Sidewall interconnect metallization structures for integrated circuit devices
Номер патента: US11776898B2
Опубликовано: 03-10-2023
Автор(ы): Aaron Lilak, Anh Phan, Gilbert Dewey, Patrick Morrow, Willy Rachmady
Принадлежит: Intel Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 03-10-2023
Автор(ы): Aaron Lilak, Anh Phan, Gilbert Dewey, Patrick Morrow, Willy Rachmady
Принадлежит: Intel Corp
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
An integrated circuit device and a method for forming the same
Номер патента: EP4391040A1. Автор: Anshul Gupta,Hans Mertens. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2024-06-26.