄야 칼루리,미카엘 엠마누엘 폴로스키,제임스 해밀턴 월시,저스틴 로이드 크루저. Владелец: 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.. Дата публикации: 2023-01-06.

Metrology systems, coherence scrambler illumination sources and methods thereof

Номер патента: WO2021058338A1. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Irwan Dani Setija,Mohamed Swillam,Arjan Johannes Anton BEUKMAN. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-04-01.

Metrology systems and methods

Номер патента: CN102668052A. Автор: A·希尔,D·坎戴尔,V·列文斯基,A·斯维泽,J·塞利格松,O·巴卡尔,A·马纳森,Y-H·A·庄,I·塞拉,M·马克维兹,D·纳格利,E·罗特姆. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2012-09-12.

OPTICAL METROLOGY SYSTEM

Номер патента: FR2913492A1. Автор: Patrick Juncar,Darine Haddad,Gerard Geneves. Владелец: LABORATOIRE NAT DE METROLOGIE ET D ESSAIS. Дата публикации: 2008-09-12.

Metrology system and method for determining characteristics of one or more structures on a substrate

Номер патента: CN114993205A. Автор: 帕特里克·沃纳阿,P·A·J·蒂内曼斯,A·J·登博夫,N·潘迪,A·E·A·科伦,V·T·滕纳,W·M·J·M·考恩. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2022-09-02.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: KR20220085842A. Автор: 뵈프 아리에 제프리 덴,페트릭 워나르,니테쉬 판데이,패트리시우스 알로이시우스 제이코부스 티네만스,아만드 유진 알버트 쿨렌,빌렘 마리 줄리아 마르셀 쾨느,바스코 토마스 테너. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2022-06-22.

Optical metrology system

Номер патента: CA2680015A1. Автор: Patrick Juncar,Darine Haddad,Gerard Geneves. Владелец: Conservatoire National Des Arts Et Metiers. Дата публикации: 2008-09-18.

Metrology systems, coherence scrambler illumination sources and methods thereof

Номер патента: US20220342228A1. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Irwan Dani Setija,Mohamed Swillam,Arjan Johannes Anton BEUKMAN. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2022-10-27.

Metrology system

Номер патента: WO2021069079A1. Автор: Raimund Loser,Thomas Luthi,Markus Steiner,Duncan REDGEWELL,Veroljub Maksimovic. Владелец: LEICA GEOSYSTEMS AG. Дата публикации: 2021-04-15.

Method for programming three-dimensional workpiece scan path for metrology system

Номер патента: CN105509641A. Автор: R.K.布赖尔. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2016-04-20.

Metrology systems and methods

Номер патента: US9080971B2. Автор: Daniel Kandel,Vladimir Levinski,Alexander Svizher,Joel Seligson,Andrew Hill,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Yung-Ho Alex Chuang,Ilan Sela,Moshe Markowitz,Daria Negri,Efraim Rotem. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-07-14.

Light source tracking in optical metrology system

Номер патента: US9146156B2. Автор: Lawrence D. Rotter,David Y. Wang,Klaus Flock,Johannes D. De Veer,Shankar Krishnan,Guorong V. Zhuang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-09-29.

Process control using an optical metrology system optimized with signal criteria

Номер патента: US20090248341A1. Автор: Manuel Madriaga,Ching-Ling Meng,Xinkang Tian,Mihail Mihalov. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2009-10-01.

Methods utilizing triangulation in metrology systems for in-situ surgical applications

Номер патента: CA2776197A1. Автор: Alexey Sharonov,Candido Dionisio Pinto. Владелец: TYCO HEALTHCARE GROUP LP. Дата публикации: 2012-11-19.

Optical metrology system and method

Номер патента: TWI782924B. Автор: 維拉得摩朗維司基,尤瑞帕斯卡維爾,阿農馬那森. Владелец: 美商克萊譚克公司. Дата публикации: 2022-11-11.

Techniques for reducing optical noise in metrology systems

Номер патента: US20070121104A1. Автор: David Wang,James Hendrix. Владелец: Therma Wave Inc. Дата публикации: 2007-05-31.

Metrology system

Номер патента: CA3092360A1. Автор: Mark Baker,Chris Barns,Clint Vandergiessen,Robert Batten,Shawn Boling,Jared Greco,Derek Aqui,Garrett Headrick. Владелец: Dwfritz Automation Inc. Дата публикации: 2019-09-06.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: IL273680B1. Автор: . Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-01.

Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

Номер патента: IL273680B2. Автор: . Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-04-01.

Semiconductor Inspection And Metrology System Using Laser Pulse Multiplier

Номер патента: US20150364895A1. Автор: Armstrong J. Joseph,Chuang Yung-Ho Alex,Deng Yujun,Liou Justin Dianhuan. Владелец: . Дата публикации: 2015-12-17.

Rf metrology system for a substrate processing apparatus incorporating rf sensors with corresponding lock-in amplifiers

Номер патента: US20190288737A1. Автор: John Valcore, Jr.,Ernest Beauel Hanks. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Parallel sensing camera based metrology systems and methods

Номер патента: WO2024193929A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Twan Van Lippen. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-26.

Metrology system for generating measurements of fuselage sections

Номер патента: US09927227B2. Автор: Jeffrey H. Hunt,David Arthur Whelan,Jonathan M. Saint Clair,Stephen A. Walls. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-03-27.

Contaminant detection metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: WO2021136631A1. Автор: Han-Kwang Nienhuys,Aage Bendiksen,Michal Emanuel Pawlowski,Ryan Alan Munden. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-07-08.

Optical element for use in metrology systems

Номер патента: US20240302164A1. Автор: Yevgeniy Konstantinovich Shmarev,Richard Carl Zimmerman,Adel Joobeur,Tzu-Yi Yang. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-12.

Non-destructive inspection and manufacturing metrology systems and methods

Номер патента: US12092565B2. Автор: Manjusha Mehendale,Robin Mair,Marco ALVES. Владелец: Onto Innovation Inc. Дата публикации: 2024-09-17.

Lithographic apparatus, metrology system, and illumination systems with structured illumination

Номер патента: WO2021058313A1. Автор: Yuxiang LIN,Joshua Adams,Krishanu SHOME,Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed ELAZHARY. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-04-01.

Lithographic apparatus, metrology system, and illumination systems with structured illumination

Номер патента: US11789368B2. Автор: Yuxiang LIN,Joshua Adams,Krishanu SHOME,Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed ELAZHARY. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-10-17.

Projective optical metrology system

Номер патента: EP2677338B1. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2017-08-02.

Automated calibration methodology for VUV metrology system

Номер патента: TW201110141A. Автор: Phillip Walsh,Jeffrey B Hurst,Matthew Weldon,Dale A HARRISON,Cristian Rivas. Владелец: Jordan Valley Semiconductors. Дата публикации: 2011-03-16.

An optical metrology system and methods for the measurement of optical surfaces

Номер патента: GB202302951D0. Автор: . Владелец: Mbryonics Ltd. Дата публикации: 2023-04-12.

Optical system for a metrology system and metrology system with such an optical system

Номер патента: US20240369945A1. Автор: Matthias Wald,Markus Koch,Manuel Decker,Arne Schob. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-11-07.

Optical system for a metrology system and metrology system with such an optical system

Номер патента: US20240369946A1. Автор: Matthias Wald,Markus Koch,Manuel Decker,Arne Schob. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-11-07.

Metrology system using multiple radiation spots

Номер патента: WO2024022839A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-01.

Contaminant detection metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US11803119B2. Автор: Han-Kwang Nienhuys,Aage Bendiksen,Michal Emanuel Pawlowski,Ryan Alan Munden. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-10-31.

Lithographic apparatus with a metrology system for measuring a position of a substrate table

Номер патента: US09684249B2. Автор: Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Theodorus Petrus Maria Cadee,Adrianus Hendrik Koevoets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-06-20.

Fluorescence microscopy metrology system and method of operating fluorescence microscopy metrology system

Номер патента: US20240212122A1. Автор: Changhoon Choi,Myungjun Lee,Jaehwang Jung,Wookrae Kim,Namyoon KIM,Doory KIM,Dokyung JEONG,Uidon JEONG. Владелец: Industry University Cooperation Foundation IUCF HYU. Дата публикации: 2024-06-27.

Multi-layer metrology systems and methods

Номер патента: WO2024184047A1. Автор: Sebastianus Adrianus GOORDEN,Louise Karina Laurie GOUTEUX. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-12.

MEASUREMENT ASSEMBLY INCLUDING A METROLOGY SYSTEM AND A POINTER THAT DIRECTS THE METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20130335749A1. Автор: NOVAK W. Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2013-12-19.

Method for determining an imaging quality of an optical system when illuminated with illuminating light within a pupil to be measured and metrology system for this

Номер патента: DE102021205328B3. Автор: Markus Koch,Renzo Capelli,Klaus Gwosch,Dmitry Simakov. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-09-29.

Non-destructive inspection and manufacturing metrology systems and methods

Номер патента: WO2020237198A8. Автор: Manjusha Mehendale,Robin Mair,Marco ALVES. Владелец: Onto Innovation Inc.. Дата публикации: 2021-12-23.

Dispersion engineered beam modifier for a metrology system

Номер патента: WO2024120765A1. Автор: Roxana REZVANI NARAGHI,Saman Jahani. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-13.

Aperture alignment in scatterometry metrology systems

Номер патента: US09726984B2. Автор: Nadav Carmel,Barak BRINGOLTZ. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-08-08.

TARGET FOR LARGE SCALE METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20130141735A1. Автор: NOVAK W. Thomas,Cooper Alexander,Sogard Michael. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-06.

Metrology Systems and Methods

Номер патента: US20130229661A1. Автор: Manassen Amnon,Kandel Daniel,Levinski Vladimir,Seligson Joel,Bachar Ohad,Negri Daria,Rotem Efraim,Chuang Yung-Ho Alex,HILL Andrew,Svizher Alexander,Sela Ilan,Markowitz Moshe. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-09-05.

APERTURE ALIGNMENT IN SCATTEROMETRY METROLOGY SYSTEMS

Номер патента: US20150015883A1. Автор: BRINGOLTZ BARAK,Carmel Nadav. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-15.

METROLOGY SYSTEM FOR GENERATING MEASUREMENTS OF FUSELAGE SECTIONS

Номер патента: US20170015440A1. Автор: Whelan David Arthur,Hunt Jeffrey H.,Walls Stephen A.,Saint Clair Jonathan M.. Владелец: . Дата публикации: 2017-01-19.

Automatic Recipe Optimization for Overlay Metrology System

Номер патента: US20210025695A1. Автор: Li Weihua,Wei Shiming. Владелец: . Дата публикации: 2021-01-28.

SURFACE METROLOGY SYSTEMS AND METHODS THEREOF

Номер патента: US20220049951A1. Автор: Munro James Fredric. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-17.

METROLOGY APPARATUS FOR A SEMICONDUCTOR PATTERN, METROLOGY SYSTEM INCLUDING THE SAME AND METROLOGY METHOD USING THE SAME

Номер патента: US20170038194A1. Автор: MA Seong Min,KANG Yoon Shik,HAHN Joon Seong. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-09.

Metrology System for Generating Measurements of Fuselage Sections

Номер патента: US20160076879A1. Автор: Whelan David Arthur,Hunt Jeffrey H.,Walls Stephen A.,Saint Clair Jonathan M.. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-17.

OPTICAL METROLOGY SYSTEM FOR SPECTRAL IMAGING OF A SAMPLE

Номер патента: US20160116411A1. Автор: Buczkowski Andrzej. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-28.

METHOD TO DETECT A DEFECT ON A LITHOGRAPHIC SAMPLE AND METROLOGY SYSTEM TO PERFORM SUCH A METHOD

Номер патента: US20220283513A1. Автор: Jabbour Toufic,Omlor Lars. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-08.

METHODS UTILIZING TRIANGULATION IN METROLOGY SYSTEMS FOR IN-SITU SURGICAL APPLICATIONS

Номер патента: US20140313523A1. Автор: Sharonov Alexey,Pinto Candido Dionisio. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-23.

METROLOGY SYSTEM CALIBRATION REFINEMENT

Номер патента: US20140340682A1. Автор: Poslavsky Leonid,Krishnan Shankar,Kwak Hidong,Lesoine John,Sadiq Malik,Wei Lanhua,Sushchik Mikhail M.. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-20.

METROLOGY SYSTEM OPTIMIZATION FOR PARAMETER TRACKING

Номер патента: US20140347666A1. Автор: Shchegrov Andrei V.,Brady Gregory,Dziura Thaddeus Gerard,Kuznetsov Alexander,Veldman Andrei,Pandev Stilian Ivanov. Владелец: . Дата публикации: 2014-11-27.

MULTIPLE ANGLES OF INCIDENCE SEMICONDUCTOR METROLOGY SYSTEMS AND METHODS

Номер патента: US20150285735A1. Автор: Krishnan Shankar,Shchegrov Andrei,de Veer Johannes D.,Flock Klaus,Wang David Y.,Brady Gregory,Rotter Lawrence,Arain Muzammil,Filip Catalin. Владелец: KLA- Tencor Corporation. Дата публикации: 2015-10-08.

Overlay Metrology System and Method

Номер патента: US20190285407A1. Автор: Chuang Yung-Ho Alex,Fielden John,Liu Xuefeng,Jiang Peilin,Xiao-Li Yinying. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

PROJECTIVE OPTICAL METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20150308815A2. Автор: Bresciani Fulvio,Musso Fabio. Владелец: Thales Alenia Space Italia S.p.A. Con Unico Socio. Дата публикации: 2015-10-29.

Sensor With Electrically Controllable Aperture For Inspection And Metrology Systems

Номер патента: US20160334342A1. Автор: Brown David L.,Chuang Yung-Ho Alex,Fielden John,Zhang Jingjing,Lyon Keith,Wang Mark Shi. Владелец: . Дата публикации: 2016-11-17.

Metrology system with an EUV look

Номер патента: DE102017211443A1. Автор: Stefan Müller,Dirk Hellweg,Ralf Gehrke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-01-10.

Metrology system having an EUV optical unit

Номер патента: US10948637B2. Автор: Stefan Mueller,Dirk Hellweg,Ralf Gehrke. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-03-16.

Metrology system, lithographic apparatus, and calibration method

Номер патента: WO2020164904A1. Автор: Nikhil Mehta,Piotr Jan Meyer. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2020-08-20.

METHOD FOR CALIBRATING A THREE-DIMENSIONAL METROLOGY SYSTEM.

Номер патента: FR2670283B1. Автор: Guy Bourdarios,Philippe Rioufreyt. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique CEA. Дата публикации: 1994-10-14.

