• Главная
  • Method for fabricating semiconductor device with protection structure and air gaps

Method for fabricating semiconductor device with protection structure and air gaps

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Method for the production of a semiconductor device

Номер патента: US5079188A. Автор: Masato Kawai. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1992-01-07.

Semiconductor device with fuse and anti-fuse structures and method for forming the same

Номер патента: US20220157717A1. Автор: Chin-Ling Huang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-05-19.

Vertical semiconductor device and method for fabricating the vertical semiconductor device

Номер патента: US11751395B2. Автор: Hai-Won Kim,In-Su Park,Jong-Gi KIM,Hoe-Min Jeong. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-09-05.

Vertical semiconductor device and method for fabricating the vertical semiconductor device

Номер патента: US20230403855A1. Автор: Hai-Won Kim,In-Su Park,Jong-Gi KIM,Hoe-Min Jeong. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-12-14.

Semiconductor device structure with dielectric liner portions and method for preparing the same

Номер патента: US20240266294A1. Автор: Tse-Yao Huang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Semiconductor device structure with dielectric liner portions and method for preparing the same

Номер патента: US20240266293A1. Автор: Tse-Yao Huang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-08-08.

Integrated circuit devices with hybrid metal lines

Номер патента: US20240203869A1. Автор: Leonard P. GULER,Charles Henry Wallace,Sukru Yemenicioglu,Nikhil Jasvant Mehta. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Semiconductor device structure and method for forming the same

Номер патента: US20170213790A1. Автор: Carlos H. Diaz,Tien-Lu Lin,Yung-Chih Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-07-27.

Integrated circuit semiconductor device

Номер патента: US20240282864A1. Автор: Jinwook Yang,Sungil Park,Jaehyun Park,Daewon HA,Dongkyu LEE,Kyuman HWANG,Cheoljin YUN,Jinchan Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Semiconductor devices

Номер патента: US09978684B2. Автор: Changseop YOON,Boram IM,Hyung Jong Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-05-22.

Conductive line structures and methods of forming the same

Номер патента: US8884377B2. Автор: Jung-Dal Choi,Seong-Min Jo,Joon-Hee Lee,Sok-Won LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2014-11-11.

Vertical semiconductor device and method for fabricating the vertical semiconductor device

Номер патента: US20220123020A1. Автор: Hai-Won Kim,In-Su Park,Jong-Gi KIM,Hoe-Min Jeong. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2022-04-21.

Fuse box and method for fabricating the same and method for repairing the same in semiconductor device

Номер патента: US20090039463A1. Автор: Jeong-Kyu KANG. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2009-02-12.

Device architecture and method for precision enhancement of vertical semiconductor devices

Номер патента: US09997455B2. Автор: Thomas E. Harrington, III. Владелец: D3 Semiconductor LLC. Дата публикации: 2018-06-12.

Device architecture and method for precision enhancement of vertical semiconductor devices

Номер патента: US09589889B2. Автор: Thomas E. Harrington, III. Владелец: D3 Semiconductor LLC. Дата публикации: 2017-03-07.

Methods for cell boundary encroachment and semiconductor devices implementing the same

Номер патента: US09530795B2. Автор: Scott T. Becker,Jonathan R. Quandt,Dhrumil Gandhi. Владелец: Tela Innovations Inc. Дата публикации: 2016-12-27.

Method for interconnecting layers in a semiconductor device using two etching gases

Номер патента: US5234864A. Автор: Chang-lyong Song,Jin-Hong Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1993-08-10.

Method for forming metal wiring in semiconductor device

Номер патента: US20080150166A1. Автор: Seung-Hyun Kim. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2008-06-26.

Apparatuses and methods for coupling a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US20240063188A1. Автор: Timothy M. Hollis,Matthew B. Leslie,Roy E. Greeff. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Apparatuses and methods for coupling a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US11837580B2. Автор: Timothy M. Hollis,Matthew B. Leslie,Roy E. Greeff. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2023-12-05.

Semiconductor chip and method for manufacturing the same and semiconductor device

Номер патента: US20060006493A1. Автор: Tsutomu Tashiro,Masaya Kawano,Yoichiro Kurita. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2006-01-12.

Semiconductor device including joint portion between conductive connection structures and method of fabricating the same

Номер патента: US20230260956A1. Автор: Mir IM. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-08-17.

Method for manufacturing resin-sealed power semiconductor device

Номер патента: US20190051539A1. Автор: Kazuo Funahashi,Ken Sakamoto,Keitaro Ichikawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2019-02-14.

System and method for detection of defects in semiconductor devices

Номер патента: US11830828B2. Автор: Liang Li,Wendy Yu,Kevin Hu. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2023-11-28.

Packaged semiconductor device and method for fabricating a packaged semiconductor device

Номер патента: US20210313275A1. Автор: Horst Theuss. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2021-10-07.

Packaged semiconductor device and method for fabricating a packaged semiconductor device

Номер патента: US11967562B2. Автор: Horst Theuss. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2024-04-23.

Semiconductor chip, method for manufacturing semiconductor chip, and semiconductor device

Номер патента: US20140183704A1. Автор: Akira Ide,Koji Torii. Владелец: Elpida Memory Inc. Дата публикации: 2014-07-03.

Mim capacitor of semiconductor device and manufacturing method thereof

Номер патента: US20100155890A1. Автор: Jong-Yong Yun. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2010-06-24.

Semiconductor device

Номер патента: US20180145128A1. Автор: Yeur-Luen Tu,Szu-Yu Wang,Chih-Yu Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-24.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100571401B1. Автор: 김봉준. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-14.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100536625B1. Автор: 남상우. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-12-14.

Semiconductor device with multi-layer connecting structure and method for fabricating the same

Номер патента: US20220020636A1. Автор: Cheng-Hsiang Fan. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-01-20.

Fuse box and method for fabricating the same and method for repairing the same in semiconductor device

Номер патента: TW200913148A. Автор: Jeong-Kyu KANG. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2009-03-16.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240312915A1. Автор: Koichiro Nishizawa. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2024-09-19.

Semiconductor devices

Номер патента: US09865594B2. Автор: Sang-hoon Ahn,Yong-Kong SIEW. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-09.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09443813B1. Автор: Chiu-Wen Lee,Yu-Hsiang Hsiao,Kwang-Lung Lin,Ping-Feng Yang. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2016-09-13.

Semiconductor device structure with backside contact

Номер патента: US20240339510A1. Автор: Wei-Yang Lee,Chia-Pin Lin,Feng-Ching Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-10.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US8058137B1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Israel Beinglass,Deepak C. Sekar,Jan Lodewijk de Jong. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2011-11-15.

Method for fabricating fuse in semiconductor device

Номер патента: KR101096232B1. Автор: 이현민,이현철. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-12-22.

Method for fabricating fuse of semiconductor device

Номер патента: KR100954417B1. Автор: 박반석. Владелец: 매그나칩 반도체 유한회사. Дата публикации: 2010-04-26.

Method for fabricating fuse in semiconductor device

Номер патента: KR100739936B1. Автор: 김정근. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-07-16.

METHOD FOR PRODUCING LOW-k FILM, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Номер патента: US20100289143A1. Автор: Takamaro Kikkawa,Yoshinori Cho. Владелец: Hiroshima University NUC. Дата публикации: 2010-11-18.

PACKAGED SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING A PACKAGED SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20210313275A1. Автор: Theuss Horst. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2021-10-07.

VERTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE VERTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20200328226A1. Автор: Park In-Su,KIM Jong-Gi,KIM Hai-Won,JEONG Hoe-Min. Владелец: SK HYNIX INC.. Дата публикации: 2020-10-15.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US8557632B1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak C. Sekar. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Semiconductor device having ESD protection structure

Номер патента: US09953970B2. Автор: Sen Zhang,Guangsheng Zhang. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Semiconductor device having esd protection structure

Номер патента: US20170062405A1. Автор: Sen Zhang,Guangsheng Zhang. Владелец: CSMC Technologies Fab1 Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-02.

Printed wiring board, method for manufacturing the same and semiconductor device

Номер патента: US09706663B2. Автор: Takashi Kariya,Hajime Sakamoto,Makoto Terui,Masatoshi Kunieda. Владелец: Ibiden Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Structure and method for diminishing delamination of packaged semiconductor devices

Номер патента: US09627299B1. Автор: Kyle Mitchell Flessner. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2017-04-18.

Apparatuses and methods for coupling a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US20240290752A1. Автор: Timothy M. Hollis,Matthew B. Leslie,Roy E. Greeff. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Semiconductor device having a sub-chip-scale package structure and method for forming same

Номер патента: US6064114A. Автор: Leo M. Higgins, III. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 2000-05-16.

Apparatuses and methods for coupling a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US11984428B2. Автор: Timothy M. Hollis,Matthew B. Leslie,Roy E. Greeff. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2024-05-14.

Apparatuses and methods for coupling a plurality of semiconductor devices

Номер патента: US20210280557A1. Автор: Timothy M. Hollis,Matthew B. Leslie,Roy E. Greeff. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2021-09-09.

A method for transferring and stacking of semiconductor devices

Номер патента: EP1252654A2. Автор: Eric Beyne,Staf Borghs,Raf Vandersmissen. Владелец: Umicore NV SA. Дата публикации: 2002-10-30.

Method for manufacturing a resin-encapsulated semiconductor device

Номер патента: US09431273B2. Автор: Noriyuki Kimura. Владелец: Ablic Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Process for fabricating small geometry semiconductor devices

Номер патента: US3858304A. Автор: Hayden M Leedy,Jr Loren G Mccray,Harry L Stover. Владелец: Hughes Aircraft Co. Дата публикации: 1975-01-07.

Method for forming micro contacts of semiconductor device

Номер патента: US5550071A. Автор: Eui K. Ryou. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1996-08-27.

Method for manufacturing contact plugs for semiconductor devices

Номер патента: US20150170966A1. Автор: Yu-Cheng Tung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Multilayered printed circuit board, method for manufacturing the same, and semiconductor device using the same

Номер патента: US11848263B2. Автор: Seung Lak Kim. Владелец: LG Chem Ltd. Дата публикации: 2023-12-19.

Method for manufacturing a low-profile semiconductor device

Номер патента: US20030098471A1. Автор: I-Ming Chen,Ming-Tung Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-29.

Method for manufacturing a low-profile semiconductor device

Номер патента: US20030090004A1. Автор: I-Ming Chen,Ming-Tung Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-15.

Method for manufacturing a low-profile semiconductor device

Номер патента: US6677180B2. Автор: I-Ming Chen,Ming-Tung Shen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Semiconductor device and semiconductor package

Номер патента: US09768139B2. Автор: Chien-Fan Chen,Wan-Ting CHIU. Владелец: Advanced Semiconductor Engineering Inc. Дата публикации: 2017-09-19.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US20110199116A1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Israel Beinglass,J. L. de Jong,Zeev Wurman. Владелец: NuPGA Corp. Дата публикации: 2011-08-18.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device

Номер патента: KR101003541B1. Автор: 이상윤,박준일,정준. Владелец: 이상윤. Дата публикации: 2010-12-30.

Semiconductor structure and method for use in fabricating semiconductor structure

Номер патента: WO2018195701A1. Автор: 程凯,向鹏. Владелец: 苏州晶湛半导体有限公司. Дата публикации: 2018-11-01.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device using buried stop layer in substrate

Номер патента: US20240268119A1. Автор: He Chen. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-08.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device using buried stop layer in substrate

Номер патента: US11956958B2. Автор: He Chen. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-09.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device using buried stop layer in substrate

Номер патента: EP4139954A1. Автор: He Chen. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-03-01.

Method for forming buried bit line, semiconductor device having the same, and fabricating method thereof

Номер патента: US09837422B2. Автор: Jin-Ki Jung,You-Song Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: US7666738B2. Автор: Dong-Woo Shin,Jin-woong Kim,Jong-Min Lee,Hyung-Bok Choi. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2010-02-23.

