Semiconductor Device with Thermally Grown Oxide Layer Between Field and Gate Electrode and Method of Manufacturing
Номер патента: US20150380403A1
Опубликовано: 31-12-2015
Автор(ы): Kotsar Yulia, Lanzerstorfer Sven, Zink Robert
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 31-12-2015
Автор(ы): Kotsar Yulia, Lanzerstorfer Sven, Zink Robert
Принадлежит:
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Semiconductor device having a necked semiconductor body and method of forming semiconductor bodies of varying width
Номер патента: US20240222509A1. Автор: Bernhard Sell. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-04.