Method for calibrating the geometry of a multi-axis metrology system

Номер патента: CN101975561B. Автор: 保罗·墨菲,乔恩·弗里格,格雷格·福布斯. Владелец: QED Technologies Inc. Дата публикации: 2012-05-30.

Device and method for optical image correction in metrology systems

Номер патента: CA2805410A1. Автор: Alexey Sharonov. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2013-08-27.

Point size light illumination in metrology systems for in-situ surgical applications

Номер патента: AU2012244064A1. Автор: Alexey Sharonov. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2013-05-16.

Shaft cone metrology system and method

Номер патента: KR101204485B1. Автор: 아난다 브이. 미소레,스티브 지. 곤잘레즈. Владелец: 시게이트 테크놀로지 엘엘씨. Дата публикации: 2012-11-27.

METROLOGY SYSTEM AND METHOD APPLIED TO A COMPONENT REMOTE ANALYSIS INTERFEROMETER

Номер патента: FR2972797B1. Автор: Jean Michel Gaucel,Didier MIRAS. Владелец: Centre National dEtudes Spatiales CNES. Дата публикации: 2019-12-13.

Metrology system for generating measurements of fuselage sections

Номер патента: US9453720B2. Автор: Jeffrey H. Hunt,David Arthur Whelan,Jonathan M. Saint Clair,Stephen A. Walls. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2016-09-27.

Method for calibrating the geometry of a multi-axis metrology system

Номер патента: US20050134851A1. Автор: Paul Murphy,Greg Forbes,Jon Fleig. Владелец: QED Technologies Inc. Дата публикации: 2005-06-23.

Shaft cone metrology system and method

Номер патента: CN1991298A. Автор: A·V·梅索尔,S·G·冈萨雷斯. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2007-07-04.

Device and method for optical image correction in metrology systems

Номер патента: US9561022B2. Автор: Alexey Sharonov. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2017-02-07.

Device and method for optical image correction in metrology systems

Номер патента: CN103284725A. Автор: 阿列克谢·沙罗诺夫. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2013-09-11.

Projective optical metrology system

Номер патента: US9188427B2. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2015-11-17.

Method to detect a defect on a lithographic sample and metrology system to perform such a method

Номер патента: US20220283513A1. Автор: Lars Omlor,Toufic Jabbour. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-09-08.

Method for approximating imaging properties of an optical production system to those of an optical measurement system, and metrology system to this end

Номер патента: US20220057709A1. Автор: Dirk Hellweg,Markus Koch,Toufic Jabbour,Ralf Gehrke,Daniel Pagel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2022-02-24.

Metrology system and coherence adjusters

Номер патента: US20240027913A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN,Justin Lloyd KREUZER,Muhsin ERALP,Sergei SOKOLOV,Jin LIAN. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-01-25.

Optical arrangement for a metrology system

Номер патента: WO2023217499A1. Автор: Roxana REZVANI NARAGHI,Changsik YOON,Kuang-Yu Yang. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-11-16.

Compact optical arrangement for a metrology system

Номер патента: WO2024088727A1. Автор: Roxana REZVANI NARAGHI,Saman Jahani. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-02.

Remote accessory for generating customized and synchronized reference notes for a programmable metrology system

Номер патента: US9606525B2. Автор: Kim Atherton. Владелец: Mitutoyo Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Lithographic apparatus, metrology system, and intensity imbalance measurement for error correction

Номер патента: US20230324817A1. Автор: Earl William EBERT,Roxana REZVANI NARAGHI. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-10-12.

Metrology system and lithographic system

Номер патента: US20230418168A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2023-12-28.

Metrology system, and apparatus including primary mirror

Номер патента: US20240192478A1. Автор: Noboru Kawaguchi,Atsushi Kato,Satoru SOFUKU,Yuto OWAKI. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Spectrometric metrology systems based on multimode interference and lithographic apparatus

Номер патента: US20230273531A1. Автор: Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-08-31.

Virtual metrology system and method

Номер патента: US20190187674A1. Автор: Yi-Chun Lin,Ching-Hsing Hsieh,Feng-Chi Chung,Chien-Chuan Yu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2019-06-20.

Polarization Independent Metrology System

Номер патента: US20190243254A1. Автор: Krishanu SHOME,Justin Lloyd KREUZER. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2019-08-08.

Small-angle scattering X-ray metrology systems and methods

Номер патента: US09846132B2. Автор: John J. Hench,Andrei V. Shchegrov,Ady Levy,Guorong V. Zhuang,Michael S. Bakeman. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-12-19.

Advanced cable metrology system

Номер патента: US20060116852A1. Автор: Patrick Schneider,Keith Foster,Donald Yuhas,James Voth. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2006-06-01.

Robotic-mounted monument system for metrology systems

Номер патента: CA2852519C. Автор: James M. Cobb,Peter Frederick Trautman,Paul Fredric Sjoholm. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-09-11.

Robotic-mounted monument system for metrology systems

Номер патента: EP2821877A2. Автор: James M. Cobb,Peter Frederick Trautman,Paul Fredric Sjoholm. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2015-01-07.

Robotic-Mounted Monument System for Metrology Systems

Номер патента: CN104281118A. Автор: J·M·科布,P·F·特劳特曼,P·F·索约霍姆. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2015-01-14.

Robotic-mounted monument system for metrology systems

Номер патента: CA2852519A1. Автор: James M. Cobb,Peter Frederick Trautman,Paul Fredric Sjoholm. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2015-01-02.

Metrology system for precision 3d motion

Номер патента: WO2003102495A3. Автор: Christopher James Evans,Michael Kuechel,Doren Matthew Van. Владелец: Zygo Corp. Дата публикации: 2004-05-06.

Micro-Electrical Discharged Based Metrology System

Номер патента: US20140130619A1. Автор: Mraz Jerry,Montgomery Jonathan. Владелец: SMALTEC INTERNATIONAL, LLC. Дата публикации: 2014-05-15.

SMALL-ANGLE SCATTERING X-RAY METROLOGY SYSTEMS AND METHODS

Номер патента: US20150110249A1. Автор: Levy Ady,Zhuang Guorong V.,Shchegrov Andrei V.,Bakeman Michael S.,Hench John J.. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-04-23.

Calibration Of A Small Angle X-Ray Scatterometry Based Metrology System

Номер патента: US20180113084A1. Автор: Di Regolo Joseph A.,Artemiev Nikolay,Hench John,Gellineau Antonio. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-26.

Micro-electrical discharged based metrology system

Номер патента: KR101990157B1. Автор: 제리 므라즈,조나단 문트고머리. Владелец: 스말테크 인터내셔날, 엘엘씨. Дата публикации: 2019-06-17.

Micro-electrical discharged based metrology system

Номер патента: WO2012151308A3. Автор: Jerry Mraz,Jonathan Montgomery. Владелец: SMALTEC INTERNATIONAL, LLC. Дата публикации: 2013-03-14.

Compensation for effects of beam misalignments in interferometer metrology systems

Номер патента: US20060061771A1. Автор: Henry Hill. Владелец: Zygo Corp. Дата публикации: 2006-03-23.

Tree metrology system

Номер патента: AU2013245476B2. Автор: John Lyle Vian,Joshua Przybylko. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2015-06-18.

Small-angle scattering x-ray metrology systems and methods

Номер патента: WO2015061312A1. Автор: John J. Hench,Ady Levy,Andrei Shchegrov,Michael Bakeman,Guorong Vera Zhuang. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-04-30.

Non-destructive gap metrology

Номер патента: US20230296371A1. Автор: Liang Zhang,Jianyong Mo,V Wade SINGLETON,Yiren WU,David Wasinger. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Non-destructive gap metrology

Номер патента: US11913772B2. Автор: Liang Zhang,Jianyong Mo,V Wade SINGLETON,Yiren WU,David Wasinger. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Underwater optical metrology system

Номер патента: AU2018300057B2. Автор: Carl W. Embry,Neil MANNING,Derek D. Pierce,Cory S. Moore,Julian Peter Rickards. Владелец: 3D at Depth Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Underwater optical metrology system

Номер патента: US11774586B2. Автор: Ian Roberts,Carl W. Embry,Neil MANNING. Владелец: 3D at Depth Inc. Дата публикации: 2023-10-03.

Wavelength selection module, illumination system and metrology system

Номер патента: IL290143B2. Автор: . Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-09-01.

Underwater optical metrology system

Номер патента: US20210382171A1. Автор: Ian Roberts,Carl W. Embry,Neil MANNING. Владелец: 3D at Depth Inc. Дата публикации: 2021-12-09.

Underwater optical metrology system

Номер патента: US20230393271A1. Автор: Ian Roberts,Carl W. Embry,Neil MANNING. Владелец: 3D at Depth Inc. Дата публикации: 2023-12-07.

Illumination optical unit for a metrology system and metrology system comprising such an illumination optical unit

Номер патента: US20150001408A1. Автор: Thomas Frank,Holger Seitz,Ulrich Matejka,Dirk Doering,Mario Laengle. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2015-01-01.

Wavelength selection module, illumination system and metrology system

Номер патента: US20220299365A1. Автор: Gerbrand Van Der Zouw,Marinus Johannes Maria VAN DAM,Jacob Sonneveld,Ramon Pascal Van Gorkom. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2022-09-22.

Wavelength selection module, illumination system and metrology system

Номер патента: WO2021032400A1. Автор: Gerbrand Van Der Zouw,Marinus Johannes Maria VAN DAM,Jacob Sonneveld,Ramon Pascal Van Gorkom. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-02-25.

Wavelength selection module, illumination system and metrology system

Номер патента: IL290143B1. Автор: . Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-05-01.

LASER CONFOCAL SENSOR METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20140063486A1. Автор: Widman Michael F.,Powell P. Mark,Sites Peter W.,Wildsmith Christopher,Enns,I John B.. Владелец: JOHNSON & JOHNSON VISION CARE, INC.. Дата публикации: 2014-03-06.

UNDERWATER OPTICAL METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20190011552A1. Автор: Embry Carl W.,Manning Neil,Pierce Derek D.,Rickards Julian Peter,Moore Cory S.. Владелец: 3D at Depth, Inc.. Дата публикации: 2019-01-10.

UNDERWATER OPTICAL METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20200011992A1. Автор: Embry Carl W.,Manning Neil,Pierce Derek D.,Rickards Julian Peter,Moore Cory S.. Владелец: 3D at Depth, Inc.. Дата публикации: 2020-01-09.

METROLOGY SYSTEM AND STAGE CONTROL DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20180106645A1. Автор: KIM Hong Won,LEE Ho Hyun. Владелец: . Дата публикации: 2018-04-19.

UNDERWATER OPTICAL METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20200124722A1. Автор: Roberts Ian,Embry Carl W.,Manning Neil. Владелец: 3D at Depth, Inc.. Дата публикации: 2020-04-23.

Reference Circuit for Metrology System

Номер патента: US20170199089A1. Автор: Savoj Jafar,Fritchman Daniel J.. Владелец: . Дата публикации: 2017-07-13.

Reference Circuit for Metrology System

Номер патента: US20200217729A1. Автор: Savoj Jafar,Fritchman Daniel J.. Владелец: . Дата публикации: 2020-07-09.

Metrology system for positioning assemblies

Номер патента: KR102341146B1. Автор: 엠. 코브 제임스,린 뭉크 클레이튼,드레스켈 데이 댄,엠. 리드 에릭,레이 드자르뎅 매튜,에이. 베스트 스티븐. Владелец: 더 보잉 컴파니. Дата публикации: 2021-12-20.

Wind turbine metrology system

Номер патента: US8235662B2. Автор: Ryan M. LeClair,Thomas P. Schmitt,Saskia G. Honoff,Clinton L. Williams,Thomas H. Siebers,Donald M. Rogers,Christopher J. Winslow. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2012-08-07.

Reference circuit for metrology system

Номер патента: KR102179316B1. Автор: 다니엘 제이. 프리치맨,자파르 사보즈. Владелец: 애플 인크.. Дата публикации: 2020-11-16.

Coarse and fine projective optical metrology system

Номер патента: EP2508428A8. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2013-01-02.

Spectrosmeter, metrology systems and semiconductor inspection methods

Номер патента: KR20220169377A. Автор: 김진용,야스히로 히다카. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2022-12-27.

Coarse and fine projective optical metrology system

Номер патента: US8724104B2. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2014-05-13.

LATERAL AND LONGITUDINAL METROLOGY SYSTEM

Номер патента: FR2902894B1. Автор: Cyril Degrelle,Xavier Leyre,Bruno Napierala,Suzanne Abadie. Владелец: Alcatel SA. Дата публикации: 2010-06-04.

Wind turbine metrology system

Номер патента: US20090142192A1. Автор: Ryan M. LeClair,Thomas P. Schmitt,Saskia G. Honoff,Clinton L. Williams,Thomas H. Siebers,Donald M. Rogers,Christopher J. Winslow. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2009-06-04.

Spectrometer and metrology system

Номер патента: JP2023000800A. Автор: YASUHIRO Hidaka,康弘日高,ジニョンキム,Jin-Yeong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-01-04.

Method for determining a focus position of a lithography mask and metrology system for carrying out such a method

Номер патента: DE102018202637B4. Автор: Dirk Hellweg,Markus Koch,Renzo Capelli,Martin Dietzel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2021-09-23.

Metrology system for positioning assemblies

Номер патента: US10501209B2. Автор: Steven A. Best,James M. Cobb,Dan Dresskell DAY,Eric M. Reid,Clayton Lynn Munk,Matthew Ray Desjardien. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2019-12-10.

Method for determining a focus position of a lithography mask and metrology system for carrying out such a method

Номер патента: KR102227293B1. Автор: 마르쿠스 코흐,렌조 카펠리,디르크 헬벡,마르틴 디에트젤. Владелец: 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하. Дата публикации: 2021-03-15.

Metrology system and method for measuring five degrees-of-freedom for a point target

Номер патента: US20050235504A1. Автор: William Barvosa-Carter,Guillermo Herrera,Cameron Massey,Robert Doty. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2005-10-27.

Lateral and longitudinal metrology system

Номер патента: US7561262B2. Автор: Cyril Degrelle,Xavier Leyre,Bruno Napierala,Suzanne Abadie. Владелец: Thales SA. Дата публикации: 2009-07-14.

Protective optical metrology system for determining attitude and position

Номер патента: US8625108B2. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2014-01-07.

Lateral and longitudinal metrology system

Номер патента: EP1873556B1. Автор: Cyril Degrelle,Xavier Leyre,Bruno Napierala,Suzanne Abadie. Владелец: Thales SA. Дата публикации: 2014-04-23.

