Controlling passivating film properties using colloidal particles, polyelectrolytes, and ionic additives for copper chemical mechanical planarization
Номер патента: US20100178768A1
Опубликовано: 15-07-2010
Автор(ы): Yuzhuo Li
Принадлежит: BASF SE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Опубликовано: 15-07-2010
Автор(ы): Yuzhuo Li
Принадлежит: BASF SE
Получить PDF файл: Открыть в новом окне
Composition for chemical mechanical polishing
Номер патента: KR20010096326A. Автор: 김석진,이길성,이재석,장두원. Владелец: 안복현. Дата публикации: 2001-11-07.