Россия, г. Королев.

eburdiyg@gmail.com

8 (903) 781-84-63

  • Главная
  • Fluorine Containing Low Loss Dielectric Layers for Superconducting Circuits

Fluorine Containing Low Loss Dielectric Layers for Superconducting Circuits

Номер патента: US20160133819A1
Опубликовано: 12-05-2016
Автор(ы): Ashish Bodke, Frank Greer
Принадлежит: Intermolecular Inc
Получить PDF файл: Открыть в новом окне

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Substrate processing method including supplying a fluorine-containing gas on a surface of a substrate

Номер патента: US10151034B2. Автор: Shigehiro Miura. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2018-12-11.

Methods of forming an ultra-low-k dielectric layer and dielectric layers formed thereby

Номер патента: US10446495B2. Автор: Jongmin Baek,Jiyoung Kim,Sanghoon Ahn,Kyu-hee Han,Taejin Yim,Hyeoksang Oh,Yoonhee KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-10-15.

Methods of forming an ultra-low-k dielectric layer and dielectric layers formed thereby

Номер патента: US20190043809A1. Автор: Jongmin Baek,Jiyoung Kim,Sanghoon Ahn,Kyu-hee Han,Taejin Yim,Hyeoksang Oh,Yoonhee KANG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-02-07.

Fluorine-containing conductive films

Номер патента: US11823976B2. Автор: Tom E. Blomberg,Hannu Huotari,Linda Lindroos. Владелец: ASM IP Holding BV. Дата публикации: 2023-11-21.

Etch stop layer for interconnect structures

Номер патента: US20240332070A1. Автор: Cheng-Chin Lee,Hsin-Yen Huang,Hsiao-Kang Chang,Kai-Fang CHENG,Yen Ju Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-03.

Fluorine Passivation of Dielectric for Superconducting Electronics

Номер патента: US20150179913A1. Автор: Andrew Steinbach,Dipankar Pramanik. Владелец: Intermolecular Inc. Дата публикации: 2015-06-25.

Method and system for forming a high-k dielectric layer

Номер патента: US20060228898A1. Автор: Gerrit Leusink,Masanobu Igeta,Cory Wajda. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2006-10-12.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: WO2024220286A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-10-24.

Coating components for semiconductor processing with fluorine-containing materials

Номер патента: US20240347336A1. Автор: Jennifer Y. Sun,Zhijun Jiang,Katherine Woo,Nitin Deepak,Ryan Sheil. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-10-17.

Amorphous layers for reducing copper diffusion and method forming same

Номер патента: US20240258160A1. Автор: Chia-Yu Wu,Ding-I Liu,Jyh-Nan Lin,Kai-Shiung Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-01.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: WO2010088015A2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM AMERICA, INC.. Дата публикации: 2010-08-05.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US20140008803A1. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2014-01-09.

Plasma-enhanced atomic layer deposition of conductive material over dielectric layers

Номер патента: US09466574B2. Автор: Dong Li,Steven Marcus,Robert B. Milligan. Владелец: ASM America Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Methods of forming a low-k dielectric layer and methods of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US10134583B2. Автор: Sang Ick Lee,Younjoung CHO,Myong Woon Kim,Sang Yong Jeon,Jungsik CHOI,Sunhye HWANG,In Kyung JUNG,Wonwoong Chung. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2018-11-20.

Methods of forming a low-k dielectric layer and methods of fabricating a semiconductor device using the same

Номер патента: US20170207083A1. Автор: Younjoung CHO,Myong Woon Kim,Sang Yong Jeon,Jungsik CHOI,Sunhye HWANG,Sang lck Lee,In Kyung JUNG,Wonwoong Chung. Владелец: DNF Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-20.

Stabilization of fluorine-containing low-k dielectrics in a metal/insulator wiring structure by ultraviolet irradiation

Номер патента: US20020185741A1. Автор: Sampath Purushothaman,Alfred Grill,Katherine Saenger,Stephen Cohen,Katherina Babich,Vishnubhai Patel,Alessandro Calleqari,Christophr Jahnes. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-12-12.

Etch stop layer for use in forming contacts that extend to multiple depths

Номер патента: US20200105886A1. Автор: Wei Hong,Hui Zang,Hsien-Ching Lo. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2020-04-02.

Etch stop layer for a metallization layer with enhanced etch selectivity and hermeticity

Номер патента: US20070096108A1. Автор: Matthias Lehr,Volker Kahlert,Joerg Hohage. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-03.

Buried etch stop layer for damascene bit line formation

Номер патента: US09847249B2. Автор: Yuji Takahashi,Katsuo Yamada,Tomoyasu Kakegawa,Takuya Futase,Noritaka Fukuo. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-12-19.

Three-dimensional memory device with aluminum-containing etch stop layer for backside contact structure and method of making thereof

Номер патента: US09728547B1. Автор: Takeshi Kawamura,Hiroshi Kariya,Takuro Maede,Shingo OHSAKI. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-08-08.

Method of improving the planarizaton of an inter-metal dielectric layer

Номер патента: US5913142A. Автор: Ming-lun Chang. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 1999-06-15.

High breakdown voltage inter-metal dielectric layer

Номер патента: US11769692B2. Автор: Joung-Wei Liou,Chin Kun Lan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-09-26.

Semiconductor device having an extra low-k dielectric layer and method of forming the same

Номер патента: US12062613B2. Автор: Po-Cheng Shih,Chia Cheng Chou,Chun-Te Li. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Semiconductor device having an extra low-k dielectric layer and method of forming the same

Номер патента: US20220359412A1. Автор: Li Chun Te,Po-Cheng Shih,Chia Cheng Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Method for forming an inter-metal dielectric layer

Номер патента: US20010019883A1. Автор: Water Lur,Wen-Yi Hsieh,Chih-Chien Liu,Cheng-Yuan Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-09-06.

Device of dielectric layer

Номер патента: US20240249947A1. Автор: Yu-Yun Peng,Keng-Chu Lin,Chung-Chi Ko. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Interlayer dielectric layer with two tensile dielectric layers

Номер патента: US09564507B2. Автор: Yu-Cheng Lin,Hui-Shen Shih. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

An etch stop layer for a metallization layer with enhanced adhesion, etch selectivity and hermeticity

Номер патента: US20070099010A1. Автор: Matthias Lehr,Volker Kahlert,Joerg Hohage. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-05-03.

Methods for manufacturing a soft error and defect resistant pre-metal dielectric layer

Номер патента: US20050287782A1. Автор: Mark Nelson,John Naughton. Владелец: AMI Semiconductor Inc. Дата публикации: 2005-12-29.

Integrated Circuit Having Ultralow-K Dielectric Layer

Номер патента: US20080153310A1. Автор: Huang Liu,Johnny Widodo,Sin Leng Lim. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2008-06-26.

Integrated circuit having ultralow-k dielectric layer

Номер патента: SG144066A1. Автор: Liu Huang,Lim Sin Leng,Johnny Widodo. Владелец: Chartered Semiconductor Mfg. Дата публикации: 2008-07-29.

Method for fabricating an inter dielectric layer in semiconductor device

Номер патента: US09437423B2. Автор: Byung Soo Eun. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-09-06.

Plasma enhanced chemical vapor deposited (PECVD) silicon nitride barrier layer for high density plasma chemical vapor deposited (HDP-CVD) dielectric layer

Номер патента: US6127238A. Автор: Wei Lu,Yih-Shung Lin,Jia Zhen Zheng,Marvin De-Dui Liao,Kho Liep Chok. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2000-10-03.

Method of forming an intermetal dielectric layer

Номер патента: US6410106B2. Автор: Ming-Sheng Yang,Chih-Chien Liu,Cheng-Yuan Tsai. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-06-25.

Crack inhibited composite dielectric layer

Номер патента: US20040102055A1. Автор: Shi-Wei Wang,Ching-Lun Lai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-05-27.

Method of forming an intermetal dielectric layer

Номер патента: US20010001678A1. Автор: Ming-Sheng Yang,Chih-Chien Liu,Cheng-Yuan Tsai. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-05-24.

Integrated circuit having ultralow-k dielectric layer

Номер патента: SG162775A1. Автор: Liu Huang,Lim Sin Leng,Johnny Widodo. Владелец: Globalfoundries Singapore Pte. Дата публикации: 2010-07-29.

Semiconductor structure comprising a buried porous layer for RF applications

Номер патента: US12119258B2. Автор: Frederic Gaillard,Emmanuel Rolland,Emmanuel Augendre,Christelle Veytizou,Isabelle Bertrand,Frederic Allibert,Thomas LORNE. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2024-10-15.

Structure for BEOL metal levels with multiple dielectric layers for improved dielectric to metal adhesion

Номер патента: US09673091B2. Автор: Edward C. Cooney, III,Felix P. Anderson,Michael S. Dusablon,David C. Mosher. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-06-06.

Liner and cap layer for placeholder source/drain contact structure planarization and replacement

Номер патента: US09466723B1. Автор: Huang Liu,Qiang Fang,Haigou Huang,Jin Ping Liu. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-10-11.

Method for Reducing Loss of Dielectric Layer in IO Silicon Oxide Removal Process

Номер патента: US20240071760A1. Автор: Zhenquan Li. Владелец: Shanghai Huali Integrated Circuit Corp. Дата публикации: 2024-02-29.

Semiconductor device structure with dielectric layer

Номер патента: US12051746B2. Автор: Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Interconnect structure with a low permittivity dielectric layer

Номер патента: EP1019959A1. Автор: Robin Cheung,Charles May. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2000-07-19.

Structure for beol metal levels with multiple dielectric layers for improved dielectric to metal adhesion

Номер патента: US20170207121A1. Автор: Edward C. Cooney, III,Felix P. Anderson,Michael S. Dusablon,David C. Mosher. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2017-07-20.

Surface modification layer for conductive feature formation

Номер патента: US20240194522A1. Автор: Kuo-Bin Huang,Li-min Chen,Neng-Jye Yang,Jian-Jou LIAN. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-13.

Method for fabricating dielectric layer with improved insulating properties

Номер патента: US20120190213A1. Автор: SHU QIN. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-07-26.

A low loss semiconductor substrate

Номер патента: EP4287239A1. Автор: Ming Zhao,Bertrand PARVAIS,Sachin Yadav,Pieter Cardinael. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2023-12-06.

Fabricating electronic device including a semiconductor memory that comprises an inter-layer dielectric layer with first and second nitride layer over stacked structure

Номер патента: US09478739B2. Автор: Seong-hyun Kim. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-10-25.

Fluorine-containing aromatic compound, process for preparing the same and use thereof

Номер патента: US5264598A. Автор: Motonobu Kubo,Yohnosuke Ohsaka,Tsutomu Kobayashi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1993-11-23.

Methods for fabricating CVD TiN barrier layers for capacitor structures

Номер патента: US6010940A. Автор: Hyeon-deok Lee,Myoung-Bum Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-01-04.

Method of using aluminum layer as etching stop layer for patterning a platinum layer

Номер патента: US09580297B2. Автор: Jeng-Ho Wang,Hsin-Yi Lu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-02-28.

Process for growing a dielectric layer on a silicon-containing surface using a mixture of N2O and O3

Номер патента: US20040038462A1. Автор: Gurtej Sandhu,Randhir Thakur. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-02-26.

Metal alloy capping layers for metallic interconnect structures

Номер патента: US09911698B1. Автор: Chih-Chao Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-06.

Density-graded adhesion layer for conductors

Номер патента: US20200365533A1. Автор: Rahul N. Manepalli,Srinivas V. Pietambaram,Kemal Aygun,Cemil S. Geyik. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-11-19.

Capping layer for liner-free conductive structures

Номер патента: US12057397B2. Автор: Sung-Li Wang,Chun-Hsien Huang,Chih-Wei Chang,Shuen-Shin Liang,Chia-Hung Chu,Keng-Chu Lin,Ken-Yu Chang,Hung-Yi Huang,Hsu-Kai Chang,Chun-I Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Nitridized ruthenium layer for formation of cobalt interconnects

Номер патента: US09941212B2. Автор: Chih-Chao Yang,Daniel C Edelstein. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Schemes for forming barrier layers for copper in interconnect structures

Номер патента: US09881871B2. Автор: Chen-Hua Yu,Tien-I Bao,Hai-Ching Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Method for fabricating semiconductor device having a patterned metal layer embedded in an interlayer dielectric layer

Номер патента: US20160379931A1. Автор: Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang,Yi-Wei Chen,Ching-Ling Lin,Jia-Rong Wu,Tsung-Hung Chang,Yi-Hui Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-12-29.

Capping layer for gate electrodes

Номер патента: US12080779B2. Автор: Teng-Chun Tsai,Huang-Lin Chao,Chin-Hsiang Lin,Akira Mineji. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Method of forming a high K metallic dielectric layer

Номер патента: US20030104673A1. Автор: Alex See,Jun Song,Shyue Quek,Ting Ang,Sang Loong,Cher Cha,Wye Loh,Chua Tee. Владелец: Chartered Semiconductor Manufacturing Pte Ltd. Дата публикации: 2003-06-05.

Method for fabricating semiconductor device having a patterned metal layer embedded in an interlayer dielectric layer

Номер патента: US20180130742A1. Автор: Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang,Yi-Wei Chen,Ching-Ling Lin,Jia-Rong Wu,Tsung-Hung Chang,Yi-Hui Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-05-10.

Capping layer for gate electrodes

Номер патента: US20210057543A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Huang-Lin Chao,Chin-Hsiang Lin,Akira Mineji. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2021-02-25.

Method and Process Using Dual Memorization Layer for Multi-Color Spacer Patterning

Номер патента: US20210343586A1. Автор: Akiteru Ko,Kaoru Maekawa,Hirokazu Aizawa. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2021-11-04.

Capping Layer For Liner-Free Conductive Structures

Номер патента: US20240355741A1. Автор: Sung-Li Wang,Chun-Hsien Huang,Chih-Wei Chang,Shuen-Shin Liang,Chia-Hung Chu,Keng-Chu Lin,Ken-Yu Chang,Hung-Yi Huang,Hsu-Kai Chang,Chun-I Tsai. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Method for fabricating semiconductor device having a patterned metal layer embedded in an interlayer dielectric layer

Номер патента: US09984974B1. Автор: Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang,Yi-Wei Chen,Ching-Ling Lin,Jia-Rong Wu,Tsung-Hung Chang,Yi-Hui Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Capping layer for guide electrodes

Номер патента: US20240363726A1. Автор: Teng-Chun Tsai,Huang-Lin Chao,Chin-Hsiang Lin,Akira Mineji. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Nitridized ruthenium layer for formation of cobalt interconnects

Номер патента: US09941213B2. Автор: Chih-Chao Yang,Daniel C Edelstein. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-04-10.

Method for fabricating semiconductor device having a patterned metal layer embedded in an interlayer dielectric layer

Номер патента: US09899322B2. Автор: Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang,Yi-Wei Chen,Ching-Ling Lin,Jia-Rong Wu,Tsung-Hung Chang,Yi-Hui Lee. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2018-02-20.

Airgap protection layer for via alignment

Номер патента: US09553019B1. Автор: Benjamin D. Briggs,Lawrence A. Clevenger,Michael RIZZOLO,Christopher J. Penny. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-01-24.

Tapered dielectric layer for preventing electrical shorting between gate and back side via

Номер патента: US12062692B2. Автор: Wei-Yang Lee,Yuan-Ching Peng,Kuo-Yi Chao,Jiun-Ming Kuo,Shu-Wen Shen,Yen-Po Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Methods of forming interfacial layers for high-k gates by ozone oxidation

Номер патента: WO2004012237A3. Автор: Yoshihide Senzaki,Robert Herring. Владелец: Aviza Technology. Дата публикации: 2004-09-10.

Reinforced wafer level package comprising a core layer for reducing stress in a solder joint and improving solder joint reliability

Номер патента: US09806063B2. Автор: Jie Fu,Chin-Kwan Kim,Rajneesh Kumar,Omar James Bchir,Vladimir Noveski,Milind Pravin Shah,Ahmer Raza Syed. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-10-31.

Intermediate layer for copper structuring and methods of formation thereof

Номер патента: US09773736B2. Автор: Roman Roth,Ravi Keshav Joshi,Christian Fachmann,Petra Fischer,Juergen Steinbrenner. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2017-09-26.

Copper doped transition layer for improving copper interconnection reliability

Номер патента: EP1351291A3. Автор: Qing-Tang Jiang,Robert Tsu,Kenneth D. Brennan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2004-12-15.

Multi-layer etch stop layers for advanced integrated circuit structure fabrication

Номер патента: US12119344B2. Автор: Dragos SEGHETE,David J. Towner,Christopher R. Ryder,Anthony V. Mule',Angel Aquino Gonzalez. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Locally-trap-characteristic-enhanced charge trap layer for three-dimensional memory structures

Номер патента: US09711530B1. Автор: Kiyohiko Sakakibara,Yusuke Ikawa,Eisuke Takii. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-07-18.

Graphene layer for low resistance contacts and damascene interconnects

Номер патента: US12136570B2. Автор: MRUNAL ABHIJITH KHADERBAD,Tzer-Min Shen,Cheng-Ming Lin,Han-Yu Lin,Jhih-Rong Huang,Wei-Yen Woon,Szu-Hua Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-11-05.

Diffusion barrier layer for conductive via to decrease contact resistance

Номер патента: US20230335499A1. Автор: Ya-Lien Lee,Chii-Ping Chen,Neng-Jye Yang,Hsiu-Wen Hsueh,An-Jiao FU,Ya-Ching Tseng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-10-19.

Graphene Layer for Reduced Contact Resistance

Номер патента: US20200135655A1. Автор: Ming-Han Lee,Shau-Lin Shue,Shin-Yi Yang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-04-30.

Cobalt-containing conductive layers for control gate electrodes in a memory structure

Номер патента: US09984963B2. Автор: Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,Senaka Kanakamedala,Keerti Shukla,Somesh Peri. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2018-05-29.

Electricoacoustic component with structured conductor and dielectric layer

Номер патента: US09941858B2. Автор: Werner Ruile,Markus Hauser,Christoph Eggs,Hans-Peter Kirschner. Владелец: SnapTrack Inc. Дата публикации: 2018-04-10.

Capacitance dielectric layer, capacitor and forming method thereof

Номер патента: US20080113481A1. Автор: Chih-Chun Wang,Hsin-Hsing Chen,Yu-Ho Chiang. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2008-05-15.

Atomic layer deposited dielectric layers

Номер патента: EP1599899A2. Автор: Leonard Forbes,Kie Y. Ahn. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2005-11-30.

Semiconductor chip including low-k dielectric layer

Номер патента: US11776894B2. Автор: Junghoon Han,Junyong NOH,Yeonjin Lee,Minjung Choi,Yunrae Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-10-03.

Cyclical physical vapor deposition of dielectric layers

Номер патента: US20140273425A1. Автор: Paul Jamison,Juntao Li,Vamsi Paruchuri,Takaaki Tsunoda,Tuan A. Vo,Sanjay Shinde. Владелец: Canon Anelva Corp. Дата публикации: 2014-09-18.

Method of manufacturing a thin dielectric layer using a heat treatment and a semiconductor device formed using the method

Номер патента: US7041557B2. Автор: Ji-hoon Park,Sung-Woo Park,Jeong-Uk Han,Sung-taeg Kang,Bo-Young Seo,Seung-Beom Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2006-05-09.

Three-dimensional memory device with select transistor having charge trapping gate dielectric layer and methods of making and operating thereof

Номер патента: US09748266B1. Автор: Yanli Zhang,Yingda Dong,Liang PANG,Ashish Baraskar,Ching-Huang Lu,Matthias Baenninger. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2017-08-29.

Semiconductor device having contact plug in two dielectric layers and two etch stop layers

Номер патента: US09673100B2. Автор: Kun-Yuan Liao,Chieh-Te Chen,Feng-Yi Chang,Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang,Yi-Wei Chen,Chien-Ting Lin,Chun-Lung Chen,Chia-Lin Lu,Shih-Fang Tzou. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-06-06.

Low energy etch process for nitrogen-containing dielectric layer

Номер патента: US09633948B2. Автор: Markus BRINK,Sebastian U. Engelmann,Masahiro Nakamura,Hiroyuki Miyazoe,Robert L. Bruce,Nicholas C. M. Fuller. Владелец: Zeon Corp. Дата публикации: 2017-04-25.

Reliable passivation layers for semiconductor devices

Номер патента: US20160181197A1. Автор: Chor Shu CHENG,Xuesong Rao,Chim Seng Seet,Meng Meng Vanessa CHONG,Hendro MARIO,Aison JOHN GEORGE. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2016-06-23.

Metal alloy capping layers for metallic interconnect structures

Номер патента: US20180061770A1. Автор: Chih-Chao Yang. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-03-01.

Semiconductor device with metal gate and high-k dielectric layer, cmos integrated circuit, and method for fabricating the same

Номер патента: US20160211183A1. Автор: Yun-Hyuck Ji,Beom-Yong Kim,Seung-Mi Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2016-07-21.

Controlling the Device Performance by Forming a Stressed Backside Dielectric Layer

Номер патента: US20140295582A1. Автор: Ming-Fa Chen,I-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2014-10-02.

Controlling the Device Performance by Forming a Stressed Backside Dielectric Layer

Номер патента: US20150125967A1. Автор: Ming-Fa Chen,I-Ching Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2015-05-07.

Capacitors, methods of forming capacitors, and methods of forming capacitor dielectric layers

Номер патента: US20030045050A1. Автор: John Moore,Scott DeBoer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-03-06.

Method of forming a capacitor dielectric layer

Номер патента: US20030207592A1. Автор: John Moore,Scott DeBoer. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-11-06.

Semiconductor device including a porous dielectric layer, and method of forming the semiconductor device

Номер патента: US09997451B2. Автор: Lawrence A. Clevenger,Michael RIZZOLO,Huai HUANG,Christopher J. Penny,Bartlet H. DeProspo,Benjamin David Briggs. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-06-12.

Semiconductor device with metal gate and high-k dielectric layer, CMOS integrated circuit, and method for fabricating the same

Номер патента: US09659828B2. Автор: Yun-Hyuck Ji,Beom-Yong Kim,Seung-Mi Lee. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2017-05-23.

Pad structure exposed in an opening through multiple dielectric layers in BSI image sensor chips

Номер патента: US09653508B2. Автор: Dun-Nian Yaung,Jen-Cheng Liu,Shuang-Ji Tsai,Jeng-Shyan Lin,Wen-De Wang,Yueh-Chiou Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Method for fabricating contact plug in an interlayer dielectric layer

Номер патента: US09548239B2. Автор: Feng-Yi Chang,Ching-Wen Hung,Chih-Sen Huang,Yi-Wei Chen,Chun-Lung Chen,Chia-Lin Lu,Jia-Rong Wu,Yi-Hui Lee,Ying-Cheng Liu,Yi-Kuan Wu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Bumpless build-up layer (BBUL) semiconductor package with ultra-thin dielectric layer

Номер патента: US09520350B2. Автор: Ebrahim Andideh,Digvijay A. Raorane,Daniel N. Sobieski,Weng Hong Teh,Emile Davies-venn. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2016-12-13.

Dielectric etch stop layer for reactive ion etch (rie) lag reduction and chamfer corner protection

Номер патента: WO2021173421A1. Автор: Xinghua Sun,Yen-Tien Lu,Michael Edley,Angelique RALEY. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2021-09-02.

Dielectric layers for metal lines in semiconductor chips

Номер патента: US7598166B2. Автор: Zhong-Xiang He,Anthony Kendall Stamper,Ning Lu. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2009-10-06.

Dual gate dielectric layers grown with an inhibitor layer

Номер патента: US20210305042A1. Автор: Damien Thomas Gilmore,Mark Francis Arendt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2021-09-30.

Dual gate dielectric layers grown with an inhibitor layer

Номер патента: US20220254627A1. Автор: Damien Thomas Gilmore,Mark Francis Arendt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2022-08-11.

Methods of patterning dielectric layers for metallization and related structures

Номер патента: US20190206795A1. Автор: Guillaume Bouche. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2019-07-04.

Disposable carbon-based template layer for formation of borderless contact structures

Номер патента: US20140048884A1. Автор: Josephine B. Chang,Michael A. Guillorn,Sebastian U. Engelmann,Gregory Breyta,Adam M. Pyzyna,David P. Klaus. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2014-02-20.

Tapered Dielectric Layer for Preventing Electrical Shorting Between Gate and Back Side Via

Номер патента: US20230067804A1. Автор: Wei-Yang Lee,Yuan-Ching Peng,Kuo-Yi Chao,Jiun-Ming Kuo,Shu-Wen Shen,Yen-Po Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Dual gate dielectric layers grown with an inhibitor layer

Номер патента: US11935740B2. Автор: Damien Thomas Gilmore,Mark Francis Arendt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Density-graded adhesion layer for conductors

Номер патента: US11508676B2. Автор: Rahul N. Manepalli,Srinivas V. Pietambaram,Kemal Aygun,Cemil S. Geyik. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-11-22.

Reinforced wafer level package comprising a core layer for reducing stress in a solder joint and improving solder joint reliability

Номер патента: EP3289609A1. Автор: Jie Fu,Chin-Kwan Kim,Rajneesh Kumar,Omar James Bchir,Vladimir Noveski,Milind Pravin Shah,Ahmer Raza Syed. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2018-03-07.

Semiconductor device with porous dielectric layers and method for fabricating the same

Номер патента: US20240030133A1. Автор: Tse-Yao Huang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Transitional dielectric layer to improve reliability and performance of high dielectric constant transistors

Номер патента: WO2006107383A2. Автор: Olubunmi O. Adetutu,Hsing H. Tseng,Voon-Yew Thean,Sriram S. Kalpat. Владелец: FREESCALE SEMICONDUCTOR. Дата публикации: 2006-10-12.

Integrated circuit structures having differentiated interconnect lines in a same dielectric layer

Номер патента: US12080643B2. Автор: Tahir Ghani,Jack T. Kavalieros,Shem O. Ogadhoh,Yih Wang,Bernhard Sell,Juan G. ALZATE VINASCO,Pei-Hua Wang,Chieh-Jen Ku,Abhishek A. Sharma,Travis W. LaJoie,Allen B. Gardiner,Blake C. Lin. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-09-03.

Capacitor comprising anti-ferroelectric layers and high-k dielectric layers

Номер патента: US20240313040A1. Автор: Se Hun Kang. Владелец: SK hynix Inc. Дата публикации: 2024-09-19.

Dielectric layer and manufacturing method of dielectric layer, and solid-state electronic device and manufacturing method of solid-state electronic device

Номер патента: US09876067B2. Автор: Tatsuya Shimoda,Eisuke Tokumitsu,Takaaki Miyasako,Masatoshi Onoue. Владелец: JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY. Дата публикации: 2018-01-23.

Interfacial dual passivation layer for a ferroelectric device and methods of forming the same

Номер патента: US12051749B2. Автор: Chris Liu,Jiamin Wang,Blanka Magyari-Kope,Ashwathi Iyer. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Interfacial dual passivation layer for a ferroelectric device and methods of forming the same

Номер патента: US20240347633A1. Автор: Chris Liu,Jiamin Wang,Blanka Magyari-Kope,Ashwathi Iyer. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Method of forming gate dielectric layer for MOS transistor

Номер патента: US09761687B2. Автор: Po-Lun Cheng,Chun-Liang Chen,Meng-Che Yeh,Shih-Jung Tu,Han-Lin Hsu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-09-12.

Divot-free planarization dielectric layer for replacement gate

Номер патента: US20160276457A1. Автор: Sanjay Mehta,Hemanth Jagannathan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-09-22.

Etch stop layer for memory cell reliability improvement

Номер патента: US20130078795A1. Автор: Hiroyuki Ogawa,Minh Van Ngo,Hiroyuki Kinoshita,Kuo-Tung Chang,Angela Hui,Hsiao-Han Thio. Владелец: Advanced Micro Devices Inc. Дата публикации: 2013-03-28.

Divot-free planarization dielectric layer for replacement gate

Номер патента: US09876091B2. Автор: Sanjay Mehta,Hemanth Jagannathan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-23.

Divot-free planarization dielectric layer for replacement gate

Номер патента: US09356121B2. Автор: Sanjay Mehta,Hemanth Jagannathan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2016-05-31.

Low loss silicon nitride and waveguides comprising low loss silicon nitride

Номер патента: US20240079228A1. Автор: Robert Higashi,Robert Horning,David Deen,Christopher John CARRON,Molly KROGSTAD. Владелец: Quantinuum Llc. Дата публикации: 2024-03-07.

FinFET devices comprising a dielectric layer/CMP stop layer/hardmask/etch stop layer/gap-fill material stack

Номер патента: US09520395B2. Автор: Guillaume Bouche,Xiang Hu,Andy Wei,Sandeep Gaan,Jerome F. Wandell. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-12-13.

Methods of forming a device having semiconductor devices on two sides of a buried dielectric layer

Номер патента: EP3504734A1. Автор: Sinan Goktepeli,Stephen Alan Fanelli. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Method for fabricating a gate dielectric layer and for fabricating a gate structure

Номер патента: US20120276731A1. Автор: Yi Nan Chen,Hsien Wen Liu,Kuo Hui Su. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2012-11-01.

Method for processing gate dielectric layer deposited on germanium-based or group III-V compound-based substrate

Номер патента: US9312126B2. Автор: Min Li,Meng Lin,Ming Li,Xing Zhang,Zhiqiang Li,Ru Huang,Xia An,Quanxin Yun,Pengqiang Liu. Владелец: PEKING UNIVERSITY. Дата публикации: 2016-04-12.