Method for determining a focus position of a lithography mask and metrology system for carrying out such a method

Номер патента: DE102018202637A1. Автор: Dirk Hellweg,Markus Koch,Renzo Capelli,Martin Dietzel. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2019-08-22.

Optical device metrology systems and related methods

Номер патента: US11802791B2. Автор: Ludovic Godet,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-31.

Optical device metrology systems and related methods

Номер патента: EP4251965A1. Автор: Ludovic Godet,Jinxin FU,Kazuya DAITO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-04.

Self-testing metrologic system for an analog signal transmitting device

Номер патента: MY177474A. Автор: Jean-Marie Boulangey,Jean-Pierre Lorans. Владелец: Thales SA. Дата публикации: 2020-09-16.

ELECTROPLATING AND POST-ELECTROFILL SYSTEMS WITH INTEGRATED PROCESS EDGE IMAGING AND METROLOGY SYSTEMS

Номер патента: US20150001087A1. Автор: Dinneen Daniel Mark,Duncan James E.. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-01.

Metrology system and method

Номер патента: TWI731170B. Автор: 法蘭克雷斯基,馬克艾倫尼爾. Владелец: 美商克萊譚克公司. Дата публикации: 2021-06-21.

Device for suppression of foreign particles carried with light beam from light source system for metrology system, sets axial distance of chopper rotational axis smaller than radius maximum value and greater than radius minimum value

Номер патента: DE102011089779A1. Автор: Moritz Becker,Stefan Wolfgang Schmidt,Dirk Ehm,Dr. Butscher Vera. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-27.

RF METROLOGY SYSTEM FOR A SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCORPORATING RF SENSORS WITH CORRESPONDING LOCK-IN AMPLIFIERS

Номер патента: US20190288737A1. Автор: JR. John,Valcore,HANKS Ernest Beauel. Владелец: . Дата публикации: 2019-09-19.

Method and apparatus of adjusting a position and metrology system

Номер патента: TWI536869B. Автор: 史蒂芬陳,馬修葛拉漢,吉姆克羅奇,伊格爾佛蒙柯維. Владелец: Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2016-06-01.

Metrology system for extreme ultraviolet light source

Номер патента: WO2022243006A1. Автор: Lam Nguyen,Dustin Michael URONE,Paul Alexander MCKENZIE,Gregory THERIAULT. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2022-11-24.

Scanning in angle-resolved reflectometry and algorithmically eliminating diffraction from optical metrology

Номер патента: US09958385B2. Автор: Daniel Kandel,Andrew Hill,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Ilan Sela,Barak BRINGOLTZ. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-05-01.

Hybrid metrology for patterned wafer characterization

Номер патента: WO2018075808A1. Автор: Andrei Veldman,Andrei Shchegrov,Alexander Kuznetsov,Boxue Chen. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-04-26.

Imaging for monitoring thickness in a substrate cleaning system

Номер патента: WO2022182499A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Dominic J. Benvegnu,Boguslaw A. Swedek,Jun Qian. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2022-09-01.

Systems for parsing material properties from within SHG signals

Номер патента: US11988611B2. Автор: Jianing SHI,John Paul Changala,Viktor Koldiaev,Marc Christopher Kryger. Владелец: Femtometrics Inc. Дата публикации: 2024-05-21.

Integrated circuit process monitoring and metrology system

Номер патента: US20050181615A1. Автор: Peter Burke,Eric Kirchner,James Elmer. Владелец: LSI Logic Corp. Дата публикации: 2005-08-18.

Electroplating and post-electrofill systems with integrated process edge imaging and metrology systems

Номер патента: US09809898B2. Автор: James E. Duncan,Daniel Mark Dinneen. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2017-11-07.

Subsurface alignment metrology system for packaging applications

Номер патента: US20240170317A1. Автор: Mehdi Vaez-Iravani,Venkatakaushik VOLETI,Keith Buckley Wells. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-05-23.

Subsurface alignment metrology system for packaging applications

Номер патента: WO2024112583A1. Автор: Mehdi Vaez-Iravani,Venkatakaushik VOLETI,Keith Buckley Wells. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-05-30.

Electroplating and post-electrofill systems with integrated process edge imaging and metrology systems

Номер патента: TWI620229B. Автор: 丹尼爾馬克丁南,詹姆斯Ｅ鄧肯. Владелец: 諾發系統有限公司. Дата публикации: 2018-04-01.

Metrology System of Fine pattern for Process Control by Charged Particle Beam

Номер патента: US20070221844A1. Автор: Hiromasa Yamanashi,Muneyuki Fukuda,Yasunari Sohda,Sayaka Tanimoto. Владелец: Hitachi High Technologies Corp. Дата публикации: 2007-09-27.

Collimated beam metrology systems for in-situ surgical applications

Номер патента: EP2586368A3. Автор: Alexey Sharonov,Candido Dionisio Pinto. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2013-10-16.

Semiconductor Inspection And Metrology System Using Laser Pulse Multiplier

Номер патента: US20140153596A1. Автор: Armstrong J. Joseph,Chuang Yung-Ho Alex,Deng Yujun,Liou Justin Dianhuan. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2014-06-05.

EMBEDDED ANTENNA ARRAY METROLOGY SYSTEMS AND METHODS

Номер патента: US20200076073A1. Автор: Hill Adrian A.,McBryde Connor C.. Владелец: . Дата публикации: 2020-03-05.

3D IC bump height metrology APC

Номер патента: US11075097B2. Автор: Chi-Ming Yang,Nai-Han Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-07-27.

3d ic bump height metrology apc

Номер патента: US20190139800A1. Автор: Chi-Ming Yang,Nai-Han Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2019-05-09.

3d ic bump height metrology apc

Номер патента: US20200152495A1. Автор: Chi-Ming Yang,Nai-Han Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-05-14.

Systems and methods for optical metrology

Номер патента: US20230296436A1. Автор: Gilad Barak,Yonatan OREN,Eyal Hollander,Elad Schleifer. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2023-09-21.

Ic fabrication flow with dynamic sampling for measurement

Номер патента: US20230366832A1. Автор: Pietro Foglietti,Jonas Hoehenberger,Moritz Steinberg,Alexander Sirch. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2023-11-16.

Lithographic apparatus, metrology systems, illumination sources and methods thereof

Номер патента: US12124173B2. Автор: Marinus Petrus REIJNDERS,Mohamed Swillam. Владелец: Asml Netherlands & Asml Holding BV NV. Дата публикации: 2024-10-22.

Optical assembly, projection system, metrology system and euv lithography apparatus

Номер патента: US20170102539A1. Автор: Ulrich Weber,Michael Brehm,Wolfgang Merkel,Henry Wegert. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2017-04-13.

Metrology systems, temporal and spatial coherence scrambler and methods thereof

Номер патента: US20240241453A1. Автор: Mohamed Swillam. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-07-18.

Wavefront sensor for a metrology system

Номер патента: WO2024156452A1. Автор: Stanislav Smirnov,Richard Carl Zimmerman,Alexander Kenneth RAUB,Adel Joobeur,Fan Deng,Heriniaina RAJAOBERISO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-08-02.

Metrology system based on multimode optical fiber imaging and lithographic apparatus

Номер патента: WO2024141215A1. Автор: Krishanu SHOME,Mahesh Upendra AJGAONKAR,Aniruddha Ramakrishna SONDE. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-04.

Broad spectrum metrology systems and methods for various metrology mark types

Номер патента: WO2024184017A1. Автор: Yuxiang LIN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-12.

Metrology system, lithographic apparatus, and method

Номер патента: US20240353761A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN,Filippo ALPEGGIANI. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-24.

Metrology system and method

Номер патента: WO2024041827A1. Автор: Armand Eugene Albert Koolen,Vasco Tomas TENNER,Richard Carl Zimmerman,Alexander Kenneth RAUB,Adel Joobeur,Changsik YOON,Su-Ting CHENG,Jasper Niko Maria HOOGVELD,Yuwei JIN,Xukang WEI,Louise Karina Laurie GOUTEUX. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-02-29.

Polarization selection metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20230400782A1. Автор: Douglas C. CAPPELLI. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-12-14.

Multiple objectives metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240012338A1. Автор: Douglas C. CAPPELLI. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-01-11.

Operating a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240231242A9. Автор: Johan Gertrudis Cornelis Kunnen,Bram Paul Theodoor Van Goch,Sae Na NA. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-07-11.

Metrology system for packaging applications

Номер патента: US20240241456A1. Автор: Mehdi Vaez-Iravani,Venkatakaushik VOLETI. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Automation methodology for 3d image metrology systems

Номер патента: AU2226397A. Автор: Horst A. Beyer. Владелец: IMETRIC SA. Дата публикации: 1997-09-10.

Metrology system for packaging applications

Номер патента: WO2024155302A1. Автор: Mehdi Vaez-Iravani,Venkatakaushik VOLETI. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-07-25.

Magnifying imaging optical unit and metrology system including same

Номер патента: US09482794B2. Автор: Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-11-01.

Controlling aberration in an optical system, a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: EP4327160A1. Автор: Krishanu SHOME,Scott Douglas COSTON,Kan DU. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-02-28.

Intensity order difference based metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240094641A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN,Justin Lloyd KREUZER,Filippo ALPEGGIANI. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-03-21.

Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof

Номер патента: US20230341785A1. Автор: Yuxiang LIN,Daan Maurits SLOTBOOM,Simon Reinald HUISMAN,Sergey MALYK. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-10-26.

Controlling aberration in an optical system, a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240201486A1. Автор: Krishanu SHOME,Scott Douglas COSTON,Kan DU. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-06-20.

METHOD FOR APPROXIMATING IMAGING PROPERTIES OF AN OPTICAL PRODUCTION SYSTEM TO THOSE OF AN OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, AND METROLOGY SYSTEM TO THIS END

Номер патента: US20220057709A1. Автор: HELLWEG Dirk,Jabbour Toufic,Koch Markus,Pagel Daniel,Gehrke Ralf. Владелец: . Дата публикации: 2022-02-24.

Scalable and Flexible Job Distribution Architecture for a Hybrid Processor System to Serve High Bandwidth Real Time Computational Systems Used in Semiconductor Inspection and Metrology Systems

Номер патента: US20180341525A1. Автор: Gupta Ajay,VENKATARAMAN Sankar,Mahadevan Mohan,Balasingam Sashi. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-29.

High bandwith, dynamically rigid metrology system for the measurement and control of intelligent manufacturing processes

Номер патента: CA2229935A1. Автор: Demos Kyrazis. Владелец: Individual. Дата публикации: 1997-03-06.

BEAM CONTROL APPARATUS FOR AN ILLUMINATION BEAM AND METROLOGY SYSTEM COMPRISING AN OPTICAL SYSTEM CONTAINING SUCH A BEAM CONTROL APPARATUS

Номер патента: US20130120820A1. Автор: Krebs Marten,Huber Gerhard,Stuehler Joachim,Schellhorn Uwe. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-05-16.

Robotic-Mounted Monument System for Metrology Systems

Номер патента: US20150012162A1. Автор: Cobb James M.,Trautman Peter Frederick,Sjoholm Paul Fredric. Владелец: . Дата публикации: 2015-01-08.

OPTICAL ASSEMBLY, PROJECTION SYSTEM, METROLOGY SYSTEM AND EUV LITHOGRAPHY APPARATUS

Номер патента: US20170102539A1. Автор: Weber Ulrich,Brehm Michael,Merkel Wolfgang,WEGERT Henry. Владелец: . Дата публикации: 2017-04-13.

ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR A METROLOGY SYSTEM AND METROLOGY SYSTEM COMPRISING SUCH AN ILLUMINATION OPTICAL UNIT

Номер патента: US20190121145A1. Автор: Frank Thomas,Matejka Ulrich,Doering Dirk,Laengle Mario,Seitz Holger. Владелец: . Дата публикации: 2019-04-25.

ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR A METROLOGY SYSTEM AND METROLOGY SYSTEM COMPRISING SUCH AN ILLUMINATION OPTICAL UNIT

Номер патента: US20180173001A1. Автор: Frank Thomas,Matejka Ulrich,Doering Dirk,Laengle Mario,Seitz Holger. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-21.

Illumination optics for a metrology system for the examination of an object with EUV illumination light and metrology system with such illumination optics

Номер патента: DE102010029049A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Alois Herkommer. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2011-11-24.

LITHOGRAPHIC APPARATUS, METROLOGY SYSTEM, AND ILLUMINATION SYSTEMS WITH STRUCTURED ILLUMINATION

Номер патента: US20220373895A1. Автор: Adams Joshua,Lin Yuxiang,ELAZHARY Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed,SHOME Krishanu. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-11-24.

Metrology system and lithographic system

Номер патента: WO2022106182A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2022-05-27.

Illumination optics for a metrology system and metrology system with such an illumination optics

Номер патента: DE102013212613B4. Автор: Thomas Frank,Mario Längle,Holger Seitz,Ulrich Matejka,Dirk Doering. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2015-07-23.

Illumination optical unit for a metrology system and metrology system comprising such an illumination optical unit

Номер патента: US9904060B2. Автор: Thomas Frank,Holger Seitz,Ulrich Matejka,Dirk Doering,Mario Laengle. Владелец: CARL ZEISS AG. Дата публикации: 2018-02-27.

Imaging optical system for a metrology system for analyzing a lithography mask

Номер патента: WO2016012425A2. Автор: Hans-Jürgen Mann,Ralf Müller,Johannes Ruoff,Ulrich Matejka,Susanne Beder,Jens Timo NEUMANN. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2016-01-28.

Metrology system and method for compensating for overlay errors by the metrology system

Номер патента: EP3114705B1. Автор: WEI CHANG,Joseph Gutierrez,Krishna Rao,Prasanna Dighe,Ramon Olavarria,Craig MACNAUGHTON,Amir Azordegan. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2022-11-23.

Fiber Delivery for Metrology Systems Used in Lithography Tools

Номер патента: US20130128249A1. Автор: Redlitz Kurt. Владелец: ZYGO CORPORATION. Дата публикации: 2013-05-23.

Calibration Of An Optical Metrology System For Critical Dimension Application Matching

Номер патента: US20130245985A1. Автор: Flock Klaus,Rotter Lawrence,Arain Muzammil. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2013-09-19.

Magnifying imaging optical unit and metrology system comprising such an imaging optical unit

Номер патента: US20130250428A1. Автор: Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-09-26.

METROLOGY SYSTEM HAVING AN EUV OPTICAL UNIT

Номер патента: US20190011615A1. Автор: Mueller Stefan,HELLWEG Dirk,Gehrke Ralf. Владелец: . Дата публикации: 2019-01-10.

