Self aligned block masks for implantation control
Номер патента: US20210005459A1
Опубликовано: 07-01-2021
Автор(ы): Ardasheir Rahman, Brent A. Anderson, Junli Wang, Liying Jiang, Romain LALLEMENT
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 07-01-2021
Автор(ы): Ardasheir Rahman, Brent A. Anderson, Junli Wang, Liying Jiang, Romain LALLEMENT
Принадлежит: International Business Machines Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Method of semiconductor manufacture using an inverse self-aligned mask
Номер патента: US5132236A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1992-07-21.