Semiconductor device fabrication method
Номер патента: US20090258486A1
Опубликовано: 15-10-2009
Автор(ы): Kiyonori Watanabe
Принадлежит: Oki Semiconductor Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-10-2009
Автор(ы): Kiyonori Watanabe
Принадлежит: Oki Semiconductor Co Ltd
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device fabrication method and semiconductor device
Номер патента: US20120306068A1. Автор: Hirokazu Saito. Владелец: Lapis Semiconductor Co Ltd. Дата публикации: 2012-12-06.