Determining an optimal operational parameter setting of a metrology system

Номер патента: US20210018852A1. Автор: Richard Johannes Franciscus Van Haren,xing lan Liu,Leon Paul VAN DIJK,Victor Emanuel Calado. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2021-01-21.

VIRTUAL METROLOGY SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20160041548A1. Автор: Lin Yi-Chun,Chung Feng-Chi,Hsieh Ching-Hsing,Yu Chien-Chuan. Владелец: . Дата публикации: 2016-02-11.

AIR QUALITY METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20170039235A1. Автор: Benrachi Samia,MASSE Jean-Charles,CONRATH Pascal,DECHANDON Vincent. Владелец: BULL SAS. Дата публикации: 2017-02-09.

Process-Sensitive Metrology Systems and Methods

Номер патента: US20170045826A1. Автор: Smith Mark D.,Subrahmanyan Pradeep,Levy Ady,Pandev Stilian,Lee Myungjun,Kapasi Sanjay,Sanko Dimitry. Владелец: . Дата публикации: 2017-02-16.

Tree Metrology System

Номер патента: US20140163781A1. Автор: Vian John Lyle,Przybylko Joshua. Владелец: The Boeing Company. Дата публикации: 2014-06-12.

REFLECTIVE COMPACT LENS FOR MAGNETO-OPTIC KERR EFFECT METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20220137380A1. Автор: Wang Jun,Zhou Yang,Johnson Walter H.,Shi Jianou,Dong Lansheng,Peng Haijing,Krishnan Shankar,Wang David Y.,Ni Rui,ZHENG Alex,LI Chunxia,YAN Changfei,YOU Hai-Yang. Владелец: . Дата публикации: 2022-05-05.

METHOD FOR PROGRAMMING A THREE-DIMENSIONAL WORKPIECE SCAN PATH FOR A METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20160103443A1. Автор: Bryll Robert Kamil. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-14.

IMAGING OPTICAL UNIT FOR A METROLOGY SYSTEM FOR EXAMINING A LITHOGRAPHY MASK

Номер патента: US20170131528A1. Автор: RUOFF Johannes,Beder Susanne,Muller Ralf,Mann Hans-Jürgen,Matejka Ulrich,Neumann Jens Timo. Владелец: . Дата публикации: 2017-05-11.

METROLOGY SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20220283515A1. Автор: HUISMAN Simon Reinald,ELAZHARY Tamer Mohamed Tawfik Ahmed Mohamed,KREUZER Justin Lloyd,GOORDEN Sebastianus Adrianus. Владелец: . Дата публикации: 2022-09-08.

REMOTE ACCESSORY FOR GENERATING CUSTOMIZED AND SYNCHRONIZED REFERENCE NOTES FOR A PROGRAMMABLE METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20150177729A1. Автор: Atherton Kim. Владелец: MITUTOYO CORPORATION. Дата публикации: 2015-06-25.

Remote Accessory Management in a Programming Environment for a Progammable Metrology System

Номер патента: US20150178484A1. Автор: Emtman Casey Edward,McNamara John W.. Владелец: . Дата публикации: 2015-06-25.

VIRTUAL METROLOGY SYSTEM AND METHOD

Номер патента: US20190187674A1. Автор: Lin Yi-Chun,Chung Feng-Chi,Hsieh Ching-Hsing,Yu Chien-Chuan. Владелец: UNITED MICROELECTRONICS CORP.. Дата публикации: 2019-06-20.

Polarization Independent Metrology System

Номер патента: US20190243254A1. Автор: KREUZER Justin Lloyd,SHOME Krishanu. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2019-08-08.

DETERMINING AN OPTIMAL OPERATIONAL PARAMETER SETTING OF A METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20190250523A1. Автор: VAN HAREN Richard Johannes Franciscus,VAN DIJK Leon Paul,CALADO Victor Emanuel,LIU Xing Lan. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-08-15.

METHOD FOR DETERMINING AN OPTIMIZED SET OF MEASUREMENT LOCATIONS FOR MEASUREMENT OF A PARAMETER OF A LITHOGRAPHIC PROCESS, METROLOGY SYSTEM AND COMPUTER PROGRAM PRODUCTS FOR IMPLEMENTING SUCH METHODS

Номер патента: US20190258178A1. Автор: TEN BERGE Peter,DE RUITER Christiaan Theodoor. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2019-08-22.

METHOD FOR DETERMINING A FOCUS POSITION OF A LITHOGRAPHY MASK AND METROLOGY SYSTEM FOR CARRYING OUT SUCH A METHOD

Номер патента: US20190258180A1. Автор: HELLWEG Dirk,Koch Markus,Capelli Renzo,Dietzel Martin. Владелец: . Дата публикации: 2019-08-22.

MAGNIFYING IMAGING OPTICAL UNIT AND METROLOGY SYSTEM INCLUDING SAME

Номер патента: US20140362584A1. Автор: Mann Hans-Juergen. Владелец: . Дата публикации: 2014-12-11.

Lithographic Apparatus With A Metrology System For Measuring A Position Of A Substrate Table

Номер патента: US20140368800A1. Автор: Donders Sjoerd Nicolaas Lambertus,Koevoets Adrianus Hendrik,Cadee Petrus Maria. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2014-12-18.

Metrology System for Positioning Assemblies

Номер патента: US20150314891A1. Автор: Cobb James M.,Best Steven A.,Munk Clayton Lynn,Reid Eric M.,DesJardien Matthew Ray,Day Dan Dresskell. Владелец: . Дата публикации: 2015-11-05.

POLARIZATION INDEPENDENT METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20180299790A1. Автор: KREUZER Justin Lloyd,SHOME Krishanu. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2018-10-18.

INTEGRATED STANDARDIZED METROLOGY SYSTEM (ISMETS)

Номер патента: US20190303529A1. Автор: Cook,Sjoholm Paul F.,Journeay Glen Anthony,JR. Jonathan Gorman,Hoang Khanh Quoc. Владелец: . Дата публикации: 2019-10-03.

MAGNETO-OPTIC KERR EFFECT METROLOGY SYSTEMS

Номер патента: US20200302965A1. Автор: Wang Jun,Zhou Yang,Johnson Walter H.,Shi Jianou,Dong Lansheng,Peng Haijing,Krishnan Shankar,Wang David Y.,Ni Rui,Blasenheim Barry,LI Chunxia,YAN Changfei,YOU Hai-Yang,Zheng Yaolei. Владелец: . Дата публикации: 2020-09-24.

METROLOGY SYSTEM FOR POSITIONING ASSEMBLIES

Номер патента: US20180312277A1. Автор: Cobb James M.,Best Steven A.,Munk Clayton Lynn,Reid Eric M.,DesJardien Matthew Ray,Day Dan Dresskell. Владелец: . Дата публикации: 2018-11-01.

METHOD AND APPARATUS FOR PREDICTING PERFORMANCE OF A METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20180314160A1. Автор: BHATTACHARYYA Kaustuve,PLUG Reinder Teun,MAASSEN Martinus Gerardus Maria Johannes. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-11-01.

METROLOGY SYSTEM FOR MEASUREMENT UNCERTAINTY ANALYSIS

Номер патента: US20190354915A1. Автор: Hockett Jacob Daniel. Владелец: . Дата публикации: 2019-11-21.

Multiple objectives metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: WO2022112064A1. Автор: Douglas C. CAPPELLI. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-06-02.

Optical metrology system and metrology mark characterization device

Номер патента: US20070153274A1. Автор: Arie Den Boef,Nicolaas Van Der Aa,Robert Mattheij,Henricus Ter Morsche. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2007-07-05.

Method for determining an optimized set of measurement locations for measurement of a parameter of a lithographic process, metrology system

Номер патента: EP3321737A1. Автор: Peter Ten Berge,Christiaan Theodoor DE RUITER. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2018-05-16.

Metrology system using optical phase

Номер патента: US6710876B1. Автор: Guoheng Zhao,Mehrdad Nikoonahad,Ian Smith,Mehdi Vaez-Iravani. Владелец: KLA Tencor Technologies Corp. Дата публикации: 2004-03-23.

Illumination optics for illuminating structured object such as lithographic mask or wafer, mounted in metrology system, has an energy sensor designed for monitoring the lighting total light dose which hits on the facet mirrors

Номер патента: DE102013211269A1. Автор: Markus DEGÜNTHER. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-04-30.

An Optical Metrology System and Metrology Mark Characterization Device

Номер патента: KR100794279B1. Автор: 아리에 예프레이 덴 보에프,니콜라스 페트루스 반 데르 아,로베르트 마르티누스 마리아 마타이요,헨리쿠스 게라르두스 테르 모르쉐. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2008-01-11.

Metrology systems and methods

Номер патента: KR20220037505A. Автор: 세바스티아누스 아드리아누스 구르덴,시몬 레이날드 후이스만,타머 모하메드 타우픽 아메드 모하메드 엘라자리,저스틴 로이드 크레우저. Владелец: 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.. Дата публикации: 2022-03-24.

Lithographic Apparatus, Metrology System, and Method Thereof

Номер патента: KR20230011408A. Автор: 사이몬 레이날드 휘스만,세르게이 말리크,위샹 린,댄 모리츠 슬롯붐. Владелец: 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.. Дата публикации: 2023-01-20.

Lithographic apparatus, metrology systems, illumination sources and methods thereof

Номер патента: WO2021136632A1. Автор: Marinus Petrus REIJNDERS,Mohamed Swillam. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-07-08.

Lithographic apparatus, multi-wavelength phase-modulated scanning metrology system and method

Номер патента: WO2021239479A1. Автор: Johannes Jacobus Matheus Baselmans,Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN,Mohamed Swillam,Arjan Johannes Anton BEUKMAN,Filippo ALPEGGIANI,Haico Victor Kok. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-12-02.

Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof

Номер патента: WO2021254810A1. Автор: Yuxiang LIN,Daan Maurits SLOTBOOM,Simon Reinald HUISMAN,Sergey MALYK. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-12-23.

Lithographic apparatus, metrology systems, illumination switches and methods thereof

Номер патента: WO2021259618A1. Автор: Marinus Petrus REIJNDERS,Mohamed Swillam. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2021-12-30.

Spectrometric metrology systems based on multimode interference and lithographic apparatus

Номер патента: WO2022012927A1. Автор: Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-01-20.

Lithographic apparatus, metrology system, and intensity imbalance measurement for error correction

Номер патента: WO2022042966A1. Автор: Earl William EBERT,Roxana REZVANI NARAGHI. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-03-03.

Metrology system and coherence adjusters

Номер патента: WO2022122560A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN,Justin Lloyd KREUZER,Muhsin ERALP,Sergei SOKOLOV,Jin LIAN. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-06-16.

Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof

Номер патента: WO2022135870A1. Автор: Sebastianus Adrianus GOORDEN,Stephen Roux,Sergei SOKOLOV,Arjan Johannes Anton BEUKMAN,Filippo ALPEGGIANI. Владелец: ASML Holding N.V.. Дата публикации: 2022-06-30.

Determining an optimal operational parameter setting of a metrology system

Номер патента: TW201830157A. Автор: 迪傑克里昂保羅凡,維克托艾曼紐卡拉多,柳星蘭,哈倫理查喬哈奈法蘭西卡斯凡. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2018-08-16.

METROLOGY SYSTEM OF AIR QUALITY

Номер патента: FR3020159B1. Автор: Samia BENRACHI,Jean-Charles MASSE,Pascal CONRATH,Vincent DECHANDON. Владелец: Bull SA. Дата публикации: 2018-03-02.

Metrology system, lithographic apparatus, and method

Номер патента: WO2023030832A1. Автор: Simon Reinald HUISMAN,Sebastianus Adrianus GOORDEN,Filippo ALPEGGIANI. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2023-03-09.

Magnifying imaging lens and metrology system having said imaging lens

Номер патента: WO2011012266A1. Автор: Hans-Jürgen Mann. Владелец: Carl Zeiss SMS GmbH. Дата публикации: 2011-02-03.

Sub-nanometer overlay, critical dimension, and lithography tool projection optic metrology systems based on measurement of exposure induced changes in photoresist on wafers

Номер патента: US7324216B2. Автор: Henry Allen Hill. Владелец: Zetetic Institute. Дата публикации: 2008-01-29.

Lithographic apparatus, metrology systems, illumination sources and methods thereof

Номер патента: US20230058714A1. Автор: Marinus Petrus REIJNDERS,Mohamed Swillam. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-02-23.

Device for generating gas curtain for deflecting contaminating substances in extreme UV-mask metrological system, has nozzle with nozzle section, where pressure of supersonic-gas flow is not larger than specific percent of ambient pressure

Номер патента: DE102012213927A1. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Alexander Sauerhoefer,Jens Kugler,Stefan Hembacher,Peter Marek,Moritz Becker,Ernst Galutschek,Ali-Reza Akbarinia. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2013-06-06.

Calibration of an optical metrology system for critical dimension application matching

Номер патента: TW201346213A. Автор: Lawrence Rotter,Klaus Flock,Muzammil Arain. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2013-11-16.

Magnifying imaging optics and metrology system with such an imaging optics

Номер патента: DE102009035582A1. Автор: Hans-Jürgen Dr. Mann. Владелец: Carl Zeiss SMS GmbH. Дата публикации: 2011-02-03.

Magnifying imaging optics and metrology system with such an imaging optics

Номер патента: DE102011084255A8. Автор: Dr. Mann Hans-Jürgen,Dr. Feldmann Heiko. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-02.

An optical metrology system and metrology mark characterization method

Номер патента: EP1804126B1. Автор: Arie Jeffrey Den Boef,Nicolaas Petrus Van Der Aa,Robert Martinus Maria Mattheij,Henricus Gerhardus Ter Morsche. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2009-02-04.

Scalable and flexible job distribution architecture for semiconductor inspection and metrology systems

Номер патента: WO2018217545A1. Автор: Mohan Mahadevan,Ajay Gupta,Sankar Venkataraman,Sashi BALASINGAM. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-11-29.

Lithographic apparatus, metrology system, illumination switch and method thereof

Номер патента: CN115702392A. Автор: M·P·瑞因德斯,M·斯维拉姆. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-02-14.

Photolithography mask critical dimension metrology system and method

Номер патента: US7251015B2. Автор: Chiu-Shan Yoo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2007-07-31.

High performance front objective for video metrological system

Номер патента: US20090096912A1. Автор: Stephanie Bloch. Владелец: Quality Vision International Inc. Дата публикации: 2009-04-16.

