SOURCE AND MASK OPTIMIZATION BY CHANGING INTENSITY AND SHAPE OF THE ILLUMINATION SOURCE AND MAGNITUDE AND PHASE OF MASK DIFFRACTION ORDERS
Номер патента: US20140247975A1
Опубликовано: 04-09-2014
Автор(ы): SOCHA Robert
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 04-09-2014
Автор(ы): SOCHA Robert
Принадлежит: ASML Netherlands B.V.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Mask inspection apparatus and mask inspection method
Номер патента: US09626755B2. Автор: Nobutaka Kikuiri,Hideo Tsuchiya,Ikunao Isomura. Владелец: Nuflare Technology Inc. Дата публикации: 2017-04-18.