Process for fabricating a structure having a buried dielectric layer of uniform thickness

Номер патента: US09929040B2. Автор: Carole David,Anne-Sophie Cocchi. Владелец: Soitec SA. Дата публикации: 2018-03-27.

Methods of forming a device having semiconductor devices on two sides of a buried dielectric layer

Номер патента: US09837302B1. Автор: Sinan Goktepeli,Stephen Alan Fanelli. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2017-12-05.

Chemical mechanical polishing stop layer for fully amorphous phase change memory pore cell

Номер патента: US8492194B2. Автор: Chung H. Lam,Matthew J. Breitwisch. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2013-07-23.

Seed layer for ferroelectric memory device and manufacturing method thereof

Номер патента: US11869766B2. Автор: Chun-Chieh Lu,Yu-Ming Lin,Sai-Hooi Yeong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-01-09.

Method of two-step annealing of ultra-thin silicon dioxide layers for uniform nitrogen profile

Номер патента: US20020197884A1. Автор: Douglas Grider,Hiroaki Niimi,Rajesh Khamankar. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2002-12-26.

Seed layer for ferroelectric memory device and manufacturing method thereof

Номер патента: US20220013353A1. Автор: Chun-Chieh Lu,Yu-Ming Lin,Sai-Hooi Yeong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-01-13.

Seed layer for ferroelectric memory device and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240087887A1. Автор: Chun-Chieh Lu,Yu-Ming Lin,Sai-Hooi Yeong. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Fluorine-containing plasma polymerized HMDSO for OLED thin film encapsulation

Номер патента: US09761836B2. Автор: Jrjyan Jerry Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-09-12.

Method for producing a fluorine-containing amorphous semiconductor

Номер патента: US4485121A. Автор: Hideki Matsumura. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 1984-11-27.

Power semiconductor devices having multilayer gate dielectric layers that include an etch stop/field control layer and methods of forming such devices

Номер патента: EP4179575A1. Автор: Daniel Jenner Lichtenwalner. Владелец: Wolfspeed Inc. Дата публикации: 2023-05-17.

Fluorine-containing polymer, purification method, and radiation-sensitive resin composition

Номер патента: US09500950B2. Автор: Hiroki Nakagawa,Hiromitsu Nakashima,Yukio Nishimura,Gouji Wakamatsu,Kentarou Gotou,Takeo Shioya. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Process for producing fluorine containing polymer

Номер патента: US09562126B2. Автор: TSUTOMU Sada,Naoya Ogata,Fumito Yamai. Владелец: Piotrek Co Ltd. Дата публикации: 2017-02-07.

Process for producing fluorine containing polymer

Номер патента: US09979037B2. Автор: TSUTOMU Sada,Naoya Ogata,Fumito Yamai. Владелец: Piotrek Co Ltd. Дата публикации: 2018-05-22.

Fluorine-containing sulfonic acid salt, fluorine-containing sulfonic acid salt resin, resist composition, and pattern forming method using same

Номер патента: US09488914B2. Автор: Masaki Fujiwara,Kazunori Mori,Satoru Narizuka,Yuji Hagiwara,Fumihiro Amemiya. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Additively manufacturing fluorine-containing polymers

Номер патента: US11731346B2. Автор: Jamie Michael Messman,Thomas Matthew Selter. Владелец: Honeywell Federal Manufacturing and Technologies LLC. Дата публикации: 2023-08-22.

System for in-situ generation of fluorine radicals and/or fluorine-containing interhalogen (xfn) compounds for use in cleaning semiconductor processing chambers

Номер патента: WO2004030037A2. Автор: W. Karl Olander,Jose I. Arno. Владелец: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.. Дата публикации: 2004-04-08.

Method for producing substrate with patterned film and fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20240319607A1. Автор: Takashi Aoki,Yusuke Nomura,Keiko Sasaki,Yuzuru Kaneko,Asuka Sano. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-26.

Method for producing substrate with patterned film and fluorine-containing copolymer

Номер патента: US12038692B2. Автор: Takashi Aoki,Yusuke Nomura,Keiko Sasaki,Yuzuru Kaneko,Asuka Sano. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-16.

Fluorine-containing polymer film

Номер патента: US20230069063A1. Автор: Takashi Kanemura,Tetsuhiro Kodani,Masaharu ARIMOTO,Shinya BITOU,Saori SAKAMI. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Fluorine-containing compound, substrate for pattern formation, photodegradable coupling agent, pattern formation method, and compound

Номер патента: US9606437B2. Автор: Kazuo Yamaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-03-28.

Fluorine-containing compound, substrate for pattern formation, photodegradable coupling agent, pattern formation method, and compound

Номер патента: US20150168836A1. Автор: Kazuo Yamaguchi. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2015-06-18.

Methods of forming spacer patterns using assist layer for high density semiconductor devices

Номер патента: WO2008089153A3. Автор: Tuan Duc Pham,James Kai,Takashi Orimoto,Masaaki Higashitani,George Metamis. Владелец: George Metamis. Дата публикации: 2008-09-12.

Fluorine-containing elastomer composition and sealing material made of same

Номер патента: US8198386B2. Автор: Meiten Koh,Tatsuya Morikawa,Hirokazu Komori. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2012-06-12.

Planarization layer for organic electronic devices

Номер патента: US09490439B2. Автор: Andrew Bell,Larry F. Rhodes,Pawel Miskiewicz,Piotr Wierzchowiec,Tomas Backlund,Irina Afonina,Li W. Tan,Paul C. Brookes. Владелец: Merck Patent GmBH. Дата публикации: 2016-11-08.

Hydrogenated amorphous silicon dielectric for superconducting devices

Номер патента: US09593414B2. Автор: Andrew Steinbach,Dipankar Pramanik,Sergey Barabash,Chris Kirby. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2017-03-14.

High frequency low loss magnetic core and method of manufacture

Номер патента: US20240079168A1. Автор: Haixong Tang,Andrew J. Sherman. Владелец: Powdermet Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

High frequency low loss magnetic core and method of manufacture

Номер патента: US20230317335A1. Автор: Haixong Tang,Andrew J. Sherman. Владелец: Powdermet Inc. Дата публикации: 2023-10-05.

Methods for etching a hardmask layer for an interconnection structure for semiconductor applications

Номер патента: US09653320B2. Автор: Sumit Agarwal,Chiu-Pien KUO,Shang-Ting HSIEH,Guochuan HONG. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-05-16.

Integrated circuit (ic) package employing a re-distribution layer (rdl) substrate(s) with photosensitive dielectric layer(s) for increased package rigidity, and related fabrication methods

Номер патента: US20240243056A1. Автор: Wei Wang,Yangyang Sun,Manuel Aldrete. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2024-07-18.

Integrated circuit (ic) package employing a re-distribution layer (rdl) substrate(s) with photosensitive dielectric layer(s) for increased package rigidity, and related fabrication methods

Номер патента: WO2024155453A1. Автор: Wei Wang,Yangyang Sun,Manuel Aldrete. Владелец: QUALCOMM INCORPORATED. Дата публикации: 2024-07-25.

Method for Forming a Protective Layer for Use In Packaging a Semiconductor Die

Номер патента: US20040183163A1. Автор: Tongbi Jiang,Zhiping Yin,Mike Connell. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-09-23.

Work Function Layers For Transistor Gate Electrodes

Номер патента: US20240363711A1. Автор: Huang-Lin Chao,Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang,Chun-I Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-31.

Work function layers for transistor gate electrodes

Номер патента: US12132091B2. Автор: Huang-Lin Chao,Chung-Liang Cheng,Ziwei Fang,Chun-I Wu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-29.

Methods of curing a dielectric layer for manufacture of a semiconductor device

Номер патента: US09923077B2. Автор: Sang-Jin Hyun,Hoon-joo Na,Yoon-Tae Hwang,Moon-Kyu Park,Ki-joong Yoon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-03-20.

Dry etching of semiconductor structures with fluorine-containing gases

Номер патента: US20230064393A1. Автор: Pinyen Lin,Fang-Wei Lee,Li-Te Lin,Han-Yu Lin,Tze-Chung Lin. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-03-02.

Method for Producing a Dielectric Layer for an Electronic Component

Номер патента: US20080013249A1. Автор: Henrik Ewe,Karl Weidner. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2008-01-17.

Interface layer for gate stack using O3 post treatment

Номер патента: US09698234B2. Автор: Mark S. Rodder,Wei-E Wang,Jorge A. Kittl. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2017-07-04.

Composite dummy Gate With conformal Polysilicon layer For FinFet Device

Номер патента: US20160181398A1. Автор: MING-CHING Chang,Chao-Cheng Chen,Ryan Chia-Jen Chen,Yuan-Sheng Huang,Tzu-Yen Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-06-23.

Composite dummy gate with conformal polysilicon layer for FinFET device

Номер патента: US09923079B2. Автор: MING-CHING Chang,Chao-Cheng Chen,Ryan Chia-Jen Chen,Yuan-Sheng Huang,Tzu-Yen Hsieh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-03-20.

Method of forming replacement gate PFET having TiALCO layer for improved NBTI performance

Номер патента: US09449887B2. Автор: Balaji Kannan,Takashi Ando,Vijay Narayanan. Владелец: Globalfoundries Inc. Дата публикации: 2016-09-20.

Low loss power device and method for fabricating thereof

Номер патента: US20210376146A1. Автор: Timothy Lee. Владелец: Metamos Solutions. Дата публикации: 2021-12-02.

Low loss power device and method for fabricating thereof

Номер патента: EP3916799A1. Автор: Timothy Lee. Владелец: Metamos Solutions Inc. Дата публикации: 2021-12-01.

Preserving Underlying Dielectric Layer During MRAM Device Formation

Номер патента: US20210126051A1. Автор: Michael RIZZOLO,Ashim Dutta. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-04-29.

Method for patterning a dielectric layer

Номер патента: US11756790B2. Автор: Xinghua Sun,Yen-Tien Lu,Angelique RALEY,Shihsheng Chang,Eric Chih-Fang Liu,Katie Lutker-Lee. Владелец: Tokyo Electron Ltd. Дата публикации: 2023-09-12.

Package substrate having porous dielectric layer

Номер патента: US20240282693A1. Автор: Jaimal Mallory Williamson,Jim C. Lo. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-08-22.

Method for patterning a dielectric layer

Номер патента: WO2022192349A1. Автор: Xinghua Sun,Yen-Tien Lu,Angelique RALEY,Shihsheng Chang,Eric Chih-Fang Liu,Katie Lutker-Lee. Владелец: Tokyo Electron U.S. Holdings, Inc.. Дата публикации: 2022-09-15.

Lead frame substrate having circuitry on dual dielectric layers and assembly using the same

Номер патента: US20240363499A1. Автор: Chia-Chung Wang,Charles W. C. Lin. Владелец: Bridge Semiconductor Corp. Дата публикации: 2024-10-31.

Gate-All-Around Device with Protective Dielectric Layer and Method of Forming the Same

Номер патента: US20240250142A1. Автор: Hou-Yu Chen,Kuan-Lun Cheng,Cheng-Ting Chung,Yi-Bo Liao. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Single diffusion breaks including stacked dielectric layers

Номер патента: US20220052193A1. Автор: Haiting Wang,Yue Hu,Sipeng Gu,Rinus LEE. Владелец: GlobalFoundries US Inc. Дата публикации: 2022-02-17.

Methods for manufacturing semiconductor devices using etch stop dielectric layers and related devices

Номер патента: US20120329262A1. Автор: Jeong-hee Han,Hyeok-Jun Son,Sang-Jin Hyun,Hoon-joo Na,June-Hee Lee,Sang-Bom Kang,Hyung-seok HONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-12-27.

Methods for forming dielectric layer in forming semiconductor device

Номер патента: US12080560B2. Автор: Xiaohong Zhou,Yonggang YANG. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for forming air gap between gate dielectric layer and spacer

Номер патента: US12107121B2. Автор: Zhi-Cheng Lee,Kai-Lin Lee,Chuang-Han Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Integrated chip including a tunnel dielectric layer which has different thicknesses over a protrusion region of a substrate

Номер патента: US12114503B2. Автор: Jui-Yu Pan,Cheng-Bo Shu,Chung-Jen Huang,Jing-Ru Lin,Tsung-Yu Yang,Yun-Chi Wu,Yueh-Chieh Chu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-08.

Buildup dielectric layer having metallization pattern semiconductor package fabrication method

Номер патента: US09691635B1. Автор: Ronald Patrick Huemoeller,David Jon Hiner,Sukianto Rusli. Владелец: Amkor Technology Inc. Дата публикации: 2017-06-27.

Chemical mechanical polishing method for first interlayer dielectric layer

Номер патента: US09490175B2. Автор: Ji Cheng,Jian Zhao. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Semiconductor structure with concave blocking dielectric sidewall and method of making thereof by isotropically etching the blocking dielectric layer

Номер патента: US09478558B2. Автор: Yanli Zhang,Raghuveer S. Makala,Rahul Sharangpani,George Matamis,Senaka Kanakamedala,Sateesh KOKA,Yao-Sheng Lee. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2016-10-25.

Silicon oxide based gate dielectric layer

Номер патента: US20040097026A1. Автор: David Müller,Gregory Timp. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2004-05-20.

Fluorine-containing organic chain grafted polyoxometalate cluster and derivative thereof, and their preparation method and use

Номер патента: US20240218096A1. Автор: Haibo He,Haolong LI. Владелец: Jilin University. Дата публикации: 2024-07-04.

Fluorine-containing phosphate ester-amide, and flame retardant resin, flame retardant liquid and flame retardant solvent for organic synthesis containing same

Номер патента: US09879037B2. Автор: Hiroaki Fujita,Hisao Eguchi,Hideyuki Mimura. Владелец: Tosoh F Tech Inc. Дата публикации: 2018-01-30.

Polymer of fluorine-containing sulfonated poly(arylene ether)s and method of manufacturing the same

Номер патента: US09644069B2. Автор: Chun-Che Lee,Benjamin Britton,Steven Holdcroft,Wen-Yao Huang,Hsu-feng LEE,Jun-jie PANG,Yi-yun HSU,Yu-chao TSENG. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2017-05-09.

Polymer of fluorine-containing sulfonated poly(arylene ether)s and method of manufacturing the same

Номер патента: US20170009016A1. Автор: Chun-Che Lee,Benjamin Britton,Steven Holdcroft,Wen-Yao Huang,Hsu-feng LEE,Jun-jie PANG,Yi-yun HSU,Yu-chao TSENG. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2017-01-12.

Polymer of fluorine-containing sulfonated poly(arylene ether)s and method of manufacturing the same

Номер патента: US20170214075A1. Автор: Chun-Che Lee,Benjamin Britton,Steven Holdcroft,Wen-Yao Huang,Hsu-feng LEE,Jun-jie PANG,Yi-yun HSU,Yu-chao TSENG. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2017-07-27.

Method for processing fluorine-containing electrolyte solution

Номер патента: US09843077B2. Автор: Hiroshi Hayashi,Koichiro Hirata,Hidenori Tsurumaki,Hisashi Hoshina. Владелец: Mitsubishi Materials Corp. Дата публикации: 2017-12-12.

Polymer of fluorine-containing sulfonated poly(arylene ether)s and method of manufacturing the same

Номер патента: US09748594B2. Автор: Chun-Che Lee,Benjamin Britton,Steven Holdcroft,Wen-Yao Huang,Hsu-feng LEE,Jun-jie PANG,Yi-yun HSU,Yu-chao TSENG. Владелец: National Sun Yat Sen University. Дата публикации: 2017-08-29.

Devices using low loss dielectric material

Номер патента: US3938064A. Автор: John Thomson, Jr.,Henry Miles O'Bryan, Jr.,James Kevin Pluorde. Владелец: Bell Telephone Laboratories Inc. Дата публикации: 1976-02-10.

Dispersion composition of fluorine-containing ion exchange resin

Номер патента: CA2720687C. Автор: Naoki Sakamoto,Kohei Kita,Takahiko Murai. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2013-03-26.

Fluorine-containing resin composition, and resin vanish, fluorine-containing dielectric sheet, laminate, copper clad laminate and printed circuit board containing the same

Номер патента: US11945924B2. Автор: Wei Liang,Qianfa Liu,Liangpeng HAO,Songgang Chai. Владелец: Shengyi Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Fluorine-containing cyclic sulfonylimide salt, and method for producing same, non-aqueous electrolyte, non-aqueous secondary battery

Номер патента: EP4317129A1. Автор: Makoto Ito,Naoki Matsuoka,Nobuyuki Uematsu,Kazuki Maeda,Kaishi HORI. Владелец: Asahi Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-07.

Fluorine-containing cyclic sulfonylimide salt, and method for producing same, non-aqueous electrolyte, non-aqueous secondary battery

Номер патента: US20240194948A1. Автор: Makoto Ito,Naoki Matsuoka,Nobuyuki Uematsu,Kazuki Maeda,Kaishi HORI. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2024-06-13.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20240018285A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-18.

Fluorine-containing phosphate ester-amide, and flame retardant resin, flame retardant liquid and flame retardant solvent for organic synthesis containing same

Номер патента: US20150053901A1. Автор: Hiroaki Fujita,Hisao Eguchi,Hideyuki Mimura. Владелец: Tosoh F Tech Inc. Дата публикации: 2015-02-26.

Fluorine containing ionomer composite with ion exchange function, preparation method and use thereof

Номер патента: US20130095411A1. Автор: Jun Wang,Ping Liu,Heng Zhang,Yongming Zhang,Junke Tang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-04-18.

Fluorine-containing copolymer, composition for forming a film, anti-reflection film, and image display device

Номер патента: US6794469B2. Автор: Tatsuhiko Obayashi,Hirohisa Hokazono,Takafumi Hosokawa. Владелец: Fuji Photo Film Co Ltd. Дата публикации: 2004-09-21.

Process for the concentration of noble metals from fluorine-containing fuel cell components

Номер патента: CA2525933C. Автор: Bernd Kayser,Ingo Kleinwaechter,Christian Hagelueken,Jose-Manuel Romero-Ojeda. Владелец: Umicore AG and Co KG. Дата публикации: 2013-02-19.

Dispersion composition having fluorine-containing ion exchange resin with adjusted particle size abundance ratio

Номер патента: US8685591B2. Автор: Naoki Sakamoto,Kohei Kita,Takahiko Murai. Владелец: Asahi Kasei E Materials Corp. Дата публикации: 2014-04-01.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391928A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399435A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399433A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391922A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399437A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299621A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299620A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399434A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer, injection molded article, wire coating material and wire

Номер патента: US20230391924A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke,Keizou CHIOTSUKI. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391925A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391930A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399440A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399436A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399442A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230406977A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299615A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230416431A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-28.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391913A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399428A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399439A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299618A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391926A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391916A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Indsustries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Device and Method for the Thermal Treatment of Fluorine-Containing and Noble Metal-Containing Products

Номер патента: US20140056786A1. Автор: Horst Meyer,Steffen Voss,Jose Manuel Romero. Владелец: Heraeus Precious Metals GmbH and Co KG. Дата публикации: 2014-02-27.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299631A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing ionomer composite material with ion exchange function, preparation method and use thereof

Номер патента: CA2802948C. Автор: Jun Wang,Ping Liu,Heng Zhang,Yongming Zhang,Junke Tang. Владелец: Shandong Huaxia Shenzhou New Material Co Ltd. Дата публикации: 2018-08-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299625A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391918A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299632A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299626A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer, injection molded body, electric wire covering material and electric wire

Номер патента: EP4299637A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke,Keizou Shiotsuki. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299617A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299629A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299627A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299619A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299623A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391921A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391923A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391919A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399429A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230382026A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399427A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299616A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299628A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299636A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299624A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4299635A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-01-03.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391915A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230399430A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230391914A1. Автор: Tadaharu Isaka,Yukari Yamamoto,Yuri ZENKE. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-12-07.

Molar ratio of ba ti and si in the dielectrics layers for multilayer ceramic component

Номер патента: EP4425513A1. Автор: Jae Sung Park,Ji Su Hong,Hyoung Uk Kim,Hyung Soon KWON,Han Seong Jung,Hye Won Ryoo. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-04.

Method for producing low-loss tunable ceramic composites with improved breakdown strengths

Номер патента: EP1422209A3. Автор: Xubai Zhang,Louise Sengupta,Luna H. Chiu. Владелец: Paratek Microwave Inc. Дата публикации: 2006-05-03.

Method of making textured electrical steel sheet with low losses in iron

Номер патента: RU2602694C1. Автор: Кадзухиро ХАНАДЗАВА,Масанори УЭСАКА,Сигехиро ТАКАДЗО. Владелец: ДжФЕ СТИЛ КОРПОРЕЙШН. Дата публикации: 2016-11-20.

Product from textured silicon steel with low losses in iron for transformer with low noise level and method of production thereof

Номер патента: RU2721969C1. Автор: Гобао ЛИ,Яньли СУН,Вэйюн СЕ,Чэнь ЛИН,Цзыпэн ЧЗАО,Чанцзюнь ХОУ,Банлинь СЯН,Каньи ШЕНЬ. Владелец: Баошан Айрон Энд Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2020-05-25.

High-saturation and low-loss bi-component microwave ferrite material, and preparation method therefor and use thereof

Номер патента: US20240286959A1. Автор: Yuanzhen WANG,Yangzhong Du,Likang ZHANG,Feiyu LV. Владелец: Hengdian Group DMEGC Magnetics Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Wide-temperature low-loss high-strength mnzn power ferrite, and preparation method therefor and use thereof

Номер патента: EP4365149A1. Автор: Xiaohang Zhang,Feiyu LV. Владелец: Hengdian Group DMEGC Magnetics Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Method for producing textured silicon steel with low loss in iron by annealing for stress relief

Номер патента: RU2746618C1. Автор: Шуангцзиэ ЧУ,Гобао ЛИ,Юнцзе ЯН,Цзыпэн ЧЖАО,Чансун МА,Каньи ШЭНЬ,Мэйхун У,Ямин ЦЗИ,Хуабин ЧЖАН,Чжочао ХУ. Владелец: Баошань Айрон Энд Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2021-04-19.

Undirected silicon steel sheet with high magnetic induction and low losses in iron and method for its production

Номер патента: RU2709544C1. Автор: Шишу СЕ,Фэн ЧЖАН,Чженьюй ЦЗУН,Сяньши ФАН. Владелец: Баошан Айрон Энд Стил Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-12-18.

Methods of controlling oxygen partial pressure during annealing of a perovskite dielectric layer, and structures fabricated thereby

Номер патента: WO2003096402A3. Автор: Angus Ian Kingon,Jon-Paul Maria. Владелец: Univ North Carolina State. Дата публикации: 2004-03-25.

Structures including perovskite dielectric layers and variable oxygen concentration gradient layers

Номер патента: US20050227098A1. Автор: Jon-Paul Maria,Angus Kingon. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2005-10-13.

Methods of controlling oxygen partial pressure during annealing of a perovskite dielectric layer, and structures fabricated thereby

Номер патента: WO2003096402A2. Автор: Angus Ian Kingon,Jon-Paul Maria. Владелец: North Carolina State University. Дата публикации: 2003-11-20.

Low-loss inductor and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240062944A1. Автор: Qing-Wen WANG. Владелец: Hong Dang Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-22.

Dielectric paste composition, method of forming transparent dielectric layer, transparent dielectric layer, and device including the transparent dielectric layer

Номер патента: US20120167799A1. Автор: Min-Jong Bae,Tae-Won Jeong,Shang-hyeun Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2012-07-05.

Dielectric paste composition, method of forming dielectric layer, dielectric layer, and device including the dielectric layer

Номер патента: US20110251319A1. Автор: Jin-Young Kim,Min-Jong Bae,Tae-Won Jeong,Shang-hyeun Park,Sun-jin SONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2011-10-13.

Ceramic electronic device including dielectric layer containing perovskite compound with yttria-stabilized zirconia

Номер патента: US20240347274A1. Автор: Yasuyuki Inomata. Владелец: TAIYO YUDEN CO LTD. Дата публикации: 2024-10-17.

Resin composition and dielectric layer and capacitor produced therefrom

Номер патента: US09779880B2. Автор: Zhou Jin,Tao Cheng,Qilin CHEN. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2017-10-03.

Fluorine-containing polymerized HMDSO applications for OLED thin film encapsulation

Номер патента: US09502686B2. Автор: Soo Young Choi,Jrjyan Jerry Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2016-11-22.

Ground grid for superconducting circuits

Номер патента: US09466643B2. Автор: Quentin P. Herr,Anna Y. Herr,Steven Brian SHAUCK,Eileen Jiwon MIN. Владелец: Northrop Grumman Systems Corp. Дата публикации: 2016-10-11.

Process for low-loss dielectric and related structures

Номер патента: WO2023211522A3. Автор: Sergey K. Tolpygo,William D. Oliver,Wayne H. Woods,Jonilyn L. Yoder,Alexander J. MELVILLE,Mollie E. SCHWARTZ,Evan B. GOLDEN,David K. KIM,Kyle A. SERNIAK,Bethany Niedzielski HUFFMAN,Arjan SEVI. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2024-01-04.

Process for low-loss dielectric and related structures

Номер патента: WO2023211522A2. Автор: Sergey K. Tolpygo,William D. Oliver,Wayne H. Woods,Jonilyn L. Yoder,Alexander J. MELVILLE,Mollie E. SCHWARTZ,Evan B. GOLDEN,David K. KIM,Kyle A. SERNIAK,Bethany Niedzielski HUFFMAN,Arjan SEVI. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-11-02.

Photoelectric conversion device and photoelectric conversion module each having a protective member comprised of fluorine-containing polymer resin

Номер патента: US5530264A. Автор: Satoru Yamada,Takahiro Mori,Ichiro Kataoka,Shigenori Itoyama. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1996-06-25.

Trilayer josephson junction structure with small air bridge and no interlevel dielectric for superconducting qubits

Номер патента: US09564573B1. Автор: Josephine B. Chang,Gerald W. Gibson,Mark B. Ketchen. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Fluorine-containing composition, substrate for pattern formation, photodegradable coupling agent, pattern formation method and transistor production method

Номер патента: US20170285471A1. Автор: Kazuo Yamaguchi,Yusuke Kawakami. Владелец: Nikon Corp. Дата публикации: 2017-10-05.

Systems and methods for fabrication of superconducting circuits

Номер патента: US09634224B2. Автор: Richard David Neufeld,Eric Ladizinsky,Byong Hyop Oh,Jason Yao,Nicolas Ladizinsky. Владелец: D Wave Systems Inc. Дата публикации: 2017-04-25.

Methods and structure to probe the metal-metal interface for superconducting circuits

Номер патента: US20220034833A1. Автор: Markus BRINK,Christian Lavoie,Benjamin Wymore,Jeng-Bang Yau. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Antenna apparatus with integrated antenna array and low loss multi-layer interposer

Номер патента: WO2021076459A1. Автор: Steven J. Franson,Joseph J. Luna. Владелец: VIASAT, INC.. Дата публикации: 2021-04-22.

Antenna apparatus with integrated antenna array and low loss multi-layer interposer

Номер патента: AU2020366303A1. Автор: Steven J. Franson,Joseph J. Luna. Владелец: Viasat Inc. Дата публикации: 2022-03-03.

METAL FILLER, SEPARATING p- AND n-TYPE LAYERS, FOR LIGHT-EMITTING DIODES MOUNTED BY FLIP-CHIP METHOD

Номер патента: RU2597071C2. Автор: Цзипу ЛЭЙ,Яцзюнь ВЭЙ,Александер Х. НИКЕЛ,Стефано СЧИАФФИНО,Дэниел Александер СТЕЙДЖЕРУОЛД. Владелец: КОНИНКЛЕЙКЕ ФИЛИПС Н.В.. Дата публикации: 2016-09-10.

Resonant LC power network for superconducting digital circuits

Номер патента: US11770113B2. Автор: Quentin Paul Herr,Anna Yurievna Herr. Владелец: Imec USA Nanoelectronics Design Center Inc. Дата публикации: 2023-09-26.

Memory device containing dual etch stop layers for selector elements and method of making the same

Номер патента: US20210408114A1. Автор: Jeffrey Lille,Kanaiyalal Patel. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-12-30.

Electron blocking layers for gate stacks of nonvolatile memory devices

Номер патента: EP2357662A3. Автор: Chao Liu,Jian Chen,J. Wallace Parce,Xiangfeng Duan,Francisco Leon,Karen Cruden,Madhuri Nallobolu,Sri Ranganathan. Владелец: Nanosys Inc. Дата публикации: 2012-04-04.

Antenna apparatus with integrated antenna array and low loss multi-layer interposer

Номер патента: US20210118828A1. Автор: Steven J. Franson,Joseph J. Luna. Владелец: Viasat Inc. Дата публикации: 2021-04-22.

Automatic production system and production process of a conductive backsheet with integrated encapsulating and dielectric layer for photovoltaic panels

Номер патента: US09711676B2. Автор: Davide Spotti,Elisa BACCINI. Владелец: VISMUNDA SRL. Дата публикации: 2017-07-18.

Reliable superconducting link for superconducting thin film components and a method for fabricating the contacts

Номер патента: CA2045239C. Автор: Antti Ilmari Ahonen,Matti Jaakko Kajola,Juha Tapani Antero Simola. Владелец: Neuromag Oy. Дата публикации: 2002-04-09.

Passivation layers for thin film transistors and methods of fabrication

Номер патента: US20240234579A1. Автор: Bernhard Sell,Pei-Hua Wang,Chieh-Jen Ku,Abhishek A. Sharma,Travis W. LaJoie,Noriyuki Sato,Hui Jae Yoo,Van Le,Matthew Metz,Sarah ATANASOV,Arnab SEN GUPTA. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Reflective layers for light-emitting diodes

Номер патента: US20240194832A1. Автор: Kevin Haberern,Michael Check. Владелец: Creeled Inc. Дата публикации: 2024-06-13.