Method for fabricating thin-film semiconductor device for display

Номер патента: US20130071972A1. Автор: Hisao Nagai,Kenichirou Nishida. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-03-21.

Thin-film semiconductor device and method for fabricating thin-film semiconductor device

Номер патента: US20130161630A1. Автор: Kenichirou Nishida. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2013-06-27.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: US20020061622A1. Автор: Young Chen. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-05-23.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US7964916B2. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Israel Beinglass,Deepak C. Sekar,Jan L. De Jong. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2011-06-21.

Method for forming buried bit line, semiconductor device having the same, and fabricating method thereof

Номер патента: US20180053770A1. Автор: Jin-Ki Jung,You-Song Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2018-02-22.

Method for fabricating electrode and semiconductor device including the same

Номер патента: US20240234148A1. Автор: Cha Deok Dong,Jeong Myeong Kim,Keo Rock CHOI. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Semiconductor device having vertical MOSFET with super junction structure, and method for manufacturing the same

Номер патента: US09496331B2. Автор: Kouji Eguchi,Youhei Oda. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2016-11-15.

Method for forming thin films of semiconductor devices

Номер патента: US20030124760A1. Автор: Seok Lee,Sung Joo. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-07-03.

Method for Forming Isolation Layer in Semiconductor Devices

Номер патента: US20070166949A1. Автор: In Kyu Chun. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-19.

Gate-all-around transistor, method for manufacturing the same, and semiconductor device

Номер патента: US20240213336A1. Автор: Fei Zhao,Yongliang Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2024-06-27.

Method for fabricating a nitride semiconductor device

Номер патента: US6764871B2. Автор: Akihiko Ishibashi,Ayumu Tsujimura,Yasutoshi Kawaguchi. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-20.

Semiconductor device having super junction metal oxide semiconductor structure and fabrication method for the same

Номер патента: US09755065B2. Автор: Toshio Nakajima. Владелец: ROHM CO LTD. Дата публикации: 2017-09-05.

Method for forming metal wires in semiconductor device

Номер патента: US20050233579A1. Автор: Ihl Cho. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-10-20.

Method for forming step channel of semiconductor device

Номер патента: US20060141800A1. Автор: Young Cho. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-06-29.

Method for forming step channel of semiconductor device

Номер патента: US7309656B2. Автор: Young Man Cho. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-12-18.

Semiconductor device and method for detecting damaging of a semiconductor device

Номер патента: US09618561B2. Автор: DIRK Meinhold. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-04-11.

Method for doping a fin-based semiconductor device

Номер патента: US7612420B2. Автор: Damien Lenoble. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2009-11-03.

Method for forming isolation layer in semiconductor device

Номер патента: US20030119266A1. Автор: Cheol Park. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2003-06-26.

Method for Forming Super Contact in Semiconductor Device

Номер патента: US20100140806A1. Автор: Sang Chul Kim. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2010-06-10.

Method for forming capacitor, capacitor and semiconductor device

Номер патента: US12041763B2. Автор: GuangSu SHAO,Xingsong SU,Mengkang YU. Владелец: Beijing Superstring Academy of Memory Technology. Дата публикации: 2024-07-16.

Forming method for floating contact hole, and semiconductor device

Номер патента: EP4401119A1. Автор: Song Zhang,Wenming Zhu,Qun Liu,Yaohui ZHOU,Dejin Wang. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-17.

Method for forming fine patterns in semiconductor device

Номер патента: US20030186547A1. Автор: YOON Hyun,Cha Koh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-10-02.

Forming method for floating contact hole, and semiconductor device

Номер патента: US20240290846A1. Автор: Song Zhang,Wenming Zhu,Qun Liu,Yaohui ZHOU,Dejin Wang. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Method for forming word line of semiconductor device

Номер патента: US20040082155A1. Автор: Won Lee. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-04-29.

Method for forming bit line of semiconductor device

Номер патента: US20040067656A1. Автор: Sung Jin,Jai Roh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-04-08.

Method for production of thin-film semiconductor device

Номер патента: US20090191672A1. Автор: Masafumi Kunii. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2009-07-30.

Methods for forming fine patterns of semiconductor device

Номер патента: US09627202B2. Автор: DAE-YONG KANG,Sung-Wook Hwang,Joonsoo PARK,Soonmok Ha,Byungjun Jeon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-18.

Methods for manufacturing and operating a semiconductor device

Номер патента: US09595835B2. Автор: Karl-Heinz Allers,Reiner Schwab. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-03-14.

Semiconductor device having an electrostatic discharge protection structure

Номер патента: US10418358B2. Автор: Joachim Weyers. Владелец: Infineon Technologies Dresden GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-09-17.

Methods for normalizing strain in a semiconductor device

Номер патента: SG155836A1. Автор: Tan Chung Foong,TEO Lee Wee,Quek Kiok Boone Elgin,Alain Chan. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2009-10-29.

Composite substrate and method for manufacturing the same, and semiconductor device structure

Номер патента: US20240258321A1. Автор: Kai Cheng. Владелец: Enkris Semiconductor Inc. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for clean procedure during manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11990346B2. Автор: Hsuan-Hsu Chen,Zhen Wu,Chun-Lung Chen,Chuan-Chang Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-05-21.

Method for analyzing discrete traps in semiconductor devices

Номер патента: US09691861B2. Автор: Koon Hoo Teo,Andrei Kniazev,Qun Gao. Владелец: Mitsubishi Electric Research Laboratories Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Method for producing a nitride compound semiconductor device

Номер патента: US09660137B2. Автор: Patrick Rode,Werner Bergbauer,Peter Stauss,Philipp Drechsel. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2017-05-23.

Method for producing an SGT-including semiconductor device

Номер патента: US09514944B2. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2016-12-06.

Method for fabricating carbon hard mask and method for fabricating patterns of semiconductor device using the same

Номер патента: US20120208367A1. Автор: Tai Ho Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-08-16.

Method for forming isolation regions on semiconductor device

Номер патента: US20020192961A1. Автор: Motoki Kobayashi. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-19.

Method for forming isolation regions on semiconductor device

Номер патента: US20020052118A1. Автор: Motoki Kobayashi. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-05-02.

Method for forming isolation regions on semiconductor device

Номер патента: US6579807B2. Автор: Motoki Kobayashi. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2003-06-17.

Method for forming shallow trench in semiconductor device

Номер патента: US20050148152A1. Автор: Tse-Yao Huang,Yi-Nan Chen,Hsiu-Chun Lee. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2005-07-07.

Method for fabricating capacitors of semiconductor devices

Номер патента: US5861332A. Автор: Kwon Hong,Yong Sik Yu. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1999-01-19.

Method for fabricating inductor of semiconductor device

Номер патента: US6015742A. Автор: Jae Il Ju. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 2000-01-18.

Fabrication method for a sub-micron geometry semiconductor device

Номер патента: US5147812A. Автор: James G. Gilbert,Fourmun Lee,Thomas Zirkle. Владелец: Motorola Inc. Дата публикации: 1992-09-15.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device using hemispherical grain (HSG) polysilicon

Номер патента: US5817555A. Автор: Bok-Won Cho. Владелец: LG Semicon Co Ltd. Дата публикации: 1998-10-06.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: US20040203201A1. Автор: Jin-woong Kim,Jong-Min Lee,Hyung-Bok Choi,Dong-Woo Sihn. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-10-14.

Method for via formation in a semiconductor device

Номер патента: US20120302062A1. Автор: Yi Nan Chen,Hsien Wen Liu,Chih Ching Lin. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-11-29.

Semiconductor device having electro-static discharge protection structure

Номер патента: US20180277532A1. Автор: Zheng Bian. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2018-09-27.

Method for forming isolation regions on semiconductor device

Номер патента: US20020076901A1. Автор: Toshiyuki Nakamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-06-20.

Semiconductor device with stripe-shaped trench gate structures and gate connector structure

Номер патента: US09960243B2. Автор: Wolfgang Bergner,Thomas Aichinger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2018-05-01.

Method for forming fine patterns of semiconductor device

Номер патента: US09666434B2. Автор: DAE-YONG KANG,Jaehee Kim,Joonsoo PARK,Soonmok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-05-30.

Semiconductor device with stripe-shaped trench gate structures and gate connector structure

Номер патента: US09530850B2. Автор: Wolfgang Bergner,Thomas Aichinger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-12-27.

Method for fabricating a circular printed memory device with rotational detection

Номер патента: US11075210B2. Автор: Markus R. Silvestri,Christopher David Blair. Владелец: Xerox Corp. Дата публикации: 2021-07-27.

Method for fabricating resin-sealed semiconductor device using leadframe provided with resin dam bar

Номер патента: US5989474A. Автор: Yasuhiro Suzuki. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1999-11-23.

Method for use in manufacturing a semiconductor device die

Номер патента: US09553022B1. Автор: Michaela Braun,Markus Menath. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-01-24.

Method for manufacturing and structure of semiconductor device with polysilicon definition structure

Номер патента: US20030100149A1. Автор: Xiaoju Wu. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2003-05-29.

Semiconductor device including pixels, microlenses, and a monitoring structure, and a method of manufacturing the same

Номер патента: US9276028B2. Автор: Mitsuhiro Yomori. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2016-03-01.

Methods for forming hole structure in semiconductor device

Номер патента: US11876016B2. Автор: Gang Yang,Jian Dai,Biao Zheng,Xiang Hui ZHAO,Zui Xin ZENG,Lianjuan Ren. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-01-16.

Structures and methods for reducing junction leakage in semiconductor devices

Номер патента: US8633513B2. Автор: Daniel Doyle,Jeffrey Gleason. Владелец: Aptina Imaging Corp. Дата публикации: 2014-01-21.

Method for parameter extraction of a semiconductor device

Номер патента: US10345371B2. Автор: Jyh-Chyurn Guo,Yen-Ying LIN. Владелец: National Chiao Tung University NCTU. Дата публикации: 2019-07-09.

Semiconductor Device Having an Electrostatic Discharge Protection Structure

Номер патента: US20180061823A1. Автор: Joachim Weyers. Владелец: Infineon Technologies Dresden GmbH and Co KG. Дата публикации: 2018-03-01.

Semiconductor device having vertical mosfet with super junction structure, and method for manufacturing the same

Номер патента: US20150333153A1. Автор: Kouji Eguchi,Youhei Oda. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2015-11-19.

Method for Producing a Nitride Compound Semiconductor Device

Номер патента: US20180144933A1. Автор: Alexander Frey,Lorenzo Zini,Joachim Hertkorn. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2018-05-24.

Methods for forming hole structure in semiconductor device

Номер патента: US11817348B2. Автор: Gang Yang,Jian Dai,Biao Zheng,Xiang Hui ZHAO,Zui Xin ZENG,Lianjuan Ren. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for forming a gate for semiconductor devices

Номер патента: US6448166B2. Автор: Heung Jae Cho,Dae Gyu Park,Kwan Yong Lim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-09-10.

Method for forming wells of a semiconductor device

Номер патента: US5898007A. Автор: Kil Ho Lee. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1999-04-27.

Method for defining submicron features in semiconductor devices

Номер патента: CA1186809A. Автор: Rafael M. Levin. Владелец: Western Electric Co Inc. Дата публикации: 1985-05-07.

Semiconductor Device and Method for Producing a Plurality of Semiconductor Devices

Номер патента: US20170338384A1. Автор: Thomas Schwarz,Frank Singer. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2017-11-23.

Method for measuring film thickness of semiconductor device

Номер патента: US20220307818A1. Автор: Yongshang SHENG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2022-09-29.

Method for measuring film thickness of semiconductor device

Номер патента: US11867497B2. Автор: Yongshang SHENG. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-01-09.

Method for integrating replacement gate in semiconductor device

Номер патента: US20130005097A1. Автор: Qiuxia Xu,Gaobo Xu. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-01-03.

Method for forming metal wire of semiconductor device

Номер патента: US5780356A. Автор: Jeong Tae Kim. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1998-07-14.

