• Главная
  • Controlling passivating film properties using colloidal particles, polyelectrolytes, and ionic additives for copper chemical mechanical planarization

Controlling passivating film properties using colloidal particles, polyelectrolytes, and ionic additives for copper chemical mechanical planarization

Вам могут быть интересны следующие патенты

Рисунок 1. Взаимосвязь патентов (ближайшие 20).

Composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.

Amphiphilic abrasive particles and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129435A1. Автор: Gerhard Jonschker. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US09718991B2. Автор: Song Yuan Chang,Ming Hui Lu,Ming Che Ho,Wen Cheng Liu,Yi Han Yang. Владелец: Uwiz Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-08-01.

Chemical-mechanical polishing composition and method for using the same

Номер патента: IL176669A0. Автор: . Владелец: Cabot Microelectronics Corp. Дата публикации: 2006-10-31.

Additive for improving particle dispersion of chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: CN113661219A. Автор: 柯政远,黄宏聪,吕龙岱,李泱瑶,吴欣谚. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2021-11-16.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12098301B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-09-24.

Chemical mechanical planarization using amino-polyorganosiloxane-coated abrasives

Номер патента: WO2023178286A1. Автор: Gerhard Jonschker,Matthias Stender,René LUTZ. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2023-09-21.

Chemical mechanical planarization polishing for shallow trench isolation

Номер патента: EP4413088A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-08-14.

Chemical mechanical planarization for shallow trench isolation

Номер патента: WO2024173029A1. Автор: Xiaobo Shi,Hongjun Zhou,LU Gan,Krishna P. Murella,Joseph D. ROSE. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-08-22.

Suspension for chemical mechanical planarization (cmp) and method employing the same

Номер патента: EP4314179A1. Автор: Sridevi R. ALETY,Mark CYFFKA,Niraj Mahadev. Владелец: Entegris Inc. Дата публикации: 2024-02-07.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: WO2024081201A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-18.

Composition for chemical mechanical polishing and method for polishing

Номер патента: US20230203344A1. Автор: Kouhei Yoshio,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2023-06-29.

Chemical-mechanical polishing composition for heavily-doped boron silicon films

Номер патента: US20240117220A1. Автор: Brian Reiss,Elliot KNAPTON,Alex Villani-Gale. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-04-11.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: US20240174891A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-05-30.

Titanium dioxide chemical-mechanical polishing composition for polishing nickel substrates

Номер патента: WO2024107316A1. Автор: Cheng-Yuan Ko,Jin-Hao JHANG. Владелец: ENTEGRIS, INC.. Дата публикации: 2024-05-23.

Chemical mechanical polishing pad and polishing method

Номер патента: US11813713B2. Автор: Teresa Brugarolas Brufau,Bryan E. Barton. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-11-14.

Chemical-mechanical processing slurry and methods for processing a nickel substrate surface

Номер патента: MY199592A. Автор: TONG Li,Hon Wu Lau. Владелец: Cmc Mat Llc. Дата публикации: 2023-11-08.

Slurry composition for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230104949A1. Автор: Sangkyun Kim,Hyosan Lee,Sanghyun Park,Yearin BYUN,Inkwon KIM,Wonki HUR. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-04-06.

Silicon nitride chemical mechanical polishing slurry with silicon nitride removal rate enhancers and methods of use thereof

Номер патента: US11999877B2. Автор: Jimmy Granstrom. Владелец: Fujimi Inc. Дата публикации: 2024-06-04.

Silica-based additive for cementing composition, cementing composition, and cementing method

Номер патента: AU2019344704A1. Автор: Satoru Murakami,Isao Oota,Masaki KIMATA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2021-04-15.

Silica-based additive for cementing composition, cementing composition, and cementing method

Номер патента: AU2019344704B2. Автор: Satoru Murakami,Isao Oota,Masaki KIMATA. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2024-09-12.

Chemical mechanical polishing slurry

Номер патента: US20020100895A1. Автор: Ting-Chang Chang,Cheng-Jer Yang,Huang-Chung Cheng. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2002-08-01.

Chemical-mechanical polishing solution

Номер патента: US11898063B2. Автор: Wenting Zhou. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-13.

Chemical mechanical polishing solution

Номер патента: US11746257B2. Автор: JIAN Ma,Kai Song,Ying Yao,Jianfen JING,Xinyuan CAI,Guohao WANG,Junya YANG,Pengcheng BIAN. Владелец: Anji Microelectronics Shanghai Co Ltd. Дата публикации: 2023-09-05.

A colloidal particle dispersion for use in an antimicrobial and virucidal surface coating

Номер патента: SE2051436A1. Автор: Jiayin YUAN,Gerald MCINERNEY. Владелец: Gerald MCINERNEY. Дата публикации: 2022-06-10.

Organosol of fluoride colloid particle and method for production thereof

Номер патента: US20090281200A1. Автор: Osamu Fujimoto,Yoshinari Koyama,Motoko Asada. Владелец: Nissan Chemical Corp. Дата публикации: 2009-11-12.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12006446B2. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

System and method for manipulating a colloidal particle

Номер патента: US11708532B2. Автор: Francesca SERRA,Kathleen J Stebe,Yimin Luo. Владелец: University of Pennsylvania Penn. Дата публикации: 2023-07-25.

Additive for reducing torque on a drill string

Номер патента: CA2598123C. Автор: Doug Oakley,Andrew Bradbury,Christopher Sawdon. Владелец: MI LLC. Дата публикации: 2013-11-12.

Composition for chemical-mechanical polishing and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US12104087B2. Автор: Pengyu Wang,Yasutaka Kamei,Norihiko Sugie,Yuuya YAMADA. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-10-01.

Chemical mechanical polishing composition and polishing method

Номер патента: US20240254365A1. Автор: Yasutaka Kamei,Kohei Nishimura,Koki Ishimaki,Shuhei Nakamura. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2024-08-01.

Polishing liquid and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20200354609A1. Автор: Tetsuya Kamimura. Владелец: Fujifilm Corp. Дата публикации: 2020-11-12.

Additive for surface activation, and emulsion composition using same

Номер патента: US20240218254A1. Автор: Koji Kawai,Kotaro Kaneko,Akira Yashita. Владелец: Miyoshi Oil and Fat Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-04.

Additive for oil well cement and cement slurry using said additive for oil well cement

Номер патента: EP3686171A1. Автор: Kosuke Watanabe,Akihiro Yamashita. Владелец: Denka Co Ltd. Дата публикации: 2020-07-29.

Additive for oil well cement and cement slurry using said additive for oil well cement

Номер патента: US20200377780A1. Автор: Kosuke Watanabe,Akihiro Yamashita. Владелец: Denka Co Ltd. Дата публикации: 2020-12-03.

Additive for preparing suede on polycrystalline silicon chip and use method thereof

Номер патента: US09935233B2. Автор: Yuanyuan Zhang,Liming Fu. Владелец: Changzhou Shichuang Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2018-04-03.

Additive for drilling mud

Номер патента: US09803128B2. Автор: Koji Noda,Kazuhito Jinno,Yousuke Goi,Mineo Sabi. Владелец: Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd. Дата публикации: 2017-10-31.

Tungsten chemical mechanical polishing slurries

Номер патента: EP4441158A1. Автор: Bradley Brennan,Agnes Derecskei,Matthias Stender. Владелец: Versum Materials US LLC. Дата публикации: 2024-10-09.

Polishing slurry and method for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US20020098700A1. Автор: James Alwan,Craig Carpenter. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-07-25.

Chemical mechanical polishing apparatus, slurry, and method of using the same

Номер патента: US11351648B2. Автор: Hsun-Chung KUANG,Tung-He Chou. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-06-07.

Slurry for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20040021125A1. Автор: Yasuaki Tsuchiya,Shin Sakurai,Kenichi Aoyagi,Toshiji Taiji,Tomoyuki Ito. Владелец: NEC Electronics Corp. Дата публикации: 2004-02-05.

Leafing additives for flake alignment in powder coatings and methods for making and applying the same

Номер патента: WO2024173284A1. Автор: Troy James Larimer. Владелец: PPG Industries Ohio, Inc.. Дата публикации: 2024-08-22.

Surface control additive for radiation curing system, preparation method therefor and application thereof

Номер патента: US09845401B2. Автор: Zhijun Wang. Владелец: AFCONA CHEMICALS (HAIMEN) Co Ltd. Дата публикации: 2017-12-19.

Additives for water-based wood stains

Номер патента: WO2024049621A1. Автор: Yifan Li,Shan Jiang,Rebecca Jane Mort. Владелец: IOWA STATE UNIVERSITY RESEARCH FOUNDATION, INC.. Дата публикации: 2024-03-07.