Sacrificial buffer layer for metal removal at a bevel edge of a substrate

Номер патента: US20210013400A1. Автор: Michael RIZZOLO,Daniel Charles Edelstein,Theodorus E. Standaert,Ashim Dutta,Saba Zare. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Joint for superconducting wire

Номер патента: US20180012682A1. Автор: Tsuyoshi Wakuda,Yota Ichiki. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Nanostructure field-effect transistor device with dielectric layer for reducing substrate leakage or well isolation leakage and methods of forming

Номер патента: US12125877B2. Автор: Chih-Hao Wang,Kuo-Cheng Chiang,Kuan-Lun Cheng,Shi Ning Ju,Guan-Lin Chen,Jung-Chien Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Bandgap engineered charge storage layer for 3d tft

Номер патента: WO2008008171A3. Автор: Tanmay Kumar. Владелец: Tanmay Kumar. Дата публикации: 2008-11-13.

Method of manufacturing end-group components with pure niobium material for superconducting accelerator cavity

Номер патента: US09502631B2. Автор: Akira Yamamoto,Masayuki Shinohara,Masashi Yamanaka,Hideyoshi Nakamura,Nobuyuki Kawabata,Kiyohiko Nohara,Shigeki Kato,Takayuki Saeki,Hitoshi Hayano. Владелец: INTER-UNIVERSITY RESEARCH INSTITUTE Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Multi-band coupling for superconducting qubits based on coplanar cross-shape resonators

Номер патента: US20190034819A1. Автор: Yan Zhang,Hou IAN,Kam Weng TAM. Владелец: UNIVERSITY OF MACAU. Дата публикации: 2019-01-31.

Capacitor Structure With An Extended Dielectric Layer And Method Of Forming A Capacitor Structure

Номер патента: US20180226469A1. Автор: Randy Yach,Rohan BRAITHWAITE. Владелец: Microchip Technology Inc. Дата публикации: 2018-08-09.

Capacitor structure with an extended dielectric layer and method of forming a capacitor structure

Номер патента: WO2018148241A1. Автор: Rohan BRAITHWAITE,Randy L. Yach. Владелец: MICROCHIP TECHNOLOGY INCORPORATED. Дата публикации: 2018-08-16.

Memory device having multiple dielectric gate stacks with first and second dielectric layers and related methods

Номер патента: US20140291750A1. Автор: Qing Liu,Kangguo Cheng,Nicolas Loubet,Stephane Allegret-Maret,Bruce Doris,Hemanth Jagannathan,Prasanna Khare,Lisa Edge. Владелец: STMicroelectronics lnc USA. Дата публикации: 2014-10-02.

Optoelectronic device with dielectric layer and method of manufacture

Номер патента: WO2017041116A1. Автор: Gang He,Brendan M. Kayes,Thomas J. Gmitter,Melissa J. ARCHER. Владелец: Alta Devices, Inc.. Дата публикации: 2017-03-09.

Ultraviolet light emitting devices having a dielectric layer and a transparent electrode layer disposed in between patterned nitride semiconductor layers

Номер патента: US20190189841A1. Автор: Mi Hyun Kim,Young Hwan Park,Joo Sung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-06-20.

Image sensor having dielectric layer which allows first impurity region of photodiode to be isolated from contact plug and second impurity region of the photodiode to contact the contact plug

Номер патента: US8258593B2. Автор: Ki-Jun Yun. Владелец: Dongbu HitekCo Ltd. Дата публикации: 2012-09-04.

Magnetoresistive structure having two dielectric layers, and method of manufacturing same

Номер патента: US20190157550A1. Автор: Sanjeev Aggarwal,Jason Janesky,Kerry Nagel. Владелец: Everspin Technologies Inc. Дата публикации: 2019-05-23.

Power device embedded printed circuit board assemblies with thin film dielectric layers

Номер патента: US20240290687A1. Автор: FENG Zhou,Yanghe Liu,Tianzhu Fan. Владелец: Toyota Motor Engineering and Manufacturing North America Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Semiconductor component with dielectric layer stack and voltage divider

Номер патента: US09786659B2. Автор: Wolfgang Werner. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG. Дата публикации: 2017-10-10.

Thin film transistor substrate comprising a photoresist layer formed between a first dielectric layer and an amorphous silicon layer

Номер патента: US09780221B2. Автор: Qibiao LV. Владелец: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Display device comprising a dielectric layer having an opening partially exposing a semiconductor layer and a data line filling the opening

Номер патента: US09490273B2. Автор: Te-Yu Lee,Chao-Hsiang Wang,Yu-Tsung Liu,Kuan-Yu CHIU. Владелец: Innolux Corp. Дата публикации: 2016-11-08.

Manufacturing method for reducing the thickness of a dielectric layer

Номер патента: US6156603A. Автор: Ming-Tsung Tung. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-12-05.

Method of fabricating a gate dielectric layer for a thin film transistor

Номер патента: US20020090767A1. Автор: David Jones,Richard Bullock. Владелец: ESM Ltd. Дата публикации: 2002-07-11.

Layer structures including dielectric layer, methods of manufacturing dielectric layer, electronic device including dielectric layer, and electronic apparatus including electronic device

Номер патента: US20230163188A1. Автор: Jooho Lee,Yongsung Kim,Woochul LEE,Yong-hee Cho,Jiwoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-05-25.

Amorhpous seed layer for improved stability in perpendicular sttm stack

Номер патента: US20170345476A1. Автор: Brian S. Doyle,Robert S. Chau,Kaan OGUZ,Mark L. Doczy,Satyarth Suri,Charles C. Kuo. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-11-30.

Method for obtaining the equivalent oxide thickness of a dielectric layer

Номер патента: US20240230710A9. Автор: Hsueh-Liang Chou,Mao-Nan Chang,Chi-Lun Liu,Yi-Shan Wu,Chiao-Jung Lin,Yu-Hsun Hsueh. Владелец: Msscorps Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Electronic device including dielectric layer and method of manufacturing the electronic device

Номер патента: US20240170214A1. Автор: Jooho Lee,Cheheung KIM,Hojin Lee,Woochul LEE,Jiwoon Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-23.

Semiconductor device with conductive elements formed over dielectric layers and method of fabrication therefor

Номер патента: US20240250130A1. Автор: Humayun Kabir,Ibrahim Khalil,Bernhard Grote,Bruce McRae Green. Владелец: NXP BV. Дата публикации: 2024-07-25.

Semiconductor devices having gate dielectric layers of varying thicknesses and methods of forming the same

Номер патента: US12051695B2. Автор: Jhon Jhy Liaw,Shien-Yang Wu,Ta-Chun Lin,Kuo-Hua Pan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Method and apparatus for determining the thickness of a dielectric layer

Номер патента: WO2004092676A1. Автор: Prashant Majhi. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2004-10-28.

Method for manufacturing structural color filter by electrodeposition of metal/dielectric layer/metal

Номер патента: US11526049B2. Автор: Lingjie Jay Guo,Stephen Maldonado,Chengang Ji,Saurabh Acharya. Владелец: Ningbo Inlight Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-12-13.

Low-loss coplanar waveguides and method of fabrication

Номер патента: US20030127710A1. Автор: Leonard Forbes,Kie Ahn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-07-10.

Dielectric layer response-based field effect transistor photodetector

Номер патента: US20240304743A1. Автор: Hongwei HAN,Anyi MEI. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-09-12.

Image sensor with varying thickness dielectric layer

Номер патента: US20240332329A1. Автор: Kazufumi Watanabe,Chih-Wei Hsiung,Chao Niu. Владелец: Omnivision Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-03.

Cocktail layer over gate dielectric layer of FET FeRAM

Номер патента: US12127411B2. Автор: Hai-Ching Chen,Chung-Te Lin,Rainer Yen-Chieh Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-10-22.

Semiconductor structure having dielectric layer and conductive strip

Номер патента: US09947665B2. Автор: Teng-Hao Yeh,Chih-Wei Hu. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-17.

Integrated circuits, methods of forming the same, and methods of determining gate dielectric layer electrical thickness in integrated circuits

Номер патента: US09911665B2. Автор: Sung Mun Jung,Ling Wu,Yi Tat Lim,Wenhu Liu. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2018-03-06.

Systems and methods for suppressing magnetically active surface defects in superconducting circuits

Номер патента: US09437800B1. Автор: Pradeep Kumar,Robert Francis McDermott, III. Владелец: WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION. Дата публикации: 2016-09-06.

Back side illuminated image sensor pixel with dielectric layer reflecting ring

Номер патента: US09431452B1. Автор: Chih-Wei Hsiung,Chia-Ying Liu. Владелец: Omnivision Technologies Inc. Дата публикации: 2016-08-30.

Low loss high Q inductor

Номер патента: US20020020895A1. Автор: Leonard Forbes,Kie Ahn. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-02-21.

Ultra-low profile package shielding technique using magnetic and conductive layers for integrated switching voltage regulator

Номер патента: US10950555B2. Автор: Jaejin Lee,Kaladhar Radhakrishnan,Chung-Hao J. Chen,Hao-Han Hsu,Dong-Ho Han. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2021-03-16.

Integrated circuit with low-loss primary conductor strapped by lossy secondary conductor

Номер патента: US20030202331A1. Автор: Darryl Jessie,Charles Persico. Владелец: Qualcomm Inc. Дата публикации: 2003-10-30.

Reflective layers for light-emitting diodes

Номер патента: US11923481B2. Автор: Kevin Haberern,Michael Check. Владелец: Creeled Inc. Дата публикации: 2024-03-05.

Passivation layers for thin film transistors and methods of fabrication

Номер патента: US11955560B2. Автор: Bernhard Sell,Pei-Hua Wang,Chieh-Jen Ku,Abhishek A. Sharma,Travis W. LaJoie,Noriyuki Sato,Hui Jae Yoo,Van Le,Matthew Metz,Sarah ATANASOV,Arnab SEN GUPTA. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-04-09.

Integral redistribution layer for WCSP

Номер патента: US12009272B2. Автор: Rafael Jose Lizares Guevara. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-06-11.

Component carrier with low-solvent fiber-free dielectric layer

Номер патента: US12041730B2. Автор: Kim Liu,Seok Kim Tay,Mikael Tuominen. Владелец: AT&S Austria Technologie und Systemtechnik AG. Дата публикации: 2024-07-16.

Extended-drain metal-oxide-semiconductor devices with a multiple-thickness buffer dielectric layer

Номер патента: US20220085211A1. Автор: Upinder Singh,Bong Woong Mun,Jeoung Mo KOO. Владелец: GLOBALFOUNDRIES SINGAPORE PTE LTD. Дата публикации: 2022-03-17.

Component Carrier With Low-Solvent Fiber-Free Dielectric Layer

Номер патента: US20220078923A1. Автор: Kim Liu,Seok Kim Tay,Mikael Tuominen. Владелец: AT&S Austria Technologie und Systemtechnik AG. Дата публикации: 2022-03-10.

Low-loss bipolar transistor and method of manufacturing the same

Номер патента: US20040026764A1. Автор: Koji Nakano,Fumihiko Hirose,Yutaka Souda. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-02-12.

Optoelectronic semiconductor device having dielectric layers, and method for manufacturing the same

Номер патента: US12087878B2. Автор: Martin Rudolf Behringer,Laura KREINER. Владелец: OSRAM Opto Semiconductors GmbH. Дата публикации: 2024-09-10.

Semiconductor plug protected by protective dielectric layer in three-dimensional memory device and method for forming the same

Номер патента: EP4362624A3. Автор: Yong Zhang,Fushan Zhang,Enbo Wang,Haohao YANG,Ruo Fang ZHANG,Qianbing Xu. Владелец: Yangtze Memory Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-16.

Low-power biasing networks for superconducting integrated circuits

Номер патента: US09473124B1. Автор: Alexander F. Kirichenko,Dmitri Kirichenko,Oleg A. Mukhanov. Владелец: Hypres Inc. Дата публикации: 2016-10-18.

Composite membrane of special highly-enhanced fluorine-containing proton or ion exchange membrane, composite membrane electrode, special highly- enhanced fluorine-containing chlor-alkali battery membrane, special release membrane, and preparation method therefor

Номер патента: US20240186554A1. Автор: Ying Yang,Huisheng Wu. Владелец: Zhejiang Hyproof New Energy Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-06.

Low-power biasing networks for superconducting integrated circuits

Номер патента: US12021527B2. Автор: Alexander F. Kirichenko,Dmitri Kirichenko,Oleg A. Mukhanov. Владелец: SeeQC Inc. Дата публикации: 2024-06-25.

Binder for solid-state secondary battery, slurry for solid-state secondary battery, method for forming layer for solid-state secondary battery and solid-state secondary battery

Номер патента: US20230223542A1. Автор: Junpei Terada,Takaya Yamada,Takahiro Furutani,Kae Fujiwara. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Low-loss dielectric lattice-based superstrates and methods for producing the same

Номер патента: WO2024044781A1. Автор: Philip Lambert,Colby HOBART,Joshua A. MARTIN. Владелец: 3Dfortify Inc.. Дата публикации: 2024-02-29.

Gas diffusion layer for fuel cells, having improved bending properties

Номер патента: US20240014406A1. Автор: Achim Bock,Hannes BARSCH,Kristof Klein,Christoph Rakousky. Владелец: CARL FREUDENBERG KG. Дата публикации: 2024-01-11.

Low-loss transmission line structure

Номер патента: US20240222834A1. Автор: JIAN Li,Xiaojun Bi,Zixuan Wei,Ziang XU. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2024-07-04.

Low-loss dielectric for high frequency cryogenic applications

Номер патента: WO2021150101A1. Автор: Akira Endo,Sten VOLLEBREGT,Jochem Jan Anton BASELMANS,Bruno BUIJTENDORP. Владелец: Technische Universiteit Delft. Дата публикации: 2021-07-29.

Low loss and low cross talk transmission lines having l-shaped cross sections

Номер патента: US11329358B2. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Mathew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-05-10.

Low loss and low cross talk transmission lines using shaped vias

Номер патента: WO2017052765A1. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Mathew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corporation. Дата публикации: 2017-03-30.

Low loss and low cross talk transmission lines using shaped vias

Номер патента: US09992859B2. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Mathew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-06-05.

Low loss and low cross talk transmission lines with stacked dielectric layers for forming stubs of different thickness or for forming a coaxial line

Номер патента: US11791528B2. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Mathew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2023-10-17.

Cooling system for superconductive magnets

Номер патента: WO2013085181A1. Автор: Myung Su KIM,Yeon Suk CHOI,Dong Lak KIM. Владелец: KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE. Дата публикации: 2013-06-13.

Flexible support apparatus for superconducting magnet in superconducting rotating machine

Номер патента: US20180175710A1. Автор: Hyun Kyung Shin,Min Won Park,In Keun YU,Hae Jin Sung,Byeong Soo Go. Владелец: Industry Academy Cooperation Foundation of Changwon National University. Дата публикации: 2018-06-21.

Pressure generation apparatus and method for superconducting power equipment

Номер патента: US20190214813A1. Автор: Byung-Jun Park,Seong-Eun Yang,Young-Hee HAN. Владелец: Korea Electric Power Corp. Дата публикации: 2019-07-11.

Thermal management for superconducting interconnects

Номер патента: EP3745481A1. Автор: David B. Tuckerman. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2020-12-02.

Charging and field supplement circuit for superconducting magnets based on pulsed current

Номер патента: US11871683B2. Автор: Xiaofen Li,Zhiwei Zhang,Zhijian JIN,Yanbo BI. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2024-01-09.

Thermal management for superconducting interconnects

Номер патента: WO2018191041A1. Автор: David B. Tuckerman. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2018-10-18.

Thermal management for superconducting interconnects

Номер патента: EP3610519A1. Автор: David B. Tuckerman. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2020-02-19.

Charging and field supplement circuit for superconducting magnets based on pulsed current

Номер патента: US20230292634A1. Автор: Xiaofen Li,Zhiwei Zhang,Zhijian JIN,Yanbo BI. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2023-09-14.

Passive waveguide structure with alternating GaInAs/AlInAs layers for mid-infrared optoelectronic devices

Номер патента: US09601901B2. Автор: Feng Xie,Chung-En Zah,Catherine Genevieve Caneau. Владелец: Thorlabs Quantum Electronics Inc. Дата публикации: 2017-03-21.

Pulse charging and magnetization circuit for superconducting magnet

Номер патента: EP4191818A1. Автор: Xiaofen Li,Zhiwei Zhang,Zhijian JIN,Yanbo BI. Владелец: Shanghai Jiaotong University. Дата публикации: 2023-06-07.

Low loss and low cross talk transmission lines using shaped vias

Номер патента: US20180288868A1. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Matthew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-10-04.

Low loss and low cross talk transmission lines using shaped vias

Номер патента: US20200235449A1. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Mathew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2020-07-23.

Low loss and low cross talk transmission lines using shaped vias

Номер патента: US20220231394A1. Автор: Feras Eid,Henning Braunisch,Aleksandar Aleksov,Javier Soto,Zhichao Zhang,Adel A. Elsherbini,Yidnekachew S. MEKONNEN,Krishna Bharath,Mathew MANUSHAROW. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2022-07-21.

External electrode comprising a sintered layer, a resin layer and a plating layer for a multilayered ceramic capacitor

Номер патента: EP4418292A2. Автор: Chaedong LEE,Seung Ah Kim,Gyuho YEON,Byungjun Jeon. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-21.

Phase separator jig for superconductive cables and phase separator structure for superconductive cables

Номер патента: EP1411609B1. Автор: Masayuki c/o SUMITOMO ELEC. IND. LTD. HIROSE,Hiroyasu c/o SUMITOMO ELEC. IND. LTD. YUMURA,Takeshi c/o SUMITOMO ELEC. IND. LTD. KATO,Yoshihisa TOKYO ELEC. POWER CO. INC. TAKAHASHI,Kimiyoshi TOKYO ELEC. POWER CO. INC. MATSUO,Shoichi TOKYO ELEC. POWER CO. INC. HONJO,Tomoo TOKYO ELEC. POWER CO. INC. MIMURA. Владелец: Tokyo Electric Power Co Inc. Дата публикации: 2012-03-28.

High-density cryogenic wiring for superconducting qubit control

Номер патента: US11823811B2. Автор: Steven J. Weber,Kyle J. Thompson,John A. Rokosz,John D. Cummings. Владелец: Massachusetts Institute of Technology. Дата публикации: 2023-11-21.

Reading device for superconducting qubit

Номер патента: US20240332779A1. Автор: CAN Wang,Fengming Liu,Chaoyang LU,Mingcheng Chen,Jianwei PAN. Владелец: University of Science and Technology of China USTC. Дата публикации: 2024-10-03.

Low dielectric, low loss radomes, materials and methods for making low dielectric, low loss radomes

Номер патента: US20240250416A1. Автор: Douglas S. McBain,Nathan Alan GREENE. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2024-07-25.

Printed circuit board having a signal conductor disposed adjacent one or more trenches filled with a low-loss ambient medium

Номер патента: US09935353B2. Автор: Shaowu HUANG,Kai Xiao,Gong Ouyang. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2018-04-03.

Excitation lead for superconducting devices particularly magnets

Номер патента: CA1228396A. Автор: Pedro A. Rios. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1987-10-20.

Passive waveguide structure with alternating gainas/alinas layers for mid-infrared optoelectronic devices

Номер патента: US20160197454A1. Автор: Feng Xie,Chung-En Zah,Catherine Genevieve Caneau. Владелец: Thorlabs Quantum Electronics Inc. Дата публикации: 2016-07-07.

Passive waveguide structure with alternating gainas/alinas layers for mid-infrared optoelectronic devices

Номер патента: US20150249319A1. Автор: Feng Xie,Chung-En Zah,Catherine Genevieve Caneau. Владелец: Thorlabs Quantum Electronics Inc. Дата публикации: 2015-09-03.

Sheet out of electric steel with oriented grain structure possessing low losses in core and procedure for fabricating this sheet

Номер патента: RU2358346C1. Автор: Сатоси АРАИ,Хидеюки КОБАЯСИ,Хидеюки ХАМАМУРА,Тацухико САКАИ,Каору САТО. Владелец: Ниппон Стил Корпорейшн. Дата публикации: 2009-06-10.

Low dielectric, low loss radomes

Номер патента: EP3949014A1. Автор: Douglas S. McBain,Richard N. Johnson,Hoang Dinh Do. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2022-02-09.

Low-loss infrared filter for microwave measurement which integrates a distributed bragg reflector into a microwave transmission line

Номер патента: US09983336B2. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-05-29.

Low-loss infrared filter for microwave measurement which integrates a distributed bragg reflector into a microwave transmission line

Номер патента: US09857509B2. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2018-01-02.

Solid electrolyte capacitor including multiple silane coupling layers provided on a dielectric layer and method for manufacturing the same

Номер патента: US09653215B2. Автор: Keiko KOSUGE. Владелец: Panasonic Intellectual Property Management Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Systems, circuits and methods related to low-loss bypass of a radio-frequency filter or diplexer

Номер патента: US09548522B2. Автор: David Scott Whitefield,Nuttapong Srirattana,David Ryan Story,Darryl Earl EVANS. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2017-01-17.

Nonlinear fiber amplifiers used for a 1430-1530nm low-loss window in optical fibers

Номер патента: US6101024A. Автор: Mohammed Nazrul Islam,Hayden Henry Harris. Владелец: Xtera Communications Inc. Дата публикации: 2000-08-08.

Method of producing low loss pressed magnetic cores from microlaminations

Номер патента: CA1123716A. Автор: Kurt A. Grunert,Robert F. Krause,Norman M. Pavlik. Владелец: Westinghouse Electric Corp. Дата публикации: 1982-05-18.

Shim lead power coupling assembly for superconducting magnet

Номер патента: US5369387A. Автор: Daniel C. Woods,William S. Stogner. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1994-11-29.

Method and apparatus for low loss high radio frequency transmission

Номер патента: US20020186090A1. Автор: Noel Lopez. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-12-12.

Low-loss coplanar waveguide bonding structure and manufacturing method thereof

Номер патента: US20240045160A1. Автор: Chen Xiao,Rui Xu,Boyu Zhang,Weisheng Zhao,Wenlong Cai,Xiangyu ZHENG,Jiaqi WEI. Владелец: BEIHANG UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-02-08.

Display structure including dielectric layer and electronic device including same

Номер патента: US20230291092A1. Автор: Jungchul An,Seongjun Kim,Hoyeon Kim,Youngjae Kwon,Kwanghee RYU. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-09-14.

High-frequency module including a laminated filter having alternating conductive and dielectric layers and a through hole extending through the filter for coupling to a transmission line

Номер патента: US12100880B2. Автор: Takashi Okawa. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Amorphous seed layer for improved stability in perpendicular sttm stack

Номер патента: EP3198601A1. Автор: Brian S. Doyle,Robert S. Chau,Kaan OGUZ,Mark L. Doczy,Satyarth Suri,Charles C. Kuo. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2017-08-02.

Superconducting resonator definition based on one or more attributes of a superconducting circuit

Номер патента: US20210006234A1. Автор: Salvatore Bernardo Olivadese. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-01-07.

Multilayer ceramic electronic device with dielectric layers and internal electrode layers

Номер патента: US20200035414A1. Автор: Toshihiko Kaneko,Shogo Murosawa. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2020-01-30.

Superconducting resonator definition based on one or more attributes of a superconducting circuit

Номер патента: US20200336134A1. Автор: Salvatore Bernardo Olivadese. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Superconducting resonator definition based on one or more attributes of a superconducting circuit

Номер патента: WO2020216544A1. Автор: Salvatore Bernardo Olivadese. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2020-10-29.

Dielectric layer comprising organic material, method of forming the dielectric layer, and plasma display panel comprising the dielectric layer

Номер патента: US20080169999A1. Автор: Jin-Woo Lee,Woo-Suk Choi,Eun-Hee Kim. Владелец: Samsung Techwin Co Ltd. Дата публикации: 2008-07-17.

Antenna including at least one microstrip line phase shifting unit having a photo-dielectric layer and a light guiding structure configured to guide light into the photo-dielectric layer

Номер патента: US12119559B2. Автор: ZHENYU Jia,Jing Wang,Feng Qin,Zhen Liu,Liping Zhang,Baiquan LIN,Kerui XI,Dengming LEI. Владелец: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-15.

High-k transformers extending into multiple dielectric layers

Номер патента: US09424970B2. Автор: Jun-De JIN,Tzu-Jin Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2016-08-23.

High frequency low loss electrode

Номер патента: CA2424325C. Автор: Shin Abe,Seiji Hidaka,Michiaki Ota. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2008-03-18.

Low loss high-q filter

Номер патента: US3845423A. Автор: H Scheiner. Владелец: Deutsche ITT Industries GmbH. Дата публикации: 1974-10-29.

Low-loss, asymmetrical combiner for phase differential systems and adaptive rf amplifier comprising an asymmetrical combiner

Номер патента: EP1829154A2. Автор: Olaf Bosma. Владелец: O Bosma Beheersmaatschappij Bv Hodn Master. Дата публикации: 2007-09-05.

Low loss 360 degree x-band analog phase shifter

Номер патента: US5119050A. Автор: Bernard D. Geller,John I. Upshur. Владелец: Comsat Corp. Дата публикации: 1992-06-02.

Low Dielectric, Low Loss Radomes And Materials For Low Dielectric, Low Loss Radomes

Номер патента: US20230327332A1. Автор: Douglas S. McBain,Hoang Dinh Do,Nathan Alan GREENE. Владелец: Laird Technologies Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Low-Loss And Flexible Transmission Line-Integrated Antenna For MMWave Band

Номер патента: US20200127378A1. Автор: Byoung Nam Kim,Sang Woo Han,Hong Il Yoo. Владелец: Sensorview Inc. Дата публикации: 2020-04-23.

Low-loss infrared filter for microwave measurement which integrates a distributed bragg reflector into a microwave transmission line

Номер патента: US20170093015A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-30.

Low loss tuners

Номер патента: WO2003055000A1. Автор: Stephen K. Remillard. Владелец: Isco International, Inc.. Дата публикации: 2003-07-03.

Low-loss infrared filter for microwave measurement which integrates a distributed bragg reflector into a microwave transmission line

Номер патента: US20170090080A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2017-03-30.

Coaxial cable with outer conductor adhered to dielectric layer and/or jacket

Номер патента: WO2017040474A1. Автор: Alan N. Moe. Владелец: CommScope Technologies LLC. Дата публикации: 2017-03-09.

Ceramic electronic component including dielectric layers having different dielectric compositions

Номер патента: US12051544B2. Автор: Jin Woo Kim,Tae Hyung Kim,Seok Hyun Yoon,Jeong Wook Seo,Hee Sun CHUN,Hyo Ju Lee,Hyeg Soon AN,Hui Sun PARK. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-30.

Antibacklash screw-thread adjustable rotor for low-loss capacitor

Номер патента: US3624469A. Автор: John E Johanson. Владелец: Johanson Manufacturing Corp. Дата публикации: 1971-11-30.

Low loss quarter wave radio frequency relay switch apparatus and method

Номер патента: US20130135059A1. Автор: Mark W. Duron. Владелец: Symbol Technologies LLC. Дата публикации: 2013-05-30.

Coaxial cable with outer conductor adhered to dielectric layer and/or jacket

Номер патента: EP3345195A1. Автор: Alan N. Moe. Владелец: CommScope Technologies LLC. Дата публикации: 2018-07-11.

Ceramic electronic component including dielectric layers having different dielectric compositions

Номер патента: US20240347273A1. Автор: Jin Woo Kim,Tae Hyung Kim,Seok Hyun Yoon,Jeong Wook Seo,Hee Sun CHUN,Hyo Ju Lee,Hyeg Soon AN,Hui Sun PARK. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-17.

Low-loss high-repetition-rate pulsed laser modulator

Номер патента: US09720176B2. Автор: WEI Shi,Zhenhua Yu,Xinzheng Dong. Владелец: Tianjin Optera Laser Technology Co ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Fluorine-containing polymer for metal-clad laminated sheet, composition for metal-clad laminated sheet, curable composition, metal-clad laminated sheet and printed substrate

Номер патента: US20220153890A1. Автор: Takuji Ishikawa,Hidenori Ozaki,Katsuhiko Imoto. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2022-05-19.

Low-loss insulating resin composition and insulating film using the same

Номер патента: US20190345326A1. Автор: Ki-Seok Kim,Ji-Hye Shim,Ji-Eun WOO,Hyung-Mi Jung. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-14.

Composition containing fluorine-containing aromatic polymer and laminated body containing fluorine-containing aromatic polymer

Номер патента: US8487050B2. Автор: Kazushi Omote,Ai Nishichi,Shimpei Sato. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO LTD. Дата публикации: 2013-07-16.

Composition containing fluorine-containing aromatic polymer and laminated body containing fluorine-containing aromatic polymer

Номер патента: US20090169905A1. Автор: Kazushi Omote,Ai Nishichi,Shimpei Sato. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO LTD. Дата публикации: 2009-07-02.

Application of a fluorine-containing polymer in preparation of transparent frozen soil

Номер патента: US09784651B2. Автор: Gangqiang Kong. Владелец: Hohai University HHU. Дата публикации: 2017-10-10.

Poly(p-xylylene)-based polymer having low dielectric constant and low-loss property and insulating material, printed circuit board and functional element using the same

Номер патента: US8829155B2. Автор: Andreas Greiner,Moon-Soo Park,Do-Yeung Yoon,Jun-Rok Oh,Jae-Choon Cho,Keun-Yong Lee. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2014-09-09.