Method for the production of a semiconductor device by implanting fluorocarbon ions

Номер патента: US5158897A. Автор: Hiroya Sato,Toshiaki Kinosada,Yasuhito Nakagawa. Владелец: Sharp Corp. Дата публикации: 1992-10-27.

Method for producing field effect type semiconductor device

Номер патента: US4578343A. Автор: Noriaki Nakayama,Sumio Yamamoto,Yoshimi Yamashita,Kinjiro Kosemura. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 1986-03-25.

Method for etching Pt film of semiconductor device

Номер патента: US6004882A. Автор: Byong-sun Ju,Hyoun-woo Kim,Byeong-Yun Nam,Won-jong Yoo. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1999-12-21.

Methods for forming copper interconnects for semiconductor devices

Номер патента: WO2010019500A4. Автор: Christian Witt. Владелец: Advanced Micro Devices, Inc.. Дата публикации: 2010-04-29.

Method for forming metal wiring of semiconductor device

Номер патента: US5459100A. Автор: Kyeong K. Choi. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1995-10-17.

Method for forming trench isolation for semiconductor device

Номер патента: US5756389A. Автор: Jun-Hee Lim,Yoon-Jong Huh. Владелец: Goldstar Electron Co Ltd. Дата публикации: 1998-05-26.

Method for forming isolation layer of semiconductor device

Номер патента: US20020137307A1. Автор: CHANG Kim,Wan Kim. Владелец: Kim Wan Shick. Дата публикации: 2002-09-26.

Semiconductor device with asymmetric strained source/drain structure and fabrication method

Номер патента: US10903362B2. Автор: Po-Yu YANG. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2021-01-26.

Semiconductor Device with Stripe-Shaped Trench Gate Structures and Gate Connector Structure

Номер патента: US20160181408A1. Автор: Wolfgang Bergner,Thomas Aichinger. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2016-06-23.

Method for filling polysilicon gate in semiconductor devices, and semiconductor devices

Номер патента: US20150357340A1. Автор: Chun-Min Cheng,Jung-Yi Guo. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2015-12-10.

Method for forming capacitor, capacitor and semiconductor device

Номер патента: US20230063571A1. Автор: GuangSu SHAO,Xingsong SU,Mengkang YU. Владелец: Beijing Superstring Academy of Memory Technology. Дата публикации: 2023-03-02.

Method for forming a line of semiconductor device

Номер патента: US20020090807A1. Автор: Tae Kwon. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2002-07-11.

Method for forming a line of semiconductor device

Номер патента: US6548377B2. Автор: Tae Seok Kwon. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-04-15.

Methods for forming alignment marks on semiconductor devices

Номер патента: US20070172977A1. Автор: Taek-Jin Lim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2007-07-26.

Photoresist coating composition and method for forming fine contact of semiconductor device

Номер патента: US8133547B2. Автор: Jae Chang Jung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-03-13.

Method for producing a pillar-shaped semiconductor device

Номер патента: US20170236920A1. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2017-08-17.

Method for forming patterns of a semiconductor device

Номер патента: US20170316950A1. Автор: Kyungmun Byun,Sinhae DO,Badro IM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-11-02.

Method for forming metal contact in semiconductor device

Номер патента: US20070148858A1. Автор: Jong-Kuk Kim,Jae Yu. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-06-28.

Method for producing an sgt-including semiconductor device

Номер патента: US20170040329A1. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2017-02-09.

Method for producing an sgt-including semiconductor device

Номер патента: US20150325444A1. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2015-11-12.

Method for producing an sgt-including semiconductor device

Номер патента: US20170301679A1. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2017-10-19.

Method for testing contact open in semiconductor device

Номер патента: US20050272173A1. Автор: Min-Suk Lee,Sung-Kwon Lee,Tae-Woo Jung. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-12-08.

Method for forming contact hole of semiconductor device

Номер патента: US5714038A. Автор: Byeung-Chul Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 1998-02-03.

Method for forming quantum dot, quantum semiconductor device, and its manufacturing method

Номер патента: EP1507293A1. Автор: Toshio Ohshima,Hai-zhi Fujitsu Limited SONG. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2005-02-16.

System and method for addressing junction capacitances in semiconductor devices

Номер патента: US20030082894A1. Автор: Zhiqiang Wu,Kaiping Liu. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2003-05-01.

Method for producing semiconductor element, and semiconductor device

Номер патента: EP4086941A1. Автор: Katsunori Azuma,Tomohisa Hirayama. Владелец: Kyocera Corp. Дата публикации: 2022-11-09.

Method for forming isolation regions on semiconductor device

Номер патента: US6479397B2. Автор: Motoki Kobayashi. Владелец: Oki Electric Industry Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-12.

Structure and method for power field effect transistor

Номер патента: US20130034936A1. Автор: Sreenivasan K. Koduri. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-02-07.

Structure and method for power field effect transistor

Номер патента: US8361839B1. Автор: Sreenivasan K. Koduri. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-01-29.

Reinforcing sheet and method for producing secondary mounted semiconductor device

Номер патента: US20160042986A1. Автор: Kosuke Morita,Naohide Takamoto,Hiroyuki Senzai. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2016-02-11.

Reinforcing sheet and method for producing secondary mounted semiconductor device

Номер патента: US9472439B2. Автор: Kosuke Morita,Naohide Takamoto,Hiroyuki Senzai. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 2016-10-18.

POWER SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING A POWER SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20210242111A1. Автор: Wedi Andre,Unrau Arthur,Ehlers Carsten. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-05.

Power semiconductor device and method for fabricating a power semiconductor device

Номер патента: EP3859776A1. Автор: Arthur Unrau,Carsten Ehlers,Andre Wedi. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2021-08-04.

Method for fabricating thermally enhanced semiconductor device

Номер патента: US7396700B2. Автор: Shih-Ping Hsu. Владелец: Phoenix Precision Technology Corp. Дата публикации: 2008-07-08.

Semiconductor device with decoupling capacitor structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240088111A1. Автор: Wu-Der Yang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Semiconductor device with decoupling capacitor structure and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240088113A1. Автор: Wu-Der Yang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-03-14.

Semiconductor device with semiconductor body and method for the production of a semiconductor device

Номер патента: US20100078756A1. Автор: Gerhard Schmidt. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2010-04-01.

Method for manufacturing a TEM-lamella and assembly having a TEM-lamella protective structure

Номер патента: US09570269B2. Автор: Lorenz Lechner. Владелец: CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH. Дата публикации: 2017-02-14.

Method for manufacturing NdFeB rare earth permanent magnetic device with composite plating

Номер патента: US09938625B2. Автор: Xiaodong Chen,Baoyu Sun. Владелец: Shenyang General Magnetic Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-10.

A method for determining the association of a sensor device with an electric battery unit

Номер патента: SE544597C2. Автор: Gunnar Ledfelt,Per Nordvall,Mathias Eggeling. Владелец: Man Truck & Bus Se. Дата публикации: 2022-09-20.

A method for determining the association of a sensor device with an electric battery unit

Номер патента: EP4264775A1. Автор: Gunnar Ledfelt,Per Nordvall,Mathias Eggeling. Владелец: MAN Truck and Bus SE. Дата публикации: 2023-10-25.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device using buried stop layer in substrate

Номер патента: EP4139954B1. Автор: He Chen. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09530703B2. Автор: Hiroshi Sugimoto,Takuyo Nakamura. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2016-12-27.

Method for forming redistribution layer on semiconductor device

Номер патента: TW594895B. Автор: Tai-Yuan Huang,Chih-Hsiang Hsu,Hsin-Lun Chang. Владелец: Advanced Semiconductor Eng. Дата публикации: 2004-06-21.

Method for fabricating micropump of semiconductor device

Номер патента: KR0169818B1. Автор: 정태경,윤종상. Владелец: 김광호. Дата публикации: 1999-02-18.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device using buried stop layer in substrate

Номер патента: EP4139954A4. Автор: He Chen. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Method and system supporting production of a semiconductor device using a plurality of fabrication processes

Номер патента: EP2056338A3. Автор: Masood Syaed. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2013-03-06.

Method and computing device for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US12093630B2. Автор: Sooyong Lee,Jeeyong Lee,Jaeho Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

Methods for fabricating micro-devices

Номер патента: US09487394B2. Автор: Chris Yu. Владелец: Shanghai Xinshenpai Technology Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Wavelet system and method for ameliorating misregistration and asymmetry of semiconductor devices

Номер патента: US12080610B2. Автор: Daria Negri,Lilach SALTOUN. Владелец: KLA Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: US20040161902A1. Автор: Jeong Park. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2004-08-19.

Semiconductor devices

Номер патента: US20230080850A1. Автор: Donghyun Roh,Koungmin Ryu,Sangkoo Kang,Seunggwang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-03-16.

Semiconductor devices

Номер патента: US12094941B2. Автор: Donghyun Roh,Koungmin Ryu,Sangkoo Kang,Seunggwang Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-09-17.

Semiconductor device and method of forming the same

Номер патента: US12040412B2. Автор: Jian-Ting CHEN,Yu-Lung Wang,Yao-Ting Tsai,Yuan-Huang Wei. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2024-07-16.

Manufacturing method of semiconductor device

Номер патента: US09646829B2. Автор: Yuichi Sato,Junichi Koezuka,Shinji Ohno. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Device and methods for small trench patterning

Номер патента: US09478459B2. Автор: Ya Hui Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Flexible display device with side crack protection structure and manufacturing method for the same

Номер патента: US09818764B2. Автор: Seyeoul Kwon,Heeseok Yang,Sangcheon Youn. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-14.

Flexible display device with side crack protection structure and manufacturing method for the same

Номер патента: US09544994B2. Автор: Seyeoul Kwon,Heeseok Yang,Sangcheon Youn. Владелец: LG Display Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Semiconductor device, light emitting device and method for manufacturing the same

Номер патента: EP2389693A2. Автор: Yong-Jin Kim,Ho-Jun Lee,Doo-Soo Kim,Dong-Kun Lee. Владелец: Siltron Inc. Дата публикации: 2011-11-30.

Gate Structures For Semiconductor Devices

Номер патента: US20240347393A1. Автор: Chung-Liang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Gate structures for semiconductor devices

Номер патента: US12131955B2. Автор: Chung-Liang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Semiconductor devices with switchable ground-body connection

Номер патента: US09590674B2. Автор: Chris Olson. Владелец: Peregrine Semiconductor Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Semiconductor device and methods of manufacture thereof

Номер патента: US20170179145A1. Автор: Boon Jiew CHEE. Владелец: X Fab Semiconductor Foundries GmbH. Дата публикации: 2017-06-22.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: TWI282604B. Автор: Jeong-Soo Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-06-11.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: TW200503170A. Автор: Jeong-Soo Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-01-16.

Phosphor Coating Method for Fabricating Light Emitting Semiconductor Device and Applications Thereof

Номер патента: US20120049231A1. Автор: Tzu-Hao Chao. Владелец: Everlight Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2012-03-01.

Phosphor Coating Method for Fabricating Light Emitting Semiconductor Device and Applications Thereof

Номер патента: US20120181564A1. Автор: Tzu-Hao Chao. Владелец: Everlight Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2012-07-19.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US09893194B2. Автор: Yoshitaka Yamamoto,Hideomi Suzawa,Takayuki Inoue,Tetsuhiro Tanaka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-13.

Method for manufacturing a semiconductor device

Номер патента: US09806187B2. Автор: Martin Poelzl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2017-10-31.

Method for forming semiconductor structure with etched fin structure

Номер патента: US09659766B2. Автор: Shiang-Bau Wang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-23.

Method for preparing semiconductor device structure with air gap

Номер патента: US11895826B2. Автор: Chin-Te Kuo. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-02-06.