Polyhydroxy-diamines as multi-functional additives for paints, coatings and expoxies

Номер патента: EP2424833A1. Автор: Ian A. Tomlinson,Asghar A. Peera. Владелец: Angus Chemical Co. Дата публикации: 2012-03-07.

Surface treating agent for copper or copper alloy

Номер патента: CA2197965C. Автор: Hirohiko Hirao,Yoshimasa Kikukawa. Владелец: Shikoku Chemicals Corp. Дата публикации: 2005-01-11.

Chemical mechanical machining and surface finishing

Номер патента: IL157290A. Автор: . Владелец: Rem Technologies. Дата публикации: 2007-06-03.

Method for copper plating deposition

Номер патента: US20020152926A1. Автор: Roger Palmans,Yuri Lantasov. Владелец: Interuniversitair Microelektronica Centrum vzw IMEC. Дата публикации: 2002-10-24.

Surface treating agent for copper or copper alloy and use thereof

Номер патента: WO2010016620A1. Автор: Hirohiko Hirao,Takayuki Murai,Noriaki Yamaji. Владелец: SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION. Дата публикации: 2010-02-11.

Post-treatment for copper on printed circuit boards

Номер патента: EP1097618A1. Автор: Eric Yakobson,Abayomi Owei,Peter T. McGrath,Saeed Sarder. Владелец: Frys Metals Inc. Дата публикации: 2001-05-09.

Passivation film and method of forming the same

Номер патента: WO2008054102A1. Автор: Jong Lam Lee,Hak Ki Yu. Владелец: POSTECH ACADEMY-INDUSTRY FOUNDATION. Дата публикации: 2008-05-08.

Passivation film and method of forming the same

Номер патента: US7915153B2. Автор: Jong Lam Lee,Hak Ki Yu. Владелец: LG ELECTRONICS INC. Дата публикации: 2011-03-29.

Passivation film and method of forming the same

Номер патента: US20090087997A1. Автор: Jong Lam Lee,Hak Ki Yu. Владелец: Academy Industry Foundation of POSTECH. Дата публикации: 2009-04-02.

Method of manufacturing passivation film

Номер патента: US12074038B2. Автор: Yosuke TANIMOTO. Владелец: Resonac Corp. Дата публикации: 2024-08-27.

Aqueous suspensions of colloidal particles, preparation and use of the suspensions

Номер патента: CA2141550C. Автор: Marek Tokarz,Kjell Andersson,Erik Lindgren,Hans Johansson. Владелец: Eka Nobel Ab. Дата публикации: 1998-09-22.

Semiconductor Chemical Mechanical Polishing Sludge Recycling Device

Номер патента: US20240317621A1. Автор: Shao-Hua Hu,Hsin-Hui Chou,Ya-Min Hsieh,Wen-Ming Cheng,Hsing-Wen HSIEH,Chin-An KUAN. Владелец: Individual. Дата публикации: 2024-09-26.

Process for the passivation of tinned stainless steel strip with a chrome-free passivation film

Номер патента: WO2002050341A3. Автор: Cristofaro Norma De. Владелец: Cristofaro Norma De. Дата публикации: 2003-09-25.

Additive for composite plating solutions

Номер патента: US20240279834A1. Автор: Kenichi Nishikawa,Kana Shibata. Владелец: JCU Corp. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US20240238937A1. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical planarization pads with constant groove volume

Номер патента: US11938584B2. Автор: Jaeseok Lee,Eric S. Moyer,Paul Andre Lefevre,Devin SCHMITT,Holland Hodges. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-26.

Method and device for copper slag collection

Номер патента: RU2633428C2. Автор: Ху ВАН,Сунлинь ЧЖОУ,Вэйдун ЛЮ. Владелец: Сян Гуан Коппер Ко., Лтд.. Дата публикации: 2017-10-12.

Procedure for copper chloride aqueous electrolysis

Номер патента: CA1265092A. Автор: Eduardo Diaz Nogueira,Luis Alonso Suarez-Infanzon. Владелец: Individual. Дата публикации: 1990-01-30.

Method for copper-to-copper direct bonding and assembly

Номер патента: US20240170428A1. Автор: Ralf Schmidt. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-05-23.

Method for copper-to-copper direct bonding and assembly

Номер патента: EP4302324A1. Автор: Ralf Schmidt. Владелец: Atotech Deutschland GmbH and Co KG. Дата публикации: 2024-01-10.

Method for maintaining positively charged colloidal particles after diffusiophoretic water filtering

Номер патента: US20200223721A1. Автор: William C. GEHRIS. Владелец: Split Rock Filter Systems LLC. Дата публикации: 2020-07-16.

Chemical-mechanical starch conversion

Номер патента: CA1117107A. Автор: Thomas L. Small,Richard D. Harvey,Thomas L. Gallaher,Raymond L. Mullikin. Владелец: Grain Processing Corp. Дата публикации: 1982-01-26.

UV-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US11807710B2. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-07.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230406984A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: EP4229104A1. Автор: Ping Huang,Chen-Chih Tsai,Eric S. Moyer. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-08-23.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244739A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Uv-curable resins for chemical mechanical polishing pads

Номер патента: WO2023244740A1. Автор: Ping Huang. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Dual-cure resin for preparing chemical mechanical polishing pads

Номер патента: US20230405765A1. Автор: Chen-Chih Tsai. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-12-21.

Surface modified colloidal particles

Номер патента: US20130236416A1. Автор: Stephen H. Foulger,Parul Rungta,Michael Daniele, JR.,Ragini Jetty. Владелец: Clemson University. Дата публикации: 2013-09-12.

Fuel additive for improving performance in injection engines

Номер патента: RU2549570C2. Автор: Сингао ФАН,Скотт Д. ШВАБ. Владелец: Афтон Кемикал Корпорейшн. Дата публикации: 2015-04-27.

Mixture of substances used particularly as additive for concrete mixture

Номер патента: RU2433096C2. Автор: Оливер ТЁНЕ,Оливер ТЁНЕ (DE). Владелец: Оливер ТЁНЕ. Дата публикации: 2011-11-10.

Complex additive for construction mix

Номер патента: RU2351560C1. Автор: Андрей Валерьевич Черняков. Владелец: Андрей Валерьевич Черняков. Дата публикации: 2009-04-10.

Nutritional additive for alcohol fermentation medium

Номер патента: RU2495926C2. Автор: Жан-Люк БАРЕ,Пьер ЛАБЕЙ. Владелец: Этаблиссман Ж. Суффле. Дата публикации: 2013-10-20.

Composite pad for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230339067A1. Автор: Zhan Liu,Michael E. Mills,Nan-Rong Chiou. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2023-10-26.

Detergent composition and chemical-mechanical polishing composition

Номер патента: US20230174892A1. Автор: Yuichi Sakanishi. Владелец: Daicel Corp. Дата публикации: 2023-06-08.

Culture medium additive for yeast

Номер патента: EP4155381A1. Автор: Megumi Mizuno,Kyosuke KAWAGUCHI,Marina ARAI,Tadasu SHIOZAWA. Владелец: Asahi Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2023-03-29.

Additive for the preservation of cells, tissues and/or food

Номер патента: CA3207783A1. Автор: Andrea Sterman Heimann. Владелец: Proteimax Bio Technology Israel Ltd. Дата публикации: 2022-08-11.

Additive for preserving cells, tissue and/or foodstuffs, and use

Номер патента: EP4289267A1. Автор: Andrea Sterman Heimann. Владелец: Proteimax Bio Technology Israel Ltd. Дата публикации: 2023-12-13.

Culture medium additive for yeast

Номер патента: AU2021274289A1. Автор: Megumi Mizuno,Kyosuke KAWAGUCHI,Marina ARAI,Tadasu SHIOZAWA. Владелец: Asahi Group Holdings Ltd. Дата публикации: 2023-02-02.

Ionic liquid additive for lithium-ion battery

Номер патента: US20220238918A1. Автор: Kuei Yung WANG. Владелец: High Tech Battery Inc. Дата публикации: 2022-07-28.

Ionic liquid additive for lithium-ion battery

Номер патента: US20220231335A1. Автор: Kuei Yung WANG. Владелец: High Tech Battery Inc. Дата публикации: 2022-07-21.

A biofuel additive for diesel engines

Номер патента: WO2009147685A1. Автор: S. Dey,R. Sen,P. Das,B. B. Ghosh,H. B. D. Prasada Rao. Владелец: INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY. Дата публикации: 2009-12-10.

Additive for reducing particulate in emissions deriving from the combustion of diesel oil

Номер патента: EP1307531A1. Автор: Cesare Pedrazzini. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-05-07.

Additive for fcc process

Номер патента: EP4225876A1. Автор: Paul Diddams,Mehdi Allahverdi,Charles Kanyi. Владелец: Johnson Matthey Process Technologies Inc. Дата публикации: 2023-08-16.