Ultra low loss dielectric thermosetting resin composition and high performance laminates manufactured therefrom

Номер патента: US09596753B2. Автор: Sajal Das,Patrick Shipman. Владелец: NOVOSET LLC. Дата публикации: 2017-03-14.

Ultra low loss dielectric thermosetting resin compositions and high performance laminates manufactured therefrom

Номер патента: US09332637B2. Автор: Sajal Das,Patrick Shipman. Владелец: NOVOSET LLC. Дата публикации: 2016-05-03.

Fluorine-containing cation exchange membrane for electrolysis having a protruding porous base reinforcing material on one side thereof

Номер патента: US5264100A. Автор: Yoshiaki Higuchi,Tetsuji Shimohira,Yoshihiko Saitoh. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1993-11-23.

Fluorine-containing curable resin composition and use thereof

Номер патента: US5308888A. Автор: Tadashi Narita,Tokio Hagiwara,Hiroshi Hamana,Akio Takahashi,Akira Nagai,Junichi Katagiri,Shin Nishimura,Akio Mukoo. Владелец: HITACHI LTD. Дата публикации: 1994-05-03.

Fluorine-containing epoxy resin for electrical materials and method for manufacturing same

Номер патента: US11965060B2. Автор: Yoshito Tanaka,Tomohiro Yoshida. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-04-23.

Poly(p-xylylene)-based polymer having low dielectric constant and low-loss property and insulating material, printed circuit board and functional element using the same

Номер патента: US20100048858A1. Автор: Andreas Greiner,Moon-Soo Park,Do-Yeung Yoon,Jun-Rok Oh,Jae-Choon Cho,Keun-Yong Lee. Владелец: Samsung Electro Mechanics Co Ltd. Дата публикации: 2010-02-25.

Fluorine-containing polyamide compound and fluorine-containing polybenzoxazole

Номер патента: US20240209153A1. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Yoshiyuki Oishi. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2024-06-27.

Fluorine-containing polyamide compound and fluorine-containing polybenzoxazole

Номер патента: EP4389800A1. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Yoshiyuki Oishi. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2024-06-26.

Fluorine-containing polycyclic aromatic compound, fluorine-containing polymer, organic thin film and organic thin film device

Номер патента: EP2133321A1. Автор: Yutaka Ie,Yoshio Aso,Masato Ueda,Masashi Nitani. Владелец: Sumitomo Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2009-12-16.

Silane compound including fluorine-containing (poly)ether group, composition including the same, film formed from the composition, display device comprising the film, and article comprising the composition

Номер патента: US20210261738A1. Автор: FEDOSYA Kalinina,DMITRY Androsov,Inki Kim,Hana Kim,Jungha Chae,Byungha PARK,Kyeongsik Ju,Woncheol JUNG,Hyeyoung KONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-08-26.

Fluorine-containing polyether compound

Номер патента: US20240092971A1. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Yoshiyuki Oishi. Владелец: National Universitycorporation Iwate University. Дата публикации: 2024-03-21.

Fluorine-containing resin composition and article made therefrom

Номер патента: US11945941B2. Автор: Chen-Yu Hsieh. Владелец: Elite Material Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-02.

Fluorine-containing polyether compound

Номер патента: EP4339226A1. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Yoshiyuki Oishi. Владелец: Iwate University NUC. Дата публикации: 2024-03-20.

Aluminum oxide and aluminum oxynitride layers for use with phosphors for electroluminescent displays

Номер патента: EP1776437A4. Автор: Isao Yoshida,Hiroki Hamada,Joe Acchione,Yongbao Xin. Владелец: iFire IP Corp. Дата публикации: 2008-10-15.

Aluminum oxide and aluminum oxynitride layers for use with phosphors for electroluminescent displays

Номер патента: EP1776437A1. Автор: Isao Yoshida,Hiroki Hamada,Joe Acchione,Yongbao Xin. Владелец: iFire Technology Corp. Дата публикации: 2007-04-25.

Increasing grain size of polycrystalline superconducting materials for superconducting circuits

Номер патента: US20220036228A1. Автор: SWEET Jean L.,Markus BRINK,Christian Lavoie,Benjamin Wymore. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-02-03.

Increasing grain size of polycrystalline superconducting materials for superconducting circuits

Номер патента: US12099899B2. Автор: SWEET Jean L.,Markus BRINK,Christian Lavoie,Benjamin Wymore. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Fabrication method for superconducting circuit and superconducting quantum chip

Номер патента: US20240357945A1. Автор: Jie Zheng,Liangliang Ma,Bing YOU,Nianci WANG,Wenshu LIU. Владелец: Origin Quantum Computing Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-24.

Memory device containing dual etch stop layers for selector elements and method of making the same

Номер патента: EP4055636A1. Автор: Jeffrey Lille,Kanaiyalal Patel. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2022-09-14.

Torque transmission assembly for superconducting rotating machines

Номер патента: RU2418352C2. Автор: Питер М. УИНН. Владелец: Американ Суперкондактор Корпорейшн. Дата публикации: 2011-05-10.

Photosensitive resin composition, cured product, fluorine-containing resin cured film, and display

Номер патента: US20240134276A1. Автор: Keita Hattori,Yuzuru Kaneko,Yuki Furuya,Yuta Sakaida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Space-saving coupler arm arrangement for superconducting qubits

Номер патента: WO2023110876A1. Автор: Xuan Wei,SRIKANTH Srinivasan,David McKay,George Andrew Keefe,Abhinav Kandala. Владелец: IBM Deutschland GmbH. Дата публикации: 2023-06-22.

Space-saving coupler arm arrangement for superconducting qubits

Номер патента: US12118433B2. Автор: Xuan Wei,SRIKANTH Srinivasan,George Andrew Keefe,David C. Mckay,Abhinav Kandala. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-10-15.

Memory device containing dual etch stop layers for selector elements and method of making the same

Номер патента: WO2021262241A1. Автор: Jeffrey Lille,Kanaiyalal Patel. Владелец: SanDisk Technologies LLC. Дата публикации: 2021-12-30.

Multistage ferrofluid sealing apparatus for superconducting rotating machines

Номер патента: US20140333154A1. Автор: Hyun-Jang Shin,Keun-Woong Kim,Byung-San Baek. Владелец: Hyundai Heavy Industries Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-13.

Hotspot monitoring system for superconducting device

Номер патента: WO2021038505A1. Автор: Zhisheng Yang,Arooj AKBAR. Владелец: ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL). Дата публикации: 2021-03-04.

Hotspot monitoring system for superconducting device

Номер патента: EP4022689A1. Автор: Zhisheng Yang,Arooj AKBAR. Владелец: Ecole Polytechnique Federale de Lausanne EPFL. Дата публикации: 2022-07-06.

Beam energy dispersion adjusting mechanism for superconducting proton cyclotron

Номер патента: US10390418B2. Автор: FENG Jiang,Ming Li,Yuntao Song,Yonghua Chen,Jinxing Zheng,Junsong Shen,Manfen Han,WuQuan Zhang,Bo Zhi,Xianhu Zeng. Владелец: Hefei Cas Ion Medical and Technical Devices Co Ltd. Дата публикации: 2019-08-20.

Acoustic wave device with dielectric layer for transverse leakage suppression

Номер патента: US20230032325A1. Автор: Rei GOTO,Hironori Fukuhara. Владелец: Skyworks Solutions Inc. Дата публикации: 2023-02-02.

Method of production of active layer for general-purpose memory on basis of resistive effect

Номер патента: RU2611580C1. Автор: Владимир Алексеевич Гриценко,Владимир Шакирович Алиев,Дамир Ревинирович Исламов,Виталий Александрович Воронковский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН). Дата публикации: 2017-02-28.

Quantum key distribution systems having low loss dispersion limiting fibers

Номер патента: US20210399810A1. Автор: Ming-Jun Li,Daniel Aloysius Nolan. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2021-12-23.

Low loss snubber circuit

Номер патента: EP4260449A1. Автор: Yongtao XIE,Pengfei Cai,Mengdie Hu. Владелец: Astec International Ltd. Дата публикации: 2023-10-18.

Device to control overhead transmission line and to distribute electric energy with selective switching of communication circuit of directional antennas with low losses

Номер патента: RU2545343C1. Автор: Кван Хэе НАМ,Ул Лок БЭ. Владелец: Кхватек Ко., Лтд.. Дата публикации: 2015-03-27.

Efficient high-speed electric device using low-loss materials

Номер патента: EP2027638A2. Автор: Andrew D. Hirzel. Владелец: Light Engineering Inc. Дата публикации: 2009-02-25.

Efficient high-speed electric device using low-loss materials

Номер патента: WO2007139937A2. Автор: Andrew D. Hirzel. Владелец: Light Engineering, Inc.. Дата публикации: 2007-12-06.

Electric power supply system with low losses

Номер патента: RU2355100C2. Автор: Свейн Магне ДЬЮВЕ,Эгиль ХЮСТАД. Владелец: Вяртсиля Норвей АС. Дата публикации: 2009-05-10.

Disk drive including a substantially monolithic stator assembly fabricated from low loss magnetic material

Номер патента: US5822150A. Автор: Gary F. Kelsic. Владелец: Integral Peripherals Inc. Дата публикации: 1998-10-13.

Low-loss arithmetic circuit and operating method of the same

Номер патента: US11816449B2. Автор: Zhenlong Xu. Владелец: Neonexus Pte Ltd. Дата публикации: 2023-11-14.

Low-loss arithmetic circuit and operating method of the same

Номер патента: US20220334803A1. Автор: Zhenlong Xu. Владелец: Neonexus Pte Ltd. Дата публикации: 2022-10-20.

Low loss snubber circuit

Номер патента: US20240055980A1. Автор: Yongtao XIE,Pengfei Cai,Mengdie Hu. Владелец: Astec International Ltd. Дата публикации: 2024-02-15.

Low delay and low loss packet switch

Номер патента: US7009975B2. Автор: Frederik Carel Schoute. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS NV. Дата публикации: 2006-03-07.

Beam energy dispersion adjusting mechanism for superconducting proton cyclotron

Номер патента: US20190029100A1. Автор: FENG Jiang,Ming Li,Yuntao Song,Yonghua Chen,Jinxing Zheng,Junsong Shen,Manfen Han,WuQuan Zhang,Bo Zhi,Xianhu Zeng. Владелец: Hehei Cas Ion Medical And Technical Devices Co Ltd. Дата публикации: 2019-01-24.

Molecular memory devices including solid-state dielectric layers and related methods

Номер патента: WO2007065159A3. Автор: ZHONG Chen,Guru Mathur,Veena Misra,Ritu Shrivastava. Владелец: Ritu Shrivastava. Дата публикации: 2008-06-19.

Molecular memory devices including solid-state dielectric layers and related methods

Номер патента: WO2007065159A2. Автор: ZHONG Chen,Guru Mathur,Veena Misra,Ritu Shrivastava. Владелец: ZettaCore, Inc.. Дата публикации: 2007-06-07.

Semiconductor structure with high inter-layer dielectric layer and manufacturing method thereof

Номер патента: US12069859B2. Автор: Xing Jin. Владелец: Changxin Memory Technologies Inc. Дата публикации: 2024-08-20.

Method of manufacturing end-group components with pure niobium material for superconducting accelerator cavity

Номер патента: CA2863020C. Автор: Akira Yamamoto,Masayuki Shinohara,Masashi Yamanaka,Hideyoshi Nakamura,Nobuyuki Kawabata,Kiyohiko Nohara,Shigeki Kato,Takayuki Saeki,Hitoshi Hayano. Владелец: SHINOHARA PRESS SERVICE CO Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Superconducting circuit with proximity effect

Номер патента: RU2753673C1. Автор: Варнава Денисович Есин,Николай Николаевич Колесников,Эдуард Валентинович Девятов,Анна Владимировна Тимонина,Юрий Семенович Бараш. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики твердого тела Российской академии наук (ИФТТ РАН). Дата публикации: 2021-08-19.

Systems for probing superconducting circuits comprising a non-magnetic cryogenic heater, non-magnetic cryogenic heater

Номер патента: WO2021006956A1. Автор: Miriam E. Marizan,Edward M. Kurek. Владелец: Microsoft Technology Licensing, LLC. Дата публикации: 2021-01-14.

Systems for probing superconducting circuits including the use of a non-magnetic cryogenic heater

Номер патента: US20210011082A1. Автор: Miriam E. Marizan,Edward M. Kurek. Владелец: Microsoft Technology Licensing LLC. Дата публикации: 2021-01-14.

Transversely-excited film bulk acoustic resonator with a back-side dielectric layer and an etch-stop layer

Номер патента: US12081198B2. Автор: Patrick Turner. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-03.

Method for preparing a stack of dielectric layers on a substrate

Номер патента: EP4203084A1. Автор: Qiaoshuang ZHANG,Prof. Ulrich LEMMER,Qihao Jin. Владелец: Baden Wuerttemberg Stiftung gGmbH. Дата публикации: 2023-06-28.

Stator coil arrangement for an axial airgap electric device including low-loss materials

Номер патента: CA2544396A1. Автор: Andrew D. Hirzel. Владелец: Light Engineering, Inc.. Дата публикации: 2005-05-12.

Low-loss magnetic core for high frequency claw-pole-type alternator

Номер патента: CA2310081A1. Автор: Christopher N. Tupper. Владелец: Individual. Дата публикации: 1999-07-08.

Efficient high-speed electric device using low-loss materials

Номер патента: US20060208606A1. Автор: Andrew Hirzel. Владелец: Light Engineering Inc. Дата публикации: 2006-09-21.

Low-loss, efficient hub ring networks and methods for their use

Номер патента: US20040165891A1. Автор: Reuven Duer,Gil Levi,Ben-Zion Kopelovitz. Владелец: Lynx Photonics Networks Inc. Дата публикации: 2004-08-26.

Manufacturing method of a multi-layer for a probe card

Номер патента: US12019111B2. Автор: Roberto Crippa,Raffaele VALLAURI,Flavio Maggioni. Владелец: Technoprobe SpA. Дата публикации: 2024-06-25.

A low-loss motor and a drive circuit thereof

Номер патента: US20240235442A1. Автор: Zhi Xiong Huang,Ying Biao ZHANG,Zhen Wen LIN. Владелец: Intex Marketing Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

A low-loss motor and a drive circuit thereof

Номер патента: WO2022238931A3. Автор: Zhi Xiong Huang,Ying Biao ZHANG,Zhen Wen LIN. Владелец: Intex Industries Xiamen Co. Ltd.. Дата публикации: 2023-02-09.

A low-loss motor and a drive circuit thereof

Номер патента: WO2022238931A2. Автор: Zhi Xiong Huang,Ying Biao ZHANG,Zhen Wen LIN. Владелец: Intex Industries Xiamen Co. Ltd.. Дата публикации: 2022-11-17.

Implementing low-loss variable optical delay lines

Номер патента: US11817906B1. Автор: Mir Ashkan SEYEDI,Liron Gantz. Владелец: MELLANOX TECHNOLOGIES LTD. Дата публикации: 2023-11-14.

Stator used in an electrical motor or generator with low loss magnetic material and method of manufacturing a stator

Номер патента: US09762095B2. Автор: Andrew D. Hirzel,Mark W. Mcpherson. Владелец: RADAM MOTORS LLC. Дата публикации: 2017-09-12.

Low loss current sensor and power converter using the same

Номер патента: US09759750B2. Автор: Alex C. H. MeVay. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-09-12.

Transceiver front end with low loss T/R switch

Номер патента: US09729192B2. Автор: Matteo Conta,Seema Butala Anand. Владелец: Avago Technologies General IP Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Low-loss electrical balance duplexer with noise cancellation

Номер патента: US09712258B2. Автор: Mohyee Mikhemar,Hooman Darabi. Владелец: Avago Technologies General IP Singapore Pte Ltd. Дата публикации: 2017-07-18.

Chamber cleaning methods using fluorine containing cleaning compounds

Номер патента: WO2011047302A2. Автор: Carrie L. Wyse,Jr. Robert Torres. Владелец: MATHESON TRI-GAS. Дата публикации: 2011-04-21.

Vapor deposition method for depositing a film of fluorine-containing glass on a substrate

Номер патента: US5454847A. Автор: Olivier Perrot,Charles Jacoboni,Brigitte Boulard. Владелец: Alcatel Alsthom Compagnie Generale dElectricite. Дата публикации: 1995-10-03.

Method for preparing low-loss hydrogenated amorphous silicon that is transparent in visible light, method for preparing low-loss hydrogenated amorphous silicon nitride that is transparent in visible light, and method for preparing low-loss hydrogenated amorphous silicon oxide that is transparent in visible light

Номер патента: US20240084444A1. Автор: Jun Suk RHO,Young Hwan YANG,Gwan Ho YOON. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2024-03-14.

Method for producing composition containing low molecular weight polytetrafluoroethylene

Номер патента: US20210040277A1. Автор: Masayuki Tsuji,Takayuki Nakamura,Yuuji Tanaka. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2021-02-11.

Method of regeneration of the fluorine-containing emulsifier

Номер патента: RU2315718C2. Автор: Хироси ФУНАКИ,Хироки КАМИЯ,Коити ЯНАСЕ,Масао УЕХАРА,Кенитиро НАГАТОМО,Ясуси НИСИМУРА,Сиро ОХНО,Сатору ХИРАНО. Владелец: Сасакура Инджиниринг Ко., Лтд.. Дата публикации: 2008-01-27.

Method for producing fluorine-containing polymer and composition thereof

Номер патента: EP4414432A2. Автор: Yoshito Tanaka,Makoto Matsuura,Yuuki Suzuki,Michiaki Okada,Yosuke Kishikawa,Atsushi Shirai,Akitoshi Ogata,Shiomi Ashida. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-14.

Methods for producing fluorine-containing hydroxyaldehyde, fluorine-containing propanediol, and fluorine-containing alcohol monomer

Номер патента: US09604891B2. Автор: Ryo Nadano,Hitoshi Oomuro,Masafumi Hirotsu. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-28.

Method for producing fluorine-containing rubber molded article

Номер патента: US09416234B2. Автор: Kazuyoshi Kawasaki,Tomihiko Yanagiguchi,Kohei Takemura. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-08-16.

Method of producing fluorine-containing ethers

Номер патента: RU2463286C1. Автор: Митиру КАГАВА,Аой НАКАДЗОНО,Акиеси ЯМАУТИ,Мейтен КОХ. Владелец: Дайкин Индастриз, Лтд.. Дата публикации: 2012-10-10.

Method of producing aqueous dispersion of fluorine-containing polymer, having low content of fluorine-containing emulsifying agent

Номер патента: RU2439083C2. Автор: Дзун ХОСИКАВА,Синиа ХИГУТИ,Ясухико МАЦУОКА,Хироки КАМИЯ,Хироки НАГАЙ,Дзун ХОСИКАВА (JP),Хироки КАМИЯ (JP),Ясухико МАЦУОКА (JP),Хироки НАГАЙ (JP),Синиа ХИГУТИ (JP). Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2012-01-10.

Production of the fluorine-containing compounds

Номер патента: RU2285686C2. Автор: БРАУН Макс,БРОШ Карстен. Владелец: Зольвай Флуор ГмбХ. Дата публикации: 2006-10-20.

Nanoscale fluorine-containing molecular silicasols and a method for their production

Номер патента: RU2661894C2. Автор: Азиз Мансурович Музафаров,Ольга Анатольевна Серенко,Иван Борисович Мешков,Михаил Александрович Солдатов,Наталья Александровна Шереметьева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова Российской академии наук (ИСПМ РАН). Дата публикации: 2018-07-23.

Method and apparatus for producing fluorine-containing organic compound

Номер патента: US20200346998A1. Автор: Hiroshi Kobayashi,Nozomi Kusumoto,Yohsuke FUKUCHI,Shinichi Yorozuya. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2020-11-05.

Method and apparatus for producing fluorine-containing organic compound

Номер патента: EP3725759A1. Автор: Hiroshi Kobayashi,Nozomi Kusumoto,Yohsuke FUKUCHI,Shinichi Yorozuya. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2020-10-21.

Method for producing c2-c20 fluorine-containing organic acid, and composition comprising c2-c20 fluorine-containing organic acid

Номер патента: US20190330135A1. Автор: Mihoko Ohashi,Shuuji ITATANI. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2019-10-31.

Fluorine-containing resin particle dispersion, method for preparing fluorine-containing resin particle dispersion, coating liquid which contains fluorine-containing resin particles, method for preparing coating film which contains fluorine-containing resin particles, coating film which contains fluorine-containing resin particles, molded body, electrophotographic photoreceptor, method for preparing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge

Номер патента: US09829813B2. Автор: Katsumi Nukada,Wataru Yamada,Takatsugu Doi,Yuko Iwadate. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Peroxide fluoropolyesters and use thereof in emulsion polymerisation of fluorine-containing monomers

Номер патента: RU2458940C2. Автор: Бо ЧЭНЬ,Цзяньсинь ЧЖАН,Мин ЧЖАН,Сюэдуань СЕ,Цзюнь ЦЮЙ,Ронг БАЙ,Сюйцан ЯН,Цзиньган ЧЖАН,Сяньцюань ХУ,Юй ЧЭН. Владелец: Чжунхао Чэньгуан Рисерч Инститьют Оф Кемикал Индастри. Дата публикации: 2012-08-20.

Method of producing fluorine-containing ether of high purity

Номер патента: RU2486170C1. Автор: Митиру КАГАВА,Аой НАКАДЗОНО,Ясухиде СЕНБА,Хитоси МОТОЯМА,Тору ЙОСИДЗАВА,Меитен КОХ. Владелец: Дайкин Индастриз, Лтд.. Дата публикации: 2013-06-27.

Fluorine-containing organosulphur compound and pesticide composition containing said compound

Номер патента: RU2470920C2. Автор: Кодзи КУМАМОТО,Хироюки МИЯЗАКИ. Владелец: Сумитомо Кемикал Компани, Лимитед. Дата публикации: 2012-12-27.

Method of producing powdered materials from fluorine-containing polymers

Номер патента: RU2434895C2. Автор: Майкл КОУТС,Роберт Ян УИТЛОУ,Терри АНДЕРСОН. Владелец: Уитфорд Плэстикс Лимитед. Дата публикации: 2011-11-27.

Fluorine-Containing Compound Having Hydrolyzable Metal Alkoxide Moiety, Curable Fluorine-Containing Polymer Prepared From The Same Compound, And Curable Fluorine-Containing Resin Composition Comprising The Same Polymer

Номер патента: US20080108767A1. Автор: Tsuyoshi Itagaki,Yasuo Itami,Kazuyuki Sato. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2008-05-08.

Fluorine-containing alternating copolymer macromonomer and synthesis method thereof

Номер патента: US20210403612A1. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jinying Wang,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-12-30.

Fluorine-containing alternating copolymer macromonomer and synthesis method thereof

Номер патента: AU2019427988A1. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jinying Wang,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-12-24.

Process for preparing fluorine-containing polymer and method of forming fine pattern using same

Номер патента: US20050049374A1. Автор: Takuji Ishikawa,Takayuki Araki,Tetsuhiro Kodani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2005-03-03.

Production method for fluorine-containing polyurethane

Номер патента: EP4428171A1. Автор: Takashi Okazoe,Hideaki Tanaka,Hiroshi Wada,Akihiko Tsuda,Yoshitaka Sunayama,Toshifumi KAKIUCHI. Владелец: Kobe University NUC. Дата публикации: 2024-09-11.

Process for producing fluorine-containing olefin

Номер патента: US09856191B2. Автор: Daisuke Karube,Shun OHKUBO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2018-01-02.

Protective coating based on fluorine-containing phthalonitrile oligomers for polymer composite materials

Номер патента: RU2767683C2. Автор: Алексей Валерьевич Кепман,Борис Анатольевич Булгаков,Александр Владимирович БАБКИН,Владимир Евгеньевич ТЕРЕХОВ. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Московский государственный университет имени М.В.Ломоносова» (МГУ). Дата публикации: 2022-03-18.

Composite material obtained by integrally combining fiber base material and cured product of liquid curable fluorine-containing composition and production method therefor, and article using composite material

Номер патента: EP4397701A1. Автор: Yasuhisa Osawa,Tomoyuki Asahi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Poly fluorine-containing siloxane coatings

Номер патента: US20160200941A1. Автор: Ya Qun Liu,Zhe Ding,Bright ZHANG,Wanchao Jiang,Wei Jun Wang,Huifeng DUAN,Yunzi JIANG,Yanming Shen,David K. Chen. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2016-07-14.

Method for synthesizing a fluorine-containing chiral amine compound

Номер патента: US20240294954A1. Автор: Xiang Li,GAGE James,Na Zhang,Hao Hong,Yi Xiao,XiangJun JIANG,ShunXing LV. Владелец: Asymchem Laboratories Tianjin Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Fluorine-containing elastomer composition and method for making cured fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US20240067796A1. Автор: Ren-Guan Duan,Chen-Hsiang LU,Chung-Ming Huang,Tien-Chih CHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-02-29.

Fluorine-containing composition and production method therefor

Номер патента: US20240301194A1. Автор: Yoshito Tanaka,Yuki Suzuki,Makoto Matsuura. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Amorphous fluorine-containing resin composition and a manufacturing method of thin films

Номер патента: US09862852B2. Автор: Yuji Mochizuki,Jeong Chang Lee,Masaki Mugisawa. Владелец: Du Pont Mitsui Fluorochemicals Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-09.

Method for recovering fluorine-containing ether

Номер патента: US09475744B2. Автор: Takeshi Shimono,Tadaharu Isaka,Ryouichi Fukagawa,Yumi Zenke. Владелец: Daikan Industries Ltd. Дата публикации: 2016-10-25.

Fluorine-containing graft copolymer, and preparation method and use thereof

Номер патента: US20230312795A1. Автор: Xiulin ZHU,Jinying Wang,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG,Lifen ZHANG. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2023-10-05.

Fluorine-containing polymer powder, method for producing the same and coated article

Номер патента: US20100273948A1. Автор: Toshio Miyatani,Koichiro Ogita,Yasukazu Nakatani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2010-10-28.

Fluorine-containing ethylenic monomer having hydroxyl group or fluoroalkyl carbonyl group and fluorine-containing polymer prepared by polymerization of same

Номер патента: US20040002575A1. Автор: Meiten Koh,Yuzo Komatsu,Takayuki Araki. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2004-01-01.

Fluorine-containing ethylenic monomer having hydroxyl group or fluoroalkyl carbonyl group and fluorine-containing polymer prepared by polymerization of same

Номер патента: US20070172763A1. Автор: Meiten Koh,Yuzo Komatsu,Takayuki Araki. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2007-07-26.

Fluorine-containing ethylenic monomer having hydroxyl group or fluoroalkyl carbonyl group and fluorine-containing polymer prepared by polymerization of same

Номер патента: US7214470B2. Автор: Meiten Koh,Yuzo Komatsu,Takayuki Araki. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2007-05-08.

Polymerization tank for production of fluorine-containing polymer and method for producing fluorine-containing polymer

Номер патента: US20240299893A1. Автор: Yoshiki Maruya,Takaaki Suzuki,Hiroshi Takaoka,Yuki NAKAO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Polymerization tank for production of fluorine-containing polymer and method for producing fluorine-containing polymer

Номер патента: EP4421097A1. Автор: Yoshiki Maruya,Takaaki Suzuki,Hiroshi Takaoka,Yuki NAKAO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Fluorine-containing silane compound

Номер патента: US09926339B2. Автор: Tsunetoshi Honda,Masato Fujita,Takeshi Kamiya,Masakazu Uotani,Daisuke Takano. Владелец: Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-27.

Fluorinated-containing macroinitiator and production process for the same

Номер патента: US09587039B2. Автор: Satoru Saito,Katsuyuki Sato,Takehiro Sonoi. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2017-03-07.

Device for treating fluorine-containing water

Номер патента: US09533895B2. Автор: Shuhei Izawa. Владелец: Kurita Water Industries ltd. Дата публикации: 2017-01-03.

Fluorine-containing nano composite particles and method for producing the same

Номер патента: US09475826B2. Автор: Hideo Sawada,Katsuyuki Sato. Владелец: Hirosaki University NUC. Дата публикации: 2016-10-25.

New method of producing 3-fluorine-containing quinolines

Номер патента: RU2351591C2. Автор: Мишель ТАБАР,Юсеф ЭЛЬ-АХМАД,Жан-Пьер ЛЕКОНТ,Жоель МАЛЬПАР,Серж МИНЬАНИ,Стефан МУТТИ. Владелец: Новоксель. Дата публикации: 2009-04-10.

Fluorine-containing polymers and method of preparing thereof

Номер патента: RU2131888C1. Автор: Вернер М. Грутерт. Владелец: Миннесота Майнинг энд Мэнюфекчуринг Компани. Дата публикации: 1999-06-20.

Method for producing fluorine-containing polymer and fluorine-containing polymer

Номер патента: US20240124619A1. Автор: Tadashi KANBARA,Tomoko Yajima. Владелец: OCHANOMIZU UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-04-18.

Method of Stabilizing Fluorine-Containing Acid Amplifier

Номер патента: US20140065541A1. Автор: Shinya Akiba,Ryo Nadano. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-03-06.

Method for producing fluorine-containing polymer

Номер патента: EP4365210A8. Автор: Yoshiki Maruya,Takaaki Suzuki,Hiroshi Takaoka,Yuki NAKAO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-07-03.