Method for preparing semiconductor device structure with air gap

Номер патента: US20220037331A1. Автор: Chin-Te Kuo. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Memory cell and semiconductor memory device with the same

Номер патента: US20240284655A1. Автор: Seung Hwan Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09647081B2. Автор: Takeyoshi Masuda,Keiji Wada,Mitsuhiko Sakai. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Silicon carbide semiconductor device and method for manufacturing same

Номер патента: US09627488B2. Автор: Takeyoshi Masuda,Toru Hiyoshi,Kosuke Uchida. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-04-18.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20240072141A1. Автор: Xi SONG,Pengyu Han,Huiqin Wang. Владелец: Dynax Semiconductor Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20190386126A1. Автор: Naiqian Zhang,Xingxing Wu,Xinchuan ZHANG. Владелец: Dynax Semiconductor Inc. Дата публикации: 2019-12-19.

Method of manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20120302004A1. Автор: Akiharu Miyanaga. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2012-11-29.

Semiconductor device and method of forming the same

Номер патента: US20240243187A1. Автор: Meng-Han LIN. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-18.

Method for forming semiconductor structure with high aspect ratio

Номер патента: US20240047276A1. Автор: Tien-I Bao,Chih-tang Peng,Han-Pin Chung. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Gate Structures For Semiconductor Devices

Номер патента: US20240290836A1. Автор: Chan-Lon Yang,Perng-Fei Yuh,Keh-Jeng Chang,Chansyun David Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20130264649A1. Автор: Jae-Hwang Sim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2013-10-10.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US9064734B2. Автор: Jae-Hwang Sim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2015-06-23.

Nitride compound based semiconductor device and manufacturing method of same

Номер патента: US20020142563A1. Автор: YVES Lacroix,Shiro Sakai. Владелец: Nitride Semiconductors Co Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Semiconductor device and method for forming the same

Номер патента: US20240194769A1. Автор: Yu-Cheng Tung,Chia-Wei Wu. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

A compact scr device and method for integrated circuits

Номер патента: WO2006036447A3. Автор: Cheng-Hsiung Huang,Chih-Ching Shih,Yow-Juang Liu,Hugh O Sungki. Владелец: Hugh O Sungki. Дата публикации: 2006-12-14.

Semiconductor stack, semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US12057524B2. Автор: Meng-yang CHEN,Jung-Jen LI. Владелец: Epistar Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Semiconductor device and process for fabrication thereof

Номер патента: US20020123178A1. Автор: Shigeru Kanematsu,Hirokazu Ejiri. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2002-09-05.

Semiconductor device production method

Номер патента: US20240282616A1. Автор: Yoshihiro Yamada,Ryuma Mizusawa,Yubun Kikuchi. Владелец: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

Method for producing silicon carbide semiconductor device and silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US12100739B2. Автор: Hideto Tamaso. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device and silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US12087821B2. Автор: Hideto Tamaso. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2024-09-10.

System and method for production line monitoring

Номер патента: US09983148B2. Автор: Martin Plihal,Saravanan Paramasivam. Владелец: KLA Tencor Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device and silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09881996B2. Автор: Toru Hiyoshi. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for producing an electronic device

Номер патента: US09769931B2. Автор: Chrystel Deguet,Franck Fournel. Владелец: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA. Дата публикации: 2017-09-19.

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US09647127B2. Автор: XIANG Liu,Woobong Lee. Владелец: BOE Technology Group Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-09.

Selection of optimal quantization direction for given transport direction in a semiconductor device

Номер патента: US20060102985A1. Автор: Steven Laux. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2006-05-18.

Semiconductor structure, method for forming semiconductor strucutre, and memory

Номер патента: US20240074164A1. Автор: Qinghua Han. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-29.

Method for producing pillar-shaped semiconductor device

Номер патента: US20190157166A1. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2019-05-23.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US20160118250A1. Автор: Hideto Tamaso. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2016-04-28.

Semiconductor device having electrostatic discharge protection structure

Номер патента: US20190057960A1. Автор: Kui Xiao. Владелец: CSMC Technologies Fab2 Co Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Materials and methods for the preparation of nanocomposites

Номер патента: WO2012158847A3. Автор: Dmitri V. Talapin,Angshuman Nag. Владелец: The University of Chicago. Дата публикации: 2013-04-11.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US20140045322A1. Автор: Hideto Tamaso. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2014-02-13.

Method to detect photoresist residue on a semiconductor device

Номер патента: US20050250227A1. Автор: Yung-Lung Hsu,To-Yu Chen,Mei-Yen Li. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2005-11-10.

Semiconductor device and method of manufacturing the same

Номер патента: US20220285565A1. Автор: Yi Pei,Guangmin DENG. Владелец: Gpower Semiconductor Inc. Дата публикации: 2022-09-08.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US20150072486A1. Автор: Yuichi Takeuchi,Naohiro Sugiyama. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2015-03-12.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US9450068B2. Автор: Yuichi Takeuchi,Naohiro Sugiyama. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Method for producing pillar-shaped semiconductor device

Номер патента: US20180012896A1. Автор: Fujio Masuoka,Nozomu Harada. Владелец: Unisantis Electronics Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2018-01-11.

Epitaxial Structures For Semiconductor Devices

Номер патента: US20240372007A1. Автор: Shahaji B. More. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-07.

Materials and methods for the preparation of nanocomposites

Номер патента: US09882001B2. Автор: Dmitri V. Talapin,Angshuman Nag. Владелец: University of Chicago. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09620358B2. Автор: Hideto Tamaso. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09543412B2. Автор: Takeyoshi Masuda,Hideki Hayashi. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2017-01-10.

Method for manufacturing silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09450068B2. Автор: Yuichi Takeuchi,Naohiro Sugiyama. Владелец: Denso Corp. Дата публикации: 2016-09-20.

Method for fabrication of CMOS devices having minimized drain contact area

Номер патента: US5573969A. Автор: Jae K. Kim. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1996-11-12.

Method and computing device for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US11763058B2. Автор: Sooyong Lee,Jeeyong Lee,Jaeho Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-19.

Method and computing device for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20240020450A1. Автор: Sooyong Lee,Jeeyong Lee,Jaeho Jeong. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-01-18.

Method for mounting protective covers on image capture devices and devices manufactured thereby

Номер патента: WO2007120587A2. Автор: Dongkai Shangguan,Samuel Waising Tam. Владелец: FLEXTRONICS AP LLC. Дата публикации: 2007-10-25.

Method for fabricating and separating semiconductor devices

Номер патента: WO2006055601A3. Автор: Myung cheol Yoo. Владелец: VERTICLE Inc. Дата публикации: 2008-07-24.

Method for fabricating and separating semiconductor devices

Номер патента: WO2006055601B1. Автор: Myung cheol Yoo. Владелец: VERTICLE Inc. Дата публикации: 2008-09-04.

Method for fabricating and separating semiconductor devices

Номер патента: EP1815503A2. Автор: Myung cheol Yoo. Владелец: VERTICLE Inc. Дата публикации: 2007-08-08.

Method for forming and filling isolation trenches

Номер патента: EP1338033A2. Автор: Andreas Knorr,Rajeev Malik,Mihel Seitz. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-08-27.

Wet cleaning method for cleaning small pitch features

Номер патента: US09558927B2. Автор: Chung-Ju Lee,Tsung-Min Huang,Chien-Hua Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Semiconductor device and method for fabricating same

Номер патента: US20240063256A1. Автор: Zheng He,Yi Tang,Qiong Wu. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-02-22.

Semiconductor structure and fabrication method thereof

Номер патента: US8232596B2. Автор: Shang-Hui Tu,Hung-Shern Tsai. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2012-07-31.

Vertical semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20230040214A1. Автор: Heung Ju LEE,Jun Seok Oh,Wan Sup SHIN,Jong Gi Kim,Seung Wook Ryu. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2023-02-09.

Semiconductor structure and fabrication method thereof

Номер патента: US20120223383A1. Автор: Shang-Hui Tu,Hung-Shern Tsai. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2012-09-06.

Semiconductor structure and fabrication method thereof

Номер патента: US20100163989A1. Автор: Shang-Hui Tu,Hung-Shern Tsai. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2010-07-01.

Method for Forming a Ruthenium Film

Номер патента: US20120161282A1. Автор: Vishwanath Bhat,Dan Gealy,Vassil Antonov. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-06-28.

Silicon carbide semiconductor device

Номер патента: US09722017B2. Автор: Nobuyuki Tomita,Takaaki TOMINAGA,Naoyuki Kawabata. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for fabricating carbon hard mask and method for fabricating patterns of semiconductor device using the same

Номер патента: US20120208367A1. Автор: Tai Ho Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2012-08-16.

Method of fabricating semiconductor device

Номер патента: US20240120329A1. Автор: Yifei Yan. Владелец: Fujian Jinhua Integrated Circuit Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Semiconductor device

Номер патента: US09721797B2. Автор: Young Ho Yang. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for thermal annealing and a semiconductor device formed by the method

Номер патента: US09679773B1. Автор: Manfred Engelhardt. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-06-13.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device and three-dimensional semiconductor device fabricated thereby

Номер патента: KR101003542B1. Автор: 이상윤. Владелец: 이상윤. Дата публикации: 2010-12-30.

Method for fabricating three-dimensional semiconductor device and three-dimensional semiconductor device fabricated thereby

Номер патента: KR20100041625A. Автор: 이상윤. Владелец: 이상윤. Дата публикации: 2010-04-22.

Method for forming LDD CMOS

Номер патента: US6020231A. Автор: Chih-Hsien Wang,Min-Liang Chen. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-02-01.

Semiconductor device and method for fabricating the same

Номер патента: US20220165684A1. Автор: Kai-Kuang Ho,Jen-Hsien Chang,Meng-Ting Chiang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2022-05-26.

Image sensor devices, methods for forming the same and semiconductor devices

Номер патента: TW200837940A. Автор: Dun-Nian Yaung,Jyh-Ming Hung. Владелец: Taiwan Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-09-16.

Method for manufacturing a capacitor for semiconductor device

Номер патента: KR970008812B1. Автор: Yang-Kyu Choe. Владелец: Hyundai Electronics Ind. Дата публикации: 1997-05-29.

Method for manufacturing static induction type semiconductor device and thereby manufactured semiconductor device

Номер патента: GB9005988D0. Автор: . Владелец: Matsushita Electric Works Ltd. Дата публикации: 1990-05-09.

Charge Compensation Semiconductor Devices

Номер патента: US20190123137A1. Автор: Franz Hirler,Christian Fachmann,Maximilian Treiber,Daniel Tutuc. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2019-04-25.

Organosilane-containing material for insulation film, method for producing the same, and semiconductor device

Номер патента: TWI252232B. Автор: Daiji Hara,Keisuke Yoshida. Владелец: Tosoh Corp. Дата публикации: 2006-04-01.

Thin film transistor, method for manufacturing the same, and semiconductor device

Номер патента: US09859306B2. Автор: Hideyuki Kishida,Toshikazu Kondo. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Thin film transistor, method for manufacturing the same, and semiconductor device

Номер патента: US12136629B2. Автор: Hideyuki Kishida,Toshikazu Kondo. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device and capacitor fabricated thereby

Номер патента: KR100281906B1. Автор: 이병택. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-02-15.

Stacked semiconductor device and related method

Номер патента: US7682450B2. Автор: Jin-Hong Kim,Joon Kim,Suk-Chul Bang,Eun-Kuk Chung,Yun-Seung Kang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-03-23.

Semiconductor device having buried gate electrode structures

Номер патента: US20150145029A1. Автор: Marko Lemke,Rolf Weis,Stefan Tegen. Владелец: Infineon Technologies Dresden GmbH and Co KG. Дата публикации: 2015-05-28.

Semiconductor device and method of manufacturing same

Номер патента: US20150262996A1. Автор: Hsiao-Tsung Yen,Ta-Hsun Yeh,Yuh-Sheng Jean. Владелец: Realtek Semiconductor Corp. Дата публикации: 2015-09-17.

Semiconductor device and method of manufacturing the semiconductor device

Номер патента: US09614090B2. Автор: Ju-youn Kim,Sang-jung KANG,Ji-Hwan An. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-04.

Method for forming micro lenses and semiconductor device including the micro lenses

Номер патента: TW200810099A. Автор: Hiroki Amemiya. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2008-02-16.