Additive for FCC process

Номер патента: US11666895B2. Автор: Paul Diddams,Mehdi Allahverdi,Charles Kanyi. Владелец: Johnson Matthey Process Technologies Inc. Дата публикации: 2023-06-06.

Additive for hydraulically setting compositions

Номер патента: CA2990538C. Автор: Harald Grassl,Luc Nicoleau,Torben GÄDT,Alfons SMEETS. Владелец: CONSTRUCTION RESEARCH AND TECHNOLOGY GmbH. Дата публикации: 2023-09-05.

Additive for polymer composite material and use thereof

Номер патента: GB2627382A. Автор: Lu Xiaohua,Feng Xin,Zhu Jiahua,Mu Liwen,Cao Danyang,Zhang Tonghuan. Владелец: NANJING TECH UNIVERSITY. Дата публикации: 2024-08-21.

Additive for rubber, rubber composition, and tire using the same

Номер патента: US20210108048A1. Автор: Masaki Abe,Satoshi Hamatani,Shinya Shinozaki,Mifuyu Ueno. Владелец: Otsuka Chemical Co Ltd. Дата публикации: 2021-04-15.

Smoke-suppressing additive for polyurethane-forming binder system

Номер патента: CA3167504A1. Автор: Paula VIVAS,Matthew SHOFFNER,Lee HORVATH. Владелец: ASK Chemicals LLC. Дата публикации: 2021-09-10.

Smoke-suppressing additive for polyurethane-forming binder system

Номер патента: EP4114593A1. Автор: Paula VIVAS,Matthew SHOFFNER,Lee HORVATH. Владелец: ASK Chemicals LLC. Дата публикации: 2023-01-11.

Smoke-suppressing additive for polyurethane-forming binder system

Номер патента: US11738385B2. Автор: Paula VIVAS,Matthew SHOFFNER,Lee HORVATH. Владелец: ASK Chemicals LLC. Дата публикации: 2023-08-29.

Additive for fuels and lubricants

Номер патента: WO2014178811A1. Автор: Ievgen POLUNKIN,Viktor GORBACH,Vladislav BORYSHCHUK,Zaur TSINTSADZE,Georgy MSHVENIERADZE,Olha GAIDAI. Владелец: Mshvenieradze Georgy. Дата публикации: 2014-11-06.

Special additive for fully recycled aggregate commercial concrete

Номер патента: US20240199491A1. Автор: HE Li,Pinrong Shao,Zishan Shao,Zifu Shao. Владелец: Huizhou Senluoke Material Technology Co ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Additive for fcc process

Номер патента: ZA202301651B. Автор: Paul Diddams,Mehdi Allahverdi,Charles Kanyi. Владелец: Johnson Matthey Process Tech Inc. Дата публикации: 2024-05-30.

Use of a composition of additives for reducing diesel vehicle emissions

Номер патента: US20240336857A1. Автор: Bernard Dequenne. Владелец: TotalEnergies Onetech SAS. Дата публикации: 2024-10-10.

Low sulfur coal additive for improved furnace operation

Номер патента: US09951287B2. Автор: Stephen Allen Johnson,John Wurster,John Philip Comer. Владелец: ADA ES Inc. Дата публикации: 2018-04-24.

Additive for rubber, and rubber composition obtained by blending same

Номер патента: US09879130B2. Автор: Teruyoshi Tanaka,Toyohisa Toyama. Владелец: Dow Corning Toray Co Ltd. Дата публикации: 2018-01-30.

Chemical additive for calcium sulphoaluminate-modified portland cement

Номер патента: US09868674B2. Автор: JIN Yu,Xiaodong Shen,Weifeng Li,Suhua Ma,Yueyang HU. Владелец: NANJING TECH UNIVERSITY. Дата публикации: 2018-01-16.

Hydrophobic additive for use with fabric, fiber, and film

Номер патента: US09751993B2. Автор: Ebrahim Mor. Владелец: Techmer Pm Llc. Дата публикации: 2017-09-05.

Additive for preparing suede on monocrystalline silicon chip and use method thereof

Номер патента: US09705016B2. Автор: Liming Fu,Peiliang CHEN. Владелец: Changzhou Shichuang Energy Technology Co Ltd. Дата публикации: 2017-07-11.

Ethoxylated amine oxides having clay soil removal/anti-redeposition properties useful in detergent compositions

Номер патента: CA1211113A. Автор: Daniel S. Connor. Владелец: Procter and Gamble Co. Дата публикации: 1986-09-09.

External additive for toner and toner

Номер патента: EP4036653A3. Автор: Kaoru Yoshida,Hayato Ida,Ichiro Kanno. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2022-09-14.

Electrolyte additives for lithium-ion batteries

Номер патента: US20220407111A1. Автор: Hongli Dai,Khalil Amine,Qian Liu,Zhengcheng Zhang,Mingfu He,Libo Hu,Paul M. Bayley. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2022-12-22.

Synthetic lubricity additives for hydrocarbon fuels

Номер патента: US12018222B2. Автор: Ashish Dhawan,Xiaojin Harry Li,Karina Eureste,Nestor U. Soriano, JR.. Владелец: ECOLAB USA INC. Дата публикации: 2024-06-25.

Fluidizing and dispersing additives for coal-water dispersions

Номер патента: AU1538588A. Автор: Edoardo Platone,Riccardo Rausa,Aldo Prevedello. Владелец: Eniricerche Spa. Дата публикации: 1988-12-01.

Branched amines as additives for gasoline fuels

Номер патента: WO2024149635A1. Автор: Marc Walter,Jochen Mezger,Harald Boehnke,Mathias Lohmann. Владелец: BASF SE. Дата публикации: 2024-07-18.

Additive for lubricants

Номер патента: WO2000020539A9. Автор: Peter Arnold Morken,Richard Paul Beatty. Владелец: Du Pont. Дата публикации: 2000-09-21.

Additive for lubricants

Номер патента: EP1117753A1. Автор: Peter Arnold Morken,Richard Paul Beatty. Владелец: EI Du Pont de Nemours and Co. Дата публикации: 2001-07-25.

Additive for lubricants

Номер патента: WO2000020539A1. Автор: Peter Arnold Morken,Richard Paul Beatty. Владелец: E.I. Du Pont De Nemours and Company. Дата публикации: 2000-04-13.

Oil-replacement additive for reducing emissions from two-stroke engines

Номер патента: WO2017176206A1. Автор: Kristina Nilsson,Magnus UNDÉN. Владелец: TRIBORON INTERNATIONAL AB. Дата публикации: 2017-10-12.

Boron-free anti-sagging additive for gypsum building materials

Номер патента: WO2020083457A8. Автор: Michael Steinbauer,David Weigand,Bernd Pietschmann,Verena KOHLER,Juliane KÖHLER. Владелец: KNAUF GIPS KG. Дата публикации: 2021-04-01.

Boron-free anti-sagging additive for gypsum building materials

Номер патента: CA3117063C. Автор: Michael Steinbauer,David Weigand,Bernd Pietschmann,Verena KOHLER,Juliane KÖHLER. Владелец: KNAUF GIPS KG. Дата публикации: 2023-08-08.

Biochar additives for bituminous composites

Номер патента: US20230303804A1. Автор: Elham FINI,Shuguang Deng,Kodanda Phani Raj Dandamudi,Amirul Islam Rajib. Владелец: Arizona State University ASU. Дата публикации: 2023-09-28.

Method for improving Uniformity of Chemical-Mechanical Planarization Process

Номер патента: US20130273669A1. Автор: Tao Yang,Chao Zhao,Junfeng Li. Владелец: Institute of Microelectronics of CAS. Дата публикации: 2013-10-17.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US20230381923A1. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-11-30.

System and method for removing debris during chemical mechanical planarization

Номер патента: US12017325B2. Автор: Chun-Wei Hsu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Spherical drive assembly for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002060643A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2003-09-12.

Seal for use with a chemical mechanical planarization apparatus

Номер патента: US20020086626A1. Автор: Andrew Yednak,Phillip Rayer. Владелец: Speedfam IPEC Corp. Дата публикации: 2002-07-04.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6827630B2. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2004-12-07.

Use of stop layer for chemical mechanical polishing of CU damascene

Номер патента: US6051496A. Автор: Syun-Ming Jang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2000-04-18.

Method and apparatus for wireless transfer of chemical-mechanical planarization measurements

Номер патента: US6352466B1. Автор: Scott E. Moore. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 2002-03-05.

Chemical-mechanical planarization pad including patterned structural domains

Номер патента: EP2382651A1. Автор: Guangwei Wu,Paul Lefevre,David Adam Wells,Anoop Mathew,Oscar K. Hsu. Владелец: Innopad Inc. Дата публикации: 2011-11-02.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: WO2003057405A8. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Res Corp. Дата публикации: 2003-10-30.

