Integrated circuit structure
Номер патента: US20230282742A1
Опубликовано: 07-09-2023
Автор(ы): Cheng-Bo Shu, Yun-Chi Wu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-09-2023
Автор(ы): Cheng-Bo Shu, Yun-Chi Wu
Принадлежит: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Fin cut and fin trim isolation for advanced integrated circuit structure fabrication
Номер патента: US20240276698A1. Автор: Tahir Ghani,Byron Ho,Michael L. Hattendorf,Christopher P. Auth,Curtis W. Ward. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-08-15.