Method for forming metal wiring of semiconductor device

Номер патента: TW302512B. Автор: Heon-Do Kim. Владелец: Hyundai Electronics Ind. Дата публикации: 1997-04-11.

Semiconductor device

Номер патента: US20240243008A1. Автор: Cheng-Lung Hung,Hsin-Yi Lee,Da-Yuan Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-18.

Method for forming thin films of semiconductor devices

Номер патента: TW200411738A. Автор: Seok-Kiu Lee,Sung-Jae Joo. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-07-01.

A method for analyzing defects in a semiconductor device

Номер патента: GB9606291D0. Автор: . Владелец: Hyundai Electronics Co Ltd. Дата публикации: 1996-05-29.

Semiconductor device

Номер патента: US11728456B2. Автор: Meng-yang CHEN,Yuan-Ting Lin. Владелец: Epistar Corp. Дата публикации: 2023-08-15.

Method for forming fine pattern of semiconductor device

Номер патента: TW200814140A. Автор: Jae-Chang Jung,Cheol-Kyu Bok,Seung-Chan Moon,Hee Youl Lim,Keun-Do Ban,Myoung-Ja Min. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-03-16.

Method for manufacturing a capacitor of semiconductor device

Номер патента: TW546695B. Автор: Dong-Su Park,Cheol-Hwan Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-08-11.

Method for forming junction region in semiconductor device

Номер патента: KR100376888B1. Автор: Bong Soo Kim,Seong Hoon Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-03-19.

Methods for manufacturing a trench type semiconductor device having a thermally sensitive refill material

Номер патента: TW200901325A. Автор: Takeshi Ishiguro. Владелец: Icemos Technology Corp. Дата публикации: 2009-01-01.

Method for forming isolation layer in semiconductor device

Номер патента: TW200411810A. Автор: Cheol-Soo Park. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2004-07-01.

Method for forming isolation layer in semiconductor device

Номер патента: TWI287269B. Автор: Cheol-Soo Park. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-09-21.

Method for forming bit-line of semiconductor device

Номер патента: TW200522272A. Автор: Hyung-ki KIM. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-07-01.

Method for forming bit-line of semiconductor device

Номер патента: TWI239074B. Автор: Hyung-ki KIM. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-09-01.

Method for manufacturing static induction type semiconductor device

Номер патента: GB2230136A. Автор: Kazushi Kataoka,Takuya Komoda,Masahiko Suzumura. Владелец: Matsushita Electric Works Ltd. Дата публикации: 1990-10-10.

Method for capturing gaseous impurities and semiconductor device manufacturing apparatus

Номер патента: GB9711576D0. Автор: . Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1997-07-30.

Method for production of thin-film semiconductor device

Номер патента: TW200847297A. Автор: Masafumi Kunii. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-12-01.

Method for forming gate oxide in semiconductor device

Номер патента: TW200423237A. Автор: Byoung-Hee Cho. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-11-01.

Method for forming gate oxide in semiconductor device

Номер патента: TWI254982B. Автор: Byoung-Hee Cho. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-05-11.

Method for forming patterns in a semiconductor device

Номер патента: TW200406030A. Автор: Jae-Chang Jung,Cheol-Kyu Bok,Ki-Soo Shin,Sung-koo Lee,Young-sun Hwang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-04-16.

Method for forming patterns in a semiconductor device

Номер патента: TWI281209B. Автор: Jae-Chang Jung,Cheol-Kyu Bok,Ki-Soo Shin,Sung-koo Lee,Young-sun Hwang. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-05-11.

METHOD FOR FABRICATING THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE FOR DISPLAY

Номер патента: US20130071972A1. Автор: NISHIDA Kenichirou,NAGAI Hisao. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2013-03-21.

THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20130105798A1. Автор: KAWASHIMA Takahiro,KANEGAE Arinobu. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2013-05-02.

THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20130161630A1. Автор: NISHIDA Kenichirou. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2013-06-27.

Method for fabricating thin-film semiconductor device and thin-film semiconductor device

Номер патента: US20140048807A1. Автор: Arinobu Kanegae,Kenichirou Nishida. Владелец: Panasonic Corp. Дата публикации: 2014-02-20.

METHOD FOR FABRICATING THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE AND THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140048813A1. Автор: NISHIDA Kenichirou,KANEGAE Arinobu. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2014-02-20.

THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THIN-FILM SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140054590A1. Автор: KAWASHIMA Takahiro,KANEGAE Arinobu. Владелец: Panasonic Corporation. Дата публикации: 2014-02-27.

Method for fabricating thin-film semiconductor device and thin-film semiconductor device

Номер патента: US9035385B2. Автор: Arinobu Kanegae,Kenichirou Nishida. Владелец: Joled Inc. Дата публикации: 2015-05-19.

Semiconductor device having a heteroepitaxial substrate

Номер патента: US6188090B1. Автор: Takashi Eshita,Shinji Miyagaki,Kazuaki Takai,Satoshi Ohkubo. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2001-02-13.

Method for fabricating non-volatile memory unit device with metal nano particle

Номер патента: KR100696965B1. Автор: 김재훈,김은규,윤갑수. Владелец: 한양대학교 산학협력단. Дата публикации: 2007-03-20.

Manufacturing method of high-voltage semiconductor device with increased breakdown voltage

Номер патента: US11769794B2. Автор: Chao Sun. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Process for fabrication of split-gate virtual phase charge coupled devices

Номер патента: US20010031517A1. Автор: Jaroslav Hynecek. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2001-10-18.

Flexible Display Device with Side Crack Protection Structure and Manufacturing Method for the Same

Номер патента: US20180053790A1. Автор: Youn Sangcheon,Yang HeeSeok,Kwon SeYeoul. Владелец: . Дата публикации: 2018-02-22.

METHOD FOR FABRICATING CAPACITOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20160104764A1. Автор: LIM Sung-Won,Yeom Seung-Jin,Lee Hyo-Seok. Владелец: . Дата публикации: 2016-04-14.

METHOD FOR FABRICATING ELECTRODE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20210257251A1. Автор: Sasagawa Shinya,KURATA Motomu,OKAMOTO Satoru,HODO Ryota,IIDA Yuta. Владелец: . Дата публикации: 2021-08-19.

METHOD FOR FABRICATING ELECTRODE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20160307777A1. Автор: Sasagawa Shinya,KURATA Motomu,OKAMOTO Satoru,HODO Ryota,IIDA Yuta. Владелец: . Дата публикации: 2016-10-20.

METHOD FOR FABRICATING ELECTRODE AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20190393079A1. Автор: Sasagawa Shinya,KURATA Motomu,OKAMOTO Satoru,HODO Ryota,IIDA Yuta. Владелец: . Дата публикации: 2019-12-26.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US8298875B1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak C. Sekar,Paul Lim. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2012-10-30.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US9029173B2. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak C. Sekar,Ze'ev Wurman. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2015-05-12.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US20100289064A1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Israel Beinglass,J. L. de Jong,Deepak C. Sekar. Владелец: NuPGA Corp. Дата публикации: 2010-11-18.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US8703597B1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Deepak Sekar. Владелец: Monolithic 3D Inc. Дата публикации: 2014-04-22.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100500940B1. Автор: 김경민,박종범,오훈정. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-07-14.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100533981B1. Автор: 김주성,송한상,박기선. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-12-07.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100244251B1. Автор: 주재현,선정민. Владелец: 현대반도체주식회사. Дата публикации: 2000-02-01.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100886641B1. Автор: 박상수,정중택. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-03-04.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100818076B1. Автор: 서대영. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-03-31.

method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100390458B1. Автор: 전재영. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2003-07-04.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100425826B1. Автор: 유용식,박영진. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-06-04.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100318455B1. Автор: 이상익,안기철. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-03-08.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100308131B1. Автор: 박종범,주재현. Владелец: 현대반도체 주식회사. Дата публикации: 2001-11-02.

Method for fabricating polyresistor of semiconductor device

Номер патента: KR100546723B1. Автор: 서영훈. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-01-26.

Method for fabricating silicide of semiconductor device

Номер патента: KR100563095B1. Автор: 김석수. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-03-27.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100286011B1. Автор: 김기범,황철주. Владелец: 주성엔지니어링주식회사. Дата публикации: 2001-04-16.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100437616B1. Автор: 이경원,박창헌. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-06-30.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100582404B1. Автор: 조호진,김해원,이태혁,장준수. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-05-22.

method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100541679B1. Автор: 동차덕,한일근. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-01-11.

Method for fabricating isolation of semiconductor device

Номер патента: KR100588646B1. Автор: 심준범. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-06-12.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR101096230B1. Автор: 이상도,이기준. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-12-22.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100368978B1. Автор: 정연우. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2003-01-24.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100548598B1. Автор: 유혁준. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-02-02.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100881751B1. Автор: 이상익,박형순,신종한. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-02-06.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100949901B1. Автор: 박동혁. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-03-26.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR20040059848A. Автор: 김남경. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-07-06.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR20060001109A. Автор: 염승진,김남경. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-01-06.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100516230B1. Автор: 박정호. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-09-23.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100911675B1. Автор: 최선호. Владелец: 매그나칩 반도체 유한회사. Дата публикации: 2009-08-10.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR20070002701A. Автор: 최웅. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-01-05.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100585002B1. Автор: 황의성. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-05-29.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100540476B1. Автор: 김경민,박종범,오훈정. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-01-10.

Method for fabricating high-performance semiconductor device by reducing junction capacitance

Номер патента: KR100448090B1. Автор: 임지운. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2004-11-16.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100887052B1. Автор: 김주성. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-03-04.

Method for fabricating high speed semiconductor device

Номер патента: KR20110077966A. Автор: 진승우,주영환,이안배,장일식,차재춘. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-07-07.

Method for fabricating non-volatile semiconductor device

Номер патента: KR100302188B1. Автор: 최용석,김동준,유종원,정칠희. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-11-22.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100866126B1. Автор: 이원욱. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-10-31.

Method for fabricating photomask in semiconductor device

Номер патента: KR100945921B1. Автор: 신재천. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-03-05.

Method for fabricating thin film semiconductor devices

Номер патента: EP1024523A1. Автор: Jörg Horzel,Eva Vazsonyi. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2000-08-02.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100597462B1. Автор: 김학동. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-07-05.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100702134B1. Автор: 은병수. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-03-30.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100401528B1. Автор: 박상훈. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-06-23.

Method for Fabricating Capacitor of Semiconductor Device

Номер патента: KR100425153B1. Автор: 이주완. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-03-30.

Method for Fabricating Capacitor of Semiconductor Device

Номер патента: KR100359784B1. Автор: 조호진. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2002-11-04.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100506873B1. Автор: 박동수,이태혁,박철환,송창록. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-08-05.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100955922B1. Автор: 최웅. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-05-03.

Method for fabricating contact of semiconductor device

Номер патента: KR100701779B1. Автор: 박래춘,최부경. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2007-03-30.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100881830B1. Автор: 이성욱,유혁준. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-02-03.

Method for fabricating locos of semiconductor device

Номер патента: KR100632684B1. Автор: 성웅제. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-10-12.

Method for fabricating gate of semiconductor device

Номер патента: KR100540334B1. Автор: 박건욱. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-01-11.

Method for fabricating contact of semiconductor device

Номер патента: KR100552857B1. Автор: 조보연. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-02-22.

method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100418924B1. Автор: 정경철. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-02-14.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100326239B1. Автор: 선호정. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-05-09.

Method for fabricating transistor in semiconductor device

Номер патента: KR100636683B1. Автор: 서혜진,김재수,은용석,이안배. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-10-23.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100881829B1. Автор: 노용주,김창일. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-02-03.

Method for fabricating transistor in semiconductor device

Номер патента: KR100636685B1. Автор: 김한내. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-10-23.

Method for Fabricating Contact of Semiconductor Device

Номер патента: KR100607367B1. Автор: 김상욱. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-08-01.

Method for fabricating hole pattern semiconductor device

Номер патента: KR101708375B1. Автор: 선준협. Владелец: 에스케이하이닉스 주식회사. Дата публикации: 2017-02-21.