Customized polish pads for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20100273398A1. Автор: Pradip K. Roy,Sudhanshu Misra. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-10-28.

System and method for controlling passive infrared sensors, and electronic device

Номер патента: US20240046496A1. Автор: Anle Zhao,Jianyong Xu,Zhengwen Huang. Владелец: Shenzhen SNC Opto Electronic Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

Chip customized polish pads for chemical mechanical planarization (cmp)

Номер патента: EP1610929A1. Автор: Pradip K. Roy. Владелец: Neopad Technologies Corp. Дата публикации: 2006-01-04.

Chemical mechanical planarization tool

Номер патента: US12030159B2. Автор: Kei-Wei Chen,Tung-Kai Chen,Hui-Chi Huang,Wan-Chun Pan,Shang-Yu Wang,Zink Wei. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-07-09.

Method and/or system for chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US09997420B2. Автор: Cheng Yen-Wei,Jong-I Mou,Yen-Di Tsen. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-06-12.

Chemical mechanical planarization apparatus and methods

Номер патента: US09950405B2. Автор: Wufeng Deng. Владелец: Semiconductor Manufacturing International Shanghai Corp. Дата публикации: 2018-04-24.

Systems, methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09844800B2. Автор: Brian J. Brown,Steven M. Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-12-19.

Systems and methods for chemical mechanical planarization with photo-current detection

Номер патента: US09754845B2. Автор: I-Shuo Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2017-09-05.

Methods and apparatus for post-chemical mechanical planarization substrate cleaning

Номер патента: US09711381B2. Автор: Sen-Hou Ko,Lakshmanan Karuppiah. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2017-07-18.

Multi-action chemical mechanical planarization device and method

Номер патента: US6514129B1. Автор: David G. Halley. Владелец: Strasbaugh Inc. Дата публикации: 2003-02-04.

Wafer support for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2002053320A9. Автор: David G Halley. Владелец: STRASBAUGH. Дата публикации: 2004-03-04.

Flow-control passive valve and damping-adjustable shock-absorber comprising the same

Номер патента: EP2473756A1. Автор: Walter Bruno,Gianfranco De Lillo. Владелец: Sistemi Sospensioni SpA. Дата публикации: 2012-07-11.

Apertured conditioning brush for chemical mechanical planarization systems

Номер патента: WO2007047996A3. Автор: Stephen J Benner. Владелец: Tbw Ind Inc. Дата публикации: 2007-10-04.

Measurement of tissue properties using pressure pattern

Номер патента: WO2024072743A9. Автор: Steve BEGUIN,Simon O'reilly,Ludovic GIL. Владелец: BECTON, DICKINSON AND COMPANY. Дата публикации: 2024-08-29.

An apparatus for and method of polishing a semiconductor wafer using chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2008023288A2. Автор: Eoin O'dea. Владелец: Eoin O'dea. Дата публикации: 2008-02-28.

Optical coupler hub for chemical-mechanical-planarization polishing pads with an integrated optical waveguide.

Номер патента: US20030190866A1. Автор: Stephan Wolf. Владелец: Individual. Дата публикации: 2003-10-09.

Method for shaping features of a semiconductor structure using chemical mechanical planarization (CMP)

Номер патента: US5302233A. Автор: Scott Meikle,Sung C. Kim. Владелец: Micron Semiconductor Inc. Дата публикации: 1994-04-12.

Run-to-run control for chemical mechanical planarization

Номер патента: US20130267148A1. Автор: Patrick David Noll,Madhu Sudan RAMAVAJJALA,Prakash Lakshmikanthan. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2013-10-10.

Method and apparatus for in-situ monitoring of chemical mechanical planarization (cmp) processes

Номер патента: EP4355528A2. Автор: Daniel Ray TROJAN,Jessica BRINDLEY. Владелец: AXUS Tech LLC. Дата публикации: 2024-04-24.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: EP1469971A4. Автор: Xu Cangshan. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2005-01-12.

Grooved rollers for a linear chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20030139124A1. Автор: Cangshan Xu. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2003-07-24.

End-point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: US20020061713A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2002-05-23.

End point detection system for chemical mechanical polishing applications

Номер патента: EP1399294A1. Автор: Yehiel Gotkis,Mike Ravkin,Katrina A. Mikhaylich. Владелец: Lam Research Corp. Дата публикации: 2004-03-24.

Methods to clean chemical mechanical polishing systems

Номер патента: US11850704B2. Автор: Kei-Wei Chen,Yen-Ting Chen,Chih-Chieh Chang,Hui-Chi Huang. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-12-26.

Slurry recycling for chemical mechanical planarization system

Номер патента: US20230256563A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-17.

Semiconductor device with metal film on surface between passivation film and copper film

Номер патента: US12057416B2. Автор: Mitsuhiko Sakai. Владелец: Sumitomo Electric Industries Ltd. Дата публикации: 2024-08-06.

High performance ultracapacitors with carbon nanomaterials and ionic liquids

Номер патента: SG174024A1. Автор: WEN Lu,Kent Douglas Henry. Владелец: Ada Techonologies Inc. Дата публикации: 2011-09-29.

Measurement of tissue properties using pressure pattern

Номер патента: EP4342506A1. Автор: Steve BEGUIN,Simon O'reilly,Ludovic GIL. Владелец: Becton Dickinson and Co. Дата публикации: 2024-03-27.

Method of using colloidal silver and gold anti-microbial items to create clean zones therewith

Номер патента: WO2012088399A3. Автор: Franco Dokmanovich Harris. Владелец: Harris Franco Dokmanovich. Дата публикации: 2012-12-06.

Method of using colloidal silver and gold anti-microbial items to create clean zones therewith

Номер патента: EP2654430A2. Автор: Franco Dokmanovich Harris,Franco Harris. Владелец: Individual. Дата публикации: 2013-10-30.

Measurement of tissue properties using pressure pattern

Номер патента: WO2024072743A1. Автор: Steve BEGUIN,Simon O'reilly,Ludovic GIL. Владелец: BECTON, DICKINSON AND COMPANY. Дата публикации: 2024-04-04.

Process for production of colloidal particles from botanical raw material

Номер патента: WO2024084037A1. Автор: Jenny Weissbrodt,Tobias Trapp,Daniel BALKE. Владелец: SYMRISE AG. Дата публикации: 2024-04-25.

Method and system for copper coated anode active material

Номер патента: US20220302439A1. Автор: Benjamin Park,Heidi Anderson,Mya Le Thai. Владелец: Enevate Corp. Дата публикации: 2022-09-22.

Binding assays using optical resonance of colloidal particles

Номер патента: WO2000010010A3. Автор: W Peter Hansen,Petra B Krauledat. Владелец: Union Biometrica Technology Ho. Дата публикации: 2000-05-18.

Binding assays using optical resonance of colloidal particles

Номер патента: AU5555299A. Автор: W. Peter Hansen,Petra B. Krauledat. Владелец: Union Biometrica Technology Holdings Inc. Дата публикации: 2000-03-06.

Solar cell front passivation film layer

Номер патента: EP4398312A1. Автор: HONG Chen,Yanyan Zhang,Yugang Lu,Yongsheng CHANG,Jingwu Zuo,Qidong ZHUO,Quangui HE. Владелец: Trina Solar Co Ltd. Дата публикации: 2024-07-10.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: EP4387595A1. Автор: Richard Wolf-Garraway,Edward Tuddenham. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: EP4387652A1. Автор: Richard Wolf-Garraway. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Modified colloidal particles for use in the treatment of Haemophilia A

Номер патента: GB2625007A. Автор: Wolf-Garraway Richard. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia A

Номер патента: GB2625660A. Автор: Tuddenham Edward,Wolf-Garraway Richard. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: CA3227245A1. Автор: Richard Wolf-Garraway. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: CA3227154A1. Автор: Richard Wolf-Garraway,Edward Tuddenham. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Apparatus and method for measurements of growth or dissolution kinetics of colloidal particles

Номер патента: US20170122860A1. Автор: Jan J. Tatarkiewicz,Monette Karr. Владелец: Manta Instruments Inc. Дата публикации: 2017-05-04.

Passivation film, semiconductor device, and organic electroluminescent element

Номер патента: WO2006022403A1. Автор: Kozo Tajiri,Yoshinobu Asako,Takuya Fukuda. Владелец: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.. Дата публикации: 2006-03-02.

Fluidics head for testing chemical and ionic sensors

Номер патента: CA2068213C. Автор: Imants R. Lauks,Henry J. Wieck,Gregory M. Bandru. Владелец: iStat Corp. Дата публикации: 2002-09-24.

Nanostructure barrier for copper wire bonding

Номер патента: US20200251257A1. Автор: Nazila Dadvand,Christopher Daniel Manack,Salvatore Frank PAVONE. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2020-08-06.

