Integrated circuit on semiconductor substrate
Номер патента: RU2092932C1
Опубликовано: 10-10-1997
Автор(ы): Принс Бетти, Херман Виллем Салтерс Рулоф
Принадлежит: Филипс Электроникс Н.В.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 10-10-1997
Автор(ы): Принс Бетти, Херман Виллем Салтерс Рулоф
Принадлежит: Филипс Электроникс Н.В.
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Integrated circuit device including through-silicon via structure and decoupling capacitor and method of manufacturing the same
Номер патента: US09691684B2. Автор: Kwang-jin Moon,Byung-lyul Park,Jae-hwa Park,Sung-Hee Kang,Suk-Chul Bang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-06-27.