Method for producing fluorine-containing elastomer aqueous dispersion and fluorine-containing elastomer aqueous dispersion

Номер патента: US20230192924A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Method for Producing Fluorine-Containing (Meth)Acrylate Polymer and Polymer Produced by Such Method

Номер патента: US20080004424A1. Автор: Toshikazu Hirao,Hirosuke Kawabata,Xiaoliang Xu,Etsuo Horii,Akiya Ogawa. Владелец: Kaneka Corp. Дата публикации: 2008-01-03.

Method of manufacturing fluorine-containing compound

Номер патента: WO2024226893A1. Автор: Gen EGASHIRA,Kazuya ICHINOSE,Keigo Higashida. Владелец: CHEMOURS-MITSUI FLUOROPRODUCTS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-10-31.

Curable composition including fluorine-containing highly branched polymer and siloxane oligomer

Номер патента: US09562170B2. Автор: Hiroyasu Tamura,Masayuki Haraguchi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-02-07.

Fluorine-containing compounds for use in high-frequency substrates

Номер патента: WO2024226888A1. Автор: Gen EGASHIRA,Kazuya ICHINOSE,Keigo Higashida. Владелец: CHEMOURS-MITSUI FLUOROPRODUCTS CO., LTD.. Дата публикации: 2024-10-31.

Method for producing fluorine-containing compound and method for producing surface treatment agent

Номер патента: US20230399471A1. Автор: Makoto Uno,Takuya IWASE,Yoshitaka Nomura,Hikaru Ono. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing pyrazole compound and production method therefor

Номер патента: EP4421067A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-28.

Fluorine-containing diazirines

Номер патента: US3637663A. Автор: Ronald A Mitsch,Falcon Heights. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1972-01-25.

Full continuous flow synthesis process of fluorine-containing aromatic hydrocarbon compounds

Номер патента: US20220204427A1. Автор: Chao Wang,Yiqiang Zhang,Yinhao CHEN,Qiliang YUAN,Yongyi MIAO,Yonggen SHI. Владелец: Fujian Zhongxin Fluoride Material Gaobao Technology Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-30.

Method for removing fluorine-containing compound from waste water

Номер патента: US12030790B2. Автор: Tadao Hayashi,Yuuji Tanaka,Takahiro Taira,Taketo Kato,Hirotoshi Yoshida,Chiaki OKUI,Michinobu Koizumi,Ryou HATAYAMA. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Method for Producing Fluorine-Containing Substituted Compound and Fluorine-Containing Substituted Compound

Номер патента: US20160108067A1. Автор: Junichi Yoshida,Aiichiro Nagaki. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2016-04-21.

Method for producing fluorine-containing substituted compound and fluorine-containing substituted compound

Номер патента: US9518074B2. Автор: Junichi Yoshida,Aiichiro Nagaki. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2016-12-13.

Method for producing fluorine-containing dialkyl carbonate compounds

Номер патента: US20200231530A1. Автор: Myeng Chan Hong,Da Eun Kwon,Yeong Sup CHOI,Jong Yun KWAK. Владелец: Samhwa Paints Industries Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-23.

Fluorine-containing releasing sheet and process of production of same

Номер патента: EP1165699A1. Автор: Yorinobu Takamatsu,Toshihiro Suwa,Tatsuo Fukushi,Keizo Yamanaka. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 2002-01-02.

Composition, crosslinked rubber molded article and fluorine-containing polymer

Номер патента: US12060445B2. Автор: Masaki Irie,Junpei Terada,Takahiro Furutani,Yusuke Kamiya,Eisaku SUMINO,Rina TAMAI. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-13.

Fluorine-containing coating agent composition, surface treatment agent containing said composition, and article

Номер патента: US12054637B2. Автор: Takashi Matsuda,Yuji Yamane,Ryusuke Sakoh,Lisa KATAYAMA. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

Fluorine-containing polymer composition

Номер патента: US09982079B2. Автор: Zai-Ming Qiu,Claude Lavallée,Werner M. A. Grootaert,Miguel A. Guerra,Gregg D. Dahlke,Denis Duchesne,Tatsuo Fukushi. Владелец: 3M Innovative Properties Co. Дата публикации: 2018-05-29.

Method for removing fluorine-containing compound from waste water

Номер патента: US20240294401A1. Автор: Tadao Hayashi,Yuuji Tanaka,Takahiro Taira,Taketo Kato,Hirotoshi Yoshida,Chiaki OKUI,Michinobu Koizumi,Ryou HATAYAMA. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-09-05.

Process for producing fluorine-containing combined salt

Номер патента: US09556037B2. Автор: Tetsuya Tamura. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-01-31.

Method of producing fluorine-containing acylacetic acid derivative, method of producing fluorine-containing pyrazolecarboxylic acid ester derivative and method of producing fluorine-containing pyrazolecarboxylic acid derivative

Номер патента: RU2456275C2. Автор: Хидэки УМЭТАНИ,Йодзи АОКИ,Такэси КАКИМОТО. Владелец: Мицуй Кемикалс Агро, ИНК. Дата публикации: 2012-07-20.

Method for producing fluorine-containing silica glass

Номер патента: EP4219415A1. Автор: Shinji Ishikawa,Seiji Arakawa,Tetsuya Haruna,Tatsuro Hasegawa,Keisei Morita. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2023-08-02.

Method for treating alkaline fluorine-containing wastewater by combining induced crystallization method with tubular membrane filter

Номер патента: US20240190743A1. Автор: Wei Li,Gong Cheng,Yi Chen,Rui Lin,Xiaodan Chen,Yiwen Luo,Sai Wang,Tuantuan Wang. Владелец: SHENZHEN ACADEMY OF ENVIRONMENTAL SCIENCES. Дата публикации: 2024-06-13.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240254403A1. Автор: Masaki NANKO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for Producing Fluorine-Containing Substituted Compound and Fluorine-Containing Substituted Compound

Номер патента: US20140012027A1. Автор: Junichi Yoshida,Aiichiro Nagaki. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2014-01-09.

Method for producing fluorine-containing substituted compound and fluorine-containing substituted compound

Номер патента: US9255114B2. Автор: Junichi Yoshida,Aiichiro Nagaki. Владелец: Kyoto University NUC. Дата публикации: 2016-02-09.

Full continuous flow synthesis process of fluorine-containing aromatic hydrocarbon compounds

Номер патента: US12071388B2. Автор: Chao Wang,Yiqiang Zhang,Yinhao CHEN,Qiliang YUAN,Yongyi MIAO,Yonggen SHI. Владелец: Fujian Zhongxin Fluoride Material Gaobao Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-27.

Method for measuring optical constant of fluorine-containing organosilicon compound thin film

Номер патента: EP4011935A1. Автор: Takashi Uchida. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2022-06-15.

Fluorine-containing pyrimidine compounds, harmful fungi control agent, and method for producing fluorine-containing pyrimidine compounds

Номер патента: EP4431502A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-18.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240331726A1. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Takuma Kuroda,Natsumi SHIBATA,Yutaka TANJI,Chizuru KASAHARA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-03.

Fluorine-containing active energy ray-curable composition, cured product, and article

Номер патента: EP4450528A1. Автор: Yasunori Sakano,Hidenori Koshikawa,Seiya Mori. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-23.

Method for measuring optical constants of thin film of fluorine-containing organosilicon compound

Номер патента: US12105018B2. Автор: Takashi Uchida. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-10-01.

Fluorine-containing polymer microsphere

Номер патента: US09777099B2. Автор: Mingdong Yu,Huiya Yuan. Владелец: Shanghai Chengying New Material Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-03.

Method of producing oxy-sulphonated and fluorine-containing organic derivatives

Номер патента: RU2471776C2. Автор: Франсуа МЕТЦ,Бернар БЕССОН. Владелец: Родиа Операсьон. Дата публикации: 2013-01-10.

Method for Producing Fluorine-Containing Polymer and Composition

Номер патента: US20240124632A1. Автор: Satoru Miyazawa,Ryo Nadano,Yuzuru Kaneko. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Novel fluorine-containing copolymer and membrane

Номер патента: US20120148818A1. Автор: Song Li,Takashi Okazoe,Katsuya Ueno,Shinji Okada,Nobuyuki Kasahara,Yoshitomi Morizawa,Safir L. ADAM. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-14.

Silane compound including fluorine-containing poly(ether) group, composition including the same, film formed from the composition, display device, and article

Номер патента: US20210054149A1. Автор: Hana Kim,Byungha PARK,Sunghun HONG,Kyeongsik Ju. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2021-02-25.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: US20220169941A1. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Shunya Suzuki,Masaki NANKO,Natsumi SHIBATA. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2022-06-02.

Fluorine-containing oligomer, nano-silica composite particles using the same, and methods for producing both

Номер патента: US09803044B2. Автор: Hideo Sawada,Katsuyuki Sato. Владелец: Hirosaki University NUC. Дата публикации: 2017-10-31.

Fluorine-containing oligomer, nano-silica composite particles using the same, and methods for producing both

Номер патента: US09695263B2. Автор: Hideo Sawada,Katsuyuki Sato. Владелец: Hirosaki University NUC. Дата публикации: 2017-07-04.

Fluorine-containing compounds and their polymers useful for anti-reflection film materials and resist compositions

Номер патента: US09650451B2. Автор: Kazuhiko Maeda,Haruhiko Komoriya,Shinichi Sumida. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2017-05-16.

Reactive fluorine-containing highly branched polymer and curable composition containing the same

Номер патента: US09546298B2. Автор: Masaaki Ozawa,Hiroyasu Tamura,Masayuki Haraguchi. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2017-01-17.

Method for producing fluorine-containing olefin

Номер патента: US09487459B2. Автор: Yuzo Komatsu,Daisuke Karube,Tatsuya TAKAKUWA. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-11-08.

Water-emulsion polymerisation of fluorinated monomers using fluorine-containing surfactant

Номер патента: RU2406731C2. Автор: Харалд КАСПАР,Клаус ХИНТЦЕР,Вернер ШВЕРТФЕГЕР,Андреас МАУРЕР,Тилман ЗИППЛИС. Владелец: 3М Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2010-12-20.

Method of making a fiber having low loss at 1385 nm by cladding a VAD preform with a D/d<7.5

Номер патента: US6131415A. Автор: David Kalish,Thomas John Miller,Kai Huei Chang,Michael L. Pearsall. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2000-10-17.

Optical fiber having low loss at 1385 nm and method for making same

Номер патента: CA2240220C. Автор: David Kalish,Thomas John Miller,Kai Huei Chang,Michael L. Pearsall. Владелец: Lucent Technologies Inc. Дата публикации: 2003-04-29.

Fluorine-containing resin particle dispersion, method for preparing fluorine-containing resin particle dispersion, coating liquid which contains fluorine-containing resin particles, method for preparing coating film which contains fluorine-containing resin particles, coating film which contains fluorine-containing resin particles, molded body, electrophotographic photoreceptor, method for preparing electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus, and process cartridge

Номер патента: US20160291490A1. Автор: Katsumi Nukada,Wataru Yamada,Takatsugu Doi,Yuko Iwadate. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2016-10-06.

Fluorine-containing Mixture Material and Fluorine-containing Super-oleophobic Microporous Membrane Using Same as Raw Material, and Preparation Method therefor and Use thereof

Номер патента: US20230303742A1. Автор: Ying Yang,Huisheng Wu. Владелец: Zhejiang Hyproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-28.

Novel fluorine-containing copolymer and membrane

Номер патента: EP2459604A1. Автор: Song Li,Takashi Okazoe,Katsuya Ueno,Shinji Okada,Nobuyuki Kasahara,Yoshitomi Morizawa,L. Safir Adam. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2012-06-06.

Method for producing composition containing purified fluorine-containing ether compound

Номер патента: EP4234529A1. Автор: Yoshichika Kuroki,Yuuki Suzuki,Michiaki Okada,Daisuke Karube,Kenta Nishimura,Tsubasa NAKAUE. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-08-30.

Method for producing fluorine-containing acrylate

Номер патента: US7470808B2. Автор: Shoji Arai,Noriko Wakasa,Hideyuki Mimura,Kenji Tokuhisa,Takamasa Fuchikami. Владелец: Sagami Chemical Research Institute. Дата публикации: 2008-12-30.

Fluorine-containing resin material lowly permeable to liquid chemical

Номер патента: US20030220458A1. Автор: Tetsuo Shimizu,Takahisa Aoyama,Takahiro Taira,Katsuhide Otani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2003-11-27.

Fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US20240247127A1. Автор: Hiroyuki Sano,Yusuke Murakami. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-25.

Crosslinkable fluorine-containing elastomer composition and molded article made of said composition

Номер патента: US09914818B2. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Seiichi Hirano. Владелец: Greene Tweed Technologies Inc. Дата публикации: 2018-03-13.

Process for production of fluorine-containing block copolymer

Номер патента: US09518140B2. Автор: Takashi Kanemura,Yuzo Komatsu,Haruhiko Mohri,Kenichi Katsukawa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-12-13.

Prodrug of fluorine-containing amino acid

Номер патента: US09428483B2. Автор: Kazunari Sakagami,Norikazu Otake,Naoki Miyakoshi,Takashi Hashihayata. Владелец: Taisho Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Method of processing of fluorine-containing apatite concentrate

Номер патента: RU2650923C1. Автор: Эфроим Пинхусович Локшин,Татьяна Андреевна Седнева,Ольга Альбертовна Тареева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр &#34;Кольский научный центр Российской академии наук&#34; (ФИЦ КНЦ РАН). Дата публикации: 2018-04-18.

Fluorine-containing levelling agents

Номер патента: RU2519730C2. Автор: Ральф КНИШКА,Клеменс АУШРА,Андреас МЕК. Владелец: БАСФ СЕ. Дата публикации: 2014-06-20.

Fluorine-containing organosulphur compound and pesticide composition thereof

Номер патента: RU2468008C2. Автор: Кодзи КУМАМОТО,Хироюки МИЯЗАКИ. Владелец: Сумитомо Кемикал Компани, Лимитед. Дата публикации: 2012-11-27.

Fluorine-containing elastomer composition and molded article made therefrom

Номер патента: EP1762594A1. Автор: Shintarou c/o Yodogawa-seisakusho OGATA,Mitsuru c/o Yodogawa-seisakusho KISHINE. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2007-03-14.

Fluorine-containing olefin, fluorine-containing polymer and thermoplastic resin composition prepared by using said polymer

Номер патента: US5670593A. Автор: Takafumi Yamato,Tetsuo Shimizu,Yoshihisa Yamamoto,Takayuki Araki,Masahiro Kumegawa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1997-09-23.

Fluorine-containing compound purification method

Номер патента: US8692038B2. Автор: Hiromoto Ohno,Toshio Ohi,Katsutoshi Morinaka. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2014-04-08.

Process for preparing fluorine-containing polymer and fluorine-containing polymer prepared by said preparation process

Номер патента: US20090082519A1. Автор: Masaki Irie,Manabu Fujisawa,Yosuke Nishimura. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2009-03-26.

Fluorine-containing silica glass powder and method for producing fluorine-containing silica glass powder

Номер патента: US20240025803A1. Автор: Hiromu Watanabe,Isao SHIMO. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-01-25.

Fluorine-containing silica glass powder and method for producing fluorine-containing silica glass powder

Номер патента: EP4317066A1. Автор: Hiromu Watanabe,Isao SHIMO. Владелец: Mitsubishi Chemical Corp. Дата публикации: 2024-02-07.

Fluorine-Containing Diblock Copolymer

Номер патента: US20160319062A1. Автор: Satoru Saito,Katsuyuki Sato,Takehiro Sonoi. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2016-11-03.

Green chemical alkali conversion and defluorination method by roasting fluorine-containing rare earth ore and solid slag

Номер патента: AU2021254543B2. Автор: Jun Ma,Chaoqun Li,Ying Jiang,Xuemei Wang,Xiaoting Li,Xiaolu Huang,Yang LIAO,Shilin Zhao,Yunzhu Chen,Liyang Han. Владелец: Xichang College. Дата публикации: 2023-07-27.

Green chemical alkali conversion and defluorination method by roasting fluorine-containing rare earth ore and solid slag

Номер патента: AU2021254543A1. Автор: Jun Ma,Chaoqun Li,Ying Jiang,Xuemei Wang,Xiaoting Li,Xiaolu Huang,Yang LIAO,Shilin Zhao,Yunzhu Chen,Liyang Han. Владелец: Xichang College. Дата публикации: 2023-02-16.

Method for producing fluorine-containing alkane

Номер патента: US9428429B2. Автор: Kazuhiro Takahashi,Yuko Shiotani,Takehiro Chaki,Kakeru Hanabusa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-08-30.

Method for producing fluorine-containing polymer

Номер патента: EP1889855B1. Автор: Masaki c/o Yodogawa-seisakusho IRIE,Yosuke c/o Yodogawa-seisakusho NISHIMURA,Manabu c/o Yodogawa-seisakusho FUJISAWA. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2010-04-14.

Composition for preparing top antireflection film, top antireflection film and fluorine-containing composition

Номер патента: US20240134282A1. Автор: Yongbin LI. Владелец: Gansu Hualong Semiconductor Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Method for producing fluorine-containing polymer and composition thereof

Номер патента: US20220267536A1. Автор: Yoshito Tanaka,Makoto Matsuura,Yuuki Suzuki,Michiaki Okada,Yosuke Kishikawa,Atsushi Shirai,Akitoshi Ogata,Shiomi Ashida. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2022-08-25.

Method for producing aqueous dispersion of fluorine-containing elastomer

Номер патента: EP4353752A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Composition for preparing top antireflection film, top antireflection film and fluorine-containing composition

Номер патента: US20240231229A9. Автор: Yongbin LI. Владелец: Gansu Hualong Semiconductor Material Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-11.

Fluorine-Containing Dicarboxylic Acids and Their Novel Polymer Compounds

Номер патента: US20110282026A1. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Satoru Narizuka,Yuji Hagiwara,Masashi Nagamori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2011-11-17.

Novel fluorine-containing dicarboxylic acids and their novel polymer compounds

Номер патента: US20090030173A1. Автор: Kazuhiro Yamanaka,Satoru Narizuka,Yuji Hagiwara,Masashi Nagamori. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2009-01-29.

Novel compound, fluorine-containing polymerizable cyclic olefin compound

Номер патента: US20050054883A1. Автор: Takeshi Kinsho,Yuji Harada,Takeru Watanabe. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2005-03-10.

Fluorine-containing boronic acid ester compound and method for producing the same

Номер патента: US20110166375A1. Автор: Satoru Saito. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2011-07-07.

Method For Producing Optically Active Fluorine-Containing Oxeten

Номер патента: US20130310580A1. Автор: Koichi Mikami,Yuta Hioki,Kohsuke Aikawa. Владелец: Tokyo Institute of Technology NUC. Дата публикации: 2013-11-21.

Fluorine-containing thermoplastic elastomer composition

Номер патента: US12116477B2. Автор: Aldo Sanguineti,Eliana Ieva,Mattia Bassi,Marco MIRENDA,Matteo Fantoni. Владелец: Solvay Specialty Polymers Italy SpA. Дата публикации: 2024-10-15.

Fluorine-containing emulsifier regeneration method

Номер патента: RU2255807C2. Автор: Клаус ХИНТЦЕР,Гернот ЛЁР,Вернер ШВЕРТФЕГЕР,Стефан ФЁРЕР. Владелец: Дайнион ГмбХ энд Ко. КГ. Дата публикации: 2005-07-10.

Method for producing fluorine-containing compound

Номер патента: CA2415620C. Автор: Masahiro Ito,Takashi Okazoe,Kunio Watanabe,Shin Tatematsu,Hidekazu Okamoto,Daisuke Shirakawa,Masao Iwaya. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2009-09-08.

A laminated article and a fluorine-containing adhesive film formed therefrom

Номер патента: EP1110713A3. Автор: Takayuki c/o Yodogawa-seisakusho Araki,Yoshito c/o Yodogawa-seisakusho Tanaka,Masahiro c/o Yodogawa-seisakusho Kumegawa,Noritoshi c/o Yodogawa-seisakusho Oka,Tetsuo c/o Yodogawa-seisakusho Shimizu. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2001-08-16.

Fluorine-containing surface active compositions

Номер патента: US4729849A. Автор: Iwao Hisamoto,Mitsuhiro Nishiwaki,Chiaki Maeda. Владелец: Daikin Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1988-03-08.

Fluorine-containing alternating copolymer macromonomer and synthesis method thereof

Номер патента: AU2019427988B2. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jinying Wang,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-08-04.

Method for producing fluorine-containing compound and fluorine-containing compound

Номер патента: US20230399293A1. Автор: Makoto Uno,Toyokazu ENTA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-14.

Fluorine-containing polymer, coating composition, method for producing coated article, and coated article

Номер патента: US20210355256A1. Автор: Xin Zeng,Ikuo Yamamoto,Takashi Enomoto,Shinichi Minami. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2021-11-18.

Separating method of fluorine-containing solvent, removing method of fluorine-containing solvent contaminant, and apparatus therefore

Номер патента: EP3268098A1. Автор: Takanori Matsumoto,Hideaki Kikuchi,Miki Ito. Владелец: Du Pont Mitsui Fluorochemicals Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-17.

Separating method of fluorine-containing solvent, removing method of fluorine-containing solvent contaminant, and apparatus therefore

Номер патента: US20180043282A1. Автор: Takanori Matsumoto,Hideaki Kikuchi,Miki Ito. Владелец: Du Pont Mitsui Fluorochemicals Co Ltd. Дата публикации: 2018-02-15.

Synthesis method for fluorine-containing chiral amine compound

Номер патента: EP4116289A1. Автор: Xiang Li,GAGE James,Na Zhang,Hao Hong,Yi Xiao,XiangJun JIANG,ShunXing LV. Владелец: Asymchem Laboratories Tianjin Co Ltd. Дата публикации: 2023-01-11.

Method for manufacturing fluorine-containing elastomer aqueous dispersion, fluorine-containing elastomer, and aqueous dispersion

Номер патента: US20230167213A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-06-01.

Production method of fluorine-containing elastomer aqueous dispersion

Номер патента: US20240132633A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-04-25.

Fluorine-containing resin composition and preparation method thereof, and preparation method of cured film containing same

Номер патента: US20230194984A1. Автор: Yang Zhang,Pengfei Wang,Shuang Liu,Xiaowei Wang,Aiping Ma,Qigui Li,Renxiao Gao. Владелец: Xi&#39;an Manareco New Materials Co ltd. Дата публикации: 2023-06-22.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240279395A1. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Takuma Kuroda,Natsumi SHIBATA,Ayano ASANO,Yutaka TANJI,Chizuru KASAHARA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Fluorine-containing 3,5-OXO-1,6-heptadiene derivative and method of producing the same

Номер патента: US20070244281A1. Автор: Yushi Kaneko,Naoyuki Hanaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2007-10-18.

Composition and molded article containing fluorine-containing polymer

Номер патента: US12091537B2. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Fumihiro Kamiya,Seiichi Hirano. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-09-17.

Fluorine-containing 3,5-OXO-1,6-heptadiene derivative and method of producing the same

Номер патента: US7501545B2. Автор: Yushi Kaneko,Naoyuki Hanaki. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-03-10.

Modified fluorine-containing copolymer and fluorine resin molded article

Номер патента: US09963564B2. Автор: Hideki Kono,Takahisa Aoyama,Hitoshi Imamura,Hirokazu Itou,Tatsuya FUNAOKA. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Composition containing fluorine-containing ketone

Номер патента: RU2701535C1. Автор: Хан НИ,Ся ЛО. Владелец: Чжэцзян Рисерч Инститьют Ов Кемикал Индастри Ко., Лтд. Дата публикации: 2019-09-27.

Fluorine-containing fiber processing agent having alcohol repellency and soil release properties

Номер патента: EP2177550A1. Автор: Kouji Kubota,Takashi Enomoto,Hirotoshi Sakashita,Masashi Nanri. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2010-04-21.

Blend of fluorine-containing elastomers

Номер патента: EP2639270A1. Автор: Mitsuru Maeda,Akihiko Ikeda,Hideki Hayashi. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2013-09-18.

Fluorine-containing siloxane compound and process for production thereof

Номер патента: US5831110A. Автор: Koichi Ayama,Yuichi Isoda. Владелец: Chisso Corp. Дата публикации: 1998-11-03.

Production process for chlorine-containing fluorine-containing compound

Номер патента: US20100105968A1. Автор: Hiromoto Ohno,Toshio Ohi,Takami Ohe. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2010-04-29.

Fluorine-containing resin molded articles

Номер патента: GB2302693B. Автор: Akihiko Nakahara,Nakashima Junichiro,Tokunaga Shinji,Esaki Tatsuo. Владелец: Tokuyama Corp. Дата публикации: 1999-03-10.

Cross linkable fluorine-containing polymer

Номер патента: US4501869A. Автор: Masahiko Oka,Hideo Kano,Yutaka Ueta,Masayasu Tomoda,Masayoshi Tatemoto. Владелец: Daikin Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1985-02-26.

Preparation method for high-moisture-permeability fluorine-containing super-oleophobic microporous membrane

Номер патента: US20240123411A1. Автор: Ying Yang,Huisheng Wu,Rongrong HAO. Владелец: Shanghai Hyproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Fluorine-containing ether compound, surface treatment agent, fluorine-containing ether composition, coating liquid, article, method for producing article, and compound

Номер патента: US20230407003A1. Автор: Makoto Uno,Motoshi Aoyama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Method for recovering fluorine-containing ether

Номер патента: US20150376100A1. Автор: Takeshi Shimono,Tadaharu Isaka,Ryouichi Fukagawa,Yumi Zenke. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2015-12-31.

Fluorine-containing liquid crystal elastomer and preparation method and use thereof

Номер патента: US11926697B2. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG,Lifen ZHANG,Enjie HE. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-03-12.

Novel fluorine-containing polymer and method of producing fluorine-containing polymer

Номер патента: US20090318650A1. Автор: Masayuki Harada,Takayuki Ito,Toshimitsu Sakuma. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2009-12-24.

Amorphous fluorine-containing resin composition and a manufacturing method of thin films

Номер патента: US20150259558A1. Автор: Yuji Mochizuki,Jeong Chang Lee,Masaki Mugisawa. Владелец: Du Pont Mitsui Fluorochemicals Co Ltd. Дата публикации: 2015-09-17.

Fluorine-containing liquid crystal elastomer and preparation method and use thereof

Номер патента: AU2020356809A1. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG,Lifen ZHANG,Enjie HE. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2021-08-26.

Fluorine-containing liquid crystal elastomer and preparation method and use thereof

Номер патента: AU2020356809B2. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG,Lifen ZHANG,Enjie HE. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-03-03.

Fluorine-containing liquid crystal elastomer and preparation method and use thereof

Номер патента: US20220119589A1. Автор: Kai TU,Xiulin ZHU,Jiannan CHENG,Zhenping CHENG,Lifen ZHANG,Enjie HE. Владелец: SUZHOU UNIVERSITY. Дата публикации: 2022-04-21.

Method and device for treating fluorine-containing water

Номер патента: US20120279928A1. Автор: Shuhei Izawa. Владелец: Kurita Water Industries ltd. Дата публикации: 2012-11-08.

Fluorine-containing active energy ray curable resin, surfactant, active energy ray curable resin composition, and cured film

Номер патента: US20190359844A1. Автор: Akira Takano,Shin Sasamoto. Владелец: DIC Corp. Дата публикации: 2019-11-28.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US11767483B2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-09-26.

Surfactant comprising fluorine-containing polymer

Номер патента: US20170088653A1. Автор: Mitsuhiro Usugaya,Kayo Kusumi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2017-03-30.

Method for preparing fluorine-containing dialkylcarbonates

Номер патента: RU2646226C2. Автор: Юрий Леонидович Бахмутов,Василий Александрович Бабаин,Михаил Юрьевич Аляпышев,Иван Геннадьевич Воронаев,Аркадий Леонидович Козен. Владелец: Акционерное общество &#34;Радиевый институт имени В.Г. Хлопина&#34;. Дата публикации: 2018-03-02.

Fluorine-containing copolymer and water- and oil-repellent agent

Номер патента: US10077327B2. Автор: Mitsuhiro Usugaya,Takashi Enomoto,Hisako Nakamura. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2018-09-18.

Terminal fluorine containing silicone polyester compounds

Номер патента: US5260401A. Автор: Anthony J. O&#39;Lenick, Jr.. Владелец: Siltech Inc. Дата публикации: 1993-11-09.

Fluorine containing silicone polyester compounds

Номер патента: US5235017A. Автор: Anthony J. O&#39;Lenick, Jr.. Владелец: Siltech Corp. Дата публикации: 1993-08-10.

Fluorine-containing graphene quantum dots, preparation method and application thereof as photosensitiser for photodanamic therapy

Номер патента: NL2026426A. Автор: BI Hong,LI Zhenzhen,Claudio Tedesco Antonio. Владелец: Univ Anhui. Дата публикации: 2021-05-12.

Fluorine-containing boronic acid ester compound and method for producing the same

Номер патента: US20110040118A1. Автор: Satoru Saito. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2011-02-17.

Fluorine-containing polyether compound

Номер патента: EP4269381A1. Автор: Keigo Matsuura,Makoto Uno,Motoshi Aoyama,Naoki Katsuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-01.

Process for producing fluorine-containing alkene compound

Номер патента: EP2534121A2. Автор: Atsushi Suzuki,Yuzo Komatsu,Daisuke Karube. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2012-12-19.

Fluorine-Containing Monomer, Fluorine-Containing Polymer, Pattern Forming Composition Using Same, and Pattern Forming Method of Same

Номер патента: US20200089116A1. Автор: Ryo Nadano,Yuzuru Kaneko,Tsubasa ITAKURA. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2020-03-19.