Nanostructure barrier for copper wire bonding

Номер патента: US20190088389A1. Автор: Nazila Dadvand,Christopher Daniel Manack,Salvatore Frank PAVONE. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2019-03-21.

Nanostructure barrier for copper wire bonding

Номер патента: US11127515B2. Автор: Nazila Dadvand,Christopher Daniel Manack,Salvatore Frank PAVONE. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2021-09-21.

Diffusion barrier for copper lines in integrated circuits

Номер патента: EP1507289A3. Автор: Stephan Grunow,Satyavolu S. Papa Rao,Noel M. Russell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-03-23.

Storage device for copper foil

Номер патента: EP3889072A1. Автор: Young Tae Kim,Seung Min Kim,Young Gyu Yang,In Soo Jung. Владелец: SK Nexilis Co Ltd. Дата публикации: 2021-10-06.

Glass substrates with self-assembled monolayers for copper adhesion

Номер патента: US20240222258A1. Автор: Darko Grujicic,Suddhasattwa NAD,Rachel Guia Parala Giron. Владелец: Intel Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Pharmaceutical composition comprising proteins and/or polypeptides and colloidal particles

Номер патента: CA2522179C. Автор: Moshe Baru,Lea Carmel-Goren. Владелец: Opperbas Holding BV. Дата публикации: 2012-02-14.

Mixed lipid-bicarbonate colloidal particles

Номер патента: US5314921A. Автор: David W. Yesair. Владелец: Individual. Дата публикации: 1994-05-24.

Mixed lipid-bicarbonate colloidal particles for delivering drugs or calories

Номер патента: CA2222161C. Автор: David W. Yesair. Владелец: Biomolecular Products Inc. Дата публикации: 2002-02-05.

Installation for the continuous cleaning of a wiping roller of a machine for copper-plate printing

Номер патента: CA1094883A. Автор: Antonio Bonomi. Владелец: De La Rue Giori Sa. Дата публикации: 1981-02-03.

A doctor for copper plate printing machines

Номер патента: GB364812A. Автор: . Владелец: Individual. Дата публикации: 1932-01-14.

Colloidal particle formulations with advanced functionality

Номер патента: CA3170988A1. Автор: Anka Veleva. Владелец: Benanova Inc. Дата публикации: 2021-08-19.

Colloidal particle formulations with advanced functionality

Номер патента: US11856948B2. Автор: Anka Veleva. Владелец: Benanova Inc. Дата публикации: 2024-01-02.

Colloidal particle formulations with advanced functionality

Номер патента: WO2021162790A1. Автор: Anka Veleva. Владелец: Benanova Inc.. Дата публикации: 2021-08-19.

Process for production of colloidal particles from botanical raw material

Номер патента: WO2024083343A1. Автор: Jenny Weissbrodt,Tobias Trapp,Daniel BALKE. Владелец: SYMRISE AG. Дата публикации: 2024-04-25.

Colloidal particle formulations with advanced functionality

Номер патента: US20220183280A1. Автор: Anka Veleva. Владелец: Benanova Inc. Дата публикации: 2022-06-16.

Colloidal particle formulations with advanced functionality

Номер патента: EP4103220A1. Автор: Anka Veleva. Владелец: Benanova Inc. Дата публикации: 2022-12-21.

Roll-to-roll formation method for solid electrolyte using metal colloidal particles

Номер патента: US20240222698A1. Автор: Jihyun Seo. Владелец: Beilab Corp. Дата публикации: 2024-07-04.

Roll-to-roll formation method for solid electrolyte using metal colloidal particles

Номер патента: US12009479B1. Автор: Jihyun Seo. Владелец: Beilab Corp. Дата публикации: 2024-06-11.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-06-23.

Chemical mechanical polishing pad with micro-holes

Номер патента: EP1430520A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: EP4387651A1. Автор: Richard Wolf-Garraway. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-06-26.

Temperature control of chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2010126902A4. Автор: Thomas H. Osterheld,Stephen Jew,Kun Xu,Jimin Zhang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2011-03-31.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US20160158910A1. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2016-06-09.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of controlling the same

Номер патента: US20240217059A1. Автор: Wonkeun Cho. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703B1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2011-04-06.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A1. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2004-05-12.

Chemical mechanical polishing apparatus with stable signals

Номер патента: US6568988B1. Автор: Chun-Chieh Lee,Hua-Jen Tseng,Dong-Tay Tsai,Yi-Hua Chin. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2003-05-27.

Equipment, apparatus and method of chemical mechanical polishing (cmp)

Номер патента: US20240227112A1. Автор: Ilyoung Yoon,Seungjun LEE,Jinoh Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-11.

Light sensitive chemical-mechanical polishing aggregate

Номер патента: US20010028052A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-10-11.

Chemical mechanical polishing pad with clear endpoint detection window

Номер патента: US20150306730A1. Автор: Bainian Qian,Marty W. Degroot. Владелец: Dow Global Technologies LLC. Дата публикации: 2015-10-29.

Method for forming aluminum bumps by sputtering and chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020142604A1. Автор: Cheng-Wei Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2002-10-03.

Chemical mechanical polishing apparatus and chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240278383A1. Автор: Dongchan Kim,Byoungho Kwon,Hwiyoung JEONG. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-08-22.

Chemical mechanical polishing apparatus and method of replacing polishing pad using the same

Номер патента: US20240217057A1. Автор: Chungki MIN,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-04.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: EP1417703A4. Автор: Jae-Seok Kim,In-Ha Park,Tae-Kyoung Kwon. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-04-09.

Electrostatic suction cup device for wafer chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240286244A1. Автор: Yao-Sung Wei. Владелец: Shoxproof Technology Co Ltd. Дата публикации: 2024-08-29.

Retainer ring for chemical-mechanical polishing device

Номер патента: US09827647B2. Автор: Jae-Bok Lee,Jun-Je LEE. Владелец: Will Be S and T Co Ltd. Дата публикации: 2017-11-28.

Process for immunochromatography with colloidal particles

Номер патента: US5120643A. Автор: Julian Gordon,Shanfun Ching,Patricia Billing. Владелец: ABBOTT LABORATORIES. Дата публикации: 1992-06-09.

Plasma vapor deposition of an improved passivation film using electron cyclotron resonance

Номер патента: US4866003A. Автор: Shigeru Suga,Katsuyuki Yokoi,Toshio Fujioka. Владелец: Yamaha Corp. Дата публикации: 1989-09-12.

Method for producing a passivation film of InP compound semiconductor

Номер патента: US5147827A. Автор: SHIBATA Jun,Toyoji Chino,Kenichi Matsuda. Владелец: Matsushita Electric Industrial Co Ltd. Дата публикации: 1992-09-15.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: AU2022329447A1. Автор: Richard Wolf-Garraway,Edward Tuddenham. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: US20240100648A1. Автор: Jaeseok Lee,Jessica Lindsay,Satish Rai,Sangcheol Kim. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Chemical mechanical polishing pads with a disulfide bridge

Номер патента: WO2024064259A1. Автор: Jaeseok Lee,Satish Rai,Sangcheol Kim,Jessica TABERT. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2024-03-28.

Method of manufacturing semiconductor device and structure with trenches in passivation film

Номер патента: US9553217B2. Автор: Nobutaka Ukigaya,Masao Ishioka. Владелец: Canon Inc. Дата публикации: 2017-01-24.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: AU2022331799A1. Автор: Richard Wolf-Garraway. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-03-14.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240227122A9. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-07-11.

Process for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20030064594A1. Автор: Alfred Kersch,Johannes Baumgartl,Stephanie Delage. Владелец: INFINEON TECHNOLOGIES AG. Дата публикации: 2003-04-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US12020946B2. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus

Номер патента: US20240157502A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-16.

Controlling chemical mechanical polishing pad stiffness by adjusting wetting in the backing layer

Номер патента: WO2020176460A1. Автор: Kevin H. Song,Benedict W. Pang. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2020-09-03.

Chemical mechanical polishing apparatus and method using the same

Номер патента: US20230191555A1. Автор: Hoyoung Kim,Jinyoung Park,Jaehyug LEE,Chaelyoung KIM. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2023-06-22.

Chemical-mechanical polishing aid

Номер патента: GB9828786D0. Автор: . Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-02-17.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US7138654B2. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2006-11-21.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20190358772A1. Автор: Yong-Hee Lee,Jong-hwi SEO,Seung-Chul Han,Hui-Gwan LEE. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2019-11-28.

Chemical mechanical polishing (cmp) apparatus and method of controlling thereof

Номер патента: US20240238936A1. Автор: Wonkeun Cho,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20020142711A1. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2002-10-03.

Apparatus and system of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20020132567A1. Автор: Hai-Ching Chen. Владелец: Individual. Дата публикации: 2002-09-19.

