Reactive ion etching method for lead zirconate titanate and ruthenium oxide thin films and semiconductor device manufactured using the same
Номер патента: JP3010112B2
Опубликовано: 14-02-2000
Автор(ы): パン ウェイ, ビー. デスー セシュ, ビジェ ディリップ
Принадлежит: Sharp Corp
Опубликовано: 14-02-2000
Автор(ы): パン ウェイ, ビー. デスー セシュ, ビジェ ディリップ
Принадлежит: Sharp Corp
Dry etching method, method for producing semiconductor element, and cleaning method
Номер патента: US20240282583A1. Автор: Kazuma Matsui,Jumpei Iwasaki. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-22.