Apparatus and method for predicting the performance of metrology system

Номер патента: KR102209725B1. Автор: 카우스투베 바타차리야,마르티누스 마아쎈,레인더 턴 플러그. Владелец: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.. Дата публикации: 2021-02-02.

Imaging lens for use in metrology system that is utilized during manufacturing of semiconductor components, has mirrors for reproducing object field, where ratio between dimensions of imaging field and user surface is larger than three

Номер патента: DE102011084255A1. Автор: Hans-Jürgen Mann,Heiko Feldmann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-05-24.

Method for determining an optimized set of measurement locations for measurement of a parameter of a lithographic process, metrology system and computer program products for implementing such methods

Номер патента: WO2018086795A1. Автор: Peter Ten Berge,Christiaan Theodoor DE RUITER. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2018-05-17.

Air quality metrology system

Номер патента: EP3132410A1. Автор: Samia BENRACHI,Jean-Charles MASSE,Pascal CONRATH,Vincent DECHANDON. Владелец: Bull SA. Дата публикации: 2017-02-22.

Method and device for determining optimal operating parameter setting of metrology system and method for determining substrate grid

Номер патента: TWI649643B. Автор: 迪傑克里昂保羅凡,維克托艾曼紐卡拉多,柳星蘭,哈倫理查喬哈奈法蘭西卡斯凡. Владелец: 荷蘭商Ａｓｍｌ荷蘭公司. Дата публикации: 2019-02-01.

Automation method for 3D image metrology systems

Номер патента: CN1212064A. Автор: H·A·贝耶尔. Владелец: Imetric S A. Дата публикации: 1999-03-24.

Method for evaluating reliance level of a virtual metrology system

Номер патента: TW200742951A. Автор: Fan-Tien Cheng,Yu-Chuan Su,Yeh-Tung Chen. Владелец: Univ Nat Cheng Kung. Дата публикации: 2007-11-16.

Magnifying imaging optical unit and metrology system comprising such an imaging optical unit

Номер патента: WO2012101269A1. Автор: Hans-Jürgen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2012-08-02.

Polarization selection metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: IL302446A. Автор: . Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-06-01.

Lithographic apparatus, metrology systems, and methods thereof

Номер патента: US20240036485A1. Автор: Sebastianus Adrianus GOORDEN,Stephen Roux,Arjan Johannes Anton BEUKMAN,Filippo ALPEGGIANI,Sergel SOKOLOV. Владелец: Asml Netheriands BV. Дата публикации: 2024-02-01.

Operating a metrology system, lithographic apparatus, and methods thereof

Номер патента: US20240134289A1. Автор: Bram Paul Theodoor Van Goch,Johan KUNNEN,Sae Na NA. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-04-25.

Method,computer-readable medium,and integrated wafer processing and metrology system for determining position accuracy of double exposure lithography using optical metrology

Номер патента: TWI378233B. Автор: Youxian Wen,Shifang Li. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2012-12-01.

Magnifying imaging optical unit and metrology system including same

Номер патента: US20140362584A1. Автор: Hans-Juergen Mann. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2014-12-11.

Methods and systems for compact, small spot size soft x-ray scatterometry

Номер патента: EP4248194A1. Автор: David Y. Wang,Michael Friedmann,Kerstin PURRUCKER. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-09-27.

Scatterometry-based imaging and critical dimension metrology

Номер патента: US09494535B2. Автор: Abdurrahman Sezginer,John Hench,Michael S. Bakeman. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Nondestructive inline X-ray metrology with model-based library method

Номер патента: US09490183B2. Автор: WEN Jin,Junwei Bao. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Systems and methods for metrology with layer-specific illumination spectra

Номер патента: US11852590B1. Автор: Vladimir Levinski,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Daria Negri,Yuri Paskover,Andrew V. Hill. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-26.

Methods and systems for compact, small spot size soft x-ray scatterometry

Номер патента: WO2022132521A1. Автор: David Y. Wang,Michael Friedmann,Kerstin PURRUCKER. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2022-06-23.

Methods and systems for compact, small spot size soft x-ray scatterometry

Номер патента: US12013355B2. Автор: David Y. Wang,Michael Friedmann,Kerstin PURRUCKER. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-18.

Sample Transport Device With Integrated Metrology

Номер патента: US20190295874A1. Автор: Kevin O'Brien,Shankar Krishnan,Joshua Butler,Giampietro Bieli,Robert Tas. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2019-09-26.

Sample transport device with integrated metrology

Номер патента: WO2019183433A1. Автор: Kevin O'Brien,Shankar Krishnan,Joshua Butler,Robert D. Tas,Giampietro Bieli. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-26.

Metrology system for analyzing panel misregistration in a panel manufacturing process and providing appropriate information for adjusting panel manufacturing processes

Номер патента: EP0473363A2. Автор: Richard F. Kovacs,Hans Hugo Ammann,Everett Simons,Kwokming James Cheng,Henry Baldwin Micks, Jr.,Jamey Potechin,Richard Charles Steines,John G. Tetz. Владелец: AT&T Corp. Дата публикации: 1992-03-04.

Endpoint control of multiple substrates of varying thickness on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012030475A4. Автор: Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Huyen Tran,Stephen Jew,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,David H. Mai,Ingemar Carlsson,Shih-Haur Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-08-16.

Endpoint control of multiple substrates of varying thickness on the same platen in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2012030475A2. Автор: Alain Duboust,Wen-Chiang Tu,Zhihong Wang,Huyen Tran,Stephen Jew,Boguslaw A. Swedek,Jimin Zhang,David H. Mai,Ingemar Carlsson,Shih-Haur Shen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-03-08.

System and method for determining post bonding overlay

Номер патента: US11829077B2. Автор: David Owen,Mark D. Smith,Franz Zach,Xiaomeng SHEN,Jason Saito. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-11-28.

System and method for determining post bonding overlay

Номер патента: US20240094642A1. Автор: David Owen,Mark D. Smith,Franz Zach,Xiaomeng SHEN,Jason Saito. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

System and method for determining post bonding overlay

Номер патента: WO2022125343A1. Автор: David Owen,Mark D. Smith,Franz Zach,Xiaomeng SHEN,Jason Saito. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2022-06-16.

System and method for determining post bonding overlay

Номер патента: EP4248489A1. Автор: David Owen,Mark D. Smith,Franz Zach,Xiaomeng SHEN,Jason Saito. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-09-27.

Purged viewport for quartz dome in epitaxy reactor

Номер патента: US20200105554A1. Автор: Schubert Chu,Brian H. Burrows,Ji-Dih Hu,Janardhan DEVRAJAN. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-02.

System and Method for Error Reduction for Metrology Measurements

Номер патента: US20220155693A1. Автор: Amnon Manassen,Oren Lahav,Roie VOLKOVICH,Liran Yerushalmi,Anna Golotsvan,Nir BenDavid,Shlomit KATZ,Rawi DIRAWI,Chen Dror. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Self-contained metrology wafer carrier systems

Номер патента: US09911634B2. Автор: William J. Fosnight,Stephanie Waite,Abner Bello,Thomas BEEG. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2018-03-06.

Optical metrology in machine learning to characterize features

Номер патента: US20210035833A1. Автор: Ye Feng,Yan Zhang,Osman SORKHABI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2021-02-04.

Sensitive optical metrology in scanning and static modes

Номер патента: EP4025903A1. Автор: Yoram Uziel,Andrew Hill,Amnon Manassen,Yossi Simon,Gilad Laredo. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-07-13.

Sensitive optical metrology in scanning and static modes

Номер патента: WO2021061584A1. Автор: Yoram Uziel,Andrew Hill,Amnon Manassen,Yossi Simon,Gilad Laredo. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-04-01.

Sensitive optical metrology in scanning and static modes

Номер патента: US11933717B2. Автор: Yoram Uziel,Amnon Manassen,Andrew V. Hill,Yossi Simon,Gilad Laredo. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-19.

Optical metrology in machine learning to characterize features

Номер патента: US11921433B2. Автор: Ye Feng,Yan Zhang,Osman SORKHABI. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

In-line monitoring of OLED layer thickness and dopant concentration

Номер патента: US12137601B2. Автор: Robert Jan Visser,Yeishin Tung,Byung Sung Kwak,Dinesh Kabra,Gangadhar Banappanavar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-05.

Design-assisted large field of view metrology

Номер патента: WO2023059669A1. Автор: Frank Laske,Stefan Eyring. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-04-13.

Design-assisted large field of view metrology

Номер патента: EP4341893A1. Автор: Frank Laske,Stefan Eyring. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-27.

Design-assisted large field of view metrology

Номер патента: US12085385B2. Автор: Frank Laske,Stefan Eyring. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

DEVICE AND METHOD FOR OPTICAL IMAGE CORRECTION IN METROLOGY SYSTEMS

Номер патента: US20130226156A1. Автор: Sharonov Alexey. Владелец: COVIDIEN LP. Дата публикации: 2013-08-29.

PATH FOR PROBE OF SPECTROGRAPHIC METROLOGY SYSTEM

Номер патента: US20140242879A1. Автор: David Jeffrey Drue,Swedek Boguslaw A.,Benvegnu Dominic J.,Osterheld Thomas H.,Zuniga Steven M.,Qian Jun,Bennett Doyle E.,Li Thomas,Lischka David J.,Cherian Benjamin. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2014-08-28.

Dopant metrology with information feedforward and feedback

Номер патента: US8962351B1. Автор: Lena Nicolaides,Bin-Ming Benjamin Tsai,Alex Salnik. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-02-24.

In-line monitoring of oled layer thickness and dopant concentration

Номер патента: US20240130210A1. Автор: Robert Jan Visser,Guoheng Zhao,Yeishin Tung,Todd J. Egan,Byung Sung Kwak,Dinesh Kabra,Gangadhar Banappanavar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-18.

In-line monitoring of OLED layer thickness and dopant concentration

Номер патента: US11889740B2. Автор: Robert Jan Visser,Yeishin Tung,Byung Sung Kwak,Dinesh Kabra,Gangadhar Banappanavar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-01-30.

In-line monitoring of OLED layer thickness and dopant concentration

Номер патента: US11856833B2. Автор: Robert Jan Visser,Guoheng Zhao,Yeishin Tung,Todd J. Egan,Byung Sung Kwak,Dinesh Kabra,Gangadhar Banappanavar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-26.

In-line monitoring of oled layer thickness and dopant concentration

Номер патента: US20230320183A1. Автор: Robert Jan Visser,Yeishin Tung,Byung Sung Kwak,Dinesh Kabra,Gangadhar Banappanavar. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Metrology target for scanning metrology

Номер патента: EP3984058A1. Автор: YOEL Feler,Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Mark Ghinovker,Gilad Laredo,Andrew. V HILL. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-04-20.

Strontium tetraborate as optical coating material

Номер патента: US20210131978A1. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden,Yinying Xiao-Li,Elena Loginova. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-05-06.

Strontium tetraborate as optical coating material

Номер патента: EP3938766A1. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden,Yinying XIAOLI,Elena Loginova. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-01-19.

Web edge metrology

Номер патента: US12080869B2. Автор: David Alvarez,David Masayuki Ishikawa,Ezhiylmurugan Rangasamy,Girish Kumar GOPALAKRISHNAN NAIR,Kent Qiujing ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-09-03.

Apparatus for measuring overlay errors

Номер патента: US09702693B2. Автор: Michael Adel,Ady Levy,Mark Ghinovker,Dan Wack,Walter D. Mieher. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-07-11.

Darkfield imaging of grating target structures for overlay measurement

Номер патента: US20210072021A1. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-03-11.

Darkfield imaging of grating target structures for overlay measurement

Номер патента: EP4025901A1. Автор: Andrew Hill,Amnon Manassen. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-07-13.

Web edge metrology

Номер патента: EP4259842A1. Автор: David Alvarez,David Masayuki Ishikawa,Ezhiylmurugan Rangasamy,Girish Kumar GOPALAKRISHNANNAIR,Kent ZHAO. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-18.

Debris removal from high aspect structures

Номер патента: EP3272432A3. Автор: Kenneth Gilbert Roessler,Tod Evan Robinson,Bernabe J. Arruza,David Brinkley,Jeffrey E. Leclaire. Владелец: Rave LLC. Дата публикации: 2018-04-25.

Metrology recipe generation using predicted metrology images

Номер патента: WO2018118663A3. Автор: Brian Duffy,Mark D. Smith,Chao FANG. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-08-02.

Metrology and process control for semiconductor manufacturing

Номер патента: WO2019239380A1. Автор: Daniel Kandel,Barak BRINGOLTZ,Oded Cohen,Noam Tal,Yongha Kim,Ilya Rubinovich,Ariel Broitman,Eytan ROTHSTEIN,Eylon RABINOVICH,Tal ZAHARONI,Shay YOGEV. Владелец: NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.. Дата публикации: 2019-12-19.

Metrology and process control for semiconductor manufacturing

Номер патента: US20240078450A1. Автор: Daniel Kandel,Barak BRINGOLTZ,Oded Cohen,Noam Tal,Yongha Kim,Ilya Rubinovich,Ariel Broitman,Eylon RABINOVICH,Tal ZAHARONI,Shay YOGEV,Eitan Rothstein. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2024-03-07.

Multi-pitch grid overlay target for scanning overlay metrology

Номер патента: US20240068804A1. Автор: Daria Negri,Yuval LUBASHEVSKY,Itay Gdor,Eitan Hajaj. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Metrology and process control for semiconductor manufacturing

Номер патента: US11763181B2. Автор: Daniel Kandel,Barak BRINGOLTZ,Oded Cohen,Noam Tal,Yongha Kim,Ilya Rubinovich,Ariel Broitman,Eylon RABINOVICH,Tal ZAHARONI,Shay YOGEV,Eitan Rothstein. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2023-09-19.

Multi-pitch grid overlay target for scanning overlay metrology

Номер патента: WO2024044112A1. Автор: Daria Negri,Yuval LUBASHEVSKY,Itay Gdor,Eitan Hajaj. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-02-29.

Thickness measurement of substrate using color metrology

Номер патента: US20230281801A1. Автор: Dominic J. Benvegnu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-09-07.

Thickness measurement of substrate using color metrology

Номер патента: US20210248730A1. Автор: Dominic J. Benvegnu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-08-12.

Thickness measurement of substrate using color metrology

Номер патента: US20190295239A1. Автор: Dominic J. Benvegnu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-09-26.

Adaptive control of wafer-to-wafer variability in device performance in advanced semiconductor processes

Номер патента: US20200111689A1. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Lior Engel. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-09.