Retaining ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20050014452A1. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuus Inc. Дата публикации: 2005-01-20.

Chemical mechanical polishing slurry pump monitoring system and method

Номер патента: US20050101223A1. Автор: Daniel Caldwell,Thomas Kiez. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-12.

Wafer carrier structure for chemical-mechanical polisher

Номер патента: US20020173253A1. Автор: Chi-Feng Cheng. Владелец: Macronix International Co Ltd. Дата публикации: 2002-11-21.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240238935A1. Автор: Gihwan KIM,Kihoon JANG,Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-07-18.

Conditioner and chemical mechanical polishing apparatus including the same

Номер патента: US20240173820A1. Автор: Donghoon Kwon,Yeonsu Go. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US20240308021A1. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-19.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6761624B2. Автор: Hsin-Chuan Tsai,Shan-Chang Wang. Владелец: Nanya Technology Corp. Дата публикации: 2004-07-13.

Retainiing ring with trigger for chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: WO2005009679A2. Автор: Peter Khuu. Владелец: Khuu's Inc., Dba Kamet. Дата публикации: 2005-02-03.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240304455A1. Автор: Yu-Ping TSENG,Ren-Hao JHENG. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-09-12.

Methods and systems for chemical mechanical polish cleaning

Номер патента: US09966281B2. Автор: Hui-Chi Huang,Chien-Ping Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2018-05-08.

Process for chemical-mechanical polishing of iii-v semiconductor materials

Номер патента: CA1044580A. Автор: Robert J. Walsh. Владелец: Monsanto Co. Дата публикации: 1978-12-19.

Colloidal particles for use in medicine

Номер патента: CA3036111A1. Автор: William Henry,Richard Wolf-Garraway,John Mayo. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2017-04-20.

Apparatus to manipulate colloidal particles in a bistable medium

Номер патента: CA2808851A1. Автор: Pieter Stroeve,Ben Shand Farber,Edmond Edward Routhier. Владелец: Individual. Дата публикации: 2012-02-23.

Method for producing chemical mechanical polishing pad

Номер патента: US20090104856A1. Автор: Yukio Hosaka,Rikimaru Kuwabara. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2009-04-23.

Chemical mechanical polishing apparatus and a method for planarizing/polishing a surface

Номер патента: US20070026769A1. Автор: Eugene Davis,Kyle Hunt,Daniel Caldwell. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2007-02-01.

Aqueous dispersion of colloidal particles of mineral filler and fibres

Номер патента: US20070141095A1. Автор: Jean-Thierry Simonnet. Владелец: LOreal SA. Дата публикации: 2007-06-21.

Chemical mechanical polishing method suitable for highly accurate planarization

Номер патента: US6132292A. Автор: Akira Kubo. Владелец: NEC Corp. Дата публикации: 2000-10-17.

Chemical-mechanical contouring (CMC) method for forming a contoured surface

Номер патента: US5940956A. Автор: Stephen G. Jordan. Владелец: Aiwa Co Ltd. Дата публикации: 1999-08-24.

Colloidal particles for use in medicine

Номер патента: CA3036111C. Автор: William Henry,Richard Wolf-Garraway,John Mayo. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2023-06-06.

Chemical-mechanical polishing method and apparatus using ultrasound applied to the carrier and platen

Номер патента: US5688364A. Автор: Junichi Sato. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 1997-11-18.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: CA3227156A1. Автор: Richard Wolf-Garraway. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2023-02-23.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: US20180056479A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2018-03-01.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20180009078A1. Автор: Kyutae Park. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2018-01-11.

Chemical-mechanical polishing pad and chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20130189907A1. Автор: Yukio Hosaka,Takahiro Okamoto,Kotaro Kubo. Владелец: JSR Corp. Дата публикации: 2013-07-25.

Chemical mechanical polishing apparatus for polishing workpiece

Номер патента: US20190262968A1. Автор: Hitoshi Morinaga,Kenya Ito,Hiroshi Asano,Kazusei Tamai,Yu Ishii,Shingo OHTSUKI. Владелец: Ebara Corp. Дата публикации: 2019-08-29.

Modified colloidal particles for use in the treatment of haemophilia a

Номер патента: AU2022331110A1. Автор: Richard Wolf-Garraway. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-03-21.

Preparation of powders containing colloidal particles

Номер патента: EP1959932A2. Автор: Gerhard Winter,Michael Wiggenhorn,Hubert Pellikaan. Владелец: Feyecon Development and Implementation BV. Дата публикации: 2008-08-27.

Chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20050095963A1. Автор: David Stark,Christopher Schutte. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-05-05.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: EP3504731A1. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-07-03.

Chemical mechanical polishing tool with robot access to cassettes

Номер патента: SG11201901582QA. Автор: Yongqi Hu,Thomas Lawrence Terry. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2019-03-28.

Modified colloidal particles for use in the treatment of Haemophilia A

Номер патента: GB2625006A. Автор: Wolf-Garraway Richard. Владелец: Cantab Biopharmaceuticals Patents Ltd. Дата публикации: 2024-06-05.

Light sensitive chemical-mechanical polishing method

Номер патента: US20010053606A1. Автор: David Carlson. Владелец: Individual. Дата публикации: 2001-12-20.

Method for chemical mechanical polishing of semiconductor device

Номер патента: KR100732308B1. Автор: 권판기,이상익. Владелец: 주식회사 하이닉스반도체. Дата публикации: 2007-06-25.

Fodder additive for animals

Номер патента: RU2731643C1. Автор: Матиас ЯНСЕН,Филип НЕЙЕНС,Илсе МАСТ. Владелец: Кемин Индастриз, Инк.. Дата публикации: 2020-09-07.

Retainer ring used in chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: KR102510720B1. Автор: 송성훈,송종석. Владелец: 피코맥스(주). Дата публикации: 2023-03-16.

Liquid additive for producing of bread, method for using and producing the same

Номер патента: RU2322063C2. Автор: Эрик КЕЛЛЕР,Эрик ЙЕНСЕН. Владелец: Даниско А/С. Дата публикации: 2008-04-20.

Fodder additive for animals containing a protein kinase c inhibitor

Номер патента: RU2729470C2. Автор: Клаус НОЙФЕЛЬД,Нина НОЙФЕЛЬД. Владелец: Нина НОЙФЕЛЬД. Дата публикации: 2020-08-06.

Method and apparatus for controlling backside pressure during chemical mechanical polishing

Номер патента: US5925576A. Автор: Cheng-An Peng. Владелец: Promos Technologies Inc. Дата публикации: 1999-07-20.

Feed additive for lagging piglets

Номер патента: RU2753192C1. Автор: Артур Гаврилович Шагиданян. Владелец: Артур Гаврилович Шагиданян. Дата публикации: 2021-08-12.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR100568031B1. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2006-04-05.

Chemical mechanical polishing method with in-line thickness detection

Номер патента: US6117780A. Автор: Kuei-Chang Tsai,Chin-Hsiang Chang,Li-Chun Hsien,Yun-Liang Ouyang. Владелец: Mosel Vitelic Inc. Дата публикации: 2000-09-12.

Apparatus and method for in-situ endpoint detection for chemical mechanical polishing operations

Номер патента: US6676717B1. Автор: Manoocher Birang,Allan Gleason. Владелец: Individual. Дата публикации: 2004-01-13.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TWI634956B. Автор: 陳輝. Владелец: 應用材料股份有限公司. Дата публикации: 2018-09-11.

Chemical-mechanical polishing apparatus

Номер патента: US6010395A. Автор: Hideharu Nakajima. Владелец: Sony Corp. Дата публикации: 2000-01-04.

Apparatus for the chemical-mechanical polishing of wafers

Номер патента: US5964652A. Автор: Hermann Wendt,Hanno Melzner. Владелец: SIEMENS AG. Дата публикации: 1999-10-12.

Scrubber brush force control assemblies, apparatus and methods for chemical mechanical polishing

Номер патента: TW201501820A. Автор: Hui Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2015-01-16.

Chemical mechanical polishing tool, apparatus and method

Номер патента: WO2003022518A2. Автор: In-kwon Jeong. Владелец: Oriol, Inc.. Дата публикации: 2003-03-20.

Method and system for in-situ optimization for semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing process

Номер патента: US6159075A. Автор: Liming Zhang. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2000-12-12.

Method of chemical mechanical polishing

Номер патента: US20050070091A1. Автор: Hyo-Jong Lee,Sung-Bae Lee,Sang-Rok Ha. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2005-03-31.

Fabrication of volcano-shaped field emitters by chemical-mechanical polishing (CMP)

Номер патента: US6008064A. Автор: Heinz H. Busta. Владелец: American Energy Services Inc. Дата публикации: 1999-12-28.

