Method for annealing silicon thin films using conductive layer and polycrystalline silicon thin films prepared therefrom
Номер патента: TWI294649B
Опубликовано: 11-03-2008
Автор(ы): Jae-Sang Ro, Won-Eui Hong
Принадлежит: Jae-Sang Ro
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 11-03-2008
Автор(ы): Jae-Sang Ro, Won-Eui Hong
Принадлежит: Jae-Sang Ro
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Thin film transistor and semiconductor device and method for forming the same
Номер патента: US6008076A. Автор: Takeshi Fukada,Naoya Sakamoto,Yukio Yamauchi,Mitsufumi Codama. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 1999-12-28.