Linear stage and metrology architecture for reflective electron beam lithography

Номер патента: EP2859577A1. Автор: Andrew Wilson,Mark Williams,Upendra Ummethala,Layton Hale,Samir Nayfeh,Joseph DIREGOLO,Josh Clyne. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2015-04-15.

Imaging reflectometry for inline screening

Номер патента: EP4285112A1. Автор: Shifang Li,David W. Price,Stilian PANDEV,Robert J. Rathert,Chet V. Lenox,Oreste Donzella,John Charles Robinson,Mike Von den Hoff,Barry Saville,Thomas Groos,Justin LACH. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-12-06.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US20240255341A1. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for converting metrology data

Номер патента: EP4399573A1. Автор: FENG Yang,ZHU Wang,Qian Zhao,Jen-Shiang Wang,Mu FENG,Yunbo Guo. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-07-17.

Pulsed light beam spectral feature control

Номер патента: US09772556B2. Автор: Kevin M. O'brien,Rahul Ahlawat. Владелец: Cymer LLC. Дата публикации: 2017-09-26.

Flow metrology calibration for improved processing chamber matching in substrate processing systems

Номер патента: US11959793B2. Автор: Evangelos T. Spyropoulos,Piyush Agarwal. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-04-16.

Conveyor inspection system, substrate rotator, and test system having the same

Номер патента: US20210096169A1. Автор: Asaf Schlezinger,Markus J. STOPPER. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2021-04-01.

Measurement models of nanowire semiconductor structures based on re-usable sub-structures

Номер патента: WO2019178424A1. Автор: Alexander Kuznetsov,Houssam Chouaib. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-09-19.

Measurement Models Of Nanowire Semiconductor Structures Based On Re-Useable Sub-Structures

Номер патента: US20190286787A1. Автор: Alexander Kuznetsov,Houssam Chouaib. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-09-19.

Homogenization of light beam for spectral feature metrology

Номер патента: US10288484B2. Автор: Thomas Patrick Duffey,Zhongquan Zhao,Brian Edward King. Владелец: Cymer LLC. Дата публикации: 2019-05-14.

Apparatus and method for optical inspection, magnetic field and height mapping

Номер патента: US09513230B2. Автор: Christopher Sears,Robert Haynes,Mehran Nasser-Ghodsi,Edward Wagner,Tomas Plettner,John Gerling,Garrett Pickard. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-12-06.

Scatterometry metrology target design optimization

Номер патента: EP2386114A2. Автор: Daniel Kandel,Amnon Manassen,Michael E. Adel. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2011-11-16.

Scatterometry metrology target design optimization

Номер патента: WO2010080732A2. Автор: Daniel Kandel,Amnon Manassen,Michael E. Adel. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2010-07-15.

Three-dimensional calibration tools and methods

Номер патента: EP3465083A1. Автор: Roy Allen,Stephen M. Mcmahon. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2019-04-10.

High-resolution evaluation of optical metrology targets for process control

Номер патента: WO2024063977A1. Автор: Dana Klein,Nadav GUTMAN,Slawomir Czerkas,Frank Laske,Yossi Simon,Mirko Wittkoetter. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-03-28.

High-resolution evaluation of optical metrology targets for process control

Номер патента: US20240094639A1. Автор: Dana Klein,Nadav GUTMAN,Slawomir Czerkas,Frank Laske,Yossi Simon,Mirko Wittkoetter. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-21.

Integrated scanning electron microscopy and optical analysis techniques for advanced process control

Номер патента: WO2019241054A1. Автор: Arun Lobo,Hari Pathangi Sriraman,Sivaprasath MEENAKSHISUNDARAM. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-12-19.

Deep learning based adaptive regions of interest for critical dimension measurements of semiconductor substrates

Номер патента: EP3853885A1. Автор: Arpit YATI. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-07-28.

Deep learning based adaptive regions of interest for critical dimension measurements of semiconductor substrates

Номер патента: WO2020076544A1. Автор: Arpit YATI. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2020-04-16.

Efficient Semiconductor Metrology Using Machine Learning

Номер патента: US20230317528A1. Автор: Elad Mentovich,Liran Liss,Juan Jose VEGAS OLMOS,Oscar Mauricio Forero Camacho. Владелец: MELLANOX TECHNOLOGIES LTD. Дата публикации: 2023-10-05.

Multi-directional overlay metrology using multiple illumination paramters and isolated imaging

Номер патента: WO2023196359A1. Автор: Andrew Hill,Amnon Manassen,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-10-12.

Multi-directional overlay metrology using multiple illumination parameters and isolated imaging

Номер патента: US11800212B1. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Multi-directional overlay metrology using multiple illumination parameters and isolated imaging

Номер патента: US20230328351A1. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-12.

Combined photothermal and ocd for semi-opaque structures

Номер патента: WO2023180906A1. Автор: Gilad Barak,Yonatan OREN,Asaf ILOVITSH. Владелец: NOVA LTD.. Дата публикации: 2023-09-28.

Thin-film metrology using spectral reflectance with an intermediate in-line reference

Номер патента: US20080180684A1. Автор: Scott A. Chalmers,Randall S. Geels. Владелец: Individual. Дата публикации: 2008-07-31.

On The Fly Target Acquisition

Номер патента: US20190228518A1. Автор: Andrew Hill,Amnon Manassen,Alexander Novikov,Nadav GUTMAN,Yossi Simon,Eugene Maslovsky. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-07-25.

Optical Metrology With Small Illumination Spot Size

Номер патента: US20180180406A1. Автор: Noam Sapiens,Andrei V. Shchegrov,Kevin A. Peterlinz,Alexander Buettner,Kerstin PURRUCKER. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-06-28.

Methods and systems for spectroscopic beam profile metrology having a first two dimensional detector to detect collected light transmitted by a first wavelength dispersive element

Номер патента: US10072921B2. Автор: Noam Sapiens,Jiyou Fu,Kevin A. Peterlinz,Stilian Ivanov Pandev. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-09-11.

Dynamic display calibration based on eye-tracking

Номер патента: CA3004271C. Автор: Samuel A. Miller,Ivan L. Yeoh,Lionel E. Edwin. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Light field display metrology

Номер патента: CA3004278C. Автор: Samuel A. Miller,Ivan L. Yeoh,Lionel E. Edwin. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-04-09.

Light field display metrology

Номер патента: US11898836B2. Автор: Samuel A. Miller,Ivan Li Chuen YEOH,Lionel Ernest Edwin. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-02-13.

Light field display metrology

Номер патента: US20240142224A1. Автор: Samuel A. Miller,Ivan Li Chuen YEOH,Lionel Ernest Edwin. Владелец: Magic Leap Inc. Дата публикации: 2024-05-02.

Spectral shaper illumination device

Номер патента: WO2023227290A1. Автор: Mariano Campoy Quiles,Alejandro Rodolfo Goñi,Marí GILBERT ROCA,Miquel CASADEMONT VIÑAS. Владелец: Institucio Catalana De Recerca I Estudis Avancats (Icrea). Дата публикации: 2023-11-30.

Apparatus and method for optical metrology with optimized system parameters

Номер патента: US09879977B2. Автор: Andrei V. Shchegrov. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-01-30.

Method and system for regional phase unwrapping with pattern-assisted correction

Номер патента: US09897433B2. Автор: Xuan Zhao,Helen Liu,Xiaowei Li. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Optical metrology with small illumination spot size

Номер патента: US09915524B2. Автор: Noam Sapiens,Andrei V. Shchegrov,Kevin A. Peterlinz,Alexander Buettner,Kerstin PURRUCKER. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-03-13.

Method and System for Regional Phase Unwrapping with Pattern-Assisted Correction

Номер патента: US20170241764A1. Автор: Xuan Zhao,Helen Liu,Xiaowei Li. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-08-24.

Shaft cone crown measurement system and methodology

Номер патента: US20100094588A1. Автор: Ananda V. Mysore,Steve G. Gonzalez. Владелец: SEAGATE TECHNOLOGY LLC. Дата публикации: 2010-04-15.

Systems and methods for characterizing thickness and topography of microelectronic workpiece layers

Номер патента: US20090044610A1. Автор: Gurtej S. Sandhu,Jeffrey L. Mackey. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2009-02-19.

Predictive spatial digital design of experiment for advanced semiconductor process optimization and control

Номер патента: US20200110852A1. Автор: Dermot Cantwell,Samer Banna,Waheb Bishara. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2020-04-09.

System and method for suppression of tool induced shift in scanning overlay metrology

Номер патента: WO2024112402A1. Автор: Vladimir Levinski,Daria Negri,Yuval LUBASHEVSKY,Itay Gdor,Alon YAGIL,Nickolai ISAKOVITCH. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-05-30.

Scanning scatterometry overlay metrology

Номер патента: EP4384774A1. Автор: Andrew Hill,Amnon Manassen,Yuri Paskover,Yuval LUBASHEVSKY,Yonatan Vaknin,Itay Gdor. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-19.

Phase retrieval system for assessing diamond-turning and other optical surface artifacts

Номер патента: US20120050724A1. Автор: Bruce H. Dean,Matthew R. Bolar,Alejandro V. Maldonado. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-03-01.

Sub micron particle detection on burl tops by applying a variable voltage to an oxidized wafer

Номер патента: US20230314962A1. Автор: Tammo Uitterdijk. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2023-10-05.

System and method for optimizing through silicon via overlay

Номер патента: EP4324022A1. Автор: Mark D Smith,Franz Zach,Roel Gronheid. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

System and method for detecting particle contamination on a bonding tool

Номер патента: EP4324024A1. Автор: Mark D. Smith,Franz Zach,Roel Gronheid. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-02-21.

System and method for suppression of tool induced shift in scanning overlay metrology

Номер патента: US20240167813A1. Автор: Vladimir Levinski,Daria Negri,Yuval LUBASHEVSKY,Itay Gdor,Alon YAGIL,Nickolai Isakovich. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-05-23.

Parallax method for a single-cell diffraction based measurement of misregistration

Номер патента: US20230259041A1. Автор: Yuval LAMHOT,Mordechy Kot. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Method of designing an alignment mark

Номер патента: WO2021052695A1. Автор: Hua Li,Jigang Ma. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2021-03-25.

Thickness measurement of substrate using color metrology

Номер патента: US12148148B2. Автор: Dominic J. Benvegnu. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-11-19.

Scanning scatterometry overlay metrology

Номер патента: WO2023191980A1. Автор: Andrew Hill,Amnon Manassen,Yuri Paskover,Yuval LUBASHEVSKY,Yonatan Vaknin,Itay Gdor. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-10-05.

Scanning scatterometry overlay metrology

Номер патента: US20230314319A1. Автор: Amnon Manassen,Yuri Paskover,Andrew V. Hill,Yuval LUBASHEVSKY,Yonatan Vaknin,Itay Gdor. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-05.

Measurement recipe optimization based on probabilistic domain knowledge and physical realization

Номер патента: EP4066172A1. Автор: Wei Lu,Stilian PANDEV,Dzmitry Sanko. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-10-05.

Measurement recipe optimization based on probabilistic domain knowledge and physical realization

Номер патента: WO2021113063A1. Автор: Wei Lu,Stilian PANDEV,Dzmitry Sanko. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-06-10.

Optical metrology with reduced sensitivity to grating anomalies

Номер патента: US09470639B1. Автор: Paul Aoyagi,Lanhua Wei,Walter Mieher,Shankar Krishnan,Guorong V. Zhuang. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

Scanning scatterometry overlay measurement

Номер патента: EP4251978A1. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-04.

Strontium tetraborate as optical glass material

Номер патента: WO2021007263A1. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden,Yingying Li,Elena Loginova. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-01-14.

Simultaneous Capturing of Overlay Signals From Multiple Targets

Номер патента: US20180335346A1. Автор: Amnon Manassen,Yuri Paskover,Andrew V. Hill,Yuval LUBASHEVSKY. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-11-22.

Simultaneous capturing of overlay signals from multiple targets

Номер патента: SG11201900509YA. Автор: Amnon Manassen,Yuri Paskover,Yuval LUBASHEVSKY,Andy HILL (Andrew). Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2019-02-27.

Simultaneous capturing of overlay signals from multiple targets

Номер патента: WO2018023078A1. Автор: Amnon Manassen,Yuri Paskover,Yuval LUBASHEVSKY,Andy HILL (Andrew). Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-02-01.

Protective coating for nonlinear optical crystal

Номер патента: WO2023009684A1. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-02-02.

Protective coating for nonlinear optical crystal

Номер патента: US12072606B2. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Wafer and stage alignment using photonic devices

Номер патента: US20090002721A1. Автор: LIN Zhou,Shahin Zangooie. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-01-01.

Phase characterization of targets

Номер патента: US09581430B2. Автор: YOEL Feler,PAYKIN Irina,Daniel Kandel,Vladimir Levinski,Alexander Svizher,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Daria Negri,Noam Sapiens,Barak BRINGOLTZ,Boris Golovanevsky,Meir Aloni,Guy BEN DOV,Hadar Shalmoni. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Metrology optimized inspection

Номер патента: US09518932B2. Автор: Allen Park,Ellis Chang,Craig MACNAUGHTON. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Measurement And Control Of Wafer Tilt For X-Ray Based Metrology

Номер патента: US20210262950A1. Автор: Yan Zhang,Huy Nguyen,Barry Blasenheim,Joseph A. Di Regolo,Robert Press. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-08-26.

Measurement and control of wafer tilt for x-ray based metrology

Номер патента: WO2021167935A1. Автор: Yan Zhang,Huy Nguyen,Barry Blasenheim,Joseph A. Di Regolo,Robert Press. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-08-26.

Field-to-field corrections using overlay targets

Номер патента: US20210200105A1. Автор: Mark Ghinovker,Roie VOLKOVICH,Inna Tarshish-Shapir,Chris Steely,Enna LESHINSKY-ALTSHULLER,Diana Shaphirov,Guy BEN DOV. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-07-01.

Strontium tetraborate as optical glass material

Номер патента: US20220136981A1. Автор: Yung-Ho Alex Chuang,John Fielden,Yinying Xiao-Li,Elena Loginova. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-05-05.

Library expansion system, method, and computer program product for metrology

Номер патента: WO2015175900A1. Автор: Leonid Poslavsky,Lie-Quan Rich LEE. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-11-19.

Single-cell scatterometry overlay with sensitivity calibration

Номер патента: US20240160114A1. Автор: Mordechy Kot. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Single-cell scatterometry overlay with sensitivity calibration

Номер патента: WO2024107366A1. Автор: Mordechy Kot. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-05-23.

