SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS
Номер патента: US20140242779A1
Опубликовано: 28-08-2014
Автор(ы): ENDO Mitsuyoshi, Higashi Kazuyuki, NAKAMURA Kenro, SHIRONO Takashi
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 28-08-2014
Автор(ы): ENDO Mitsuyoshi, Higashi Kazuyuki, NAKAMURA Kenro, SHIRONO Takashi
Принадлежит: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Manufacturing method for complex and manufacturing method for semiconductor device
Номер патента: EP4246559A1. Автор: Kenji Kitamura,Hidekazu Umeda,Ryo Matsubayashi,Tetsushi Konda,Takahito HAGIWARA. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-20.