Fluorine-containing alcohol composite

Номер патента: EP4112673A1. Автор: Hideo Sawada,Tetsushi Kijima,Yasuhiko AKATSU. Владелец: Hirosaki University NUC. Дата публикации: 2023-01-04.

Method for producing fluorine-containing polymer

Номер патента: EP4365210A1. Автор: Yoshiki Maruya,Takaaki Suzuki,Hiroshi Takaoka,Yuki NAKAO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-05-08.

Fluorine-containing resin particle, composition, layer-shaped article, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus

Номер патента: US20200257210A1. Автор: Wataru Yamada,Masahiro Iwasaki,Ryosuke Fujii,Keisuke KUSANO,Yuto Okazaki,Taisuke Fukui. Владелец: Fuji Xerox Co Ltd. Дата публикации: 2020-08-13.

Fluorine-containing pyrazole compound and production method therefor

Номер патента: US20240217934A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Aromatic fluorine-containing organotin compounds and anti-tumour composition

Номер патента: US5559147A. Автор: Dick de Vos,Marcel Gielen,Rudolph Willem,Abdeslam Bouhdid. Владелец: Pharmachemie BV. Дата публикации: 1996-09-24.

Fluorine-Containing Polymerizable Monomer and Polymer Compound Using Same

Номер патента: US20140100341A1. Автор: Makoto Matsuura,Kazuhiro Yamanaka,Junya Nakatsuji. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2014-04-10.

Fluorine-containing highly branched polymer and epoxy resin composition containing the same

Номер патента: US09920143B2. Автор: Masaaki Ozawa,Masayuki Haraguchi,Motonobu Matsuyama,Tomoko Misaki. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2018-03-20.

FLUORINE-CONTAINING SUBSTITUTED 5-[2-(PYRID-3-YL)-ETHYL]-2,3,4,5-TETRAHYDRO-1H-PYRIDO[4,3-b]INDOLE HYDROCHLORIDES AS AGENTS DECREASING UNCONTROLLED PROTEIN AGGREGATION IN NERVOUS SYSTEM, BASED PHARMACEUTICAL PREPARATION AND METHOD OF USING IT

Номер патента: RU2490268C2. Автор: Сергей Олегович Бачурин,Владимир Борисович Соколов,Алексей Викторович Болкунов,Алексей Юрьевич Аксиненко,Наталья Николаевна Нинкина,Алексей Анатольевич Устюгов,Татьяна Александровна Шелковникова. Владелец: Федеральное Государственное Бюджетное Учреждение Науки Институт Физиологически Активных Веществ Российской Академии Наук (Ифав Ран). Дата публикации: 2013-08-20.

Fluorine-containing resin composition having low refractive index

Номер патента: CA1296458C. Автор: Masayuki Kamei,Yutaka Hashimoto,Toshihiko Umaba. Владелец: Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd. Дата публикации: 1992-02-25.

Aqueous dispersion, composite powder and organosol of fluorine-containing polymer

Номер патента: US5030667A. Автор: Tetsuo Shimizu,Seitaro Yamaguchi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1991-07-09.

Process for preparation of fluorine-containing compound having carboxyl group

Номер патента: CA1197491A. Автор: Akihiko Nakahara,Kenji Kunai,Toshikatsu Sata,Masaki Shirouzu. Владелец: Tokuyama Corp. Дата публикации: 1985-12-03.

Fluorine-containing phosphoramidates

Номер патента: GB1117635A. Автор: . Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1968-06-19.

Preparation of fluorine-containing ethane dimer

Номер патента: CA2061234C. Автор: Wataru Ueda,Tsuneo Ikawa,Yutaka Morikawa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2001-12-18.

Composite microparticle of fluorine containing resins

Номер патента: US5494752A. Автор: Tetsuo Shimizu,Yoshihisa Yamamoto,Seitaro Yamaguchi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1996-02-27.

Catalyst for preparing fluorine-containing alcohol compound and a process for preparation of fluorine-containing alcohol compound

Номер патента: US7098166B2. Автор: Jun Miki,Toshiyuki Katsube,Yuuki Matsuda. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2006-08-29.

Fluorine-containing acrylate

Номер патента: US20100147191A1. Автор: Hirofumi Kishita,Noriyuki Koike,Yasunori Sakano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2010-06-17.

Production method for aqueous fluorine-containing elastomer dispersion, composition, and aqueous dispersion

Номер патента: EP4353759A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2024-04-17.

Fluorine-containing resin composition inhibiting corrosiveness

Номер патента: US20080300365A1. Автор: Kazuo Kobayashi,Haruhisa Masuda,Igor Chorvath,Lauren Tonge,Tsuyoshi Ono,Katsuhide Ohtani,Masakazu Irie,Ron Klein,Tatyana Collins. Владелец: Daikin America Inc. Дата публикации: 2008-12-04.

Fluorine-Containing Elastomer Compositions Including Microdiamond

Номер патента: US20230407041A1. Автор: Eugene Gurevich,Gary Reichl,Christopher Corrado. Владелец: Greene Tweed Technologies Inc. Дата публикации: 2023-12-21.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20220195115A1. Автор: Shingo Okuno,Masatoshi Nose,Shouta Shibutani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2022-06-23.

Fluorine-containing alkylsilane compound and method for producing the same

Номер патента: US20170305938A1. Автор: Takeshi Fukushima. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-26.

Fluorine-containing ethylene-vinyl alcohol copolymer resin composition as well as mixture and blend thereof

Номер патента: US20210198470A1. Автор: Wen Hsin Lin,Hou Hsi Wu,Yu Hsiu Li. Владелец: Chang Chun Petrochemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-07-01.

Method for producing fluorine-containing compound and method for producing surface treatment agent

Номер патента: US20230407004A1. Автор: Makoto Uno,Yoshitaka Nomura. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-12-21.

Method of stabilizing fluorine-containing acid amplifier

Номер патента: US9274420B2. Автор: Robert L. Brainard,Shinya Akiba,Ryo Nadano. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2016-03-01.

Method for manufacturing fluorine-containing silica glass

Номер патента: US20230382780A1. Автор: Shinji Ishikawa,Seiji Arakawa,Tetsuya Haruna,Tatsuro Hasegawa,Keisei Morita. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

Dianhydride compound having rigid alicyclic fluorine-containing structure, and preparation method and use thereof

Номер патента: US20210094965A1. Автор: Fu Li,Yao Wang,Guoli Tu. Владелец: HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. Дата публикации: 2021-04-01.

Fluorine-containing copolymer, composition, optical film, liquid crystal film, hardcoat film, and polarizing plate

Номер патента: US20230135489A1. Автор: Nobuyuki Akutagawa,Akio Tamura,Yuta Fukushima,Hiroyuki HAGIO,Reiko INUSHIMA,Mayumi NOJIRI. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-04.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US12057151B2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Masaki NANKO,Natsumi SHIBATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-06.

Process for producing fluorine-containing diol and its derivatives

Номер патента: US20070032684A1. Автор: Makoto Matsuura,Takeo Komata,Kei Matsunaga. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-02-08.

Fluorine-containing liquid crystal compound, liquid crystal composition, and liquid crystal electro-optic element

Номер патента: US20110268894A1. Автор: Tomoyuki Asai,Hidemasa Koh,Tomoko Yaguchi. Владелец: AGC Seimi Chemical Ltd. Дата публикации: 2011-11-03.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US12100434B2. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Natsumi SHIBATA,Ayano ASANO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US12129445B2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-10-29.

Fluorine-containing-oil-in-water emulsion and surface treatment composition

Номер патента: US5965659A. Автор: Motonobu Kubo,Masamichi Morita,Norimasa Uesugi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1999-10-12.

Fluorine-containing elastomer and composition thereof for crosslinking

Номер патента: US7772327B2. Автор: Kazuyoshi Kawasaki,Masaki Irie,Katsuhiko Iseki,Tsuyoshi Itagaki,Tsuyoshi Noguchi,Takafumi Yamato,Mitsuru Kishine. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2010-08-10.

Derivatives of fluorine-containing chlorins exhibiting anti-tumour activity

Номер патента: RU2725876C1. Автор: Александр Альбертович Штиль,Андрей Викторович Зайцев,Валентина Антоновна Ольшевская. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт элементоорганических соединений им. А.Н. Несмеянова Российской академии наук (ИНЭОС РАН). Дата публикации: 2020-07-07.

Fluorine-containing polymers

Номер патента: RU2756810C2. Автор: Райнер ФРИДРИХ,Хайбо ФАН. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2021-10-05.

Fluorine-containing copolymer having excellent washing resistance and soil release agent

Номер патента: US20100093919A1. Автор: Norimasa Uesugi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2010-04-15.

Process for preparing vulcanizable fluorine-containing elastomer

Номер патента: US8247505B2. Автор: Masaki Irie,Mitsuru Kishine,Manabu Fujisawa,Yousuke Nishimura,Sadashige Irie,Satoshi Tokuno. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2012-08-21.

Fluorine-containing polymer composition

Номер патента: US5268411A. Автор: Kazuya Oharu,Isamu Kaneko,Shunsuke Yokotsuka. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1993-12-07.

Alkylation of benzene to form linear alkylbenzenes using fluorine-containing mordenites

Номер патента: CA2346472C. Автор: Prakasa Rao Anantaneni. Владелец: Huntsman Petrochemical LLC. Дата публикации: 2009-01-27.

Fluorine-containing epoxy(meth)acrylate resin adhesive cured in presence of photoinitiator

Номер патента: US5204378A. Автор: Shigeki Ishibashi,Tohru Maruno,Kouzaburou Nakamura. Владелец: Nippon Telegraph and Telephone Corp. Дата публикации: 1993-04-20.

Process for producing fluorine-containing sulfonylimide salt

Номер патента: SG192235A1. Автор: Toru Suzuki,Shiro Tsubokura,Michiaki Maruyama,Yasuyuki Aiura. Владелец: Nippon Soda Co. Дата публикации: 2013-09-30.

Fluorine-containing polyether and lubricant comprising the same

Номер патента: US5004554A. Автор: Takashi Tohzuka,Ikuo Yamamoto,Yoshihiko Misugi. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1991-04-02.

Fluorine-containing ion exchange membrane and electrolytic cell comprising the fluorine-containing ion exchange membrane

Номер патента: CA2986260A1. Автор: Atsushi Nakajima,Naoki Sakamoto,Takuya Morikawa. Владелец: Asahi Kasei Corp. Дата публикации: 2016-11-24.

Fluorine-containing organosilicon compounds and method for their preparation

Номер патента: US5519157A. Автор: Hideki Kobayashi. Владелец: Dow Corning Toray Silicone Co Ltd. Дата публикации: 1996-05-21.

Alkylation of benzene to form linear alkylbenzenes using fluorine-containing mordenites

Номер патента: CA2346853C. Автор: Prakasa Rao Anantaneni. Владелец: Huntsman Petrochemical LLC. Дата публикации: 2009-01-27.

Fluorine-containing ether compound and gelling agent containing the same

Номер патента: US6002048A. Автор: Yasuyuki Fujii,Shinji Yano,Hisakazu Furugaki,Eiko Tamura. Владелец: Kao Corp. Дата публикации: 1999-12-14.

Process for removing radioactive isotopes from aqueous fluids by fluorine containing reagents, fluorine containing, water-insoluble salts of the radioactive isotopes, and their use as therapeutic agents

Номер патента: WO2017153436A1. Автор: Klaus-Richard Porschke,David Pollak. Владелец: STUDIENGESELLSCHAFT KOHLE MBH. Дата публикации: 2017-09-14.

Process for preparing bromine- and fluorine-containing halogenated hydrocarbons

Номер патента: US4359371A. Автор: Horst Bohm,Werner Rudolph,Joachim Massonne. Владелец: Kali Chemie Ag. Дата публикации: 1982-11-16.

Method for treating a fluorine-containing waste water and treating apparatus

Номер патента: GB2354516A. Автор: Arata Toyoda. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2001-03-28.

Fluorine-containing polymer aqueous dispersion

Номер патента: US9068059B2. Автор: Yoshiyama Kaneumi,Daisuke Murai. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2015-06-30.

Peroxidic fluoropolyether and its use in emulsion polymerization of fluorin-containing monomer

Номер патента: US20110207880A1. Автор: YU Cheng,Bo Chen,Ming Zhang,Jianxin Zhang,Jun Qu,Xueduan Xie,Rong Bai,Xucang Yang,Jingang Zhang,Xianquan Hu. Владелец: Nova Duet Technologies Pty Ltd. Дата публикации: 2011-08-25.

Fluorine-containing elastomer composition for heat dissipation material and sheet thereof

Номер патента: US11781002B2. Автор: Hiroshi Aihara,Junpei Terada,Takayuki Matsuo,Hiroyuki Sagami. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-10-10.

Fluorine-containing pyrazole compound and production method therefor

Номер патента: EP4332092A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-03-06.

Fluorine-containing curable composition and article

Номер патента: US11897989B2. Автор: Yasunori Sakano. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Fluorine-containing copolymer production method and fluorine-containing copolymer

Номер патента: EP4276122A1. Автор: Yuki Orito,Shun Watanuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-15.

Composition Comprising A Fluorine-Containing Surfactant

Номер патента: US20190060858A1. Автор: Herwig Schottenberger,Benjamin Naier,Gabriel PARTL,Hubert Huppertz,Michael Hummel,Michael NOISTERNIG. Владелец: UNIVERSITAET INNSBRUCK. Дата публикации: 2019-02-28.

Method for producing fluorine-containing silica glass

Номер патента: US20230339797A1. Автор: Shinji Ishikawa,Seiji Arakawa,Tetsuya Haruna,Tatsuro Hasegawa,Keisei Morita. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2023-10-26.

A fluorine-containing organopolysiloxane, method of manufacturing thereof, and an organic polymer composition

Номер патента: WO2007077982A3. Автор: Tadashi Okawa,Masayuki Hayashi,Peter Cheshire Hupfield,Tomohiro Iimura. Владелец: Tomohiro Iimura. Дата публикации: 2007-11-15.

Articles formed from fluorine-containing elastomer compositions using an additive manufacturing method and additive manufacturing methods for thermoset elastomer compositions

Номер патента: CA3174335A1. Автор: David Kazmer,Joey Mead,Mookkan Periyasamy,Ronald R. Campbell,Elizabeth SASSANO,Shibshankar BANERJEE,Stephen BURBINE,Erin E. KEANEY,Leeda PHAEN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2021-10-07.

Articles formed from fluorine-containing elastomer compositions using an additive manufacturing method and additive manufacturing methods for thermoset elastomer compositions

Номер патента: EP4126514A1. Автор: David Kazmer,Joey Mead,Mookkan Periyasamy,Ronald R. Campbell,Elizabeth SASSANO,Shibshankar BANERJEE,Stephen BURBINE,Erin E. KEANEY,Leeda PHAEN. Владелец: Greene Tweed Technologies Inc. Дата публикации: 2023-02-08.

Novel crosslinkable fluorine-containing ether compound

Номер патента: US20080255337A1. Автор: Takayuki Ito. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-10-16.

Articles formed from fluorine-containing elastomer compositions using additive manufacturing methods and additive manufacturing methods for thermoset elastomer compositions

Номер патента: WO2024107771A1. Автор: Mookkan Periyasamy,Ronald R. Campbell,David O. Kazmer,Joey L. Mead,Stiven KODRA,A. A. Mubasshir. Владелец: Greene, Tweed Technologies, Inc.. Дата публикации: 2024-05-23.

Process for producing a fluorine-containing compound

Номер патента: US6903230B2. Автор: Kazuhiko Hayashi,Kazuya Oharu,Shuzhong Wang,Shinsuke Kaga. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2005-06-07.

Fluorine-containing copolymer production method and fluorine-containing copolymer

Номер патента: US20230357467A1. Автор: Yuki Orito,Shun Watanuki. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-11-09.

Method for removing fluorine-containing compound from waste water

Номер патента: EP3862324A1. Автор: Tadao Hayashi,Yuuji Tanaka,Takahiro Taira,Taketo Kato,Hirotoshi Yoshida,Chiaki OKUI,Michinobu Koizumi,Ryou HATAYAMA. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2021-08-11.

Process and reactor for defluorinating fluorine-containing fumed silica

Номер патента: WO2001019725A3. Автор: Goesta Lennart Flemmert. Владелец: Goesta Lennart Flemmert. Дата публикации: 2001-08-02.

Process and reactor for defluorinating fluorine-containing fumed silica

Номер патента: WO2001019725A2. Автор: Gösta Lennart Flemmert. Владелец: Flemmert Goesta Lennart. Дата публикации: 2001-03-22.

Fluorine-containing polymer and production method thereof

Номер патента: US20230220128A1. Автор: Yuuki YOTSUMOTO,Takahiro Furutani,Ryouichi YANO. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-07-13.

Process for the continuous treatment of fluorine-containing fumed silica and reactor for the implementation of this process

Номер патента: EP1235746A2. Автор: Gösta Lennart Flemmert. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-04.

Method for the preparation of fluorine-containing phosphonates and phosphonic acids

Номер патента: US4393011A. Автор: Richard M. Flynn,Donald J. Burton. Владелец: University of Iowa Research Foundation UIRF. Дата публикации: 1983-07-12.

Fluorine-containing pyrimidine compound and method for manufacturing the same

Номер патента: US12043615B2. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-23.

Process for preparing bromine- and fluorine-containing halogenated hydrocarbons

Номер патента: CA1062655A. Автор: Werner Rudolph,Horst Boehm,Joachim Massonne. Владелец: Kali Chemie Ag. Дата публикации: 1979-09-18.

Fluorine-containing azo compounds

Номер патента: US5847091A. Автор: Kazuo Shiraki,Nobutaka Shimamura. Владелец: Wako Pure Chemical Industries Ltd. Дата публикации: 1998-12-08.

Substrates which have been provided with an oil-, water- and soil-repellant treatment and fluorine-containing compositions for this purpose

Номер патента: US5872180A. Автор: Gisbert Michels,Hans-Albert Ehlert,Uwe Zweering. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1999-02-16.

Fluorine-containing compound and contrast agent

Номер патента: US20230293734A1. Автор: Naoko Yanai. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2023-09-21.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: US11820953B2. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Shunya Suzuki,Masaki NANKO,Natsumi SHIBATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Liquid crystal composition, fluorine-containing polymer, optically anisotropic layer, laminate, and image display device

Номер патента: US20230159827A1. Автор: Hiroshi Matsuyama,Wataru HOSHINO,Yumi Kato,Keigo SHIGA. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2023-05-25.

High-temperature self-crosslinking fluorine-containing polyaryletherketone and preparation method thereof, and coating material and preparation method thereof

Номер патента: US20240043716A1. Автор: XIAO Li,Jun Zhao,Yun Zhao,Daxin SHI,Hao Chang,Xiaoguang Jiao,Caihong Feng,Bing QIN,Chao ZHA,Qingze Jiao,Hansheng Li,Yaoyuan ZHANG. Владелец: TONGLING JINGDA SPECIAL MAGNET WIRE CO Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Fluorine-containing copolymer and surface-modified substrate using same

Номер патента: EP4372058A1. Автор: Hideki Hayashi,Tetsushi Kijima. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-22.

Transparent fluorine-containing polymer

Номер патента: US20120148808A1. Автор: Toshio Kubota,Akira Hirooka,Makoto Hirooka,Eiko Hirooka,Takehiro Nagasawa. Владелец: Ibaraki University NUC. Дата публикации: 2012-06-14.

Transparent fluorine-containing polymer

Номер патента: US8871332B2. Автор: Toshio Kubota,Akira Hirooka,Takehiro Nagasawa. Владелец: Ibaraki University NUC. Дата публикации: 2014-10-28.

Fluorine-containing surfactants for producing fluoropolymers

Номер патента: RU2458041C2. Автор: Харалд КАСПАР,Клаус ХИНТЦЕР,Вернер ШВЕРТФЕГЕР,Майкл ЮРГЕНС,Герберт КОЕНИГСМАНН,Андреас Р. МАУРЕР,Тилман ЗИППЛИС. Владелец: ЗМ Инновейтив Пропертиз Компани. Дата публикации: 2012-08-10.

Process for producing peroxide-vulcanizable, fluorine-containing elastomer

Номер патента: US4943622A. Автор: Akihiro Naraki,Masatoshi Abe,Shin Okamoto,Jun Okabe. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1990-07-24.

Process for producing peroxide-vulcanizable, fluorine-containing elastomer

Номер патента: US4748223A. Автор: Okabe Jun,ABE Masatoshi,Naraki Akihiro,Tatsu Haruyoshi,Ebina Yoshiaki. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1988-05-31.

Method for preventing fluoroelastomer-related hydrolysis of fluorine-containing gas streams

Номер патента: CA1305273C. Автор: Wilhelm Bier,Walter Bacher,Franz-Willi Treffner,Gerd Hofert. Владелец: Steag Kernenergie GmbH. Дата публикации: 1992-07-14.

Crosslinkable, fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US5159026A. Автор: ABE Masatoshi. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1992-10-27.

Vulcanizable, fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US5543468A. Автор: Yuichi Yamamoto,Haruyoshi Tatsu. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1996-08-06.

Fluorine-containing 1,4-dihydropyridine compounds, their production and their medicinal use

Номер патента: CA1130291A. Автор: Stanislav Kazda,Harald Horstmann,Friedrich Bossert,Arend Heise. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1982-08-24.

Fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US4929686A. Автор: Okimasa Yamada,Takehiro Sonoi. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1990-05-29.

Crosslinkable, fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US5219904A. Автор: Masatoshi Abe. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1993-06-15.

Fluorine-containing polymer latex, method for producing same and fluorine-containing polymer

Номер патента: EP1783167A1. Автор: Kazuya Asahi Glass Company Limited OHARU,Hiroshi Asahi Glass Company Limited Funaki,Ryuji Asahi Glass Company Limited SEKI,Hiroki Asahi Glass Company Limited KAMIYA. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2007-05-09.

Fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US4734460A. Автор: Okimasa Yamada. Владелец: Okimasa Yamada. Дата публикации: 1988-03-29.

Fluorine-containing acrylates and methacrylates

Номер патента: GB1218757A. Автор: . Владелец: Ugine Kuhlmann SA. Дата публикации: 1971-01-13.

Method for producing fluorine-containing elastomer aqueous dispersion, and composition

Номер патента: EP4249517A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-09-27.

Fluorine-Containing Polymer

Номер патента: US20240043593A1. Автор: Satoru Miyazawa,Ryo Nadano,Yuzuru Kaneko. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Novel fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same

Номер патента: EP1943255A1. Автор: Takayuki Ito,Toshimitsu Sakuma. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2008-07-16.

Method for producing fluorine-containing elastomer aqueous dispersion, and composition

Номер патента: US20230322975A1. Автор: Masaki Irie,Tatsuya Morikawa,Kouhei Takemura,Rina TAMAI,Sota Yuasa. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2023-10-12.

Fluorine-containing elastomer and crosslinkable composition comprising same

Номер патента: US20110021716A1. Автор: Takashi Yoshimura,Mitsuru Kishine,Shigeru Morita,Keiko Washino. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2011-01-27.

Fluorine-containing diene, its production method and its polymer

Номер патента: US20010047115A1. Автор: Hidenobu Murofushi,Norihide Sugiyama,Atsushi Watakabe,Masakuni Sato,Kimiaki Kashiwagi. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2001-11-29.

Amorphous fluorine-containing resin composition and a manufacturing method of thin films

Номер патента: US20180086934A1. Автор: Yuji Mochizuki,Jeong Chang Lee,Masaki Mugisawa. Владелец: Du Pont Mitsui Fluorochemicals Co Ltd. Дата публикации: 2018-03-29.

Benzene alkylation with formation of linear alkylbenzenes using fluorine-containing mordenite

Номер патента: RU2185358C2. Автор: Джон Ф. НИФТОН,Пракаса Рао АНАНТАНЕНИ,П. Юджен ДАИ. Владелец: Хантсмэн Петрокемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2002-07-20.

Fluorine-containing thermoplastic elastomer composition and process for its production

Номер патента: US5354811A. Автор: Masayuki Saito,Hiroki Kamiya. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 1994-10-11.

Crosslinkable fluorine-containing elastomer composition and molded article made of said composition

Номер патента: WO2010076889A1. Автор: Tsuyoshi Noguchi,Seiichi Hirano,William Brock Alexander. Владелец: Greene, Tweed of Delaware, Inc.. Дата публикации: 2010-07-08.

Product with low-emission coating containing absorbing layers for low reflection on film side and low passage of visible spectrum

Номер патента: RU2637003C2. Автор: Бернд ДИСТЕЛЬДОРФ,Антон ДИТРИХ,Петр КОКОТ,Адам ТОКАЖ. Владелец: Гардиан Индастриз Корп.. Дата публикации: 2017-11-29.

Process for producing fluorine-containing elastomer

Номер патента: US5898054A. Автор: Satoru Saito,Haruyoshi Tatsu,Kuniyoshi Kawasaki. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1999-04-27.

Method for producing fluorine-containing sulfonylamide compound

Номер патента: CA3030680C. Автор: Shiro Tsubokura,Yuka AOMORI,Satoshi KAKO. Владелец: Nippon Soda Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-02.

Fluorine-containing organosilicon compound

Номер патента: US5241096A. Автор: Hitoshi Kinami,Hideki Fujii,Yoshikazu Saito,Kouichi Yamaguchi,Shuji Suganuma. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1993-08-31.

Fluorine-containing organosilicon compound and process for preparing the same

Номер патента: US4996344A. Автор: Hirofumi Kishita,Akira Yoshida,Hiroshi Inomata. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1991-02-26.

Fluorine containing organo-polymeric material for alignment layer and liquid crystal display device employing the same

Номер патента: US5582882A. Автор: Sung-Ho Jin,Shin-woong Kang. Владелец: Samsung Display Devices Co Ltd. Дата публикации: 1996-12-10.

Process for producing fluorine-containing sulfonylimide salt

Номер патента: CA2826375A1. Автор: Toru Suzuki,Shiro Tsubokura,Michiaki Maruyama,Yasuyuki Aiura. Владелец: Nippon Soda Co Ltd. Дата публикации: 2012-09-07.

Optically active fluorine-containing 3-hydroxybutyric acid esters and process for producing the same

Номер патента: US5118836A. Автор: Yoshiichi Suzuki,Kaichi Tanida. Владелец: Showa Shell Sekiyu KK. Дата публикации: 1992-06-02.

Method for the separation and concentration of gas using a composite or asymmetric fluorine-containing polyimide membrane

Номер патента: US5391219A. Автор: Xu Ping,Kenji Matsumoto. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 1995-02-21.

Granular powder of melt processable fluorine-containing resin and preparation of the same

Номер патента: US4914158A. Автор: Takeshi Suzuki,Tatsushiro Yoshimura,Masashi Watada,Shuhei Shimasaki. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1990-04-03.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240043612A1. Автор: Ayano ASANO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-02-08.

Method for producing fluorine-containing acrylate

Номер патента: EP1637514A4. Автор: Shoji Arai,Noriko Wakasa,Hideyuki Mimura,Kenji Tokuhisa,T Fuchikami. Владелец: Sagami Chemical Research Institute. Дата публикации: 2006-09-20.

Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, coating liquid, high oxygen solubility liquid, and article

Номер патента: US20230108820A1. Автор: Motoshi Aoyama. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2023-04-06.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US11919875B2. Автор: Natsumi SHIBATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-03-05.

Fluorine-containing compound and contrast medium

Номер патента: US20240156994A1. Автор: Naoko Yanai. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2024-05-16.

Fluorine-containing compound and contrast medium

Номер патента: US20240173439A1. Автор: Naoko Yanai. Владелец: TDK Corp. Дата публикации: 2024-05-30.

Fluorine-containing epoxy resin composition, and surface modification process, ink jet recording head and ink jet recording apparatus making use of the same

Номер патента: US20020058210A1. Автор: Hiromichi Noguchi,Akihiko Shimomura,Tamaki Sato,Isao Imamura. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-05-16.

Method for producing fluorine-containing acrylate

Номер патента: US20060122423A1. Автор: Shoji Arai,Noriko Wakasa,Hideyuki Mimura,Kenji Tokuhisa,Takamasa Fuchikami. Владелец: Individual. Дата публикации: 2006-06-08.

Fluorine-containing styrene acrylate copolymers and use thereof in lithographic photoresist compositions

Номер патента: US20020164538A1. Автор: Robert Allen,Hiroshi Ito,Phillip Brock,Gregory Wallraff. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2002-11-07.

Fluorine-containing copolymer

Номер патента: CA1243448A. Автор: Kozo Asano,Shinichi Nakagawa,Tsuneo Nakagawa,Sadaatsu Yamaguchi,Toshihiko Amano,Mitsugu Omori. Владелец: Daikin Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1988-10-18.

Fluorine-containing copolymers

Номер патента: CA1241499A. Автор: Stephen H. Korzeniowski. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1988-08-30.

Fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US5565512A. Автор: Satoru Saito,Haruyoshi Tatsu,Futoshi Kumiya. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1996-10-15.

Fluorine-containing copolymer elastomer, process for producing the same and composition containing the same

Номер патента: US5902868A. Автор: Satoru Saito,Haruyoshi Tatsu. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1999-05-11.

Fluorine-containing polyquinazolone polymer and separation membrane using the same

Номер патента: US5859182A. Автор: Kenichi Ikeda,Hisao Hachisuka. Владелец: Nitto Denko Corp. Дата публикации: 1999-01-12.

Epoxidation of fluorine containing olefins

Номер патента: CA2067239A1. Автор: Bruce Edmund Smart,Shlomo M. Rozen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1991-04-13.