Bandgap measurements of patterned film stacks using spectroscopic metrology

Номер патента: US11796390B2. Автор: Qiang Zhao,Andrei V. Shchegrov,Zhengquan Tan,Aaron Rosenberg,Alexander Kuznetsov,Houssam Chouaib,Liequan Lee,Dawei Hu,Stilian PANDEV,Torsten R. Kaack,Ming Di,Tianhan Wang,Manh Dang Nguyen,John Lesoine. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Circumferential laser crawler

Номер патента: US20130265588A1. Автор: Barry Theophile Cooke. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2013-10-10.

Circumferential laser crawler

Номер патента: CA2807610C. Автор: Barry T. Cooke. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2020-07-07.

Charged-particle beam system

Номер патента: US7329881B2. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2008-02-12.

Charged-particle beam system

Номер патента: US20050211681A1. Автор: Osamu Wakimoto. Владелец: Jeol Ltd. Дата публикации: 2005-09-29.

Artefact for evaluating the performance of an x-ray computed tomography system

Номер патента: EP2954286A1. Автор: Daniel Hilton,Diego Alfredo Punin Albarracin. Владелец: NIKON METROLOGY NV. Дата публикации: 2015-12-16.

System and method for characterizing three-dimensional structures

Номер патента: WO2004046655A9. Автор: Mehrdad Nikoohahad. Владелец: Mehrdad Nikoohahad. Дата публикации: 2004-10-28.

High-throughput testing and module integration of rotationally variant optical lens systems

Номер патента: US20230073048A1. Автор: Fei Liu,Chadwick Brian Martin,Di XU. Владелец: Meta Platforms Technologies LLC. Дата публикации: 2023-03-09.

Measurement system optimization for x-ray based metrology

Номер патента: WO2016115385A1. Автор: John J. Hench,Andrei V. Shchegrov,Michael S. Bakeman. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2016-07-21.

Theta-theta sample positioning stage with application to sample mapping using a reflectometer, spectrophotometer or ellipsometer system

Номер патента: EP3942282A1. Автор: Martin M. Liphardt,Galen L. Pfeiffer,Griffin A.P. HOVORKA. Владелец: JA Woollam Co Inc. Дата публикации: 2022-01-26.

Small spot size spectroscopic ellipsometer

Номер патента: US09952140B2. Автор: Haiming Wang,Shankar Krishnan. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Interface-based thin film metrology using second harmonic generation

Номер патента: US20240176206A1. Автор: Xi Chen,TIANHAO Zhang,Qiang Zhao,Ming Di,Shova Subedi. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Universal metrology model

Номер патента: US12078601B2. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Nireekshan K. Reddy. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Imaging overlay with mutually coherent oblique illumination

Номер патента: WO2023154255A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Daria Negri,Andrew V. Hill,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-08-17.

Imaging overlay with mutually coherent oblique illumination

Номер патента: US20230259040A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Daria Negri,Andrew V. Hill,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Scanning overlay metrology with high signal to noise ratio

Номер патента: US20240280914A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Andrew V. Hill. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Scanning overlay metrology with high signal to noise ratio

Номер патента: WO2024173150A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Andrew V Hill. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-08-22.

System and method for tilt calculation based on overlay metrology measurements

Номер патента: EP4049009A2. Автор: Amnon Manassen,Ady Levy,Paul Macdonald,Roie VOLKOVICH,Jincheng Pei,Jinyan SONG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-08-31.

System and method for tilt calculation based on overlay metrology measurements

Номер патента: WO2021096896A2. Автор: Amnon Manassen,Ady Levy,Paul Macdonald,Roie VOLKOVICH,Jincheng Pei,Jinyan SONG. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2021-05-20.

None

Номер патента: US20140002827A1. Автор: Fulvio Bresciani,Fabio Musso. Владелец: Thales Alenia Space Italia SpA. Дата публикации: 2014-01-02.

System and method for tilt calculation based on overlay metrology measurements

Номер патента: US20210149313A1. Автор: Amnon Manassen,Ady Levy,Paul Macdonald,Roie VOLKOVICH,Jincheng Pei,Jinyan SONG. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2021-05-20.

Contour measurement system

Номер патента: WO1995017644A1. Автор: Gregory C. Hull-Allen. Владелец: UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION. Дата публикации: 1995-06-29.

System and method for characterizing three-dimensional structures

Номер патента: WO2004046655A2. Автор: Mehrdad Nikoohahad. Владелец: Mehrdad Nikoohahad. Дата публикации: 2004-06-03.

Systems and methods for measuring intensity in a lithographic alignment apparatus

Номер патента: US20240077308A1. Автор: Justin Lloyd KREUZER,Mohamed Swillam,Stephen Roux,Michael Leo NELSON,Muhsin ERALP. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2024-03-07.

Spectrometric metrology of workpieces using a permanent window as a spectral reference

Номер патента: US20100106444A1. Автор: Edward W. Budiarto,Edgar Genio. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2010-04-29.

Image-based autofocus for metrology

Номер патента: WO2024127383A1. Автор: Arkady Kaplan,Schachar SHIDORSKY. Владелец: NOVA LTD.. Дата публикации: 2024-06-20.

Telescopes

Номер патента: WO2021018634A1. Автор: Ian Robert PARRY. Владелец: Cambridge Enterprise Limited. Дата публикации: 2021-02-04.

Measurement assembly, method for measuring a feature on a surface, method for manufacturing a structure and pointer

Номер патента: WO2013187532A1. Автор: W. Thomas Novak. Владелец: NIKON CORPORATION. Дата публикации: 2013-12-19.

Coupled spot-size-converter arrays for wafer-level optical metrology

Номер патента: US20150121685A1. Автор: Thomas William Clinton,Juraj Topolancik. Владелец: HGST NETHERLANDS BV. Дата публикации: 2015-05-07.

Universal metrology model

Номер патента: US20230384237A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Nireekshan K. Reddy. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-11-30.

Universal metrology model

Номер патента: WO2023235165A1. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Nireekshan K. Reddy. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-12-07.

Interface-based thin film metrology using second harmonic generation

Номер патента: WO2024118186A1. Автор: Xi Chen,TIANHAO Zhang,Qiang Zhao,Ming Di,Shova Subedi. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-06-06.

Moiré scatterometry overlay

Номер патента: US11841621B2. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Yuri Paskover,Andrew V. Hill. Владелец: Kla Corp Ca. Дата публикации: 2023-12-12.

Imaging overlay with mutually coherent oblique illumination

Номер патента: US12032300B2. Автор: Vladimir Levinski,Amnon Manassen,Daria Negri,Andrew V. Hill,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-07-09.

Flipping stage arrangement for reduced wafer contamination cross section and improved measurement accuracy and throughput

Номер патента: US7542136B2. Автор: LIN Zhou,Shahin Zangooie,Roger M. Young,Clemente Bottini,Robert J. Foster,Ronald D. Fiege. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-06-02.

Probe beam profile modulated optical reflectance system and methods

Номер патента: US20080036998A1. Автор: Lena Nicolaides,Jon Opsal,Alex Salnik. Владелец: KLA Tencor Technologies Corp. Дата публикации: 2008-02-14.

Rotated boundaries of stops and targets

Номер патента: WO2015200315A1. Автор: Alexander Svizher,Tzahi Grunzweig. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-30.

Reflection symmetric scatterometry overlay targets and methods

Номер патента: WO2015013621A1. Автор: Daniel Kandel,Barak BRINGOLTZ. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-01-29.

Oblique illumination for overlay metrology

Номер патента: EP4308910A1. Автор: YOEL Feler,Amnon Manassen,Mark Ghinovker,Andrew V. Hill,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-24.

High precision and high throughput measurement of percentage light loss of optical devices

Номер патента: WO2023154209A1. Автор: Ludovic Godet,Ravi Komanduri,Yangyang Sun,Jinxin FU,Baochen WU. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-08-17.

Spectrometric metrology of workpieces using a permanent window as a spectral reference

Номер патента: US8027031B2. Автор: Edward W. Budiarto,Edgar Genio. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-09-27.

Spectrometric metrology of workpieces using a permanent window as a spectral reference

Номер патента: US20110130995A1. Автор: Edward W. Budiarto,Edgar Genio. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2011-06-02.

High-precision and high-throughput measurement of percentage light loss of optical devices

Номер патента: US20230251161A1. Автор: Ludovic Godet,Ravi Komanduri,Yangyang Sun,Jinxin FU,Baochen WU. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-08-10.

Method for converting metrology data

Номер патента: US20240377343A1. Автор: FENG Yang,ZHU Wang,Qian Zhao,Jen-Shiang Wang,Mu FENG,Yunbo Guo. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-11-14.

Portable gage calibration system and method

Номер патента: US20040260498A1. Автор: Craig Green,Philip Freeman. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2004-12-23.

Portable optic metrology thermal chamber module and method therefor

Номер патента: US12104975B2. Автор: David Imrie. Владелец: Optikos Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Multi order diffractive devices

Номер патента: US09632005B1. Автор: Eugene Olczak. Владелец: Exelis Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Systems and methods for in-situ measurement of sheet resistance on substrates

Номер патента: US12105039B2. Автор: Shantinath Ghongadi,Douglas Hill,Manish Ranjan,Andrew James PFAU,Douglas Koeller,Burton Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

System and method for generating multi-channel tunable illumination from a broadband source

Номер патента: WO2018034908A1. Автор: Ohad Bachar,Amnon Manassen,Andy HILL (Andrew). Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2018-02-22.

In-situ monitoring of substrate surfaces

Номер патента: US20220349850A1. Автор: Shantinath Ghongadi,Douglas Hill,Manish Ranjan,Andrew James PFAU,Douglas Koeller,Burton Williams. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2022-11-03.

Method and system for optimizing optical inspection of patterned structures

Номер патента: US20230401690A1. Автор: Boaz Brill. Владелец: Nova Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Stitching of near-nulled subaperture measurements

Номер патента: EP2286179A2. Автор: Paul Murphy,Christopher Brophy,Greg Forbes,Gary Devries. Владелец: QED Technologies International LLC. Дата публикации: 2011-02-23.

Portable optic metrology thermal chamber module and method therefor

Номер патента: US20230258527A1. Автор: David Imrie. Владелец: Optikos Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Scanning overlay metrology using overlay targets having multiple spatial frequencies

Номер патента: US11796925B2. Автор: Daria Negri,Yuval LUBASHEVSKY,Itay Gdor,Eitan Hajaj. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-10-24.

Self-calibrated overlay metrology using a skew training sample

Номер патента: WO2022271457A1. Автор: Andrei V. Shchegrov,Stilian Ivanov Pandev,Jon Madsen,Alexander Kuznetsov,Liran Yerushalmi,Min-Yeong Moon,Dimitry Sanko,Mahendra Dubey. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2022-12-29.

Debris removal from high aspect structures

Номер патента: US20160266165A1. Автор: Kenneth Gilbert Roessler,Tod Evan Robinson,Bernabe J. Arruza,David Brinkley,Jeffrey E. Leclaire. Владелец: Rave LLC. Дата публикации: 2016-09-15.

Scanning overlay metrology using overlay targets having multiple spatial frequencies

Номер патента: EP4377750A1. Автор: Daria Negri,Yuval LUBASHEVSKY,Itay Gdor,Eitan Hajaj. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-05.

Measuring system for determination of traction characteristics of transport and tractor units

Номер патента: RU2735160C1. Автор: Юрий Дмитриевич Смирнов,Эльдар Абдоллович Кремчеев,Динара Абдолловна Кремчеева,Яна Алексеевна Лунтовская. Владелец: федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский горный университет". Дата публикации: 2020-10-28.

Debris removal from high aspect structures

Номер патента: US20240269717A1. Автор: Kenneth Gilbert Roessler,Tod Evan Robinson,David Brinkley,Jeffrey E. Leclaire,Bernabe Arruza. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2024-08-15.

Single grab overlay measurement of tall targets

Номер патента: US12066322B2. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill,Avner Safrani,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-08-20.

System and method for on-site measurement apparatus calibration

Номер патента: CA2969523A1. Автор: John Anthony Vogel,Glen William Brooksby,John Brandon Laflen,Steven William WIK,Yakov Polishchuk. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 2016-06-23.

Debris removal in high aspect structures

Номер патента: US10384238B2. Автор: Kenneth Gilbert Roessler,Tod Evan Robinson,Bernabe J. Arruza,David Brinkley,Jeffrey E. Leclaire. Владелец: Rave LLC. Дата публикации: 2019-08-20.

Debris removal from high aspect structures

Номер патента: US11964310B2. Автор: Kenneth Gilbert Roessler,Tod Evan Robinson,David Brinkley,Jeffrey E. Leclaire,Bernabe Arruza. Владелец: BRUKER NANO INC. Дата публикации: 2024-04-23.

Wave-front aberration metrology of extreme ultraviolet mask inspection systems

Номер патента: EP3973355A1. Автор: Rui-Fang Shi,Qiang Zhang,Dmitriy ZUSIN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-03-30.

Scanning focal length metrology

Номер патента: US8259296B1. Автор: Martin Ebert,Richard A. Yarussi. Владелец: Nanometrics Inc. Дата публикации: 2012-09-04.

Single grab overlay measurement of tall targets

Номер патента: US20240159585A1. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill,Avner Safrani,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Single grab overlay measurement of tall targets

Номер патента: WO2024107363A1. Автор: Amnon Manassen,Andrew V. Hill,Avner Safrani,Yonatan Vaknin. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2024-05-23.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: EP3117454A1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-01-18.

Patterned wafer geometry measurements for semiconductor process controls

Номер патента: WO2015199801A1. Автор: Jaydeep Sinha,Pradeep Vukkadala. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2015-12-30.

Scalable multiple-material additive manufacturing

Номер патента: WO2018232418A2. Автор: Nathanael KIM,Justin Kwon. Владелец: Interlog Corporation. Дата публикации: 2018-12-20.

Scalable multiple-material additive manufacturing

Номер патента: US20180361668A1. Автор: Nathanael KIM,Justin Kwon. Владелец: INTERLOG Corp. Дата публикации: 2018-12-20.

Scalable multiple-material additive manufacturing

Номер патента: WO2018232418A3. Автор: Nathanael KIM,Justin Kwon. Владелец: Interlog Corporation. Дата публикации: 2019-01-24.

Scalable multiple-material additive manufacturing

Номер патента: EP3638489A2. Автор: Nathanael KIM,Justin Kwon. Владелец: INTERLOG Corp. Дата публикации: 2020-04-22.

Misregistration metrology by using fringe moiré and optical moiré effects

Номер патента: EP4150294A1. Автор: YOEL Feler,Vladimir Levinski,Alexander Svizher,Mark Ghinovker,Evgeni GUREVICH. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-03-22.

