Manufacturing method of a semiconductor structure
Номер патента: US11444206B2
Опубликовано: 13-09-2022
Автор(ы): Chen-Chung Wu, Chia-Ming Chang, De-Zhang Deng, Po-Liang Yeh
Принадлежит: AU OPTRONICS CORP
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 13-09-2022
Автор(ы): Chen-Chung Wu, Chia-Ming Chang, De-Zhang Deng, Po-Liang Yeh
Принадлежит: AU OPTRONICS CORP
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device having surface regions with different crystal orientation and manufacturing method
Номер патента: EP1677350A3. Автор: Dong-Suk Shin,Ho Lee,Seung-Hwan Lee,Tetsuji Ueno,Hwa-Sung Rhee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-05-30.