Fluorine-containing nitroimidazole derivatives and radio-sensitizer comprising the same

Номер патента: IL88665A. Автор: . Владелец: Nishijima Yasunori. Дата публикации: 1994-10-07.

Chemical comprising fluorine-containing polyaluminum chloride

Номер патента: EP3909661A1. Автор: Wei Huang,Linjun Zhang,Hong Pan,Xiaobo CAI,Ryo HATAYAMA,Zhiyi HU,Shihui ZHAO. Владелец: Daikin Fluorochemicals China Co Ltd. Дата публикации: 2021-11-17.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US11820742B2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Shunya Suzuki,Ayano ASANO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-11-21.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: US20210340457A1. Автор: Katsumi Murofushi,Naoya Fukumoto,Naoko Ito,Yuta YAMAGUCHI. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2021-11-04.

Treatment method of composition containing fluorine-containing organic acid having carbon number of 2 to 7 and impurities

Номер патента: US20190055185A1. Автор: Mihoko Ohashi,Shuji Itatani,Atsuko TAI. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2019-02-21.

Fluorine-containing, silicon-containing polymer and surface treatment agent

Номер патента: US20160060376A1. Автор: Tomohiro Yoshida,Takabumi Nagai,Dai FUKAMI,Tomomi Irita. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2016-03-03.

Fluorine-containing, silicon-containing polymer and surface treatment agent

Номер патента: US9951166B2. Автор: Tomohiro Yoshida,Takabumi Nagai,Dai FUKAMI,Tomomi Irita. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2018-04-24.

Thermoplastic compositions containing elastomers and fluorine containing thermoplastics

Номер патента: US6066697A. Автор: Aubert Y. Coran,Oansuk Chung. Владелец: UNIVERSITY OF AKRON. Дата публикации: 2000-05-23.

Fluorine-containing elastic copolymers, curable composition containing the same and sealant made therefrom

Номер патента: US6140437A. Автор: Mitsuru Kishine,Hideya Saito,Masanori Kitaichi,Yasuji Iwasaki. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2000-10-31.

Reactive silicone and/or fluorine containing hydrophilic prepolymers and polymers thereof

Номер патента: US5010141A. Автор: Karl F. Mueller. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1991-04-23.

Reactive silicone and/or fluorine containing hydrophilic prepolymers and polymers thereof

Номер патента: US5079319A. Автор: Karl F. Mueller. Владелец: Ciba Geigy Corp. Дата публикации: 1992-01-07.

Fluorine-containing elastomer composition

Номер патента: US5824749A. Автор: Satoru Saito,Haruyoshi Tatsu,Takehiro Sonoi,Lev Solomonovich, deceased,Valerii Romanovich Polishchuk, deceased. Владелец: Nippon Mektron KK. Дата публикации: 1998-10-20.

Fluorine-containing copolymers and aqueous dispersions prepared therefrom

Номер патента: US5387640A. Автор: Gisbert Michels,Hans-Albert Ehlert. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1995-02-07.

Method for production of fluorine-containing aromatic compounds

Номер патента: US6043397A. Автор: Yoshinobu Asako,Seiichi Teshima. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO LTD. Дата публикации: 2000-03-28.

Fluorine-containing polymers with pendent thioorgano groups

Номер патента: CA1299799C. Автор: Robert Eugene Kolb,Paul Francis Tuckner,Richard Alvin Guenthner. Владелец: Minnesota Mining and Manufacturing Co. Дата публикации: 1992-04-28.

Oil-and water-repellent composition consisting of a fluorine containing polymer,selected salts and an antistatic agent

Номер патента: US3824126A. Автор: T Kato,M Nagai,S Fukui,A Katsushima,I Hisamoto,A Iwatani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1974-07-16.

Fluorine-Containing Polymerizable Monomer and Polymer Compound Using Same

Номер патента: US20100234556A1. Автор: Hiroshi Saegusa,Kazuhiko Maeda,Satoru Narizuka. Владелец: Central Glass Co Ltd. Дата публикации: 2010-09-16.

Crosslinkable, fluorine-containing copolymers as binders for highly weather-resistant surface coatings

Номер патента: US4859755A. Автор: Gernot Lohr,Albrecht Manz,Michael Schlipf. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1989-08-22.

Process for the preparation of fluorine-containing chemical compounds

Номер патента: US5773651A. Автор: Ralf Pfirmann,Friedrich Seitz. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1998-06-30.

Fluorine-containing pyrazole compound and method for producing same

Номер патента: US20240116915A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-11.

Fluorine-containing resin particle, composition, layer-shaped article, electrophotographic photoreceptor, process cartridge, and image forming apparatus

Номер патента: US20220066335A1. Автор: Wataru Yamada,Masahiro Iwasaki,Ryosuke Fujii,Keisuke KUSANO,Yuto Okazaki,Taisuke Fukui. Владелец: FUJIFILM BUSINESS INNOVATION CORP. Дата публикации: 2022-03-03.

Composition, coating film, fluorine-containing coating film and laminate

Номер патента: US20200282713A1. Автор: Katsuhiko Imoto,Susumu Wada,Koichiro Ogita,Keiko Washino,Yasukazu Nakatani. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 2020-09-10.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240203453A1. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Takuma Kuroda,Natsumi SHIBATA,Ayano ASANO,Yutaka TANJI,Chizuru KASAHARA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-06-20.

Fluorine-containing mono- or poly-alkylene glycol and method for producing same

Номер патента: CA1323378C. Автор: Tomoaki Shimoda,Masahide Tanaka,Takeshi Sakashita,Masaru Sudo,Tokinori Agou,Masahiro Kuwahara. Владелец: Mitsui Petrochemical Industries Ltd. Дата публикации: 1993-10-19.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240002743A1. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Takuma Kuroda,Natsumi SHIBATA,Ayano ASANO. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2024-01-04.

Fluorine containing polymeric compositions useful in contact lenses

Номер патента: US4686267A. Автор: Edward J. Ellis,Jeanne Y. Ellis. Владелец: Polymer Technology Corp. Дата публикации: 1987-08-11.

Fluorine-containing benzoyl guanidines, method of preparing thereof, pharmaceutical composition, and method of preparation thereof

Номер патента: RU2159230C2. Автор: Байер Норберт,Дорш Дитер,Баумгарт Манфред,Минк Клаус-Отто,Герике Рольф. Владелец: Мерк Патент Гмбх. Дата публикации: 2000-11-20.

Cross linkable fluorine-containing polymer and its production

Номер патента: US4243770A. Автор: Takeshi Suzuki,Yasuyoshi Furukawa,Yutaka Ueta,Masayasu Tomoda,Masayoshi Tatemoto. Владелец: Daikin Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1981-01-06.

Stabilization of fluorine-containing vinyl polymers

Номер патента: US3779985A. Автор: G Heuser,G Weisgerber,E Behr. Владелец: Dynamit Nobel AG. Дата публикации: 1973-12-18.

Intermediates and process for producing fluorine-containing amino acid compound by using the same

Номер патента: CA2354619C. Автор: Kazunari Sakagami,Atsuro Nakazato,Takeo Taguchi,Toshihito Kumagai,Kazuyuki Tomisawa,Hisanaka Ito. Владелец: Taisho Pharmaceutical Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-22.

Fluorine-containing glycoside and its use

Номер патента: CA1326665C. Автор: Eiji Seki,Tetsuya Masutani,Katsuhiko Kitahara,Ryohei Yamaoka,Keizo Hayashiya,Tohru Yoshimura. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1994-02-01.

Fluorine-containing organosilicon compounds and method for the preparation thereof

Номер патента: US5374760A. Автор: Hideki Kobayashi. Владелец: Dow Corning Toray Silicone Co Ltd. Дата публикации: 1994-12-20.

Adhesive composition comprising a fluorine containing elastomer and fibrated PTFE

Номер патента: US4387168A. Автор: Shigeru Morita. Владелец: Daikin Kogyo Co Ltd. Дата публикации: 1983-06-07.

Fluorine-containing graft copolymer and adhesive and composite membrane made thereof

Номер патента: US4666991A. Автор: Kazuhiko Ishihara,Kiyohide Matsui. Владелец: Sagami Chemical Research Institute. Дата публикации: 1987-05-19.

Method of preparing fluorine-containing ethane derivatives

Номер патента: US5171900A. Автор: Werner Rudolph,Johannes Eicher,Hans-Walter Swidersky,Karlheinz Fazniewscy. Владелец: Kali Chemie Ag. Дата публикации: 1992-12-15.

Method for production of fluorine-containing aromatic derivative

Номер патента: US4631151A. Автор: Masato Yoshida,Hideo Sawada,Michio Kobayashi,Hidehiko Hagii,Kazuyoshi Aoshima. Владелец: Nippon Oil and Fats Co Ltd. Дата публикации: 1986-12-23.

Fluorine-containing compounds having polyacetalic structure, and process for preparing them

Номер патента: US5637671A. Автор: Claudio Tonelli,Stefano Turri,Ezio Strepparola,Marinella Levi,Ferdinando Danusso. Владелец: Ausimont SpA. Дата публикации: 1997-06-10.

Fluorine-containing polymeric amine-amide compound and a method for the preparation thereof

Номер патента: US4822860A. Автор: Akira Sekiya. Владелец: Agency of Industrial Science and Technology. Дата публикации: 1989-04-18.

Ampholytic, fluorine-containing esters of phosphorous acid and process for the manufacture thereof

Номер патента: CA1074807A. Автор: Siegfried Billenstein,Erich Schuierer,Heinrich Bathelt. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1980-04-01.

Process of hydrolyzing fluorine-containing multi-component copolymers

Номер патента: US4322511A. Автор: Sueo Machi,Osamu Matsuda,Yoneho Tabata,Terutaka Watanabe. Владелец: Japan Atomic Energy Research Institute. Дата публикации: 1982-03-30.

Fluorine-containing organosilanes useful as magnetic media lubricants

Номер патента: CA1308115C. Автор: Pamela Estelle Blatch. Владелец: Dow Corning Corp. Дата публикации: 1992-09-29.

Iodine- and fluorine-containing epoxy compound

Номер патента: US5227501A. Автор: Shinichi Sato,Takashi Matsuda,Hiromasa Yamaguchi,Yasuo Tarumi. Владелец: Shin Etsu Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1993-07-13.

Fluorine-containing acrylic acid derivative and polymer thereof

Номер патента: CA1260939A. Автор: Shigeru Morita,Masahiko Oka. Владелец: Daikin Industries Ltd. Дата публикации: 1989-09-26.

Fluorine-containing benzoxazoles

Номер патента: US4120863A. Автор: Christ Tamborski,John B. Christian. Владелец: US Air Force. Дата публикации: 1978-10-17.

Herbicidally active fluorine-containing 4,6-diamino-s-triazines

Номер патента: US4459151A. Автор: Hermann Hagemann,Robert R. Schmidt,Bernd Baasner,Engelbert Kuhle,Ludwig Eue. Владелец: Bayer AG. Дата публикации: 1984-07-10.

Process for polymerizing fluorine-containing monomers using acids of metals as catalyst

Номер патента: US3632847A. Автор: Robert Hartwimmer. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1972-01-04.

Fluorine- containing hydrocarbon composition

Номер патента: MY115694A. Автор: Masato Fukushima,Keiichi Ohnishi,Kenrou Kitamura. Владелец: Asahi Glass Co Ltd. Дата публикации: 2003-08-30.

Fluorine-containing alkylsuccinic acid diester, process for preparing the same and use thereof

Номер патента: US5391814A. Автор: Yoshiaki Kai,Naoko Mizuno. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1995-02-21.

Preparation method and use for fluorine-containing microemulsion

Номер патента: US9101892B2. Автор: Jianxin Zhang,Rong Bai,Xianquan Hu,Jiong He. Владелец: Zhonghao Chenguang Research Institute of Chemical Industry Co Ltd. Дата публикации: 2015-08-11.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US11912824B2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-02-27.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240034951A2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-02-01.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US11905365B2. Автор: Masaki NANKO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-02-20.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US11879109B2. Автор: Ayano ASANO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-01-23.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium and magnetic recording medium

Номер патента: US11845906B2. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-12-19.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20230287288A1. Автор: Natsumi SHIBATA. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2023-09-14.

Fluorine-containing pyrimidine compound and method for producing same

Номер патента: US20240124436A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-04-18.

Fluorine-containing elastomer compositions suitable for high temperature applications

Номер патента: EP3097126A1. Автор: Eugene Gurevich,Brian Ux. Владелец: Greene Tweed Technologies Inc. Дата публикации: 2016-11-30.

Fluorine-containing diamines, polyamides, and polyimides

Номер патента: US5286841A. Автор: Andrew E. Feiring,Brian C. Auman. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 1994-02-15.

Fluorine-containing pyrimidine compound and manufacturing method for same

Номер патента: US20240150329A1. Автор: Keisuke Kokin,Junya SEINO,Rie AOTSU. Владелец: Unimatec Co Ltd. Дата публикации: 2024-05-09.

Use of atmospheric plasma for the surface of inorganic particles and inorganic particles comprising an organic fluorine-containing surface modification

Номер патента: EP2788433A1. Автор: Eliana Ieva,Hans Edouard Miltner,Valeriy KAPELYUSHKO. Владелец: SOLVAY SA. Дата публикации: 2014-10-15.

New fluorine-containing phenyl formamidine derivatives and their use as insecticide

Номер патента: WO2009031822A3. Автор: Dae Whang Kim,Kun Hoe Chung,Young Kwan Ko,Jae Wook Ryu,Jae Chun Woo,Dong Wan Koo,Tae Joon Kim,Mi Sook Hong,Bong Jin Chung,Dong Guk Lee,Yong Ho Choi,No Joong Park,Chang Seop Cho. Владелец: Chang Seop Cho. Дата публикации: 2009-06-18.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20240101759A1. Автор: Daisuke Yagyu,Tsuyoshi Kato,Naoya Fukumoto,Masaki NANKO,Ayano ASANO,Shoko UETAKE,Yutaka TANJI. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-03-28.

Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium

Номер патента: US20180009773A1. Автор: Katsumi Murofushi,Daisuke Yagyu,Hiroyuki Tomita,Naoya Fukumoto,Naoko Ito,Yuta YAMAGUCHI,Ryuta Miyasaka,Shoko UETAKE. Владелец: Showa Denko KK. Дата публикации: 2018-01-11.

Material comprising a stack of thin layers for thermal insulation and aesthetic properties

Номер патента: EP4251581A1. Автор: Veronique Rondeau,Soumyadeep Misra,Priyesh DHANDHARIA. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2023-10-04.

Material comprising a stack of thin layers for thermal insulation and aesthetic properties

Номер патента: US20240300854A1. Автор: Veronique Rondeau,Soumyadeep Misra,Priyesh DHANDHARIA. Владелец: Saint Gobain Glass France SAS. Дата публикации: 2024-09-12.

Ultra-low-loss optical fiber, and method and apparatus for producing same

Номер патента: US20170003444A1. Автор: Sung-Koog Oh,Ji-Hun Yun,Jong-Gil Park,Chi-Hwan OUH,Na-Eun KWACK,Eun-You HONG. Владелец: TAIHAN FIBEROPTICS CO Ltd. Дата публикации: 2017-01-05.

Ultra-low-loss optical fiber, and method and apparatus for producing same

Номер патента: US09726815B2. Автор: Sung-Koog Oh,Ji-Hun Yun,Jong-Gil Park,Chi-Hwan OUH,Na-Eun KWACK,Eun-You HONG. Владелец: TAIHAN FIBEROPTICS CO Ltd. Дата публикации: 2017-08-08.

Systems and methods for fabricating low-loss, high-strength optical fiber transmission lines

Номер патента: US20040013374A1. Автор: David DiGiovanni,Torben Veng. Владелец: Fitel USA Corp. Дата публикации: 2004-01-22.

Low-loss waveguides formed in high-transmission glass using ag-na ion exchange

Номер патента: US12030809B2. Автор: Lars Martin Otfried BRUSBERG,Davide Domenico Fortusini. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2024-07-09.

Low loss oxide magnetic material

Номер патента: US4963281A. Автор: Hikohiro Togane. Владелец: Mitsubishi Electric Corp. Дата публикации: 1990-10-16.

Large-effective-mode-area low-loss optical fiber with optimized cladding components

Номер патента: US20230176277A1. Автор: FAN LI,Longfei WANG,Lihong SUI. Владелец: Jiangsu Etern Optical Fiber Technology Co Ltd. Дата публикации: 2023-06-08.

Low Loss Optical Fiber And Method Of Making The Same

Номер патента: US20160170137A1. Автор: Man F. Yan,David W. Peckham,Jorgen Ostgaard Olsen,Patrick W. Wisk,Peter I. Borel,Rasmus V.S. Jensen,Ole A. Levring,Dennis J. Trevor. Владелец: OFS FITEL LLC. Дата публикации: 2016-06-16.

Low-loss optical fibre

Номер патента: RU2544874C2. Автор: Снигдхарадж К. МИШРА. Владелец: Корнинг Инкорпорейтед. Дата публикации: 2015-03-20.

Low loss cladded optical fibers from halides and process for making same

Номер патента: CA1246913A. Автор: Terry A. Fuller. Владелец: Fuller Research Corp. Дата публикации: 1988-12-20.

Product with low-emission coating containing absorbing layers for low reflection on film side and low passage of visible spectrum

Номер патента: RU2637390C2. Автор: Бернд ДИСТЕЛЬДОРФ,Антон ДИТРИХ,Петр КОКОТ,Адам ТОКАЖ. Владелец: Гардиан Индастриз Корп.. Дата публикации: 2017-12-04.

Capacitance touch panel with silver-inclusive transparent conductive layer(s) and dielectric layer(s)

Номер патента: US09904431B2. Автор: Alexey Krasnov,Willem den Boer,Vijayen S. Veerasamy,Jason Blush,Eric W. AKKASHIAN. Владелец: Guardian Glass LLC. Дата публикации: 2018-02-27.

Low loss foam composition and cable having low loss foam layer

Номер патента: CA2523861C. Автор: Richard Gendron,Caroline Vachon,Sitaram Rampalli,Michel F. Champagne,Vijay K. Chopra,Hugh R. Nudd. Владелец: NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA. Дата публикации: 2011-02-22.

Low-loss amorphous alloy

Номер патента: US4462826A. Автор: Koichiro Inomata,Tadahiko Kobayashi,Michio Hasegawa. Владелец: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd. Дата публикации: 1984-07-31.

Electrodes comprising conductive perovskite-seed layers for perovskite dielectrics

Номер патента: US5626906A. Автор: Howard R. Beratan,Scott R. Summerfelt. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 1997-05-06.

Material comprising a stack of thin layers for thermal insulation and aesthetic properties

Номер патента: EP4263457A1. Автор: Veronique Rondeau,Soumyadeep Misra,Priyesh DHANDHARIA. Владелец: Compagnie de Saint Gobain SA. Дата публикации: 2023-10-25.

Low-loss waveguides formed in high-transmission glass using ag-na ion exchange

Номер патента: EP3740796A1. Автор: Lars Martin Otfried BRUSBERG,Davide Domenico Fortusini. Владелец: Corning Inc. Дата публикации: 2020-11-25.

Multilayer material from fluorine-containing resin

Номер патента: RU2412822C2. Автор: Хироки КАМИЯ,Ацуси ФУНАКИ,Сигеру АИДА,Тосиюки ТИСАКА. Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2011-02-27.

Solvent for gas chromatograpy mass spectometry, and method for determination of fluorine-containing substances on the surface of fluororesin melt-molded products

Номер патента: EP3935379A1. Автор: Hiromasa Yabe,Hiroko ITAGAKI. Владелец: Chemours Mitsui Fluoroproducts Co Ltd. Дата публикации: 2022-01-12.

Solvent for gas chromatograpy mass spectometry, and method for determination of fluorine-containing substances on the surface of fluororesin melt-molded products

Номер патента: US20220146468A1. Автор: Hiromasa Yabe,Hiroko ITAGAKI. Владелец: Chemours Mitsui Fluoroproducts Co Ltd. Дата публикации: 2022-05-12.

Solvent for gas chromatograpy mass spectometry, and method for determination of fluorine-containing substances on the surface of fluororesin melt-molded products

Номер патента: WO2020180968A1. Автор: Hiromasa Yabe,Hiroko ITAGAKI. Владелец: CHEMOURS-MITSUI FLUOROPRODUCTS CO. LTD. Дата публикации: 2020-09-10.

Method of activating catalyst for producing fluorine-containing hydrocarbons

Номер патента: RU2449832C2. Автор: Людмила Григорьевна Симонова,Сергей Иванович Решетников,Александр Анатольевич Зирка,Любовь Александровна Исупова,Игорь Георгиевич Трукшин,Валерий Георгиевич Барабанов,Герман Германович Шелопин,Наиль Гумарович Исмагилов,Ирина Евгеньевна Митина. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие &#34;РНЦ &#34;Прикладная химия&#34;. Дата публикации: 2012-05-10.

Magnetic field probe for mri with a fluoroelastomer or a solution of a fluorine -containing compound

Номер патента: EP2745124A1. Автор: Jeroen Alphons Pikkemaat,Miha Fuderer. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2014-06-25.

Magnetic field probe for mri with a fluoroelastomer or a solution of a fluorine -containing compound

Номер патента: WO2013057643A1. Автор: Jeroen Alphons Pikkemaat,Miha Fuderer. Владелец: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.. Дата публикации: 2013-04-25.

Extraction method of niobium (v) from fluorine-containing water solution

Номер патента: RU2430173C1. Автор: Лидия Алексеевна Воропанова,Залина Акимовна Гагиева,Светлана Константиновна Зангиева. Владелец: Лидия Алексеевна Воропанова. Дата публикации: 2011-09-27.

Magnetic field probe for MRI with a fluoroelastomer or a solution of a fluorine-containing compound

Номер патента: US10416260B2. Автор: Jeroen Alphons Pikkemaat,Miha Fuderer. Владелец: Koninklijke Philips NV. Дата публикации: 2019-09-17.

Carbon molecular sieve membranes based on fluorine-containing polymer/polysilsesquioxane blending precursors and method for fabricating the same

Номер патента: US09901880B2. Автор: Jong Suk Lee,Seung Sang Hwang,SungHwan Park,Albert Sung Soo LEE. Владелец: Korea Advanced Institute of Science and Technology KAIST. Дата публикации: 2018-02-27.

Magneto-optical modulator for superconducting digital interface

Номер патента: WO2003003578A2. Автор: Roman Sobolewski. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2003-01-09.

Magneto-optical modulator for superconducting digital interface

Номер патента: EP1360545A2. Автор: Roman Sobolewski. Владелец: UNIVERSITY OF ROCHESTER. Дата публикации: 2003-11-12.

Articles Formed From Fluorine-Containing Elastomer Compositions Using Additive Manufacturing Methods and Additive Manufacturing Methods for Thermoset Elastomer Compositions

Номер патента: US20240286347A1. Автор: Mookkan Periyasamy,Ronald R. Campbell,David O. Kazmer,Joey L. Mead,Stiven KODRA,A. A. Mubasshir. Владелец: Greene Tweed Technologies Inc. Дата публикации: 2024-08-29.

Procedure for processing fluorine-containing materials used in electrolytic production of aluminium

Номер патента: RU2402621C1. Автор: Борис Петрович Куликов,Александр Александрович Кузнецов,Михаил Дмитриевич Николаев. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Торговый дом &#34;Байкальский алюминий&#34; (ООО Тд &#34;Байкальский алюминий&#34;). Дата публикации: 2010-10-27.

Systems and methods for using fluorine-containing gas for submerged arc welding

Номер патента: US09764409B2. Автор: Steven Barhorst,Mario Amata,Joseph Bundy,Kenneth Allen Fisher. Владелец: ILLINOIS TOOL WORKS INC. Дата публикации: 2017-09-19.

Method of treatment of fluorine containing aluminium production waste by electrolysis

Номер патента: RU2092439C1. Автор: М.П. Кононов,В.П. Тунгусов. Владелец: Акционерное общество открытого типа &#34;Всероссийский алюминиево-магниевый институт&#34;. Дата публикации: 1997-10-10.

Method and apparatus for treating gas containing fluorine-containing compounds

Номер патента: EP1732669A1. Автор: Yoichi c/o Ebara Corporation MORI,Tadakazu c/o Ebara Corporation NISHIKAWA,Masaaki c/o Ebara Corporation OSATO,Saburou c/o Kyocera Corporation NAGANO,Yoshihiro c/o Kyocera Corporation TANABE. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2006-12-20.

Gypsum board with a fluorine-containing antifungal agent

Номер патента: US20090104144A1. Автор: William Toreki,Gerald Olderman,Gregory Staab. Владелец: Quick Med Technologies Inc. Дата публикации: 2009-04-23.

Method for modifying fluorine-containing plastic, modified plastic and bio-material containing this plastic

Номер патента: AU1745392A. Автор: Hendrik Jan Busscher,Josephus Maria Schakenraad,Ietse Stokroos. Владелец: Rijksuniversiteit Groningen. Дата публикации: 1992-11-17.

Additively manufacturing fluorine-containing polymers

Номер патента: US20220063186A1. Автор: Thomas Matthew Selter. Владелец: Honeywell Federal Manufacturing and Technologies LLC. Дата публикации: 2022-03-03.

Mineralizing fluorine-containing compositions

Номер патента: RU2720242C2. Автор: Эрик Чарлз РЕЙНОЛЬДС. Владелец: Юниверсити Оф Мельбурн. Дата публикации: 2020-04-28.

Paper substrate containing a fluorine containing compound and having enhanced grease-resistance and glueability

Номер патента: CA2621110C. Автор: Timothy J. Bradford,Richard F. Rudolph,Barry Chapman,Pat Morabito. Владелец: International Paper Co. Дата публикации: 2012-12-18.

Low loss contact structures for silicon based optical modulators and methods of manufacture

Номер патента: WO2006020701A1. Автор: Thomas Keyser,Cheisan J. Yue. Владелец: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.. Дата публикации: 2006-02-23.

Electrophotographic apparatus and process cartridge featuring an electrophotographic photosensitive member having a surface layer of lubricative fluorine-containing resin powder

Номер патента: US5610690A. Автор: Hidetoshi Hirano,Hideki Anayama,Mayumi Kimura,Itaru Yamazaki,Toshiyuki Yoshihara,Hideyuki Ainoya. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 1997-03-11.

Method of processing fluorine-containing wastes from electrolytic production of aluminium

Номер патента: RU2472865C1. Автор: Эдвард Петрович Ржечицкий,Виктор Викторович Кондратьев,Николай Аркадьевич Иванов,Анфиса Ивановна Ржечицкая. Владелец: Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования &#34;Иркутский государственный технический университет&#34; (ГОУ ИрГТУ). Дата публикации: 2013-01-20.

Fluorine-containing alkylsulfobetaines, a process for their preparation and their use

Номер патента: CA1181418A. Автор: Winfried Ehrl,Siegfried Jung. Владелец: Hoechst AG. Дата публикации: 1985-01-22.

Display apparatus sealed with a solvent-soluble fluorocarbon or fluorine-containing resin having an adhesive covalent bond-forming functional group

Номер патента: US5508833A. Автор: Takashi Takahashi,Susumu Saito. Владелец: Topcon Corp. Дата публикации: 1996-04-16.

Electrophotographic plate having a protective layer of a fluorine-containing copolymer

Номер патента: US4734347A. Автор: Yasuo Katsuya,Akira Kageyama,Yasuki Mori,Keiichi Endo. Владелец: Hitachi Chemical Co Ltd. Дата публикации: 1988-03-29.

Fluorine containing dental materials

Номер патента: CA1203484A. Автор: Stephen C. Kwan,John J. O&#39;connell. Владелец: Sybron Corp. Дата публикации: 1986-04-22.

Barrier layers for anisotropic magneto-resistive sensors

Номер патента: US20240102830A1. Автор: Fuchao Wang,William French,Erika Mazotti,Ricky A. Jackson. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2024-03-28.

A Magnet Assembly for Superconducting Magnetic Resonance

Номер патента: AU2020103719A4. Автор: Qingming Huang. Владелец: Shanghai University of Medicine and Health Sciences. Дата публикации: 2021-02-11.

Geometries for superconducting sensing coils for squid-based systems

Номер патента: WO2009023303A3. Автор: Inseob Hahn,Konstantin I Penanen,Byeong H Eom. Владелец: Byeong H Eom. Дата публикации: 2009-08-13.

Geometries for superconducting sensing coils for squid-based systems

Номер патента: EP2145197A2. Автор: Inseob Hahn,Byeong H. Eom,Konstantin I. Penanen. Владелец: California Institute of Technology CalTech. Дата публикации: 2010-01-20.

Antireflective layer for use in microlithography

Номер патента: WO2002044816A3. Автор: Robert Clayton Wheland,Roger Harquail French,Michael Karl Crawford,Larry L Berger,Frederick Claus Zumsteg Jr. Владелец: Frederick Claus Zumsteg Jr. Дата публикации: 2003-09-12.

Two-dimensional magnetic recording read head with TaOx layer for flat middle shield topography and method of forming thereof

Номер патента: US12131759B2. Автор: Guanxiong Li,Ming Mao,Hongquan Jiang. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2024-10-29.

Low loss contact structures for silicon based optical modulators and methods of manufacture

Номер патента: EP1784683A1. Автор: Thomas Keyser,Cheisan J. Yue. Владелец: Honeywell International Inc. Дата публикации: 2007-05-16.

Surface charge mitigation layer for mems sensors

Номер патента: WO2014070930A3. Автор: Ando Feyh,Gary O&#39;brien,Andrew Graham. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2014-12-31.