Method for fabricating mosfet in semiconductor device

Номер патента: KR100228334B1. Автор: 황준. Владелец: 현대전자산업주식회사. Дата публикации: 1999-11-01.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR101067022B1. Автор: 송한상. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-09-26.

method for fabricating Capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100328597B1. Автор: 구병수,안중일,곽선우,현경호. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2002-03-15.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR20100078496A. Автор: 박종범,송한상,박종국. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-07-08.

Method for fabricating transistor in semiconductor device

Номер патента: KR100762236B1. Автор: 김태균. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-10-01.

method for fabricating contacts in semiconductor device

Номер патента: KR101096256B1. Автор: 강춘수,전진혁. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-12-22.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100679829B1. Автор: 박정호. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2007-02-06.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100881735B1. Автор: 조광준,길덕신. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-02-06.

Method for fabricating a merged semiconductor device

Номер патента: US20040171258A1. Автор: Nam-kyu Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-09-02.

Method for fabricating an optical semiconductor device

Номер патента: EP0472221A3. Автор: Tatsuya Sasaki,Ikuo Mito,Tomoaki Katoh. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 1992-05-13.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100744068B1. Автор: 이성권,정태우,장세억,김명옥. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-07-30.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100520600B1. Автор: 박동수,우상호,이태혁,박철환,송창록. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-10-10.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100722997B1. Автор: 박종범. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-05-30.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100811271B1. Автор: 서혜진,박동수,이은아,박철환. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-03-07.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: US20040137679A1. Автор: Sang-Deok Kim. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-07-15.

Method for fabricating transistor in semiconductor device

Номер патента: KR101129021B1. Автор: 박동수,조호진,김해원,장준수. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2012-03-23.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100968411B1. Автор: 이종민,신동우,최형복. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-07-07.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100849187B1. Автор: 한상엽. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-07-30.

method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100732748B1. Автор: 정현진,김응수. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-27.

Method for fabricating gate of semiconductor device

Номер патента: KR100589495B1. Автор: 최승철. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-06-14.

Method for fabricating contacts in semiconductor device

Номер патента: KR20110001142A. Автор: 강춘수,전진혁. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-01-06.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100655070B1. Автор: 김동규,심광보,황재희. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2006-12-08.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR20010103978A. Автор: 배명광. Владелец: 윤종용. Дата публикации: 2001-11-24.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100811260B1. Автор: 김영대,김해원,이금범. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-03-07.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100620659B1. Автор: 신동우,최형복. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-09-13.

Method for fabricating electrically isolated semiconductor devices in integrated circuits

Номер патента: US3370995A. Автор: Carl J Lowery,Billy B Williams. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1968-02-27.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100505397B1. Автор: 홍권,조호진. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-05-16.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: CN1577799A. Автор: 李南宰,朴启淳. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-02-09.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: TW200623338A. Автор: Jong-Min Lee,Jong-Bum Park,Hyung-Bok Choi,Kee-Jeung Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-07-01.

Method for fabricating gate of semiconductor device

Номер патента: KR100519644B1. Автор: 하승철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-10-07.

Method for fabricating contacts of semiconductor device

Номер патента: KR100679941B1. Автор: 박수영,이홍구,박원성. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-02-08.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR101910499B1. Автор: 임성원,이효석,염승진. Владелец: 에스케이하이닉스 주식회사. Дата публикации: 2018-10-23.

Method for fabricating pattern in semiconductor device using spacer

Номер патента: KR100945928B1. Автор: 서혜진,김수호,이안배. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-03-05.

Method for fabricating a merged semiconductor device

Номер патента: CN1542906A. Автор: ,朴南奎. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-11-03.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100801306B1. Автор: 안명규. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-02-05.

Method for fabricating an optical semiconductor device

Номер патента: EP1193771B1. Автор: Takayuki c/o Fujitsu Quantum Devices Watanabe. Владелец: Sumitomo Electric Device Innovations Inc. Дата публикации: 2012-08-01.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR20000039797A. Автор: 이동호,장환수,길명군. Владелец: 현대전자산업 주식회사. Дата публикации: 2000-07-05.

Method for fabricating bitline in semiconductor device

Номер патента: KR100670708B1. Автор: 이주완. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-01-17.

Method for fabricating thin film semiconductor devices

Номер патента: AU2544900A. Автор: Jörg Horzel,Eva Vazsonyi. Владелец: INTERUNIVERSITAIRE MICROELEKTR. Дата публикации: 2000-08-18.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: TW200411819A. Автор: Jong-Bum Park,Kyong-Min Kim,Hoon-Jung Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-07-01.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100582352B1. Автор: 염승진,김남경. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-05-22.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: US6794241B2. Автор: Jong-Bum Park,Kyong-Min Kim,Hoon-Jung Oh. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2004-09-21.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: US6936517B2. Автор: Tae Woo Kim,Chee Hong Choi. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-08-30.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100364797B1. Автор: 박상혁. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2002-12-16.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR101075528B1. Автор: 홍권,김주성. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-10-20.

Method for fabrication of a semiconductor device and structure

Номер патента: US20100295136A1. Автор: Zvi Or-Bach,Brian Cronquist,Israel Beinglass,J. L. de Jong,Deepak C. Sekar. Владелец: NuPGA Corp. Дата публикации: 2010-11-25.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device to increase capacitance

Номер патента: KR100399917B1. Автор: 김재옥,은용석. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-07-23.

Method for fabricating capasitor of semiconductor device

Номер патента: KR100985409B1. Автор: 구성민. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-10-06.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: US6913963B2. Автор: Sang Ho Woo,Tae Hyeok Lee,Cheol Hwan Park,Dong Su Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-07-05.

Method for fabricating vertical channel semiconductor device

Номер патента: KR101070305B1. Автор: 김광옥,강혜란. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-10-06.

Method for Fabricating Contact of Semiconductor Device

Номер патента: KR100628220B1. Автор: 김성래. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-09-26.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100612941B1. Автор: 권순용. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-08-14.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100520590B1. Автор: 박동수,우상호,이태혁,박철환,송창록. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-10-10.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: US7232731B2. Автор: Sang Gi Lee,Chang Eun Lee. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-06-19.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: US7332761B2. Автор: Nam-Jae Lee,Kye-Soon Park. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-02-19.

method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100361081B1. Автор: 구병수,윤정훈,권수영,곽선우. Владелец: 삼성전자 주식회사. Дата публикации: 2002-11-18.

Method for Fabricating Capacitor of Semiconductor Device

Номер патента: KR100359783B1. Автор: 김경민. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2002-11-04.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100308496B1. Автор: 이정석,백현철. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2001-12-15.

Method for fabrication of a semiconductor device.

Номер патента: NL1006758C2. Автор: Takayuki Gomi. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-10-10.

Method for fabricating trench of semiconductor device

Номер патента: KR100826790B1. Автор: 김중규. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2008-04-30.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR20060114180A. Автор: 이성권,정태우,장세억,김명옥. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-11-06.

Method for fabricating capacitors of semiconductor device

Номер патента: GB0027297D0. Автор: . Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2000-12-27.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100744038B1. Автор: 이창구. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-07-30.

Method for fabricating capacitor in semiconductor devices

Номер патента: KR100861356B1. Автор: 양영호. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2008-10-01.

Method for fabricating high integrated semiconductor device including floating body transistor

Номер патента: KR101024821B1. Автор: 김중식. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-03-31.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: GB9512769D0. Автор: . Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1995-08-23.

A method for fabricating of a semiconductor device

Номер патента: KR100361765B1. Автор: 김태우. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2002-11-23.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: CN100407407C. Автор: 张世亿,郑台愚,金明玉,李圣权. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-07-30.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: CN1976008A. Автор: 李起正. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2007-06-06.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100451515B1. Автор: 김종봉. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-10-06.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100518235B1. Автор: 김해원,채수진. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-10-04.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100507365B1. Автор: 전범진,박창헌. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2005-08-05.

The method for fabricating pattern in semiconductor device

Номер патента: KR100914295B1. Автор: 박찬하,윤형순. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-08-27.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100525299B1. Автор: 박정호. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-11-02.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100337201B1. Автор: 최양규. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2002-10-25.

Method for fabricating sidewall of semiconductor device

Номер патента: KR100503748B1. Автор: 정명진. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-07-26.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device and structure of the same

Номер патента: CN1158498A. Автор: 崔璟根. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 1997-09-03.

A method for fabricating of a semiconductor device

Номер патента: KR100358568B1. Автор: 안중진. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2002-10-25.

Method for fabricating gate of semiconductor device

Номер патента: KR100273286B1. Автор: 김낙섭. Владелец: 현대반도체주식회사. Дата публикации: 2001-02-01.

Method for fabricating optical pump semiconductor device

Номер патента: TW200742211A. Автор: Thomas Schwarz,Frank Singer,Ulrich Steegmueller,Roland Schulz. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2007-11-01.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100702128B1. Автор: 이수재. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-03-30.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: CN101154568A. Автор: 朴东洙,朴哲焕,李银儿,徐惠真. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2008-04-02.

Method for fabricating capacitor in semiconductor device

Номер патента: KR100879744B1. Автор: 이창구. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2009-01-21.

Method for fabricating RF MOS semiconductor device

Номер патента: KR100613352B1. Автор: 윤여조. Владелец: 동부일렉트로닉스 주식회사. Дата публикации: 2006-08-21.

Method for fabricating electrode and semiconductor device

Номер патента: US11791201B2. Автор: Shinya Sasagawa,Motomu Kurata,Satoru Okamoto,Ryota Hodo,Yuta IIDA. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-17.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: TWI261351B. Автор: Dong-Woo Shin,Jin-woong Kim,Jong-Min Lee,Hyung-Bok Choi. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2006-09-01.

Trench gate semiconductor device and method for making the same

Номер патента: US11374123B2. Автор: HAO LI,Jiye Yang,Longjie ZHAO. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2022-06-28.

Trench gate semiconductor device and method for making the same

Номер патента: US20210119038A1. Автор: HAO LI,Jiye Yang,Longjie ZHAO. Владелец: Shanghai Huahong Grace Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2021-04-22.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: TW200503237A. Автор: Dong-Woo Shin,Jin-woong Kim,Jong-Min Lee,Hyung-Bok Choi. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-01-16.

Flash memory device with enlarged control gate structure, and methods of making same

Номер патента: WO2007117851A1. Автор: Chandra Mouli,Di Li. Владелец: MICRON TECHNOLOGY, INC.. Дата публикации: 2007-10-18.

Methods for manufacturing thin film transistor and display device

Номер патента: US8349671B2. Автор: Hidekazu Miyairi,Shinya Sasagawa,Akihiro Ishizuka. Владелец: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd. Дата публикации: 2013-01-08.

Semiconductor Device with Electrostatic Discharge Protection Structure

Номер патента: US20150294966A1. Автор: Mauder Anton,Hirler Franz,Weyers Joachim,Schmitt Markus,TILKE Armin,Bertrams Thomas. Владелец: . Дата публикации: 2015-10-15.

Hybrid bulk/SOI device with a buried doped layer and manufacturing method thereof

Номер патента: EP2477216A1. Автор: Franz Hofmann,Wolfgang Hoenlein,Gerhard Enders. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2012-07-18.

Methods for forming shallow trench isolation structures in semiconductor devices

Номер патента: US20050142802A1. Автор: Young Seo. Владелец: DongbuAnam Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-06-30.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US9368412B2. Автор: Fenghua FU,Yunchu Yu,Yihua Shen. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-06-14.

Device and Methods for Small Trench Patterning

Номер патента: US20140199827A1. Автор: Ya Hui Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-07-17.

Device and Methods for Small Trench Patterning

Номер патента: US20140035054A1. Автор: Ya Hui Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-02-06.

Device and methods for small trench patterning

Номер патента: US20130175637A1. Автор: Ya Hui Chang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2013-07-11.

Semiconductor device having a saddle fin shaped gate and method for manufacturing the same

Номер патента: US20110306178A1. Автор: Seung Joo Baek. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2011-12-15.