Chemical mechanical polishing pad with controlled polish rate

Номер патента: US6054017A. Автор: Bih-Tiao Lin,Fu-Liang Yang. Владелец: Vanguard International Semiconductor Corp. Дата публикации: 2000-04-25.

Polisher for chemical mechanical polishing process

Номер патента: KR20020053941A. Автор: 한동원. Владелец: 박종섭. Дата публикации: 2002-07-06.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US11344991B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2022-05-31.

Retaining ring for chemical mechanical polishing

Номер патента: US8556684B2. Автор: William B. Sather,Adam W. Manzonie. Владелец: SPM Technology Inc. Дата публикации: 2013-10-15.

Method of fabricating self-aligned contact pad using chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20100124817A1. Автор: Bo-Un Yoon,Chang-ki Hong,Joon-Sang Park,Ho-Young Kim. Владелец: Individual. Дата публикации: 2010-05-20.

Endpoint detection in chemical mechanical polishing (cmp) by substrate holder elevation detection

Номер патента: AU3761799A. Автор: Trung T. Doan. Владелец: Micron Technology Inc. Дата публикации: 1999-11-16.

Chemical-mechanical polishing (CMP) apparatus

Номер патента: US5705435A. Автор: Lai-Tuh Chen. Владелец: Industrial Technology Research Institute ITRI. Дата публикации: 1998-01-06.

Carrier head with layer of conformable material for a chemical mechanical polishing system

Номер патента: US6036587A. Автор: Robert D. Tolles,John Prince,Tsungan Cheng. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-03-14.

Real-time control of chemical-mechanical polishing processes using a shaft distortion measurement.

Номер патента: MY124028A. Автор: Li Leping,Wang Xinhui. Владелец: Ibm. Дата публикации: 2006-06-30.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing of substrates

Номер патента: EP1307320A1. Автор: Jason Melvin,Hilario L. Oh,Nam P. Suh. Владелец: ASML US Inc. Дата публикации: 2003-05-07.

Chemical-mechanical-polishing system with continuous filtration

Номер патента: US6244929B1. Автор: Daniel Thomas,Richard D. Russ. Владелец: VLSI Technology Inc. Дата публикации: 2001-06-12.

Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads

Номер патента: US20030190865A1. Автор: Sasson Somekh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2003-10-09.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US11673223B2. Автор: Shih-Ho Lin,Jen-Chieh LAI,Jheng-Si SU,Yu-chen Wei,Chun-Chieh Chan. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-06-13.

Carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US6165058A. Автор: Hung Chen,Steven Zuniga. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-12-26.

Controlled retention of slurry in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6019665A. Автор: Solomon I. Beilin,Michael G. Lee. Владелец: Fujitsu Ltd. Дата публикации: 2000-02-01.

Installation for improving chemical-mechanical polishing operation

Номер патента: US6062955A. Автор: Ying-Chih Liu. Владелец: Worldwide Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2000-05-16.

Chemical mechanical polishing optical endpoint detection

Номер патента: US20050075055A1. Автор: Brian ZINN,Barry Lanier. Владелец: Texas Instruments Inc. Дата публикации: 2005-04-07.

Chemical mechanical polishing

Номер патента: GB2345257A. Автор: Juan-Yuan Wu,Chien-Hsin Lai,Juen-Kuen Lin,Daniel Chiu,Chih-Chiang Yang,Peng-Yih Peng,Kun-Lin Wu,Hao-Kuang Chiu. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 2000-07-05.

Chemical-mechanical polishing for shallow trench isolation

Номер патента: US5958795A. Автор: Juan-Yuan Wu,Water Lur,Coming Chen. Владелец: United Microelectronics Corp. Дата публикации: 1999-09-28.

Retaining ring for use in chemical mechanical polishing

Номер патента: US6821192B1. Автор: Timothy J. Donohue. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2004-11-23.

Method for chemical-mechanical jet etching of semiconductor structures

Номер патента: US7037854B2. Автор: Robert Z. Bachrach,Jeffrey D. Chinn. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2006-05-02.

Retaining ring for holding semiconductor wafers in a chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20040261945A1. Автор: Wilfried Ensinger. Владелец: Ensinger Kunststofftechnologie GbR. Дата публикации: 2004-12-30.

A chemical mechanical polishing semiconductor device and mehhod for preventing scratch

Номер патента: KR20050014350A. Автор: 심상철. Владелец: 동부아남반도체 주식회사. Дата публикации: 2005-02-07.

Groove cleaning device for chemical-mechanical polishing

Номер патента: US6135868A. Автор: Madhavi Chandrachood,Brian J. Brown,Robert Tolles,Doyle Bennett,James C. Nystrom. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2000-10-24.

Retainer ring, chemical mechanical polishing apparatus, and substrate polishing method

Номер патента: US20240091902A1. Автор: Younghun Kim,Sangyun Lee. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-03-21.

Chemical mechanical polishing using time share control

Номер патента: US11931854B2. Автор: Wei Lu,Jianshe Tang,Jimin Zhang,Brian J. Brown,Priscilla Diep LaRosa. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-19.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: US20240075582A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230381917A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-11-30.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20240042574A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-02-08.

Chemical-mechanical polishing subpad having porogens with polymeric shells

Номер патента: EP4267342A1. Автор: Chen-Chih Tsai,Dustin Miller,Paul Andre Lefevre,Aaron Peterson. Владелец: CMC Materials LLC. Дата публикации: 2023-11-01.

Apparatus and method for chemically mechanically polishing

Номер патента: US20200306929A1. Автор: Bo-I Lee. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2020-10-01.

Apparatus and method for chemical mechanical polishing

Номер патента: US20200198088A1. Автор: Ilcheol Shin,Sung-Chang Park,Kyoungwoo Kim,Young-Kyun Woo,Hak-Jae Im. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2020-06-25.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2024006213A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-01-04.

Method and system for chemical mechanical polishing process

Номер патента: US20230274929A1. Автор: Yi-Chang Liu,Chih-I Peng,Hsiu-Ming Yeh. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2023-08-31.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: WO2024049890A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Dual membrane carrier head for chemical mechanical polishing

Номер патента: US11945073B2. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-02.

Control of platen shape in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230415295A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-12-28.

Chemical mechanical polishing fixture having lateral perforation structures

Номер патента: US20140342643A1. Автор: Hui-Chen Yen. Владелец: KAI FUNG TECHNOLOGY Co Ltd. Дата публикации: 2014-11-20.

Monitoring of polishing pad texture in chemical mechanical polishing

Номер патента: US20230321788A1. Автор: Thomas H. Osterheld,Benjamin Cherian. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2023-10-12.

Retainer for chemical mechanical polishing carrier head

Номер патента: US20240075584A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh,Eric Lau,Kuen-Hsiang Chen. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical polishing device and polishing method

Номер патента: US20240131655A1. Автор: Kai-Yao Shih,Ming-Hsiang Chen,Shih-Ci Yen. Владелец: Powerchip Semiconductor Manufacturing Corp. Дата публикации: 2024-04-25.

Slurry recycling for chemical mechanical polishing system

Номер патента: US20220355441A1. Автор: Wen-Kuei Liu. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2022-11-10.

Modular chemical mechanical polisher with simultaneous polishing and pad treatment

Номер патента: WO2024049642A1. Автор: Steven M. Zuniga,Jay Gurusamy. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-03-07.

Chemical mechanical plishing pad with window

Номер патента: US20160263721A1. Автор: Joseph So,Bainian Qian,Janet Tesfai. Владелец: Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings Inc. Дата публикации: 2016-09-15.

Clamping retainer for chemical mechanical polishing and method of operation

Номер патента: WO2023229658A1. Автор: Steven M. Zuniga,Andrew J. Nagengast,Jeonghoon Oh. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2023-11-30.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: WO2024085975A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials, Inc.. Дата публикации: 2024-04-25.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240131562A1. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-04-25.

Chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20240173815A1. Автор: Donghoon Kwon. Владелец: SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD. Дата публикации: 2024-05-30.

Single drive system for a bi-directional linear chemical mechanical polishing apparatus

Номер патента: US20030022607A1. Автор: Douglas Young,Bernard Frey,Mark Henderson. Владелец: ASM Nutool Inc. Дата публикации: 2003-01-30.

Loading device of chemical mechanical polishing equipment for semiconductor wafers

Номер патента: WO2007061170A1. Автор: Young Su Heo,Chang Il Kim,Young Min Na. Владелец: Doosan Mecatec Co., Ltd.. Дата публикации: 2007-05-31.

Chemical mechanical polishing method

Номер патента: US12017322B2. Автор: Chi-Hung Liao,Wei-Chang Cheng. Владелец: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd. Дата публикации: 2024-06-25.