Surface charge mitigation layer for mems sensors

Номер патента: EP2938570A2. Автор: Ando Feyh,Gary O&#39;brien,Andrew Graham. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2015-11-04.

Surface charge mitigation layer for mems sensors

Номер патента: WO2014070930A2. Автор: Ando Feyh,Gary O&#39;brien,Andrew Graham. Владелец: ROBERT BOSCH GMBH. Дата публикации: 2014-05-08.

Treatment of a self-assembled monolayer on a dielectric layer for improved epoxy adhesion

Номер патента: WO2012125377A2. Автор: David Leslie Heald,Majorio Arafiles RAFANAN. Владелец: QUALCOMM MEMS Technologies, Inc.. Дата публикации: 2012-09-20.

Cryostat for superconducting nmr spectrometer

Номер патента: CA1104054A. Автор: George D. Kneip, Jr.. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1981-06-30.

Cryostat with external refrigerator for superconducting nmr spectrometer

Номер патента: CA1107633A. Автор: Marvin H. Anderson,George D. Kneip, Jr.. Владелец: Varian Associates Inc. Дата публикации: 1981-08-25.

Rough anti-stiction layer for mems device

Номер патента: US20180179047A1. Автор: I-Shi WANG,Jen-Hao Liu,Ren-Dou Lee,Yu-Jui Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-28.

Rough anti-stiction layer for MEMS device

Номер патента: US09884755B2. Автор: I-Shi WANG,Jen-Hao Liu,Ren-Dou Lee,Yu-Jui Chen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-02-06.

Low-loss at bends optical fiber

Номер патента: RU2727854C2. Автор: Дана Крейг БУКБАЙНДЕР,Мин-Цзюнь ЛИ,Пушкар ТАНДОН,Снигдхарадж Кумар МИШРА. Владелец: Корнинг Инкорпорейтед. Дата публикации: 2020-07-24.

System containing low pressure steam turbine (versions) and combined cycle system

Номер патента: RU2570247C2. Автор: Махендхра МУТХУРАМАЛИНГАМ,Веераппан МУТХАИАХ,Рауб Ворфилд СМИТ. Владелец: Дженерал Электрик Компани. Дата публикации: 2015-12-10.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: US20200333263A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: US11940392B2. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2024-03-26.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: EP3956824A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2022-02-23.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: AU2020259653B2. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2023-08-03.

Anisotropic conductive dielectric layer for electrophoretic display

Номер патента: US20200201133A1. Автор: Yu Li,LEI Liu,Hui Du,HongMei Zang,Craig Lin,Peter B. Laxton. Владелец: E Ink California LLC. Дата публикации: 2020-06-25.

Scalable low-loss disaster recovery for data stores

Номер патента: US12086037B2. Автор: Alex Kogan,Virendra Marathe,Ahmed Alquraan. Владелец: Oracle International Corp. Дата публикации: 2024-09-10.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: AU2020259653A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2021-09-30.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: WO2020212092A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: Ibm United Kingdom Limited. Дата публикации: 2020-10-22.

Measurement scheme for superconducting qubits using low-frequency microwave signals within a dilution refrigerator

Номер патента: CA3170016A1. Автор: Baleegh ABDO. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 2020-10-22.

A novel low-loss belt-type buckwheat windrow pickup header with telescopic teeth

Номер патента: AU2020101937A4. Автор: Xiang Wang,Zhijie Liu,Xiaoxuan Dang,Weiguo Zhang,Jinhua Xiang,Songke Feng,Yingshi Huang,Fuzeng Yang,Zhongxiao Zheng. Владелец: NORTHWEST A&F UNIVERSITY. Дата публикации: 2020-10-01.

Low loss silicon nitride and waveguides comprising low loss silicon nitride

Номер патента: WO2024049944A1. Автор: Robert Higashi,Robert Horning,David Deen,Christopher John CARRON,Molly KROGSTAD. Владелец: Quantinuum Llc. Дата публикации: 2024-03-07.

Low-loss waveguiding structures, in particular modulators

Номер патента: US20210011217A1. Автор: Mian ZHANG,Christian Reimer,Kevin Luke. Владелец: Hyperlight Corp. Дата публикации: 2021-01-14.

Large-effective-mode-area low-loss optical fiber with optimized cladding components

Номер патента: US12099233B2. Автор: FAN LI,Longfei WANG,Lihong SUI. Владелец: Jiangsu Etern Optical Fiber Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-09-24.

Dielectric layer for magneto-optic storage media structures

Номер патента: CA2032866A1. Автор: Christopher V. Jahnes,Fletcher Jones,Michael A. Russak,Joseph S. Logan. Владелец: International Business Machines Corp. Дата публикации: 1991-08-01.

Compact and low loss Y-junction for submicron silicon waveguide

Номер патента: US09851503B2. Автор: Yang Liu,Yi Zhang,Michael J. Hochberg,Ruizhi Shi,Thomas Wetteland BAEHR-JONES,Yangjin Ma,Shuyu Yang. Владелец: Elenion Technologies LLC. Дата публикации: 2017-12-26.

Low-loss few-mode fiber

Номер патента: US09739936B2. Автор: Huang Yu,WEN Chen,Cheng Du,Zhiqiang Yu,Qi Mo,Dongxiang Wang,Bingfeng CAI. Владелец: Wuhan Research Institute of Posts and Telecommunications Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-22.

Low loss high extinction ratio on-chip polarizer

Номер патента: US09470844B1. Автор: Yang Liu,Ruizhi Shi,Yangjin Ma. Владелец: Coriant Advanced Technology LLC. Дата публикации: 2016-10-18.

Gas-permeable materials containing low-stretchable fabrics and method of manufacture of such materials

Номер патента: RU2297917C2. Автор: Грегори К. ДЖОУНС. Владелец: Клоупэй Плэстик Продактс Компани, Инк.. Дата публикации: 2007-04-27.

Ultra low-loss CMOS compatible silicon waveguides

Номер патента: US20070280616A1. Автор: Prakash Gothoskar,Margaret Ghiron,Vipulkumar Patel,David Piede. Владелец: Individual. Дата публикации: 2007-12-06.

Scalable Low-Loss Disaster Recovery for Data Stores

Номер патента: US20230333945A1. Автор: Alex Kogan,Virendra Marathe,Ahmed Alquraan. Владелец: Oracle International Corp. Дата публикации: 2023-10-19.

Scalable low-loss disaster recovery for data stores

Номер патента: US11726886B2. Автор: Alex Kogan,Virendra Marathe,Ahmed Alquraan. Владелец: Oracle International Corp. Дата публикации: 2023-08-15.

Cooling structure of heat pipe for superconducting magneto plasma dynamic thruster

Номер патента: US11781535B2. Автор: Zhou Yin,Ming Li,Cheng Zhou,Fei Liu,Ge Wang,Haiyang Liu,Jinxing Zheng,Mingzhun LEI,Pinghui Zhao. Владелец: Hefei Institutes of Physical Science of CAS. Дата публикации: 2023-10-10.

Optical storage medium having an organic recording layer attached to a dielectric layer

Номер патента: MY136918A. Автор: Hidetoshi Watanabe,Sakuya Tamada. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2008-11-28.

Red omnidirectional structural color made from metal and dielectric layers

Номер патента: US09739917B2. Автор: Debasish Banerjee,Masahiko Ishii,Minjuan Zhang,Li Qin Zhou,Yumi Kato. Владелец: Toyota Motor Engineering and Manufacturing North America Inc. Дата публикации: 2017-08-22.

Micro-electro mechanical system (MEMS) device having a blocking layer formed between closed chamber and a dielectric layer of a CMOS substrate

Номер патента: US09617150B2. Автор: Chia-Hua Chu,Chun-Wen Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-04-11.

Disk drive head gimbal assembly having a flexure tail with a dielectric layer that has regions of lesser thickness

Номер патента: US09524738B1. Автор: Tzong-Shii Pan,Wing Chun Shum,Yih-Jen Dennis Chen. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2016-12-20.

Apparatus and method for reflective image display with dielectric layer

Номер патента: RU2670574C2. Автор: Лорн А. УАЙТХЕД,Марк ГОЛДИНГ,Роджер КЕМП,Нэйтан СМИТ,Брэм М. СЭДЛИК,Энтони И. ПУЛЛЕН. Владелец: Клеаринк Дисплейз, Инк.. Дата публикации: 2018-10-23.

Mems structure with an etch stop layer buried within inter-dielectric layer

Номер патента: US20170036905A1. Автор: Chung-Yi Chiu,Hui-Min Wu,Kuan-Yu Wang,Te-Yuan Wu,Chia-Huei Lin,Li-Che Chen,Kun-Che Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2017-02-09.

Apparatus and method for reflective image display with dielectric layer

Номер патента: US11982918B2. Автор: Michiel Koen CALLENS,Thomas Johansson,Robert J. Fleming,Steven GOU,Graham Beales. Владелец: Wuxi Clearink Ltd. Дата публикации: 2024-05-14.

Apparatus and method for reflective image display with dielectric layer

Номер патента: EP3785063A1. Автор: Michiel Koen CALLENS,Thomas Johansson,Robert J. Fleming,Steven GOU,Graham Beales. Владелец: Concord HK International Education Ltd. Дата публикации: 2021-03-03.

Stretch sensor with elastic dielectric layer

Номер патента: US10485453B2. Автор: Tzu-Hsuan Huang,Wei-Liang Liu. Владелец: Taiwan Alpha Electronic Co Ltd. Дата публикации: 2019-11-26.

Method for forming MEMS structure with an etch stop layer buried within inter-dielectric layer

Номер патента: US09499399B2. Автор: Chung-Yi Chiu,Hui-Min Wu,Kuan-Yu Wang,Te-Yuan Wu,Chia-Huei Lin,Li-Che Chen,Kun-Che Hsieh. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2016-11-22.

Low-temperature container, low-temperature reservoir and automotive tank for transportation of low-temperature liquid

Номер патента: RU2688295C2. Автор: Цинго МЭН,Сяосян ЧЖОУ,Хуанхэ ЦЮАНЬ,Юнсинь ЛО,Чуньжун ЯО. Владелец: Симс Энрик Инвестмент Холдингс (Шеньчжэнь) Ко., Лтд.. Дата публикации: 2019-05-21.

Low loss microring resonator device

Номер патента: CA2550678C. Автор: Daniele Franco Angelo Faccio,Marco Romagnoli. Владелец: Google LLC. Дата публикации: 2013-03-19.

Hole arranged photonic crystal fiber for low loss, tight fiber bending applications

Номер патента: EP2162771A2. Автор: Tomasz Nasilowski,Hugo Thienpont,Jan Watte,Jürgen VAN ERPS,Christof Debaes. Владелец: TYCO ELECTRONICS RAYCHEM BVBA. Дата публикации: 2010-03-17.

Method and apparatus for low-loss storage of thermal energy and for low-loss withdrawal of the stored thermal energy

Номер патента: US4219074A. Автор: Uwe Hansen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1980-08-26.

Low-loss optically active device and manufacturing method therefor

Номер патента: US6031945A. Автор: Tae-Hyung Rhee,Hyung-Jae Lee,Byong-Gwon You,Yong-Woo Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2000-02-29.

Low loss microring resonator device

Номер патента: CA2550678A1. Автор: Daniele Franco Angelo Faccio,Marco Romagnoli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2005-07-14.

Method and apparatus for low-loss storage of thermal energy and for low-loss withdrawal of the stored thermal energy

Номер патента: CA1103533A. Автор: Uwe Hansen. Владелец: Individual. Дата публикации: 1981-06-23.

Low-loss few-mode optical fibre

Номер патента: CA2954451C. Автор: Huang Yu,WEN Chen,Cheng Du,Zhiqiang Yu,Qi Mo,Dongxiang Wang,Bingfeng CAI. Владелец: Wuhan Research Institute of Posts and Telecommunications Co Ltd. Дата публикации: 2019-04-30.

Method for improved dielectric layer metrology calibration

Номер патента: US20040004730A1. Автор: Han-Liang Tseng,Yi-Hung Chen,Wei-Ming You,Shean-Ren Horng,Pey-Yuan Lee,Chi-Shen Lo. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2004-01-08.

Compact and low loss Y-junction for submicron silicon waveguide

Номер патента: US20140178005A1. Автор: Yi Zhang,Tom Baehr-Jones,Shuyu Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2014-06-26.

Low-loss-rate threshing device of combine harvester

Номер патента: NL2033167B1. Автор: WANG KANGJUN,Shu Shifu,Dong Xianhua,Chen Licai,Wu Luofa. Владелец: Jiangxi Academy Of Agricultural Sciences Inst Of Agricultural Engineering. Дата публикации: 2023-07-10.

Low-loss waveguiding structures, in particular modulators

Номер патента: US11815750B2. Автор: Mian ZHANG,Christian Reimer,Kevin Luke. Владелец: Hyperlight Corp. Дата публикации: 2023-11-14.

Compact and low loss y-junction for submicron silicon waveguide

Номер патента: US20200026002A1. Автор: Yang Liu,Yi Zhang,Michael J. Hochberg,Ruizhi Shi,Thomas Wetteland BAEHR-JONES,Yangjin Ma,Shuyu Yang. Владелец: Elenion Technologies LLC. Дата публикации: 2020-01-23.

Compact and low loss y-junction for submicron silicon waveguide

Номер патента: US20180081116A1. Автор: Yang Liu,Yi Zhang,Michael J. Hochberg,Ruizhi Shi,Thomas Wetteland BAEHR-JONES,Yangjin Ma,Shuyu Yang. Владелец: Elenion Technologies LLC. Дата публикации: 2018-03-22.

Two-Dimensional Magnetic Recording Read Head with TaOx Layer for Flat Middle Shield Topography and Method of Forming Thereof

Номер патента: US20240153533A1. Автор: Guanxiong Li,Ming Mao,Hongquan Jiang. Владелец: Western Digital Technologies Inc. Дата публикации: 2024-05-09.

Compact and low loss y-junction for submicron silicon waveguide

Номер патента: US20170235046A1. Автор: Yang Liu,Yi Zhang,Michael J. Hochberg,Ruizhi Shi,Thomas Wetteland BAEHR-JONES,Yangjin Ma,Shuyu Yang. Владелец: Elenion Technologies LLC. Дата публикации: 2017-08-17.

Compact and low loss Y-junction for submicron silicon waveguide

Номер патента: US20170131470A1. Автор: Yi Zhang,Tom Baehr-Jones,Shuyu Yang. Владелец: Elenion Technologies LLC. Дата публикации: 2017-05-11.

Low-loss waveguiding structures, in particular modulators

Номер патента: US20240004226A1. Автор: Mian ZHANG,Christian Reimer,Kevin Luke. Владелец: Hyperlight Corp. Дата публикации: 2024-01-04.

Multiple band reflector with metal and dielectric layers

Номер патента: EP2030051A2. Автор: Jaime Li,Steven Barth. Владелец: CPFilms Inc. Дата публикации: 2009-03-04.

Configuration and method for the low-loss writing of an MRAM

Номер патента: US20020021543A1. Автор: Stefan Lammers,Helmut Kandolf,Dietmar Gogl. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2002-02-21.

Liquid crystal display device having a patterned dielectric layer

Номер патента: WO2004055587A1. Автор: Young-Nam Yun. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.. Дата публикации: 2004-07-01.

Low Loss Optical Crossing and Method of Making Same

Номер патента: US20160245999A1. Автор: Dominic John Goodwill. Владелец: Huawei Technologies Co Ltd. Дата публикации: 2016-08-25.

Low loss heterogeneous optical waveguide transitions

Номер патента: US10162133B2. Автор: Jae Shin,Gregory Alan Fish. Владелец: Aurrion Inc. Дата публикации: 2018-12-25.

Low loss heterogeneous optical waveguide transitions

Номер патента: US20130272646A1. Автор: Jae Shin,Gregory Alan Fish. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-17.

Heterogeneous Integrated UV-IR Ultra-Low Loss Multi-Layer Platform with Electrical Interconnects, Gain, Modulation, Detection, and Nonlinear Optics

Номер патента: US20240255699A1. Автор: Daniel J. Blumenthal,Dirk Englund,Mikkel HEUCK,Matt Eichenfield. Владелец: National Technology and Engineering Solutions of Sandia LLC. Дата публикации: 2024-08-01.

Method for detecting the interaction of at least one entity with a dielectric layer

Номер патента: US09746460B2. Автор: Volodymyr Lysenko,Mustapha Lemiti,Alain Geloen,Tetyana Nichiporuk,Tetiana Serdiuk,Yuriy Zakharko. Владелец: Institut National de la Sante et de la Recherche Medicale INSERM. Дата публикации: 2017-08-29.

METHOD FOR PRODUCING AQUEOUS DISPERSION OF FLUORINE-CONTAINING SEED POLYMER PARTICLES AND AQUEOUS COATING COMPOSITION AND COATED ARTICLE THEREOF

Номер патента: US20120004367A1. Автор: Imoto Katsuhiko,Nishii Shumi,Fukuhara Yoshinari. Владелец: Daikin Industries Ltd.. Дата публикации: 2012-01-05.

Fluorine-containing compound production process

Номер патента: RU2248346C2. Автор: Такаси ОКАЗОЕ,Кунио ВАТАНАБЕ,Син ТАТЕМАЦУ,Масахиро ИТО,Хидеказу ОКАМОТО,Даисуке СИРАКАВА,Масао ИВАЯ,Такаси ОКАЗОЕ (JP),Кунио ВАТАНАБЕ (JP),Син ТАТЕМАЦУ (JP),Масахиро ИТО (JP),Хидеказу ОКАМОТО (JP),Даисуке СИРАКАВА (JP),Масао ИВАЯ (JP). Владелец: Асахи Гласс Компани, Лимитед. Дата публикации: 2005-03-20.

Fluorine-containing multifunctional composition

Номер патента: RU2561971C2. Автор: Абдурашид Содикович Вохидов. Владелец: Абдурашид Содикович Вохидов. Дата публикации: 2015-09-10.

Fluorine-containing trimethylsilane synthesis method

Номер патента: RU2399624C1. Автор: Алексей Владимирович Прохоров,Сергей Михайлович Игумнов,Владимир Аркадьевич Вязков. Владелец: Сергей Михайлович Игумнов. Дата публикации: 2010-09-20.

Method of neutralization of the fluorine-containing gases

Номер патента: RU2314862C1. Автор: Александр Анатольевич Матвеев,Олег Борисович Громов,Пётр Иванович Михеев,Роман Леонидович Мазур,Геннадий Сергеевич Сергеев. Владелец: ФГУП &#34;Всероссийский научно-исследовательский институт химической технологии&#34; (ФГУП &#34;ВНИИХТ&#34;). Дата публикации: 2008-01-20.

Method for processing surface of fluorine-containing rubber

Номер патента: RU2580722C1. Автор: Владимир Александрович Кошуро,Сергей Яковлевич Пичхидзе,Александр Иванович Шумилин,Ксения Константиновна Скрипаченко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования &#34;Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А.&#34; (СГТУ имени Гагарина Ю.А.). Дата публикации: 2016-04-10.

Integrated method of processing fluorine-containing toxic wastes

Номер патента: RU2561381C1. Автор: Леонид Овсеевич Кацнельсон,Андрей Сергеевич Левашов,Игорь Александрович Борисов,Георгий Эдуардович Савченко,Андрей Владимирович Шевченко. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью &#34;ТехЭкоПлазма&#34; (ООО &#34;ТехЭкоПлазма&#34;). Дата публикации: 2015-08-27.

Method of producing fluorine-containing prepolymer having isocyanate groups

Номер патента: RU2479597C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Надежда Александровна Рахимова,Сергей Владимирович Кудашев,Владимир Федорович Желтобрюхов,Ольга Андреевна Барковская,Виктория Сергеевна Авилова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования &#34;Волгоградский государственный технический университет&#34; (ВолгГТУ). Дата публикации: 2013-04-20.

Method of processing the uranium- and fluorine-containing wastes

Номер патента: RU2303074C2. Автор: Валерий Владимирович Лазарчук,Александр Константинович Ледовских,Юрий Егорович Пешкичев,Василий Владимирович Тинин,Феликс Анатольевич Дорда,Вячеслав Григорьевич Балахонов,В чеслав Григорьевич Балахонов. Владелец: Федеральное государственное унитарное предприятие &#34;Сибирский химический комбинат&#34;. Дата публикации: 2007-07-20.

Fluorine-containing sas and method of obtaining thereof

Номер патента: RU2522640C2. Автор: Дмитрий Николаевич Кондратьев,Виктор Вольфович Гольдин,Ольга Владимировна Горшкова. Владелец: Общество с ограниченной ответственностью Научно Производственный Центр &#34;Квадра&#34;. Дата публикации: 2014-07-20.

Method for combined production of fluorine-containing prepolymers

Номер патента: RU2479596C1. Автор: Иван Александрович Новаков,Надежда Александровна Рахимова,Сергей Владимирович Кудашев,Владимир Федорович Желтобрюхов,Ольга Андреевна Барковская,Виктория Сергеевна Авилова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования &#34;Волгоградский государственный технический университет&#34; (ВолгГТУ). Дата публикации: 2013-04-20.

Composition used as adhesive underlayer for attaching rubber to metal at vulcanization or as adhesive for hot attaching of rubber on base of fluorine-containing rubber and acrylic rubber

Номер патента: RU2315796C1. Автор: Борис Григорьевич Оганджанян,Цовинар Хачатуровна Варданян,Сона Борисовна Оганджанян. Владелец: Открытое акционерное общество &#34;Балаковорезинотехника&#34;. Дата публикации: 2008-01-27.

Polymer additives for ice cover and method of obtaining high-speed and wear-resistant ice cover for sports purposes based on fluorine-containing organosilicon compounds

Номер патента: RU2480501C1. Автор: Галина Юрьевна Гончарова,Анжелика Петровна Осипова,Андрей Владимирович Селиверстов,Жанна Валерьевна Прусова,Мария Анатольевна Терехина,Александр Николаевич Печурица. Владелец: Александр Николаевич Печурица. Дата публикации: 2013-04-27.

Method of activating catalyst for producing fluorine-containing hydrocarbons

Номер патента: RU2594485C1. Автор: Людмила Григорьевна Симонова,Сергей Иванович Решетников,Александр Анатольевич Зирка,Любовь Александровна Исупова. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт катализа им. Г.К. Борескова Сибирского отделения Российской академии наук. Дата публикации: 2016-08-20.

Synthesis of novel class of fluorine-containing liquid-crystalline compounds with application of chladone 114b2 as initial compound

Номер патента: RU2505529C1. Автор: Алексей Владимирович Шастин,Алексей Андреевич Гольдберг,Елизавета Сергеевна Баленкова,Валентин Георгиевич Ненайденко,Василий Михайлович Музалевский. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования &#34;Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова&#34; (МГУ). Дата публикации: 2014-01-27.

Fluorine-containing crosslinkable copolymer

Номер патента: CA1247291A. Автор: Masato Hamada,Tetsuro Ohta. Владелец: Asahi Kasei Kogyo KK. Дата публикации: 1988-12-20.

Method for production of fluorine-containing polishing material

Номер патента: RU2270171C2. Автор: Юрий Васильевич Семянников,Михаил Георгиевич Штуца,Валерий Дмитриевич Косынкин,Владимир Борисович Филиппов,Александр Викторович Кардаполов,Владимир Александрович Богатырев,Наталь Анатольевна Сысина,Наталья Анатольевна Сысина,нников Юрий Васильевич Сем,Лиди Алексеевна Аржаткина,Лидия Алексеевна Аржаткина. Владелец: Открытое акционерное общество &#34;Чепецкий механический завод&#34; (ОАО ЧМЗ). Дата публикации: 2006-02-20.

Branched fluorine-containing organosilicon copolymers, method for production thereof and hydrophobic polymer coating based thereon

Номер патента: RU2565671C1. Автор: Азиз Мансурович Музафаров,Ольга Анатольевна Серенко,Александра Александровна Калинина,Нина Васильевна Демченко,Михаил Александрович Солдатов,Наталья Александровна Шереметьева. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт синтетических полимерных материалов им. Н.С. Ениколопова Российской академии наук (ИСПМ РАН). Дата публикации: 2015-10-20.

Method of producing boron- and fluorine-containing high-energy composition

Номер патента: RU2479560C1. Автор: Виталий Иванович Салдин,Василий Викторович Суховей. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт химии Дальневосточного отделения Российской академии наук (ИХ ДВО РАН). Дата публикации: 2013-04-20.

METHOD OF FABRICATING A SOLAR CELL WITH A TUNNEL DIELECTRIC LAYER

Номер патента: US20120000528A1. Автор: Smith David,Dennis Tim,Harrington Scott,Manning Jane,Waldhauer Ann. Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Method of synthesysing 6,6,7,7,8,8,8-heptafluoro-5,5-(trifluoromethyl)octadiene-1,3-prospective monomer for fluorine-containing polymers

Номер патента: RU2528334C1. Автор: Сергей Михайлович Игумнов,Андрей Александрович Тютюнов,Вероника Львовна Дон. Владелец: Закрытое акционерное общество научно-производственное Объединение &#34;ПиМ-Инвест&#34; (ЗАО НПО &#34;Пим-Инвест&#34;). Дата публикации: 2014-09-10.

Obtaining novel class of liquid-crystalline compounds, which contain four-atom fluorine-containing fragment of bridge type

Номер патента: RU2511009C2. Автор: Алексей Владимирович Шастин,Алексей Андреевич Гольдберг,Василий Михайловичч Музалевский,Елизавета Сергеевна Баленкова,Валентин Георгиевич Ненайденко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования &#34;Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова&#34; (МГУ). Дата публикации: 2014-04-10.

Rubber mix based on fluorine containing elastomer

Номер патента: RU2164526C1. Автор: . Владелец: Снигирева Инна Евгеньевна. Дата публикации: 2001-03-27.

Composition used as adhesive underlayer for attaching rubber to metal at vulcanization or as adhesive for hot attaching of rubber on base of fluorine-containing rubber and acrylic rubber

Номер патента: RU2315796C9. Автор: Борис Григорьевич Оганджанян,н Борис Григорьевич Оганджан,н Цовинар Хачатуровна Вардан,Цовинар Хачатуровна Варданян,н Сона Борисовна Оганджан,Сона Борисовна Оганджанян. Владелец: Открытое акционерное общество &#34;Балаковорезинотехника&#34;. Дата публикации: 2008-05-20.

Method of cleaning fluorine-containing rare-earth concentrate

Номер патента: RU2429199C1. Автор: Эфроим Пинхусович Локшин,Ольга Альбертовна Тареева,Эфроим Пинхусович Локшин (RU),Ольга Альбертовна Тареева (RU). Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт химии и технологии редких элементов и минерального сырья им. И.В. Тананаева Кольского научного центра РАН (ИХТРЭМС КНЦ РАН). Дата публикации: 2011-09-20.

Method of synthesis of fluorine-containing $$$-diketones

Номер патента: RU2100345C1. Автор: К.И. Пашкевич,В.Г. Ратнер,О.Г. Хомутов,Н.С. Карпенко,В.И. Филякова. Владелец: Научно-внедренческая фирма &#34;Уралфтор&#34;. Дата публикации: 1997-12-27.

Process for removing fluorine-containing emulsifier from aqueous dispersions of fluoropolymers

Номер патента: CA2522837C. Автор: Klaus Hintzer,Werner Schwertfeger,Gernot Loehr,Hermann Blaedel,Reinhard Albert Sulzbach. Владелец: Dyneon GmbH. Дата публикации: 2007-08-14.

Low-loss foam composition with and low-loss foam-layered cable

Номер патента: RU2334768C2. Автор: Мишель Ф. ШАМПАНЬ,Ричард ГЕНДРОН,Кэролайн ВАЧОН,Виджай К. ЧОРПА,Хью Р. НУДД,Ситарам РАМПАЛЛИ. Владелец: Нэшнл Ресерч Коунсл Оф Канада. Дата публикации: 2008-09-27.

Superconductive circuit breaker

Номер патента: RU2482567C1. Автор: Александр Иванович Мащенко. Владелец: Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования &#34;Национальный исследовательский Томский политехнический университет&#34;. Дата публикации: 2013-05-20.

Structure of dielectric layer for mis structures having conductivity switching effect

Номер патента: RU2563553C2. Автор: Александр Степанович Рудый,Аркадий Евгеньевич Бердников,Александр Александрович Мироненко,Валерий Николаевич Гусев,Александр Александрович Орликовский,Александр Афанасьевич Попов,Владимир Дмитриевич Черномордик. Владелец: Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт Российской академии наук. Дата публикации: 2015-09-20.

Method for producing conversion tubes of boron-containing low- ductile steel

Номер патента: RU2264269C2. Автор: В.П. Борисов,А.В. Сафьянов,нов А.В. Сафь,А.А. Фёдоров,С.Г. Чикалов,В.И. Тазетдинов,И.И. Вольберг,Л.И. Лапин,И.А. Романцов,В.А. Головинов,В.А. Логовиков,П.А. Гриценко,Н.П. Климов. Владелец: ОАО &#34;Челябинский трубопрокатный завод&#34;. Дата публикации: 2005-11-20.

Method of dielectric layer manufacturing

Номер патента: RU2498445C2. Автор: Михаил Алексеевич Демьяненко,Виктор Николаевич Овсюк,Борис Иванович Фомин,Татьяна Александровна Гаврилова,Игорь Петрович Михайловский. Владелец: Учреждение Российской академии наук Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения РАН (ИФП СО РАН). Дата публикации: 2013-11-10.

Бесплатный поиск патентной информации. Построение патентных ландшафтов и отчетов.

Главная
Проекты и услуги
Контакты

© 2021-2022 - All Rights Reserved - разработано Ecoruspace.me.