Memory cell and semiconductor memory device with the same

Номер патента: US12010829B2. Автор: Seung Hwan Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Method for manufacturing semiconductor device

Номер патента: US20150371903A1. Автор: Fenghua FU,Yunchu Yu,Yihua Shen. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2015-12-24.

Method for manufacturing a capacitor of a semiconductor device

Номер патента: US6066540A. Автор: Young Jin Park,Seung Jin Yeom. Владелец: Hyundai Electronics Industries Co Ltd. Дата публикации: 2000-05-23.

Semiconductor device with carbon liner over gate structure and method for forming the same

Номер патента: US11456298B2. Автор: Chun-Heng Wu. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2022-09-27.

A semiconductor device with have buried gate electrode structure and a method for manufacturing the same

Номер патента: KR101557861B1. Автор: 염계희. Владелец: 삼성전자주식회사. Дата публикации: 2015-10-06.

Semiconductor device with isolation structure

Номер патента: US11923361B2. Автор: Chih-Hao Wang,Kuo-Cheng Chiang,Kuan-Lun Cheng,Shi-Ning Ju. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-05.

Semiconductor device and method for controlling semiconductor device

Номер патента: US20160372486A1. Автор: Toshiaki Iwamatsu,Ryuta Tsuchiya. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-12-22.

Semiconductor device and method for controlling semiconductor device

Номер патента: US20160156350A1. Автор: Toshiaki Iwamatsu,Ryuta Tsuchiya. Владелец: Renesas Electronics Corp. Дата публикации: 2016-06-02.

High voltage semiconductor device and method for manufacturing the same

Номер патента: US20090114990A1. Автор: Jeong-ho Kim. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2009-05-07.

Production Method of Semiconductor Device and Semiconductor Device

Номер патента: US20090283773A1. Автор: Takuto Yasumatsu. Владелец: Individual. Дата публикации: 2009-11-19.

Semiconductor device with isolation structure

Номер патента: US20240194674A1. Автор: Chih-Hao Wang,Kuo-Cheng Chiang,Kuan-Lun Cheng,Shi-Ning Ju. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Gate structures for semiconductor devices

Номер патента: US12027583B2. Автор: Chan-Lon Yang,Perng-Fei Yuh,Keh-Jeng Chang,Chansyun David Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-02.

Method for forming gate electrode of semiconductor device with cobalt silicide

Номер патента: KR100548546B1. Автор: 김재영,전범진,송운영. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2006-02-02.

Method for operating an energy supply device

Номер патента: US20220302471A1. Автор: Barnaby Law,Ann-Kathrin Henss. Владелец: MTU Aero Engines AG. Дата публикации: 2022-09-22.

Materials and methods for the preparation of nanocomposites

Номер патента: EP2430112A2. Автор: Maksym V. Kovalenko,Jong-Soo Lee,Dmitri V. Talapin,Chengyang Jiang. Владелец: University of Chicago. Дата публикации: 2012-03-21.

OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FABRICATING THE OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140321493A1. Автор: Matsumoto Takeshi. Владелец: . Дата публикации: 2014-10-30.

Method for operating an energy supply device

Номер патента: US11824230B2. Автор: Barnaby Law,Ann-Kathrin Henss. Владелец: MTU Aero Engines AG. Дата публикации: 2023-11-21.

Method for fabricating selector and semiconductor device including the same

Номер патента: US20240237559A1. Автор: Cha Deok Dong,Keo Rock CHOI. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Method for controlling a technical function of a device with a computing unit

Номер патента: WO2024052492A1. Автор: Christian Adler. Владелец: Twinu GmbH. Дата публикации: 2024-03-14.

A method for making a case for a mobile device with a screen

Номер патента: WO2021144562A1. Автор: James Gardner,Haim Geva. Владелец: Tech 21 Licensing Limited. Дата публикации: 2021-07-22.

A method for making a case for a mobile device with a screen

Номер патента: EP4090513A1. Автор: James Gardner,Haim Geva. Владелец: Tech 21 Ltd. Дата публикации: 2022-11-23.

Method for estimating threshold voltage of semiconductor device

Номер патента: US20070153586A1. Автор: Sang Hun Kwak. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2007-07-05.

Method for estimating threshold voltage of semiconductor device

Номер патента: US7660164B2. Автор: Sang Hun Kwak. Владелец: Dongbu Electronics Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-09.

Method for communication of at least one mobile device with a mobile network base station, and vehicle

Номер патента: US20240284261A1. Автор: Osman Aydin. Владелец: Mercedes Benz Group AG. Дата публикации: 2024-08-22.

Structure and a method for storing information in a semiconductor device

Номер патента: US5895962A. Автор: Todd A. Merritt,Hua Zheng,Michael Shore,Jeffrey P. Wright. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-04-20.

Method for controlling a technical function of a device with a computing unit

Номер патента: EP4336772A1. Автор: Christian Adler. Владелец: Twinu GmbH. Дата публикации: 2024-03-13.

Method for making a case for a mobile device with a screen

Номер патента: US20230043945A1. Автор: James Gardner,Haim Geva. Владелец: Tech 21 Ltd. Дата публикации: 2023-02-09.

Method for monitoring a hearing device and hearing device with self-monitoring function

Номер патента: US20110188683A1. Автор: Evert Dijkstra,Samuel HARSCH. Владелец: PHONAK AG. Дата публикации: 2011-08-04.

Apparatus and method for precision trimming of a semiconductor device

Номер патента: US20020105452A1. Автор: Lawrence Swanson,Glen Johnson,John Clapp,Douglas Lebo. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-08-08.

System And Method For Upgrading A Multiprocessor Set-Top Box Device With A Monolithic Firmware Image

Номер патента: US20140007176A1. Автор: Pinar TASKIRAN-CYR. Владелец: Broadcom Corp. Дата публикации: 2014-01-02.

Micromechanical device with a trimmable resonant frequency structure and method of trimming same

Номер патента: US5144184A. Автор: Paul Greiff. Владелец: Charles Stark Draper Laboratory Inc. Дата публикации: 1992-09-01.

Apparatus and methods for update of symbol information

Номер патента: EP2269314A1. Автор: Sundeep Rangan,Frank Lane,Ozge Koymen,Atul Maharshi. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2011-01-05.

System and method for out-of-band pairing of sterile device with non-sterile device

Номер патента: WO2021055590A1. Автор: Barret Daniels. Владелец: CANON U.S.A., INC.. Дата публикации: 2021-03-25.

System and method for out-of-band pairing of sterile device with non-sterile device

Номер патента: EP4032192A1. Автор: Barret Daniels. Владелец: Canon USA Inc. Дата публикации: 2022-07-27.

Semiconductor device and method of fabricating the same

Номер патента: US20240365677A1. Автор: Rai-Min Huang,Jia-Rong Wu,Yi-An Shih,I-Fan Chang,Hsiu-Hao Hu,Po Kai Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Systems and methods for reducing power consumption in semiconductor devices

Номер патента: US20150015306A1. Автор: Mark D. Hall,Anis M. Jarrar,Surya Veeraraghavan,David R. Tipple. Владелец: Individual. Дата публикации: 2015-01-15.

Flexible Display Device With Side Crack Protection Structure And Manufacturing Method For The Same

Номер патента: US20160066409A1. Автор: Youn Sangcheon,Yang HeeSeok,Kwon SeYeoul. Владелец: . Дата публикации: 2016-03-03.

Three-dimensional memory device with source structure and methods for forming the same

Номер патента: US11805650B2. Автор: Wei Xu,Pan Huang,Wenxiang Xu,Ji XIA. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2023-10-31.

Digital phase-locked loop device for synchronizing signal and method for generating stable synchronous signal

Номер патента: US20030214331A1. Автор: Chris Chang. Владелец: Via Optical Solution Inc. Дата публикации: 2003-11-20.

Semiconductor device with carbon liner over gate structure and method for forming the same

Номер патента: TW202230737A. Автор: 吳俊亨. Владелец: 南亞科技股份有限公司. Дата публикации: 2022-08-01.

Memory device and method for forming the same

Номер патента: US20240164099A1. Автор: Hong-Ji Lee,Tzung-Ting Han,Chang-Wen Jian. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-16.

Method for preparing test samples for semiconductor devices

Номер патента: US20210348989A1. Автор: SHENG Chen,Qiang Chen,Jinde Gao. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2021-11-11.

Method for preparing test samples for semiconductor devices

Номер патента: US20210348990A1. Автор: Qiang Chen,Yanrong Qiu,Jinde Gao. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2021-11-11.

Systems and methods for acoustic emission monitoring of semiconductor devices

Номер патента: EP3500850A2. Автор: Gal Shaul,Saar Yoskovitz,Ori NEGRI,Eduard Rudyk. Владелец: Augury Systems Ltd. Дата публикации: 2019-06-26.

Systems and methods for acoustic emission monitoring of semiconductor devices

Номер патента: US20230273159A1. Автор: Gal Shaul,Saar Yoskovitz,Ori NEGRI,Eduard Rudyk. Владелец: Augury Systems Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Systems and methods for anchoring components in MEMS semiconductor devices

Номер патента: US09458010B1. Автор: Ruben B. Montez,Robert F. Steimle. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR INC. Дата публикации: 2016-10-04.

Method for observing tungsten plug of semiconductor device microscopically

Номер патента: US5989930A. Автор: Shu-Ying Lu,Fei-Chun Tseng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-11-23.

Method for manufacturing a covering structure for a tubular package and said package, covering structure and package

Номер патента: US09718574B2. Автор: Georges Sireix. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-08-01.

Method for protecting an SiO2 coating, and combustion device with protection

Номер патента: US20030118959A1. Автор: Manfred Kobusch. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 2003-06-26.

Method for testing memory cell in semiconductor device

Номер патента: US6556493B2. Автор: Tae-Kyu Kim,Yoon-Soo Jang,Young-Seon You,Mun-Hwa Lee. Владелец: Hynix Semiconductor Inc. Дата публикации: 2003-04-29.

Circuit and method for data output in synchronous semiconductor device

Номер патента: US20030189844A1. Автор: Jin-seok Kwak,Seong-Jin Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2003-10-09.

An scr denitrification device with pipe connection protection structure

Номер патента: LU506588B1. Автор: Yang Geng. Владелец: Univ Wuxi. Дата публикации: 2024-09-16.

Method for operation of a functionally modular automation device with a control loop

Номер патента: US20080262639A1. Автор: Frank Marks. Владелец: ABB AG Germany. Дата публикации: 2008-10-23.

Device and method for programming multiple arrays of semiconductor devices

Номер патента: US5466117A. Автор: Edwin W. Resler,Vincent L. Tong,Russell C. Swanson,W. Scott Bogden. Владелец: Xilinx Inc. Дата публикации: 1995-11-14.

Semiconductor Device and Method For Preventing Attacks on the Semiconductor Device

Номер патента: US20090049548A1. Автор: Soenke Ostertun,Joachim Christoph Hans Garbe. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2009-02-19.

Method for constructing an image from an optical device with variable focal length

Номер патента: AU2022286641A1. Автор: Tanguy Serrat,Ali Khachlouf. Владелец: Squaremind SAS. Дата публикации: 2023-11-30.

Systems and methods for acoustic emission monitoring of semiconductor devices

Номер патента: US11977053B2. Автор: Gal Shaul,Saar Yoskovitz,Ori NEGRI,Eduard Rudyk. Владелец: Augury Systems Ltd. Дата публикации: 2024-05-07.

Apparatuses and methods for refreshing memory of a semiconductor device

Номер патента: US20190362775A1. Автор: Masaru Morohashi. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2019-11-28.

System and method for atomic access to an input/output device with direct memory access

Номер патента: CA2030021A1. Автор: Brian M. Kelleher,Shu-Shia Chow. Владелец: Shu-Shia Chow. Дата публикации: 1991-05-18.