Method and apparatus for distributing fluid to a polishing surface during chemical mechanical polishing

Номер патента: WO2003002302A1. Автор: Robert A. Eaton. Владелец: Speedfam-Ipec Corporation. Дата публикации: 2003-01-09.

Chemical-mechanical polishing proximity correction method and correction pattern thereof

Номер патента: US20050142877A1. Автор: Tu-Hao Yu,Yu-Chia Chen,Pai-Hsuan Sun. Владелец: Winbond Electronics Corp. Дата публикации: 2005-06-30.

Gas delivery pallet assembly, cleaning unit and chemical mechanical polishing system having the same

Номер патента: US20240226970A9. Автор: Edwin Velazquez. Владелец: Applied Materials Inc. Дата публикации: 2024-07-11.

Measurement of physical properties using a mobile device

Номер патента: WO2017173536A1. Автор: Alidad Amirfazli. Владелец: Alidad Amirfazli. Дата публикации: 2017-10-12.

System and method for monitoring a property using drone beacons

Номер патента: AU2022201137A1. Автор: Aaron Lee Roberts,Steven TRUNDLE. Владелец: Alarm com Inc. Дата публикации: 2022-03-17.

Measurement of physical properties using a mobile device

Номер патента: US20170284921A1. Автор: Alidad Amirfazli. Владелец: Individual. Дата публикации: 2017-10-05.

Method for measuring elastic properties using ultrasound

Номер патента: US09696282B2. Автор: Jean-Yves Francois Roger Chatellier. Владелец: SNECMA SAS. Дата публикации: 2017-07-04.

Feed additive for improving performance of domesticated animals

Номер патента: EP4376633A2. Автор: David M. Bravo,Karin Berger Büter,Bernhard Büter. Владелец: PMI NUTRITION LLC. Дата публикации: 2024-06-05.

Feed additive for swine and feed composition containing the same

Номер патента: US20160143322A1. Автор: Chenglin Yang. Владелец: Individual. Дата публикации: 2016-05-26.

Frozen additive for use with a heated beverage

Номер патента: EP1713897A1. Автор: Robert Breslow,Monica J. Breslow. Владелец: Sandia Design Llc. Дата публикации: 2006-10-25.

Additive for lithium-ion battery electrolyte, electrolyte, and lithium-ion secondary battery

Номер патента: US20240204252A1. Автор: HAO Zhang,Cheng Zhu,Yingtao Chen. Владелец: Murata Manufacturing Co Ltd. Дата публикации: 2024-06-20.

Carbon additives for direct coating of silicon-dominant anodes

Номер патента: EP4059072A1. Автор: Giulia Canton,David J. Lee,Monika Chhorng,Ian Browne,Jill Renee Pestana,Fred Bonhomme. Владелец: Enevate Corp. Дата публикации: 2022-09-21.

Additives for non-aqueous electrolytes and electrochemical device using the same

Номер патента: WO2007061180A1. Автор: Hong-Kyu Park,Tae-Yoon Park,Ho-Chun Lee,Yong-Su Choi,Soo-Jin Yoon. Владелец: LG CHEM, LTD.. Дата публикации: 2007-05-31.

Use of furancarboxylic acids in the preparation of additives for animal feeds

Номер патента: US20240277653A1. Автор: Xianfeng PENG. Владелец: Anipha Technologies Pty Ltd. Дата публикации: 2024-08-22.

A carbonacous additive for a moulding material for casting iron

Номер патента: SE539306C2. Автор: Nayström Peter. Владелец: Swerea Swecast Ab. Дата публикации: 2017-06-27.

Additives for enhancing corona stabilization in electronegative gases

Номер патента: US4410456A. Автор: John K. Nelson. Владелец: General Electric Co. Дата публикации: 1983-10-18.

A new additive for gel type batteries

Номер патента: WO2023107049A3. Автор: Yucel SAHIN,Metin GENCTEN. Владелец: Yildiz Teknik Universitesi. Дата публикации: 2023-08-17.

Dispensing apparatus for adding additives for a washing machine and washing machine

Номер патента: US20240279864A1. Автор: Uwe Schaumann,Antonio Di Maggio. Владелец: Ego Elektro-Geratebau GmbH. Дата публикации: 2024-08-22.

Culture fluid, additive for culture fluid, and cultivation method

Номер патента: US20240040980A1. Автор: Yasuhiro Tajima,Taeko KAHARU,Yoriko IMAOKA. Владелец: Kuraray Co Ltd. Дата публикации: 2024-02-08.

A carbonacous additive for a moulding material for casting iron

Номер патента: SE1650208A1. Автор: Nayström Peter. Владелец: Swerea Swecast Ab. Дата публикации: 2017-06-27.

Gamma ray measurement of earth formation properties using a position sensitive scintillation detector

Номер патента: CA1225753A. Автор: Darrell S. Sonne. Владелец: Halliburton Co. Дата публикации: 1987-08-18.

Gamma ray measurement of earth formation properties using a position sensitive scintillation detector

Номер патента: CA1225752A. Автор: Darrell S. Sonne,William J. Beard. Владелец: Halliburton Co. Дата публикации: 1987-08-18.

System and method for analyzing, evaluating and ranking properties using artificial intelligence

Номер патента: US20230260035A1. Автор: Giri Devanur,Monaz Hormuzd Karkaria. Владелец: Realpha Tech Corp. Дата публикации: 2023-08-17.

Synergistic additives for high volume lithium ion batteries

Номер патента: US20230108353A1. Автор: Hongli Dai,Qian Liu,Zhengcheng Zhang,Mingfu He,Libo Hu,Jongho Jeon. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2023-04-06.

Synergistic additives for high volume lithium ion batteries

Номер патента: US20230107327A1. Автор: Hongli Dai,Qian Liu,Zhengcheng Zhang,Mingfu He,Libo Hu,Jongho Jeon. Владелец: Apple Inc. Дата публикации: 2023-04-06.

Additive for sunscreens

Номер патента: WO2023175129A1. Автор: Jürgen Claus,Lars Jung,Martina Issleib,Carolin HEIN. Владелец: SYMRISE AG. Дата публикации: 2023-09-21.

Cathode additive for rechargeable lithium batteries

Номер патента: WO2016191563A1. Автор: John B. Goodenough,Kyusung Park. Владелец: BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM. Дата публикации: 2016-12-01.

Additive for sunscreens

Номер патента: EP4245291A1. Автор: Jürgen Claus,Lars Jung,Martina Issleib,Carolin HEIN. Владелец: SYMRISE AG. Дата публикации: 2023-09-20.

Additive for sunscreens

Номер патента: EP4245292A1. Автор: Jürgen Claus,Lars Jung,Martina Issleib,Carolin HEIN. Владелец: SYMRISE AG. Дата публикации: 2023-09-20.

Eco-friendly additives for hay and silage inoculants minimizing greenhouse gas emissions

Номер патента: WO2023122704A1. Автор: Jeongdae Im. Владелец: Kansas State University Research Foundation. Дата публикации: 2023-06-29.

COMPOSITION FOR ADVANCED NODE FRONT-AND BACK-END OF LINE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING

Номер патента: US20120003901A1. Автор: . Владелец: . Дата публикации: 2012-01-05.

Dicationic polymer and copolymer and their use for chemical mechanical planarization

Номер патента: WO2024129383A1. Автор: Gregor Larbig,Sana MA. Владелец: Versum Materials US, LLC. Дата публикации: 2024-06-20.

Chemical mechanical polishing pad having holes and/or grooves

Номер патента: MY137114A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Chemical mechanical polishing pad having wave-shaped grooves

Номер патента: MY137105A. Автор: KIM Jaeseok,KWON Tae-Kyoung,Park Inha,Hwang In-Ju. Владелец: SKC Co Ltd. Дата публикации: 2008-12-31.

Food biologically active additive for improving human reproduction (variants)

Номер патента: RU2262867C2. Автор: Ю.А. Катков. Владелец: Катков Юрий Адольфович. Дата публикации: 2005-10-27.

Chemical additive for cement concretes and building mixes

Номер патента: RU2255067C1. Автор: А.М. Власенко. Владелец: Власенко Александр Михайлович. Дата публикации: 2005-06-27.

Lubricating additive for drilling agents

Номер патента: RU2385341C2. Автор: Петр Валентинович Касирум. Владелец: Петр Валентинович Касирум. Дата публикации: 2010-03-27.

Fodder additive for farm animals and poultry

Номер патента: RU2229823C2. Автор: А.П. Сафонов. Владелец: Сафонов Александр Петрович. Дата публикации: 2004-06-10.

Additive for drainage asphalt pavement mixture

Номер патента: MY121490A. Автор: See Soo Loi,Xing Hai-Shan. Владелец: Natsteel Technology Invest Pte Ltd. Дата публикации: 2006-01-28.