Ic fabrication flow with continuous dynamic sampling for auto-visual inspection

Номер патента: US20240071837A1. Автор: Lin Lin,BO Jiang,Bin Liu,Yu Chen Li,Si Si Xie,Zhi Yun Liu. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Combined solar collector installation

Номер патента: RU2675640C1. Автор: Владимир Александрович Лебедев,Эдгар Гарриевич Армаганян,Владимир Викторович Дворный,Алексей Борисович Медведев,Дмитрий Анатольевич Бебко,Валерий Владимирович Ковалев,Борис Сергеевич Литаш. Владелец: Публичное акционерное общество энергетики и электрификации Кубани. Дата публикации: 2018-12-21.

Apparatus and methods for aberration correction in electron beam based system

Номер патента: US09607802B2. Автор: Christopher F. Bevis. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Solid-state thin-film hybrid electrochemical current source

Номер патента: RU2709487C1. Автор: Владимир Александрович Чугунов,Владимир Игоревич МЕЩЕРЯКОВ,Антон Михайлович МАНАХОВ,Николай Анатольевич Погорелов,Арну РУССАУ,Елена Викторовна КОЛЕСНИКОВА. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью "Финика". Дата публикации: 2019-12-18.

Ion beam lithography

Номер патента: US4985634A. Автор: Gerhard Stengl,Hilton F. Glavish. Владелец: Oesterreichische Investitionskredit AG. Дата публикации: 1991-01-15.

Combination of inline metrology and on tool metrology for advanced packaging

Номер патента: WO2024129253A1. Автор: Ulrich Mueller. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-06-20.

Extra tall target metrology

Номер патента: EP4423456A1. Автор: Yoram Uziel,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Alexander Novikov,Yoav GRAUER,Ariel Hildesheim,Etay Lavert. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-04.

Quantum devices and memory structures for quantum metrology

Номер патента: US20240354617A1. Автор: Elad Mentovich,Itshak Kalifa. Владелец: MELLANOX TECHNOLOGIES LTD. Дата публикации: 2024-10-24.

Lithographic apparatus and device manufacturing method

Номер патента: US09618859B2. Автор: Jan Bernard Plechelmus Van Schoot,Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders,Theodorus Petrus Maria Cadee,Koen Jacobus Johannes Maria Zaal,Adrianus Hendrik Koevoets. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2017-04-11.

Using reinforcement learning to determine optimal alignment for an optical system

Номер патента: WO2024217818A1. Автор: Willem Franke Pasveer,Kramer Daniel HARRISON,Jeryl Jing Xian TAN,Jean KOCKEROLS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-10-24.

Using reinforcement learning to determine optimal alignment for an optical system

Номер патента: EP4451059A1. Автор: Willem Franke Pasveer,Kramer Daniel HARRISON,Jeryl Jing Xian TAN,Jean KOCKEROLS. Владелец: ASML Netherlands BV. Дата публикации: 2024-10-23.

Multichannel lock-in camera for multi-parameter sensing in lithographic processes

Номер патента: WO2024141235A1. Автор: Henricus Petrus Maria Pellemans,Padmakumar RAMACHANDRA RAO. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-07-04.

System and method for determining target feature focus in image-based overlay metrology

Номер патента: US11921825B2. Автор: Amnon Manassen,Avner Safrani,Yossi Simon,Etay Lavert,Dimitry Sanko. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

System and method for determining target feature focus in image-based overlay metrology

Номер патента: US20240020353A1. Автор: Amnon Manassen,Avner Safrani,Yossi Simon,Etay Lavert,Dimitry Sanko. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-18.

System amd method for determining target feature focus in image-based overlay metrology

Номер патента: US20220108128A1. Автор: Amnon Manassen,Avner Safrani,Yossi Simon,Etay Lavert,Dimitry Sanko. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2022-04-07.

System and method for determining target feature focus in image-based overlay metrology

Номер патента: EP4200599A1. Автор: Amnon Manassen,Avner Safrani,Yossi Simon,Etay Lavert,Dimitry Sanko. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-06-28.

System and method for determining target feature focus in image-based overlay metrology

Номер патента: WO2022072162A1. Автор: Amnon Manassen,Avner Safrani,Yossi Simon,Etay Lavert,Dimitry Sanko. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2022-04-07.

Program-controlled process

Номер патента: EP1899774A1. Автор: Roger Holden,Mark Derren Summers,Brett Jason Green. Владелец: Airbus Operations Ltd. Дата публикации: 2008-03-19.

Determining a focus position for imaging a substrate with an integrated photonic sensor

Номер патента: WO2024120766A1. Автор: Roxana REZVANI NARAGHI,Saman Jahani,Ezgi Sahin,Marissa Granados-Baez,Raul Andres GUEVARA TORRES. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-13.

Optical component array substitution for metrology

Номер патента: WO2024188601A1. Автор: Zili ZHOU,Roxana REZVANI NARAGHI,Raul Andres GUEVARA TORRES,Gregory Warren JENKINS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-09-19.

Additive manufacturing system and method and feature extraction method

Номер патента: US20200247064A1. Автор: Haw-Ching Yang,Fan-Tien Cheng,Shyh-Hau Wang,Chih-Hung Huang,Yu-Lung Lo,Hung-Chang Hsiao,Min-Chun Hu. Владелец: National Cheng Kung University NCKU. Дата публикации: 2020-08-06.

Image control in a metrology/inspection positioning system

Номер патента: US7289215B2. Автор: Richard A. Yarussi,John D. Heaton,Robert Buchanan,Blaine R. Spady. Владелец: Nanometrics Inc. Дата публикации: 2007-10-30.

Robot guidance using multiple frames

Номер патента: GB2616844A. Автор: Holden Roger. Владелец: True Position Robotics Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Extra tall target metrology

Номер патента: US20230324809A1. Автор: Yoram Uziel,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Alexander Novikov,Yoav GRAUER,Ariel Hildesheim,Etay Lavert. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-10-12.

Extra tall target metrology

Номер патента: WO2023196133A1. Автор: Yoram Uziel,Ohad Bachar,Amnon Manassen,Alexander Novikov,Yoav GRAUER,Ariel Hildesheim,Etay Lavert. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2023-10-12.

On tool metrology scheme for advanced packaging

Номер патента: WO2024063968A1. Автор: Ulrich Mueller. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-28.

Combination of inline metrology and on tool metrology for advanced packaging

Номер патента: US20240201605A1. Автор: Ulrich Mueller. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-06-20.

Method and apparatus for inspection focus measurement

Номер патента: WO2024099740A1. Автор: Raul Andres GUEVARA TORRES,Gregory Warren JENKINS. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-05-16.

Advanced remote match drilling process

Номер патента: US09921566B1. Автор: Sidlaghatta N. Venkatesh,Christopher M. Rhoads,Monica Tatar,Kevin G. Sweeney. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2018-03-20.

Method for producing a capping layer composed of silicon oxide on an EUV mirror, EUV mirror, and EUV lithography apparatus

Номер патента: US09880476B2. Автор: Dirk Heinrich Ehm,Gisela von Blanckenhagen. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2018-01-30.

Metrology management

Номер патента: US09652729B2. Автор: Timothy L. Holmes,Darryl D. Restaino,Jonathan Levy,Roger M. Young,Eric P. Solecky,William K. Hoffman, JR.,Christopher E. Pepe. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-05-16.

System and method for producing an assembly by directly implementing three-dimensional computer-aided design component definitions

Номер патента: EP1288754A2. Автор: Michael C. Richey. Владелец: Boeing Co. Дата публикации: 2003-03-05.

External system for robotic accuracy enhancement

Номер патента: CA2732917C. Автор: Myles Daniel Markey,Michael John Kleemann,Brett Alan Bordyn. Владелец: Variation Reduction Solutions Inc. Дата публикации: 2017-03-14.

Determining a focus position based on a field image position shift

Номер патента: WO2024115066A1. Автор: Roxana REZVANI NARAGHI,Chien Jung Huang,Marissa Granados-Baez,Raul Andres GUEVARA TORRES. Владелец: ASML Netherlands B.V.. Дата публикации: 2024-06-06.

Performance optimized scanning sequence for electron beam metrology and inspection

Номер патента: WO2022005857A1. Автор: Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Inna Tarshish-Shapir,Henning Stoschus. Владелец: KLA Corporation. Дата публикации: 2022-01-06.

Method and system for detecting and/or quantifying manufacturing inaccuracies

Номер патента: WO2023203025A1. Автор: Valentin DUBOIS,Shyamprasad Natarajan RAJA. Владелец: Raja Shyamprasad Natarajan. Дата публикации: 2023-10-26.

On-demand in-line-blending and supply of chemicals

Номер патента: US11839860B2. Автор: Karl Urquhart,Darren WILLEY,Joseph WATTERS,Christopher DONELSON. Владелец: Diversified Fluid Solutions LLC. Дата публикации: 2023-12-12.

Noise correction for alignment signal

Номер патента: US20220066334A1. Автор: Krishanu SHOME,Igor Matheus Petronella Aarts,Zahrasadat DASTOURI,Greger Göte ANDERSSON. Владелец: Asml Holding Nv. Дата публикации: 2022-03-03.

Performance optimized scanning sequence for electron beam metrology and inspection

Номер патента: EP4150407A1. Автор: Nadav GUTMAN,Stefan Eyring,Ulrich Pohlmann,Inna Tarshish-Shapir,Henning Stoschus. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2023-03-22.

Glass mirror substrates for non-specular reflection

Номер патента: WO2024092243A1. Автор: Brandon Chalifoux. Владелец: Arizona Board of Regents on Behalf of the University of Arizona. Дата публикации: 2024-05-02.

A method of using a robotic arm to position a part

Номер патента: GB2620778A. Автор: CHEETHAM Simon,James Middleton Daniel. Владелец: BAE SYSTEMS plc. Дата публикации: 2024-01-24.

Reference image grouping in overlay metrology

Номер патента: US11861824B1. Автор: Yuval LAMHOT,Einat PELED,Naama Cohen. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-02.

Metrological digital audio reconstruction

Номер патента: US20050002319A1. Автор: Vitaliy Fadeyev,Carl Haber. Владелец: UNIVERSITY OF CALIFORNIA. Дата публикации: 2005-01-06.

Image-based metrology overlay metrology and monitoring using through-focus imaging

Номер патента: WO2019018488A1. Автор: David Gready,Nimrod Shuall,Claire E. STANIUNAS. Владелец: KLA-TENCOR CORPORATION. Дата публикации: 2019-01-24.

Self-calibrating overlay metrology

Номер патента: US11880142B2. Автор: Andrei V. Shchegrov,Alexander Kuznetsov,Liran Yerushalmi,Stilian PANDEV,Jonathan Madsen,Min-Yeong Moon,Dimitry Sanko,Mahendra Dubey. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Method for analyzing defects of a structured component

Номер патента: US20240103384A1. Автор: Thomas Zeuner,Jan Tusch,Kay Dornbusch. Владелец: CARL ZEISS SMT GMBH. Дата публикации: 2024-03-28.

<smallcaps/>? ? ?reference image grouping in overlay metrology

Номер патента: EP4384876A1. Автор: Yuval LAMHOT,Einat PELED,Naama Cohen. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-06-19.

Номер патента: IN2015DN02463A. Автор: Jean-Marie; Boulangey,Jean-Pierre; Lorans. Владелец: Thales SA. Дата публикации: 2015-09-04.

Multi-wavelength shadowgraphy for an euv radiation source

Номер патента: WO2023237313A1. Автор: Willem Joan Van Der Zande,Oscar Oreste VERSOLATO,Randy Anthonius MEIJER,Francisco Javier HERNÁNDEZ RUEDA,Hermann Karl SCHUBERT,Dion Junior ENGELS. Владелец: Stichting Nederlandse Wetenschappelijk Onderzoek Instituten. Дата публикации: 2023-12-14.

Biaxial tensile stage for fabricating and tuning wrinkles

Номер патента: US09597833B2. Автор: Sourabh Kumar Saha,Martin Luther Culpepper. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-03-21.

Способ поверки/калибровки контактных тонометров

Номер патента: RU2657927C1. Автор: Вадим Васильевич Шутяев,Геннадий Генрихович Левин,Элина Юрьевна Левина,Максим Михайлович Ермаков. Владелец: ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ТЕХНИЧЕСКОМУ РЕГУЛИРОВАНИЮ И МЕТРОЛОГИИ (Росстандарт). Дата публикации: 2018-06-18.

Transmission Fluorometer

Номер патента: US20120277555A1. Автор: William G. Paseman,Sabrina K. Paseman. Владелец: Paseman William G. Дата публикации: 2012-11-01.

Virtual metrology system and method applied on chemical vapor deposition process

Номер патента: TWI370370B. Автор: Ching Shun Chen,Chun I Chu,Tze Chin Chou. Владелец: Ind Tech Res Inst. Дата публикации: 2012-08-11.

MAGNIFYING IMAGING OPTICAL SYSTEM AND METROLOGY SYSTEM WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE

Номер патента: US20120127566A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-05-24.

Integrated Metrology Systems and Information and Control Apparatus For Interaction With Integrated Metrology System

Номер патента: US20130057413A1. Автор: Block Robert S.,Tamarkin Tomar D.,Fine Phillip M.. Владелец: USCL Corp.. Дата публикации: 2013-03-07.

ILLUMINATION OPTICS FOR A METROLOGY SYSTEM FOR EXAMINING AN OBJECT USING EUV ILLUMINATION LIGHT AND METROLOGY SYSTEM COMPRISING AN ILLUMINATION OPTICS OF THIS TYPE

Номер патента: US20130063716A1. Автор: Mann Hans-Jürgen,Herkommer Alois. Владелец: . Дата публикации: 2013-03-14.

Номер патента: RU2275591C2. Автор: Евгений Инвиевич Гиваргизов,Михаил Евгеньевич Гиваргизов,Евгения Сергеевна Машкова,Лиди Николаевна Оболенска,Лидия Николаевна Оболенская,Алла Николаевна Степанова,Евгени Сергеевна Машкова. Владелец: Михаил Евгеньевич Гиваргизов. Дата публикации: 2006-04-27.

Polarized-adaptation microstrip antenna array

Номер патента: RU2138105C1. Автор: А.Б. Орлов,Э.А. Лутин,К.А. Орлов,Л.Э. Желяева. Владелец: Желяева Лилия Эмильевна. Дата публикации: 1999-09-20.

IN-LINE METROLOGY SYSTEM

Вам могут быть интересны следующие патенты

Главная

Проекты и услуги

Контакты