Apparatus and method for optimized NAND flash memory management for devices with limited resources

Номер патента: US20100241786A1. Автор: Fan Zhang,Satpreet Singh. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2010-09-23.

Method for routing between pins of semiconductor device and design system therewith

Номер патента: US20190188354A1. Автор: Hyosig WON,Chunghee Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-20.

Method for generating command pulses and semiconductor device configured to perform the method

Номер патента: US20200160899A1. Автор: Jae Il Kim,Chang Hyun Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2020-05-21.

Device and method for producing coated products, for example bituminous coated products, with protection plates

Номер патента: US09957674B2. Автор: Antoine Carrasco. Владелец: Argumat SAS. Дата публикации: 2018-05-01.

Usage of redundancy data for displaying failure bit maps for semiconductor devices

Номер патента: EP1242999A1. Автор: Michael Barnhard Sommer. Владелец: Infineon Technologies Richmond LP. Дата публикации: 2002-09-25.

Hair treatment method and method for imparting smoothness to hair

Номер патента: RU2294681C2. Автор: Присцилла ДЕВЭН-БОДУЭН,Анн САББАГ. Владелец: Л`Ореаль. Дата публикации: 2007-03-10.

A structure and method for detecting errors in a multilevel memory device with improved programming granularity

Номер патента: EP1435574A3. Автор: Angelo Visconti. Владелец: STMICROELECTRONICS SRL. Дата публикации: 2004-07-28.

Method for signaling the position of a safety device, and safety switching system

Номер патента: US20190170296A1. Автор: Simon Davis. Владелец: Phoenix Contact GmbH and Co KG. Дата публикации: 2019-06-06.

Method for installing a geothermal system, method for utilizing geothermal energy, and geothermal system

Номер патента: US11815293B2. Автор: Antonio Calleri. Владелец: Geolog Srl. Дата публикации: 2023-11-14.

Method for joining dissimilar engine components

Номер патента: US09586868B2. Автор: Kevin W. Schlichting,Venkatarama K. Seetharaman,Grant O. Cook, Iii. Владелец: United Technologies Corp. Дата публикации: 2017-03-07.

Apparatus and method for harvesting plankton and other biomass from a dead zone

Номер патента: US09888628B2. Автор: William R. Becker. Владелец: Individual. Дата публикации: 2018-02-13.

Systems and methods for determining aging damage for semiconductor devices

Номер патента: US20140123085A1. Автор: Mehul D. Shroff,Peter P. Abramowitz. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-05-01.

Apparatuses and methods for refreshing memory cells of a semiconductor device

Номер патента: US09984738B2. Автор: Kenji Yoshida,Hiroki Fujisawa. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2018-05-29.

Devices, systems, and methods for implanting a medical device

Номер патента: US20240189128A1. Автор: Jeff Gray,Ryan V. Wales,Kurt Nicholas ROBAKIEWICZ. Владелец: Boston Scientific Scimed Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Devices, systems, and methods for implanting a medical device

Номер патента: WO2024129636A1. Автор: Jeff Gray,Ryan V. Wales,Kurt ROBAKIEWICZ. Владелец: BOSTON SCIENTIFIC SCIMED, INC.. Дата публикации: 2024-06-20.

Touch device and method for controlling the same to perform a power-saving function or a power-on function

Номер патента: US09996117B2. Автор: Wen-Ming Lin. Владелец: Insyde Software Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Air heat and moisture treatment device with heat recovery

Номер патента: RU2607870C1. Автор: Олег Савельевич Кочетов. Владелец: Олег Савельевич Кочетов. Дата публикации: 2017-01-20.

Device having an embedded system including state, and a method for controlling standby of an embedded system

Номер патента: US09886308B2. Автор: Zhenyin SUN. Владелец: Hisense USA Corp. Дата публикации: 2018-02-06.

Method for editing display information and an electronic device thereof

Номер патента: US09619142B2. Автор: Hyoung-Sik Kim. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-04-11.

Antifouling film equipped with protective film and method for manufacturing same

Номер патента: US11518153B2. Автор: Akinori Terada,Akiko Nishio. Владелец: Toyobo Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-06.

Reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing reflective mask and semiconductor device

Номер патента: US12072619B2. Автор: Masanori Nakagawa,Tsutomu Shoki. Владелец: Hoya Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Circuit and method for data output in synchronous semiconductor device

Номер патента: TWI263126B. Автор: Jin-seok Kwak,Seong-Jin Jang. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-10-01.

Usage of redundancy data for displaying failure bit maps for semiconductor devices

Номер патента: WO2001050475A1. Автор: Michael Barnhard Sommer. Владелец: Infineon Technologies North America Corp.. Дата публикации: 2001-07-12.

Method for fabricating photomask in semiconductor device

Номер патента: KR100945919B1. Автор: 전재영. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2010-03-05.

Method for fabricating photomask and semiconductor device

Номер патента: KR100730266B1. Автор: 다까요시 미나미. Владелец: 후지쯔 가부시끼가이샤. Дата публикации: 2007-06-20.

Method for fabricating mask of semiconductor device

Номер патента: KR100266659B1. Автор: 최용규. Владелец: 현대반도체주식회사. Дата публикации: 2000-09-15.

Magnetic centre-finding device with no magnet on the rotor and with small air gap

Номер патента: US20100026120A1. Автор: Damien Chassoulier. Владелец: Thales SA. Дата публикации: 2010-02-04.

Method for fabricating photomask in semiconductor device

Номер патента: KR101039141B1. Автор: 전병구. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2011-06-03.

Method for fabricating photomask and semiconductor device

Номер патента: WO2004077155A1. Автор: Takayoshi Minami. Владелец: FUJITSU LIMITED. Дата публикации: 2004-09-10.

Reconfigurable array of test structures and method for testing an array of test structures

Номер патента: US5952838A. Автор: Victor Tikhonov. Владелец: Sony Electronics Inc. Дата публикации: 1999-09-14.

DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING COATED PRODUCTS, FOR EXAMPLE BITUMINOUS COATED PRODUCTS, WITH PROTECTION PLATES

Номер патента: US20150030767A1. Автор: Carrasco Antoine. Владелец: ARGUMAT. Дата публикации: 2015-01-29.

Device and method for producing coated products, for example bituminous coated products, with protection plates

Номер патента: EP2807305B1. Автор: Antoine Carrasco. Владелец: ARGUMAT (SAS). Дата публикации: 2016-04-13.

Apparatuses and methods for redundance match control at refresh to disable wordline activation

Номер патента: US20220199141A1. Автор: Minari Arai. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2022-06-23.

Systems, Methods and Computer Program Products for Analyzing Performance of Semiconductor Devices

Номер патента: US20160267205A1. Автор: Jing Wang,Nuo XU,Woosung CHOI. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2016-09-15.

Clock adjusting method and electronic device with clock adjusting function

Номер патента: US20060186939A1. Автор: Wen-Kuan Chen. Владелец: Sunplus Technology Co Ltd. Дата публикации: 2006-08-24.

THERMAL THERAPY DEVICE WITH INTERCHANGEABLE HOT AND COLD WATER CIRCULATION AND AIR PRESSURE CONTROL

Номер патента: US20180161199A1. Автор: WANG LI,CHIU Gary. Владелец: . Дата публикации: 2018-06-14.

CONNECTING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING MATERIAL AND SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20120000965A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

METHODS FOR ENHANCED PROCESSING CHAMBER CLEANING

Номер патента: US20120000490A1. Автор: . Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2012-01-05.

ELECTRODE STRUCTURE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE ELECTRODE STRUCTURE

Номер патента: US20120001267A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method for measuring critical dimension of semiconductor device

Номер патента: TW200905768A. Автор: Yu-Chang Lin,Shao-Kang Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2009-02-01.

Methods for reducing cell pitch in semiconductor devices

Номер патента: TW200503099A. Автор: Jiun-Ren Lai. Владелец: Macronix Int Co Ltd. Дата публикации: 2005-01-16.

Method for measuring critical dimension of semiconductor device

Номер патента: TWI340422B. Автор: Yu Chang Lin,Shao Kang Chang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2011-04-11.

Method for stripping and picking of semiconductor device

Номер патента: TW200426927A. Автор: Wen-Kuo Chiou. Владелец: MOTECH TAIWAN AUTOMATIC CORP. Дата публикации: 2004-12-01.

Manufacturing method for self-aligned insulated gate semiconductor device

Номер патента: TW454351B. Автор: Ke-Yu Yu. Владелец: Advanced Power Electronics Cor. Дата публикации: 2001-09-11.

Manufacturing method for shallow trench isolation of semiconductor device

Номер патента: TWI246151B. Автор: Wen-Shiang Liao,Wei-Fan Chen,Ming-Luen Jang. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-12-21.

Phosphor Coating Method for Fabricating Light Emitting Semiconductor Device and Applications Thereof

Номер патента: US20120049231A1. Автор: Chao Tzu-Hao. Владелец: EVERLIGHT ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-03-01.

METHOD FOR FABRICATING CAPACITOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME

Номер патента: US20120061739A1. Автор: . Владелец: HYNIX SEMICONDUCTOR INC.. Дата публикации: 2012-03-15.

METHOD FOR FABRICATION OF A SEMICONDUCTOR DEVICE AND STRUCTURE

Номер патента: US20120091587A1. Автор: OR-BACH Zvi,Sekar Deepak C.,Cronquist Brian. Владелец: . Дата публикации: 2012-04-19.

METHOD FOR FABRICATION OF A SEMICONDUCTOR DEVICE AND STRUCTURE

Номер патента: US20120107967A1. Автор: . Владелец: MonolithIC 3D Inc.. Дата публикации: 2012-05-03.

Phosphor Coating Method for Fabricating Light Emitting Semiconductor Device and Applications Thereof

Номер патента: US20120181564A1. Автор: Chao Tzu-Hao. Владелец: EVERLIGHT ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2012-07-19.

METHOD FOR FABRICATION OF A SEMICONDUCTOR DEVICE AND STRUCTURE

Номер патента: US20130021060A1. Автор: OR-BACH Zvi. Владелец: . Дата публикации: 2013-01-24.

PATTERNING METHOD FOR FABRICATION OF A SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20130137269A1. Автор: Baars Peter,Geiss Erik P.. Владелец: GLOBALFOUNDRIES INC.. Дата публикации: 2013-05-30.

METHOD FOR FABRICATING CAPACITOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20130164903A1. Автор: KIM Su-Young,PARK Hyung-Soon,Lee Jeong-Yeop,Lee Young-Bang. Владелец: . Дата публикации: 2013-06-27.

METHOD FOR FABRICATION OF A SEMICONDUCTOR DEVICE AND STRUCTURE

Номер патента: US20130267046A1. Автор: OR-BACH Zvi,Sekar Deepak C.,Cronquist Brian. Владелец: . Дата публикации: 2013-10-10.

METHOD FOR FABRICATING CAPACITOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE

Номер патента: US20140004678A1. Автор: LIM Sung-Won,Yeom Seung-Jin,Lee Hyo-Seok. Владелец: . Дата публикации: 2014-01-02.

Method for fabricating transistor of semiconductor device

Номер патента: KR100250728B1. Автор: 김천수,문환성. Владелец: 현대전자산업주식회사. Дата публикации: 2000-04-01.

Method for fabricating a compound semiconductor device

Номер патента: KR101261629B1. Автор: 김경해,오덕환. Владелец: 서울옵토디바이스주식회사. Дата публикации: 2013-05-06.

Method for fabricating capacitor of semiconductor device

Номер патента: KR100425827B1. Автор: 유용식,김남경. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2004-06-04.

Method for fabricating solid state semiconductor device

Номер патента: TW201218424A. Автор: Po-Min Tu,Shih-Cheng Huang,Chia-Hung Huang,Shun-Kuei Yang. Владелец: Advanced Optoelectronic Tech. Дата публикации: 2012-05-01.

Filament baking device with dual-setting structure of water cooling and air cooling

Номер патента: TW552862U. Автор: Chuan-Shuen Li. Владелец: Chuan-Shuen Li. Дата публикации: 2003-09-11.